JPH107986A - 防汚処理剤および防汚性物品 - Google Patents
防汚処理剤および防汚性物品Info
- Publication number
- JPH107986A JPH107986A JP8169928A JP16992896A JPH107986A JP H107986 A JPH107986 A JP H107986A JP 8169928 A JP8169928 A JP 8169928A JP 16992896 A JP16992896 A JP 16992896A JP H107986 A JPH107986 A JP H107986A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- meth
- group
- antifouling
- polymerizable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 汚染防止性が高いのみならず、汚染物の除去
が容易で、しかもその効果が永続する防汚処理剤を提供
する。 【解決手段】 （メタ）アクリロイル基を含有するポリ
ジメチルシロキサン化合物（Ａ）、ビニル基または（メ
タ）アクリロイルアルキル基および加水分解可能な基を
有する重合性シラン化合物（Ｂ）およびこれらと共重合
可能な重合性化合物（Ｃ）との共重合体を主成分とする
防汚処理剤。
が容易で、しかもその効果が永続する防汚処理剤を提供
する。 【解決手段】 （メタ）アクリロイル基を含有するポリ
ジメチルシロキサン化合物（Ａ）、ビニル基または（メ
タ）アクリロイルアルキル基および加水分解可能な基を
有する重合性シラン化合物（Ｂ）およびこれらと共重合
可能な重合性化合物（Ｃ）との共重合体を主成分とする
防汚処理剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス、セラミッ
ク、金属などの無機材料、または無機化合物を含む層が
表面に形成された樹脂材料の表面処理に用いられ、優れ
た防汚性を与えることができる防汚処理剤および防汚性
物品に関する。
ク、金属などの無機材料、または無機化合物を含む層が
表面に形成された樹脂材料の表面処理に用いられ、優れ
た防汚性を与えることができる防汚処理剤および防汚性
物品に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス、セラミック、金属などの無機材
料は、その機械的強度や外観、特にガラスであればその
透明性を利用して建材等いろいろな分野に応用されてい
る。しかしながら、このような材料には、長期間の使用
により様々な汚れが付着する。例えば、窓ガラス等は雨
や泥、空気中のチリや埃の付着による汚れにより、優れ
た外観が低下する。またショーウィンドー等でも、人が
接触して手垢や汗、化粧料などが付着しその美しい外観
が損なわれることが多い。
料は、その機械的強度や外観、特にガラスであればその
透明性を利用して建材等いろいろな分野に応用されてい
る。しかしながら、このような材料には、長期間の使用
により様々な汚れが付着する。例えば、窓ガラス等は雨
や泥、空気中のチリや埃の付着による汚れにより、優れ
た外観が低下する。またショーウィンドー等でも、人が
接触して手垢や汗、化粧料などが付着しその美しい外観
が損なわれることが多い。
【０００３】そこで、その表面を各種表面処理剤で処理
することにより、表面の性質、とりわけ親水性の表面を
疎水性に改質する方法が数多く提案されている。例え
ば、特開平６−１８４５２７号公報には、フルオロアル
キルシラン化合物、長鎖脂肪族シラン化合物およびケイ
素イソシアネート化合物からなる処理剤が提案されてい
る。また、特開平６−２５６７５６号公報には、フルオ
ロアルキルシラン化合物とＳｉ−Ｈ基を含有するメチル
ポリシロキサンからなる処理剤が提案されている。
することにより、表面の性質、とりわけ親水性の表面を
疎水性に改質する方法が数多く提案されている。例え
ば、特開平６−１８４５２７号公報には、フルオロアル
キルシラン化合物、長鎖脂肪族シラン化合物およびケイ
素イソシアネート化合物からなる処理剤が提案されてい
る。また、特開平６−２５６７５６号公報には、フルオ
ロアルキルシラン化合物とＳｉ−Ｈ基を含有するメチル
ポリシロキサンからなる処理剤が提案されている。
【０００４】一方、樹脂材料も多くの分野で利用されて
いるが、ガラスなどと同様に汚れの付着が問題になって
いる。なかでも眼鏡レンズや反射防止フィルター等の光
学部品はその表面に反射防止処理を行っているために、
人の使用の際に付着した手垢、指紋、汗、化粧料等が非
常に目立ち、また除去しにくくなっている。そこで、汚
れを付着しにくく、あるいは汚れを拭き取りやすくする
ために、反射防止膜の表面に更に防汚層を設ける工夫が
なされている。例えば、特開昭６４−８６１０１号公報
には、基材の表面に、主として二酸化珪素等からなる反
射防止膜を設け、更にその表面に有機珪素置換基を含む
化合物で処理した耐汚染性、耐擦傷性の反射防止物品が
提案されている。また、特開平４−３３８９０１公報に
は、同様に反射防止膜上に末端にシラノール基を有する
有機ポリシロキサンを被膜した、耐汚染性、耐擦傷性の
ＣＲＴフィルターが提案されている。
いるが、ガラスなどと同様に汚れの付着が問題になって
いる。なかでも眼鏡レンズや反射防止フィルター等の光
学部品はその表面に反射防止処理を行っているために、
人の使用の際に付着した手垢、指紋、汗、化粧料等が非
常に目立ち、また除去しにくくなっている。そこで、汚
れを付着しにくく、あるいは汚れを拭き取りやすくする
ために、反射防止膜の表面に更に防汚層を設ける工夫が
なされている。例えば、特開昭６４−８６１０１号公報
には、基材の表面に、主として二酸化珪素等からなる反
射防止膜を設け、更にその表面に有機珪素置換基を含む
化合物で処理した耐汚染性、耐擦傷性の反射防止物品が
提案されている。また、特開平４−３３８９０１公報に
は、同様に反射防止膜上に末端にシラノール基を有する
有機ポリシロキサンを被膜した、耐汚染性、耐擦傷性の
ＣＲＴフィルターが提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
防汚処理剤については、それなりに効果はあるものの未
だ十分とはいいがたい。特に、付着した汚染物を除去す
るために、力強く拭き取ったり、水や有機溶剤及びその
混合物を用いて拭き取るため、耐汚染性を発現する物質
が除かれやすく、防汚性の永続性に乏しい。かかる事情
に鑑み、本発明者は、汚染防止性がより高いのみなら
ず、汚染物の除去が容易で、しかもその効果が永続する
防汚処理剤について鋭意検討した結果、（メタ）アクリ
ロイル基を含有するポリジメチルシロキサン化合物、こ
れと共重合可能な重合性シラン化合物およびこれらと共
重合可能な重合性化合物を重合して得られる共重合体を
含有する処理剤が、すぐれた防汚性を付与すること、し
かも永続性があることを見出し、本発明を完成するに至
った。
防汚処理剤については、それなりに効果はあるものの未
だ十分とはいいがたい。特に、付着した汚染物を除去す
るために、力強く拭き取ったり、水や有機溶剤及びその
混合物を用いて拭き取るため、耐汚染性を発現する物質
が除かれやすく、防汚性の永続性に乏しい。かかる事情
に鑑み、本発明者は、汚染防止性がより高いのみなら
ず、汚染物の除去が容易で、しかもその効果が永続する
防汚処理剤について鋭意検討した結果、（メタ）アクリ
ロイル基を含有するポリジメチルシロキサン化合物、こ
れと共重合可能な重合性シラン化合物およびこれらと共
重合可能な重合性化合物を重合して得られる共重合体を
含有する処理剤が、すぐれた防汚性を付与すること、し
かも永続性があることを見出し、本発明を完成するに至
った。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式 化３で示される（メタ）アクリロイル基を含有する
ポリジメチルシロキサン化合物（Ａ）、
式 化３で示される（メタ）アクリロイル基を含有する
ポリジメチルシロキサン化合物（Ａ）、
【化３】 （式中、Ｒ1 は水素原子又は炭素数１〜１０の直鎖状ま
たは分岐状脂肪族炭化水素基、ａは１〜５の整数、ｂは
１０〜５００の整数を表す。） 一般式 化４で示され、該ポリジメチルシロキサン化合
物と共重合可能な重合性シラン化合物（Ｂ）、
たは分岐状脂肪族炭化水素基、ａは１〜５の整数、ｂは
１０〜５００の整数を表す。） 一般式 化４で示され、該ポリジメチルシロキサン化合
物と共重合可能な重合性シラン化合物（Ｂ）、
【化４】 （式中、Ｒ2 はビニル基または（メタ）アクリロイルア
ルキル基、Ｒ3 は加水分解可能な基、Ｒ4 は水素原子又
は不活性な一価の有機基、ｎは０〜２の整数を表す。） および一般式 化３又は化４で示されるシラン化合物と
共重合可能な二重結合を有する重合性化合物（Ｃ）との
共重合体を主成分とする防汚処理剤、およびこれを基材
表面に塗布し、被膜を形成してなる防汚性物品である。
ルキル基、Ｒ3 は加水分解可能な基、Ｒ4 は水素原子又
は不活性な一価の有機基、ｎは０〜２の整数を表す。） および一般式 化３又は化４で示されるシラン化合物と
共重合可能な二重結合を有する重合性化合物（Ｃ）との
共重合体を主成分とする防汚処理剤、およびこれを基材
表面に塗布し、被膜を形成してなる防汚性物品である。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
上記の一般式 化３示される（メタ）アクリロイル基を
含有するポリジメチルシロキサン化合物は、優れた防汚
機能を付与するためのものである。式中のＲ1 は水素原
子または炭素数１〜１０の直鎖状または分岐状脂肪族炭
化水素基であるが、好ましくは水素原子またはメチル基
である。この（メタ）アクリロイル基を含有するポリジ
メチルシロキサン化合物は、共重合体中で２〜５０ｗｔ
％、好ましくは５〜４０ｗｔ％である。２ｗｔ％よりも
少ないと十分な防汚効果を発現しない。また５０ｗｔ％
よりも多く存在すると、ゲル状の化合物となり、基材に
塗布する上で好ましくない。
上記の一般式 化３示される（メタ）アクリロイル基を
含有するポリジメチルシロキサン化合物は、優れた防汚
機能を付与するためのものである。式中のＲ1 は水素原
子または炭素数１〜１０の直鎖状または分岐状脂肪族炭
化水素基であるが、好ましくは水素原子またはメチル基
である。この（メタ）アクリロイル基を含有するポリジ
メチルシロキサン化合物は、共重合体中で２〜５０ｗｔ
％、好ましくは５〜４０ｗｔ％である。２ｗｔ％よりも
少ないと十分な防汚効果を発現しない。また５０ｗｔ％
よりも多く存在すると、ゲル状の化合物となり、基材に
塗布する上で好ましくない。
【０００８】上記の一般式 化４で示される基を有する
重合性シラン化合物は、基材と強固な結合を形成するこ
とで、防汚層を基材に耐久性よく形成させるためのもの
である。式中のＲ2 はビニル基または（メタ）アクリロ
イルアルキル基であるが、（メタ）アクリロイルアルキ
ル基としては、（メタ）アクリロイルエチル基、（メ
タ）アクリロイルプロピル基、（メタ）アクリロイルブ
チル基等が挙げられるが、（メタ）アクリロイルプロピ
ル基が好ましく用いられる。式中のＲ3 の加水分解可能
な基としては、ハロゲン原子、−ＯＲ5 、−ＯＣＯ
Ｒ5 、−ＯＣ（Ｒ5 ）＝Ｃ（Ｒ6 )2 、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ
5 )2 、−ＯＮ＝ＣＲ7が好ましい。（ここで、Ｒ5 は
脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基、Ｒ6は水素
原子または低級脂肪族炭化水素基、Ｒ7 は炭素数３〜６
の二価の脂肪族炭化水素基である。） さらに好ましくは、塩素、−ＯＣＨ3 、−ＯＣ2 Ｈ5 で
ある。Ｒ4 は水素原子または不活性な一価の有機基であ
るが、好ましくは、炭素数１〜４の一価の炭化水素基で
ある。
重合性シラン化合物は、基材と強固な結合を形成するこ
とで、防汚層を基材に耐久性よく形成させるためのもの
である。式中のＲ2 はビニル基または（メタ）アクリロ
イルアルキル基であるが、（メタ）アクリロイルアルキ
ル基としては、（メタ）アクリロイルエチル基、（メ
タ）アクリロイルプロピル基、（メタ）アクリロイルブ
チル基等が挙げられるが、（メタ）アクリロイルプロピ
ル基が好ましく用いられる。式中のＲ3 の加水分解可能
な基としては、ハロゲン原子、−ＯＲ5 、−ＯＣＯ
Ｒ5 、−ＯＣ（Ｒ5 ）＝Ｃ（Ｒ6 )2 、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ
5 )2 、−ＯＮ＝ＣＲ7が好ましい。（ここで、Ｒ5 は
脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基、Ｒ6は水素
原子または低級脂肪族炭化水素基、Ｒ7 は炭素数３〜６
の二価の脂肪族炭化水素基である。） さらに好ましくは、塩素、−ＯＣＨ3 、−ＯＣ2 Ｈ5 で
ある。Ｒ4 は水素原子または不活性な一価の有機基であ
るが、好ましくは、炭素数１〜４の一価の炭化水素基で
ある。
【０００９】この重合性シラン化合物としては、例え
ば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルメトキシ
ジメチルシラン、γ−（メタ）アクリロイルプロピルト
リメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロイルプロピル
ジメトキシメチルシラン等が挙げられる。この重合性シ
ラン化合物は、共重合体中で２〜３０ｗｔ％、好ましく
は５〜２０ｗｔ％である。２ｗｔ％よりも少ないと、基
材との十分な結合が得られず、耐久性に劣る。また３０
ｗｔ％よりも多く存在してもその効果は変わらず、コス
ト面で好ましくない。
ば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルメトキシ
ジメチルシラン、γ−（メタ）アクリロイルプロピルト
リメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロイルプロピル
ジメトキシメチルシラン等が挙げられる。この重合性シ
ラン化合物は、共重合体中で２〜３０ｗｔ％、好ましく
は５〜２０ｗｔ％である。２ｗｔ％よりも少ないと、基
材との十分な結合が得られず、耐久性に劣る。また３０
ｗｔ％よりも多く存在してもその効果は変わらず、コス
ト面で好ましくない。
【００１０】上記２種のシラン化合物と共重合可能な二
重結合を有する化合物は、特に限定されるものではない
が、例えば、エチレン性不飽和単量体等が挙げられる。
エチレン性不飽和単量体としては、例えば、メチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチ
ル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アク
リレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル
（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
トなどの単官能（メタ）アクリル酸エステル類；メタク
リル酸、アクリル酸などの不飽和酸類；スチレン、α−
メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、シクロヘキ
シルマレイミドなどが挙げられるが、これらに限定され
るものではない。
重結合を有する化合物は、特に限定されるものではない
が、例えば、エチレン性不飽和単量体等が挙げられる。
エチレン性不飽和単量体としては、例えば、メチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチ
ル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アク
リレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル
（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
トなどの単官能（メタ）アクリル酸エステル類；メタク
リル酸、アクリル酸などの不飽和酸類；スチレン、α−
メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、シクロヘキ
シルマレイミドなどが挙げられるが、これらに限定され
るものではない。
【００１１】また、共重合体の溶剤に対する溶解性を妨
げない範囲でエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラ
プロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）
アクリル酸エステル類、ジビニルベンゼン、ジアリルフ
タレートなどの芳香族多官能化合物類が含まれていても
よい。
げない範囲でエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラ
プロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）
アクリル酸エステル類、ジビニルベンゼン、ジアリルフ
タレートなどの芳香族多官能化合物類が含まれていても
よい。
【００１２】更にまた、共重合体に高い撥水性を付与す
る目的で、フルオロアルキル基を含有するエチレン性不
飽和単量体が含まれていてもよい。フルオロアルキル基
を含有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレー
ト、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メ
タ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチ
ル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチ
ル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ
デシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフル
オロ−３−メチルブチル）エチル（メタ）アクリレー
ト、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチル
（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチ
ルデシル）エチル（メタ）アクリレート、３−（パーフ
ルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−８−メ
チルデシル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート等が挙げられる。
る目的で、フルオロアルキル基を含有するエチレン性不
飽和単量体が含まれていてもよい。フルオロアルキル基
を含有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレー
ト、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メ
タ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチ
ル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチ
ル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ
デシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフル
オロ−３−メチルブチル）エチル（メタ）アクリレー
ト、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチル
（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチ
ルデシル）エチル（メタ）アクリレート、３−（パーフ
ルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−８−メ
チルデシル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート等が挙げられる。
【００１３】この共重合可能な二重結合を有する化合物
は共重合体中に２０〜９６ｗｔ％含まれる。また２種以
上の混合物でも構わない。
は共重合体中に２０〜９６ｗｔ％含まれる。また２種以
上の混合物でも構わない。
【００１４】上記の重合性の化合物（Ａ）、（Ｂ）およ
び（Ｃ）の重合は、ラジカル開始剤の存在下で、溶液重
合法、懸濁重合法、乳化重合法等の一般的な重合法によ
って行なわれる。なかでも溶液重合法は、生成した共重
合体溶液を溶剤で希釈することにより、そのまま防汚処
理剤として用いることができるため好ましい。
び（Ｃ）の重合は、ラジカル開始剤の存在下で、溶液重
合法、懸濁重合法、乳化重合法等の一般的な重合法によ
って行なわれる。なかでも溶液重合法は、生成した共重
合体溶液を溶剤で希釈することにより、そのまま防汚処
理剤として用いることができるため好ましい。
【００１５】ラジカル開始剤として、過酸化ベンゾイ
ル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイル等のような過酸
化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチル
バレロニトリル、アゾビスメチルブチロニトリル等のア
ゾ化合物等が挙げられる。
ル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイル等のような過酸
化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチル
バレロニトリル、アゾビスメチルブチロニトリル等のア
ゾ化合物等が挙げられる。
【００１６】重合体の製造に当たっては、分子量を調節
するために、連鎖移動剤としてメルカプタン類等を使用
することができる。
するために、連鎖移動剤としてメルカプタン類等を使用
することができる。
【００１７】得られる共重合体は必要により溶剤で希釈
し防汚処理剤として用いられる。溶剤としては、例え
ば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−
プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール等のア
ルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル等のエステル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、
トリクロロエタン等のハロゲン化アルキル等が挙げられ
るが、これらに限定されるものではない。
し防汚処理剤として用いられる。溶剤としては、例え
ば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−
プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール等のア
ルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル等のエステル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、
トリクロロエタン等のハロゲン化アルキル等が挙げられ
るが、これらに限定されるものではない。
【００１８】防汚処理剤には、シラン化合物の加水分解
を促進し、生成したシラノール基を安定化させるため
に、希塩酸水溶液、希硫酸水溶液、リン酸水溶液、脂肪
酸金属塩、金属アルコキシド等の各種の触媒が含まれて
いてもよい。
を促進し、生成したシラノール基を安定化させるため
に、希塩酸水溶液、希硫酸水溶液、リン酸水溶液、脂肪
酸金属塩、金属アルコキシド等の各種の触媒が含まれて
いてもよい。
【００１９】用いる基材は特に限定されるものではない
が、ガラス、セラミック、金属などの無機材料や樹脂材
料、なかでもガラスや透明樹脂材料が本用途に適してい
る。透明樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロ
ース系樹脂、スチレン系樹脂等が挙げられる。なかでも
光透過性、耐候性の点からアクリル系樹脂が適してい
る。またこれら透明基材として偏光特性を付与した光学
フィルムまたはシートも同様に挙げられる。さらにガラ
ス表面や、透明樹脂、光学フィルム上に、無機化合物か
らなる単層、または多層の反射防止層を形成し、その上
に本防汚処理剤を用いて被膜を形成させることにより本
発明の効果がより一層発揮される。基材の形状も、フィ
ルム、シート、成形品等、特に限定されるものではな
い。
が、ガラス、セラミック、金属などの無機材料や樹脂材
料、なかでもガラスや透明樹脂材料が本用途に適してい
る。透明樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロ
ース系樹脂、スチレン系樹脂等が挙げられる。なかでも
光透過性、耐候性の点からアクリル系樹脂が適してい
る。またこれら透明基材として偏光特性を付与した光学
フィルムまたはシートも同様に挙げられる。さらにガラ
ス表面や、透明樹脂、光学フィルム上に、無機化合物か
らなる単層、または多層の反射防止層を形成し、その上
に本防汚処理剤を用いて被膜を形成させることにより本
発明の効果がより一層発揮される。基材の形状も、フィ
ルム、シート、成形品等、特に限定されるものではな
い。
【００２０】この防汚処理剤を用いて防汚性被膜を基材
表面に形成させる方法としては、工業的に使用されてい
る通常の塗布方法を用いることができる。塗布方法とし
ては、例えば、スピン塗装、浸漬塗装、ロールコート塗
装、グラビアコート塗装、カーテンフロー塗装等が挙げ
られる。塗布後は、常温および／または加熱乾燥が行
い、基材との結合反応を十分に行う必要がある。このよ
うにして防汚性物品が得られる。
表面に形成させる方法としては、工業的に使用されてい
る通常の塗布方法を用いることができる。塗布方法とし
ては、例えば、スピン塗装、浸漬塗装、ロールコート塗
装、グラビアコート塗装、カーテンフロー塗装等が挙げ
られる。塗布後は、常温および／または加熱乾燥が行
い、基材との結合反応を十分に行う必要がある。このよ
うにして防汚性物品が得られる。
【００２１】防汚性被膜の厚さは、用いる基材により選
択し得るが、０．００１〜０．１μｍが好ましい。０．
００１μｍ未満では十分な防汚性は発現せず、また均一
に被膜を形成することも難しい。０．１μｍを越える
と、擦り傷が生じるようになるため好ましくない。基材
として無機化合物からなる反射防止層を形成させた透明
基材を用いた場合には、防汚性被膜の厚さは、０．００
１〜０．０３μｍが好ましい。０．０３μｍを越えると
反射防止効果が低下するため好ましくない。
択し得るが、０．００１〜０．１μｍが好ましい。０．
００１μｍ未満では十分な防汚性は発現せず、また均一
に被膜を形成することも難しい。０．１μｍを越える
と、擦り傷が生じるようになるため好ましくない。基材
として無機化合物からなる反射防止層を形成させた透明
基材を用いた場合には、防汚性被膜の厚さは、０．００
１〜０．０３μｍが好ましい。０．０３μｍを越えると
反射防止効果が低下するため好ましくない。
【００２２】
【発明の効果】本発明の防汚処理剤により、容易に無機
材料や有機材料の表面を撥水化し、防汚性能を付与する
ことができる。なかでも反射防止膜を有する光学物品に
は本組成物の薄膜を形成させることで、指紋などの汚れ
がつきにくく、また目立ちにくくすることが可能であ
り、付着した汚れも容易に除去することができるように
なるため、ＣＲＴディスプレーや、プロジェクションテ
レビ、プラズマディスプレー等のＶＤＴ表面あるいはそ
の前面板に応用が可能である。
材料や有機材料の表面を撥水化し、防汚性能を付与する
ことができる。なかでも反射防止膜を有する光学物品に
は本組成物の薄膜を形成させることで、指紋などの汚れ
がつきにくく、また目立ちにくくすることが可能であ
り、付着した汚れも容易に除去することができるように
なるため、ＣＲＴディスプレーや、プロジェクションテ
レビ、プラズマディスプレー等のＶＤＴ表面あるいはそ
の前面板に応用が可能である。
【００２３】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。な
お、実施例において各種の性能の評価試験方法は以下の
通りである。 （１）水に対する接触角：接触角計（ＣＡ−Ａ型：協和
界面科学（株））を使用し、室温下で直径１．０ｍｍの
水滴を針先につくり、これを試料の表面に触れさせて液
滴を作った。このときに生ずる液滴と面との角度を測定
し接触角とした。 （２）耐久性：セルロース製不織布（ベンコット：旭化
成製）により、試料の表面を２０往復拭き取った後に、
前述した方法で水に対する接触角を測定することで耐久
性試験を行った。 （３）指紋の付着性：試料表面に右手親指を３秒間押し
つけて指紋を付着させ、その付き易さあるいは目立ち易
さを目視判定した。判定基準は以下の通りとした。 ○：指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない。 ×：指紋の付着が明確に認識できる。 （４）指紋の拭き取り性：付着した指紋をセルロース製
不織布で拭き取り、指紋のとれ易さを目視判定した。判
定基準は以下の通りとした。 ○：指紋を完全に拭き取ることができる。 △：指紋の拭き取り跡が残る。 ×：指紋の拭き取り跡が広がり、除去することが困難で
ある。
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。な
お、実施例において各種の性能の評価試験方法は以下の
通りである。 （１）水に対する接触角：接触角計（ＣＡ−Ａ型：協和
界面科学（株））を使用し、室温下で直径１．０ｍｍの
水滴を針先につくり、これを試料の表面に触れさせて液
滴を作った。このときに生ずる液滴と面との角度を測定
し接触角とした。 （２）耐久性：セルロース製不織布（ベンコット：旭化
成製）により、試料の表面を２０往復拭き取った後に、
前述した方法で水に対する接触角を測定することで耐久
性試験を行った。 （３）指紋の付着性：試料表面に右手親指を３秒間押し
つけて指紋を付着させ、その付き易さあるいは目立ち易
さを目視判定した。判定基準は以下の通りとした。 ○：指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない。 ×：指紋の付着が明確に認識できる。 （４）指紋の拭き取り性：付着した指紋をセルロース製
不織布で拭き取り、指紋のとれ易さを目視判定した。判
定基準は以下の通りとした。 ○：指紋を完全に拭き取ることができる。 △：指紋の拭き取り跡が残る。 ×：指紋の拭き取り跡が広がり、除去することが困難で
ある。
【００２４】参考例 （１）基材（Ｉ） ウレタンアクリレート系ハードコート剤（コーエイＭ−
１０１：広栄化学）を固形分が４０％になるように希釈
し、これに５０×１００×０．２５ｍｍの耐衝撃アクリ
ルフィルム（テクノロイ：住友化学工業（株）製）を浸
漬し、４５ｃｍ／ｍｉｎの速さで引き上げた。溶剤を揮
散させた後に、１２０Ｗのメタルハライドランプ（アイ
グラフィックス社製ＵＢ０４５１）を２０ｃｍの距離か
ら１０秒間照射することによりハードコート層を形成さ
せた。このハードコート層上に二酸化珪素、二酸化チタ
ン、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化珪素の順に真空
蒸着法で被覆し、多層反射防止膜を形成させた。 （２）基材（II） ５０×１００×１ｍｍのガラス板を基材として用いた。
１０１：広栄化学）を固形分が４０％になるように希釈
し、これに５０×１００×０．２５ｍｍの耐衝撃アクリ
ルフィルム（テクノロイ：住友化学工業（株）製）を浸
漬し、４５ｃｍ／ｍｉｎの速さで引き上げた。溶剤を揮
散させた後に、１２０Ｗのメタルハライドランプ（アイ
グラフィックス社製ＵＢ０４５１）を２０ｃｍの距離か
ら１０秒間照射することによりハードコート層を形成さ
せた。このハードコート層上に二酸化珪素、二酸化チタ
ン、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化珪素の順に真空
蒸着法で被覆し、多層反射防止膜を形成させた。 （２）基材（II） ５０×１００×１ｍｍのガラス板を基材として用いた。
【００２５】実施例１〜４、比較例１〜２ ポリジメチルシロキサン化合物（Ａ）として下式 化５
で示される化合物（サイプレーンFM-0725 、分子量：約
１００００、チッソ（株）製）、
で示される化合物（サイプレーンFM-0725 、分子量：約
１００００、チッソ（株）製）、
【化５】 CH2=C(CH3)COO(CH2)3-(Si(CH3)2 O-) ｎ-Si(CH3)3 重合性シラン化合物（Ｂ）として下式 化６で示される
化合物（TSL-8370、東芝シリコーン（株）製）、
化合物（TSL-8370、東芝シリコーン（株）製）、
【化６】CH2=C(CH3)COO(CH2)3-Si(OCH3)3 重合性化合物（Ｃ）として下式 化７で示される化合物
（M-1820、ダイキン化成品販売（株）製）および／また
はメタクリル酸メチル(MMA) 、
（M-1820、ダイキン化成品販売（株）製）および／また
はメタクリル酸メチル(MMA) 、
【化７】CH2=C(CH3)COO(CH2)2-(CF2)7CF3 重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、
有機溶剤としてトルエンを表１に示す量で配合し、ガラ
ス製のフラスコに入れ、窒素気流下、８０℃で６時間重
合を行った。
有機溶剤としてトルエンを表１に示す量で配合し、ガラ
ス製のフラスコに入れ、窒素気流下、８０℃で６時間重
合を行った。
【００２６】得られた共重合体溶液を１．６ｇ取り、ト
ルエン／イソプロピルアルコール混合溶剤（混合比３０
／７０）で希釈して２００ｇとし、０．２ｗｔ％の溶液
を得た。この溶液に０．１規定の希塩酸水溶液を６ｃｃ
添加し、１時間以上室温で撹拌し、防汚処理剤の溶液と
した。この防汚処理剤の溶液に参考例で作製した基材
（Ｉ）及び基材（II）を浸漬し、１５ｃｍ／ｍｉｎの速
度で引き上げて塗布を行った。溶剤を揮散させた後、８
０℃で１時間加熱乾燥した。得られた防汚性被膜を形成
した基材を評価した。結果を表２に示した。
ルエン／イソプロピルアルコール混合溶剤（混合比３０
／７０）で希釈して２００ｇとし、０．２ｗｔ％の溶液
を得た。この溶液に０．１規定の希塩酸水溶液を６ｃｃ
添加し、１時間以上室温で撹拌し、防汚処理剤の溶液と
した。この防汚処理剤の溶液に参考例で作製した基材
（Ｉ）及び基材（II）を浸漬し、１５ｃｍ／ｍｉｎの速
度で引き上げて塗布を行った。溶剤を揮散させた後、８
０℃で１時間加熱乾燥した。得られた防汚性被膜を形成
した基材を評価した。結果を表２に示した。
【００２７】
【表１】 FM-0725 ： ポリジメチルシロキサン化合物（Ａ） TSL-8370 ： 重合性シラン化合物（Ｂ） M-1820 ： 重合性化合物（Ｃ） MMA ： 重合性化合物（Ｃ）（メタクリル酸メチル） AIBN ： アゾビスイソブチロニトリル
【００２８】
【表２】
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式 化１で示される（メタ）アクリ
ロイル基を含有するポリジメチルシロキサン化合物
（Ａ）、 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子又は炭素数１〜１０の直鎖状ま
たは分岐状脂肪族炭化水素基、ａは１〜５の整数、ｂは
１０〜５００の整数を表す。） 一般式 化２で示され、該ポリジメチルシロキサン化合
物と共重合可能な重合性シラン化合物（Ｂ）、 【化２】 （式中、Ｒ2 はビニル基または（メタ）アクリロイルア
ルキル基、Ｒ3 は加水分解可能な基、Ｒ4 は水素原子又
は不活性な一価の有機基、ｎは０〜２の整数を表す。） および一般式 化１又は化２で示されるシラン化合物と
共重合可能な二重結合を有する重合性化合物（Ｃ）との
共重合体を主成分とする防汚処理剤。 - 【請求項２】共重合体中のポリジメチルシロキサン化合
物（Ａ）が２〜５０ｗｔ％、重合性シラン化合物が２〜
３０ｗｔ％およびこれらの化合物と共重合可能な重合性
化合物（Ｃ）が２０〜９６ｗｔ％である請求項１記載の
防汚処理剤。 - 【請求項３】基材表面に請求項１記載の防汚処理剤を塗
布し、乾燥して被膜を形成してなる防汚性物品。 - 【請求項４】透明基材の表面に無機化合物からなる最表
層が二酸化珪素である単層又は多層の反射防止膜を形成
し、該反射防止膜上に請求項１記載の防汚処理剤を塗布
し、厚さ０．００１〜０．０３μｍの被膜を形成してな
る反射防止フィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8169928A JPH107986A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 防汚処理剤および防汚性物品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8169928A JPH107986A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 防汚処理剤および防汚性物品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH107986A true JPH107986A (ja) | 1998-01-13 |
Family
ID=15895543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8169928A Withdrawn JPH107986A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 防汚処理剤および防汚性物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH107986A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001049236A (ja) * | 1999-08-10 | 2001-02-20 | Toppan Printing Co Ltd | 防汚材およびこれを用いた反射防止フィルター |
| JP2011008275A (ja) * | 2010-07-30 | 2011-01-13 | Fujifilm Corp | 反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| JP2014069557A (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-21 | Toppan Printing Co Ltd | 熱シール性フィルム |
| CN117535005A (zh) * | 2023-11-29 | 2024-02-09 | 杭州和韵科技有限公司 | 一种防眩光、防污与耐冲击薄膜溶液及其制备方法和应用 |
-
1996
- 1996-06-28 JP JP8169928A patent/JPH107986A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001049236A (ja) * | 1999-08-10 | 2001-02-20 | Toppan Printing Co Ltd | 防汚材およびこれを用いた反射防止フィルター |
| JP2011008275A (ja) * | 2010-07-30 | 2011-01-13 | Fujifilm Corp | 反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| JP2014069557A (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-21 | Toppan Printing Co Ltd | 熱シール性フィルム |
| CN117535005A (zh) * | 2023-11-29 | 2024-02-09 | 杭州和韵科技有限公司 | 一种防眩光、防污与耐冲击薄膜溶液及其制备方法和应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100368486C (zh) | 活化能量射线固化型覆盖用组合物以及有该组合物的固化物涂膜厚的成形品 | |
| US4673621A (en) | Surface-releasing agent against sticking adhesive | |
| JP2003238577A (ja) | パーフルオロポリエーテル変性シラン及び表面処理剤、並びに反射防止フィルター | |
| JP4375335B2 (ja) | 硬化性表面改質剤およびそれを用いた硬化性表面改質用組成物 | |
| JP2012512944A (ja) | コーティング組成物 | |
| JPH0716940A (ja) | 防汚性を有する光学物品 | |
| JPH10143087A (ja) | 表示素子用フィルター | |
| JP3508342B2 (ja) | シラン化合物被膜の形成方法 | |
| JPH04338901A (ja) | Ｃｒｔ用フィルター | |
| JPH0335236A (ja) | フォトクロミック性を有する物品 | |
| JPH0236921B2 (ja) | ||
| JPH107986A (ja) | 防汚処理剤および防汚性物品 | |
| US6037394A (en) | Primer composition and article obtained using the same | |
| JP2003064345A (ja) | 表面改質材、表面改質膜用組成物、表面改質膜、光学部品及び表示装置 | |
| JPH0698703B2 (ja) | 反射防止性物品およびその製造方法 | |
| JPH10120444A (ja) | 表面改質膜用組成物、表面改質膜、表示装置用フィルター及び表示装置 | |
| JP4032159B2 (ja) | 防曇膜が形成された物品の製造方法 | |
| JP4151086B2 (ja) | 高分子被膜を有するガラス製品 | |
| JPH09127305A (ja) | 耐汚染性に優れた防眩性フィルムまたはシート | |
| JPH1033321A (ja) | 防汚性ディスプレイ用透明板及びその成形品 | |
| JPH107950A (ja) | 防汚性サニタリー用樹脂板及びその成形品 | |
| JP4319880B2 (ja) | 反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置 | |
| JPH09194760A (ja) | 被覆材組成物、それを用いてなる機能性に優れた物品、及びプラスチックレンズ | |
| JP4265735B2 (ja) | 反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置 | |
| JPH09111223A (ja) | 汚れ防止処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20040809 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040906 |