JPH1079414A - ウエーハ分離装置および該装置の使用方法 - Google Patents
ウエーハ分離装置および該装置の使用方法Info
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Abstract
以前に言及された拘束の枠組み内でウエーハの分離の問
題の解決手段を提供することにある。 【解決手段】 本発明は、ウエーハの平面に対して垂直
の方向の幅が前記ウエーハ(11,12)の端分間の最
大ギヤツプより小さい、少なくとも2つの可撓性の要素
からなる少なくとも1つの構体からなり、前記ウエーハ
(11,12)の少なくとも一方が斜めの端部を有する
ことを特徴とする吸引力によつて互いに結合されたウエ
ーハ(11,12)を分離するためのウエーハ分離装置
に関する。本発明はまた、この装置を使用するための方
法に関する。
Description
よびその使用方法に関するものである。
構成要素製造技術である。
ツ、エー・キヤビリアおよびジエイ・ビー・マキテリツ
クによる「絶縁体上のシリコン用シリコンウエーハの結
合」と題する論文(応用物理、64(10)、1988
年11月15日、4943ページ)において、2枚の
「結合された」ウエーハ間の接合または接着力を測定す
ることについての情報が提供されている。このために、
薄い板または箔10が、図4に示されるごとく、2枚の
ウエーハ11および12間に挿入される。接着力は分離
がそれにわたつて延びる長さにより測定される。この論
文はかかる手順を使用して2つのウエーハを分離するこ
とができることを明らかにしている。
それ自体目的として、しかもそれらの引き付け力を評価
するためにウエーハの分離に使用されない。かかる解決
は2枚のウエーハ間の接合に板を挿入するために板の非
常に精密な操作(観察および案内)を必要とする。かか
る精度は分離作動の迅速かつ安価な自動化に不適合てあ
る。
これまでより薄いシリコンウエーハが使用されている
(マイクロエレクトロニクス標準に比して)。このこの
展開は2つの主要な問題を生起し、その第1は衝撃に関
して非常に脆くかつ可撓性である基板の取扱い、そして
第2はより厚いウエーハを取り扱うのに設定または設計
された種々の装置の薄いウエーハとの非作動である。
ば、通常のマイクロエレクトロニクスの問題となる。こ
の直径増加は機械的理由のために基板厚さ増加によつて
付け加えられ、これに反してエレクトロニクスデバイス
はこれまでより薄い表面層に設計されるのみである。そ
の場合に1つの解決は基本的な基板上に結合されるシリ
コンフイルムにデバイスを設計することからなる。
に開発されたこの解決はその場合に実施されるような処
理に対する厚さに関連して適合されるが、同一の直径の
支持体上のウエーハの予備的「結合」を使用する。結合
は接着剤層を使用しないが、フアンデルワールスの力、
静電力または表面の親水性特性のごとき、単なる表面の
引き付け力である。
の操作に関して幾つかの拘束を付与し、すなわち、ウエ
ーハの活性部分の物理的または化学的劣化があるべきで
なく、すなわち、デバイスが構成される区域およびウエ
ーハは単に周辺で取り扱われねばならない。
のごとき活性フイルムによつて被覆され得る。加えて、
分離要素はウエーハにおいて物理的または化学的汚染を
引き起こさない材料において製造されねばならず、それ
は使用不能となるウエーハ上に製造されるデバイスを導
く。とくにエレクトロニクス構成要素の製造用ウエーハ
の場合において、分離要素がナトリウムまたはカリウム
のごときアルカリ化合物、または金のごとき重金属を導
入しないことを保証する必要がある。
ハとの接触区域に擦り傷を生じないように、使用される
フイルムの層より小さくなければならない。
または剥離作用がなくかつウエーハに定着される粒子が
発生されないことを保証するのに十分に首尾一貫しなけ
ればならない。
自動化されることができかつ迅速でそして活性ウエーハ
上に堆積されたウエーハおよび層のどのような劣化も導
かない、ウエーハの分離のための技術的解決を見い出す
ことにある。前述されたような、板または箔の使用は、
その周辺でウエーハ間に残された空間の非常に精密な観
察を付与する(少なくとも一方のウエーハは外形が形作
られた縁部を持つべきである)。ウエーハの分離に続い
て、2枚のウエーハの各々の運動を制御することが必要
である。
題の重要性を少なくしながら、以前に言及された拘束の
枠組み内でウエーハの分離の問題の解決を提供すること
にある。
た目的を達成するために、ウエーハの平面に対して垂直
の方向の幅が前記ウエーハの端分間の最大ギヤツプより
小さい、少なくとも2つの可撓性の要素からなる少なく
とも1つの構体からなり、前記ウエーハの少なくとも一
方が斜めの端部を有することを特徴とする吸引力によつ
て互いに結合されたウエーハを分離するためのウエーハ
分離装置が提供され、また、同時に、分離がウエーハの
周部の少なくとも1点で行われかつ前記分離が維持され
ることを特徴とする上記装置の使用方法が提供される。
い板である。
リンダである。
からなり、各々が少なくとも2つの可撓性の要素を有す
る。
る、吸い込み機構を組み込むことができる。
(または分離構造)が横方向の変形を制限しかつ2枚の
ウエーハ間の良好な貫通を保証するために整形構造内に
維持される。
ハの形状の結果として異なる。
なくとも1点で行われかつ前記分離が2枚のウエーハ間
に少なくとも1つの機械的要素を挿入することによりま
たは2枚のウエーハが再び結合するのを阻止するために
ガスを吹き付けることによりまたはウエーハの少なくと
も一方を引き離すことにより引き起こされる装置を使用
する方法に関する。
な解決を提案しかつそれゆえ装置製造業者およびこの分
野において機械を提供する供給者に関心がある。主な関
心のある市場はとくにパワー構成要素およびメモリ構成
要素、マイクロプロセツサおよび高集積密度構成要素の
製造業者、ならびにSOI型ウエーハ製造業者の市場で
ある。
ハの分離用装置に関する。ウエーハの分離および該分離
を維持する2つの機能が連続して検討される。
図3に示されるごとく、ウエーハ11および12の斜面
接触させられる、少なくとも2つの薄い、可撓性の要素
13および13’(また分離器または分離構造と呼ばれ
る)からなる構体を目途ととしており、前記ウエーハの
少なくとも一方は斜めの端部を有する。これらの図面は
6個の可撓性の要素を示す。
結合されるウエーハ11,12まで動かされ、要素13
はもちろん良好な位置になり、要素13’はその場合作
用しない。
き、本件において2つである要素13はウエーハ11,
12を個々に動かす。これらの要素13および13’は
ウエーハの表面に対して垂直な方向に縁部の1または複
数の斜面により残されたギヤツプより小さい厚さを有し
なければならない。例えば、対称斜面をもつ2枚の24
0μmの厚さのウエーハに関して、前記寸法は230μ
mより小さい。これらの要素13および13’は表面に
対して平行な方向に任意の寸法を有することができる。
たは領域において保証されねばならないが、周辺にわた
つて分布される幾つかの点か図6および図7に示される
方法において使用され得る。
い込みピペツトは支持体ウエーハの引き離しを可能にし
かつ再結合を阻止する。再結合はまたウエーハ間にガス
を吹き付けることによりまたは機械的要素19を挿入す
ることにより回避されることができる。
る構体の使用は少なくとも1つの要素がもちろん、ウエ
ーハの間隔を保証するために良好な位置にあることを保
証する。
的振幅は、ウエーハの活性領域の関係を保証する、活性
領域の外側の領域に制限される。
時に適用され得る。かくして、実施例において、カセツ
ト内に置かれた複数のウエーハを分離することができ
る。支持体ウエーハは例えば吸い込みピペツトによつて
除去され、これに反して残りの分離されたウエーハは次
の処理のためにカセツト内に残る。
素からなる構体は横方向の変形を制限しかつ2枚のウエ
ーハ間の良好な貫通を保証するために整形構造または箱
17.18内に維持され得る。
ば、2枚のウエーハ11および12の分離を強めるため
に、図6に示されるように、外側から底部に向かって増
加する。分離要素の端部は、3つの考え得るが、分離要
素の端部の非限定輪郭を示す、図9、図10および図1
1に示されるような、形状の結果として適合されること
ができる。かくして、前記輪郭は分離されるべきウエー
ハの成形の結果として最適化され得る(例えば、テーパ
ー付け、丸み付けまたは平行六面輪郭)。
は例えば2枚のウエーハ間の可撓性要素より好ましくは
硬い、機械的要素の挿入によりまたは2枚のウエーハが
再結合するのを防止するガスの吹き付けにより完成され
得る。
ら2つの機能はまた複数対のウエーハの迅速かつ自動的
な分離を可能にする。
成される「歯ブラシ」型構造が使用される。各粗毛はお
よそ100μmの直径およびおよそ9mmの長さを有す
る。各束は1.5mmの直径を有する約50本の粗毛に
より構成される。束は7本からなる4列に組織される。
各束は隣りの束から2.5mmである。粗毛の端部は図
10に示される形状に対応する。横方向通路は、3mm
を超える粗毛の端部を自由にする、PVC箱により8m
mに制限される。
使用不能にする、ウエーハでの物理的または化学的汚染
を生じない材料から作られる。より詳しくは、電子部品
製造用のウエーハの場合において、ナトリウム、カリウ
ムのごときアルカリ化合物、または金のごとき重金属の
導入を回避する必要がある。材料の硬さは好ましくはウ
エーハとの接触区域に擦り傷を発生しないために層の硬
さより小さい。材料はまた好ましくは剥離作用または薄
片状に分裂せずかつウエーハに定着され得る粒子を発生
しないことを保証するように十分に首尾一貫している。
て結合されたウエーハを分離するウエーハ分離装置にお
いて、ウエーハの平面に対して垂直の方向の幅が前記ウ
エーハの端分間の最大ギヤツプより小さい、少なくとも
2つの可撓性の要素からなる少なくとも1つの構体から
なり、前記ウエーハの少なくとも一方が斜めの端分を有
する構成としたので、ウエーハの分離に続いて、2枚の
ウエーハの各々の運動を制御することができる、位置決
めの問題の重要性を少なくしながら、ウエーハの分離の
問題の解決を得るウエーハ分離装置を提供することがで
きる。
Claims (11)
- 【請求項1】 吸引力によつて結合されたウエーハを分
離するウエーハ分離装置において、ウエーハの平面に対
して垂直の方向の幅が前記ウエーハの端分間の最大ギヤ
ツプより小さい、少なくとも2つの可撓性の要素からな
る少なくとも1つの構体からなり、前記ウエーハの少な
くとも一方が斜めの端分を有することを特徴とするウエ
ーハ分離装置。 - 【請求項2】 前記可撓性の要素が薄い板であることを
特徴とする請求項1に記載のウエーハ分離装置。 - 【請求項3】 前記可撓性の要素がシリンダであること
を特徴とする請求項1に記載のウエーハ分離装置。 - 【請求項4】 幾つかの分離構造からなり、各々が少な
くとも2つの可撓性の要素を有することを特徴とする請
求項1に記載のウエーハ分離装置。 - 【請求項5】 吸い込み手段からなることを特徴とする
請求項1に記載のウエーハ分離装置。 - 【請求項6】 可撓性の要素からなる構体が横方向の変
形を制限しかつ2つのウエーハ間の良好な貫通を保証す
るために整形構造内に維持されることを特徴とする請求
項1に記載のウエーハ分離装置。 - 【請求項7】 前記可撓性の要素の一端がウエーハの形
状にしたがつて異なることを特徴とする請求項1に記載
のウエーハ分離装置。 - 【請求項8】 分離がウエーハの周部の少なくとも1点
で行われかつ前記分離が維持されることを特徴とする請
求項1に記載の装置の使用方法。 - 【請求項9】 前記分離の維持が2つのウエーハ間の少
なくとも1つの機械的要素を挿入することにより引き起
こされることを特徴とする請求項8に記載の装置の使用
方法。 - 【請求項10】 前記分離の維持が、2つのウエーハが
再結合するのを阻止する、ガスの吹き付けにより引き起
こされることを特徴とする請求項8に記載の装置の使用
方法。 - 【請求項11】 前記分離の維持がウエーハの少なくと
も一方を引き離すことにより引き起こされることを特徴
とする請求項8に記載の装置の使用方法。
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