JPH1081959A - Electron gun mounting structure for tape deposition equipment - Google Patents

Electron gun mounting structure for tape deposition equipment

Info

Publication number
JPH1081959A
JPH1081959A JP23335496A JP23335496A JPH1081959A JP H1081959 A JPH1081959 A JP H1081959A JP 23335496 A JP23335496 A JP 23335496A JP 23335496 A JP23335496 A JP 23335496A JP H1081959 A JPH1081959 A JP H1081959A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron gun
tape
vapor deposition
deposition
plate unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23335496A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Sasaki
孝治 佐々木
Makoto Shimanuki
誠 島貫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP23335496A priority Critical patent/JPH1081959A/en
Publication of JPH1081959A publication Critical patent/JPH1081959A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子銃のメンテナンスや交換がやり易く、し
かも蒸着効率を向上させたテープ蒸着装置における電子
銃取付構造を提供する。 【解決手段】 装置本体1内に、冷却ドラム2およびそ
の下部近傍に蒸着容器4を設け、該蒸着容器4内の蒸着
材3を加熱溶解して蒸発させるための電子銃8を備え、
前記冷却ドラム表面上を蒸着すべきテープ22が通過
し、該テープの蒸着部分が開口した防着マスク15をそ
の支持部材19,23,24とともに一体化して防着板
ユニット5を形成し、該防着板ユニット5を前記装置本
体1に対し着脱可能に構成したテープ蒸着装置におい
て、前記電子銃8を前記防着板ユニット5に取付けた。
(57) [Problem] To provide an electron gun mounting structure in a tape vapor deposition apparatus in which maintenance and replacement of an electron gun can be easily performed and the vapor deposition efficiency is improved. SOLUTION: An apparatus main body 1 is provided with a cooling drum 2 and a vapor deposition container 4 in the vicinity of a lower portion thereof, and an electron gun 8 for heating and melting and evaporating the vapor deposition material 3 in the vapor deposition container 4;
A tape 22 to be vapor-deposited passes over the surface of the cooling drum, and a deposition-preventing mask 15 having a vapor-deposited portion of the tape opened is integrated with its supporting members 19, 23, and 24 to form a deposition-preventing plate unit 5. The electron gun 8 was attached to the deposition-preventing plate unit 5 in a tape deposition device in which the deposition-preventing plate unit 5 was configured to be detachable from the apparatus main body 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気テープを製造す
るために使用されるテープ蒸着装置に関し、さらに詳し
くは磁性材料を蒸発させるために使用される電子銃の取
付構造に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a tape evaporation apparatus used for manufacturing a magnetic tape, and more particularly to a mounting structure of an electron gun used for evaporating a magnetic material.

【0002】[0002]

【従来の技術】情報の記録担体となる磁気テープを製造
するためのテープ蒸着装置は、内部を真空雰囲気とする
装置本体内に冷却ドラムを備え、その表面上をPET等
のテープ基体を通過させ、冷却ドラム通過中のテープ基
体に対し、マスクを介して蒸着材を加熱溶融して蒸着さ
せるものである。
2. Description of the Related Art A tape evaporation apparatus for manufacturing a magnetic tape serving as an information recording carrier is provided with a cooling drum in a main body of which a vacuum atmosphere is provided, and a tape base such as PET is passed over the surface of the cooling drum. In addition, a vapor deposition material is heated and melted through a mask on a tape substrate passing through a cooling drum and vapor deposition is performed.

【0003】図5は、従来のテープ蒸着装置の基本構成
図である。内部を真空雰囲気とした装置本体31内に冷
却ドラム35が備る。装置本体31の一端部上側に例え
ばPETを材料とするテープ(基体)54が巻かれた巻
出軸32が設けられ、その下側にテープを巻き取る巻取
軸33が設けられる。巻出軸32からのテープ54は複
数のガイドロール(図では1個のみ図示)34を介して
冷却ドラム35表面を通過するように案内される。冷却
ドラム35は、テープ54を冷却しながらこのテープに
蒸着するためのものである。この冷却ドラム35の下部
近傍には、磁性材料(主としてCo−Ni)からなる蒸
着材37を収容した蒸着容器(るつぼ)38が設置され
る。この蒸着材37を加熱溶融して蒸発させるための電
子銃36が装置本体1の天井部に取付けられる。
FIG. 5 is a basic configuration diagram of a conventional tape deposition apparatus. A cooling drum 35 is provided in the apparatus main body 31 in which a vacuum atmosphere is provided. An unwinding shaft 32 around which a tape (substrate) 54 made of, for example, PET is wound is provided above one end of the apparatus main body 31, and a winding shaft 33 which winds the tape is provided below the unwinding shaft 32. The tape 54 from the unwinding shaft 32 is guided through a plurality of guide rolls (only one is shown in the figure) 34 so as to pass over the surface of the cooling drum 35. The cooling drum 35 is for depositing the tape 54 while cooling the tape 54. A vapor deposition container (crucible) 38 containing a vapor deposition material 37 made of a magnetic material (mainly Co—Ni) is installed near the lower portion of the cooling drum 35. An electron gun 36 for heating and melting the vaporized material 37 to evaporate it is attached to the ceiling of the apparatus main body 1.

【0004】このような構成のテープ蒸着装置におい
て、巻出軸32から巻き出されたテープ54がガイドロ
ール34により案内されて冷却ドラム35を通過する
際、そのテープ54は先ず基体処理部50で表面を活性
化して磁性材を剥がれにくくし、次いで電子銃36から
の電子ビームにより蒸発させた蒸着容器38内の蒸着材
37の蒸気をテープ表面で凝縮させて磁性膜を形成す
る。このテープ蒸着の際、冷却ドラム35表面のテープ
54は、防着マスク(図示しない)およびシャッタ52
によりマスキングされ、必要部分のみ磁性膜が形成され
る。このとき、さらに酸素供給管53から酸素を吹き付
けて特性を向上させる。冷却ドラム35を通過し磁性膜
が形成されたテープ54は、表面除電処理部51でしわ
がないようにされ表面を滑りやすくさせた後、巻取軸3
3に巻き取られる。
In the tape vapor deposition apparatus having such a configuration, when the tape 54 unwound from the unwinding shaft 32 is guided by the guide roll 34 and passes through the cooling drum 35, the tape 54 is first passed through the substrate processing unit 50. The surface is activated to prevent the magnetic material from peeling off, and then the vapor of the vapor deposition material 37 in the vapor deposition container 38, which has been evaporated by the electron beam from the electron gun 36, is condensed on the tape surface to form a magnetic film. At the time of this tape deposition, the tape 54 on the surface of the cooling drum 35 is provided
And a magnetic film is formed only in a necessary portion. At this time, oxygen is further blown from the oxygen supply pipe 53 to improve the characteristics. The tape 54 on which the magnetic film is formed after passing through the cooling drum 35 is made to have no wrinkles by the surface neutralization processing section 51 to make the surface slippery.
It is wound on 3.

【0005】図6は、図5の蒸着装置の電子銃36と磁
性材料からなる蒸着材37を収容した蒸着容器38、お
よび不要な箇所に磁性材料の粒子が蒸着しないようにマ
スキングする防着板ユニット39の位置関係を詳細に説
明する図である。図示するように、従来の電子銃36
は、装置本体31の上部に取り付けられ、斜め下方に位
置する蒸着容器38内の蒸着材37に向けて電子ビーム
を照射する。蒸着容器38は支柱56を介して装置本体
31のベース55に固定される。電子ビームは図示しな
い偏向コイルにより蒸着容器38の幅方向(図面に垂直
方向)に振られスキャニングされながら蒸着材37を加
熱溶融し蒸発させる。この電子ビームの照射により、磁
性材料の蒸気が冷却ドラム35を通過するテープ54の
表面に付着し、磁性膜を形成する。この場合、冷却ドラ
ム35表面は、防着マスク57でマスキングされる。
FIG. 6 shows a vapor deposition container 38 containing an electron gun 36 and a vapor deposition material 37 made of a magnetic material in the vapor deposition apparatus shown in FIG. 5, and a deposition-preventing plate for masking unnecessary portions of the magnetic material particles so as not to vapor-deposit. FIG. 3 is a diagram for explaining a positional relationship of a unit 39 in detail. As shown in FIG.
Is mounted on the upper part of the apparatus main body 31 and irradiates an electron beam toward a vapor deposition material 37 in a vapor deposition container 38 located diagonally below. The vapor deposition container 38 is fixed to a base 55 of the apparatus main body 31 via a support 56. The electron beam is swung by a deflection coil (not shown) in the width direction (vertical direction in the drawing) of the vapor deposition container 38 and heats and melts and vaporizes the vapor deposition material 37 while being scanned. The irradiation of the electron beam causes the vapor of the magnetic material to adhere to the surface of the tape 54 passing through the cooling drum 35 to form a magnetic film. In this case, the surface of the cooling drum 35 is masked by the deposition mask 57.

【0006】この防着マスク57は、その上部に電子ビ
ームが通過する開口58を有し、また冷却ドラム面に対
向して蒸着領域を形成する蒸着用開口59を有する。蒸
着用開口59にはシャッタ60が設けられ、蒸着面積を
さらに調整する。この防着マスク57は、その支持材と
ともに一体化され防着板ユニット39を構成する。この
防着板ユニット39は、装置本体31の左方より装置本
体31に着脱自在に移動する。
The deposition mask 57 has an upper opening 58 through which an electron beam passes, and a vapor deposition opening 59 facing the surface of the cooling drum to form a vapor deposition region. A shutter 60 is provided in the vapor deposition opening 59 to further adjust the vapor deposition area. The deposition mask 57 is integrated with the supporting material to form the deposition plate unit 39. The attachment-preventing plate unit 39 is detachably moved from the left side of the apparatus main body 31 to the apparatus main body 31.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の蒸着装置における電子銃は、装置本体の特に上部に
取付けられていたため、電子銃から磁性材料を収容する
蒸着容器までの距離が長く、しかも電子ビームは、蒸着
容器上方に形成される磁性材料蒸気の蒸着雲内を通過す
る構成になっているため、電子ビームのエネルギー損失
が大きくなりテープへの蒸着効率が悪かった。また、従
来の電子銃は装置本体に固定されていたため、電子銃の
周りに付着する蒸着物を取り除く清掃等のメンテナンス
や電子銃の交換作業が非常に面倒であった。さらに、従
来の電子銃は固定されていたため、一旦取付けた後は電
子ビームの照射角度を調整することができず、プロセス
ごとに最適な照射角度の蒸着ポジションを得ることがで
きなかった。
However, since the electron gun in the above-described conventional vapor deposition apparatus is mounted particularly on the upper part of the apparatus main body, the distance from the electron gun to the vapor deposition container for containing the magnetic material is long, and the electron gun is also difficult. Since the beam passes through the vapor deposition cloud of the magnetic material vapor formed above the vapor deposition container, the energy loss of the electron beam becomes large and the vapor deposition efficiency on the tape is poor. Further, since the conventional electron gun is fixed to the main body of the apparatus, maintenance such as cleaning for removing a deposit adhering around the electron gun and replacement of the electron gun are very troublesome. Furthermore, since the conventional electron gun is fixed, it is not possible to adjust the irradiation angle of the electron beam once it has been attached, and it is not possible to obtain a deposition position with an optimum irradiation angle for each process.

【0008】本発明は、上記従来技術の欠点に鑑みなさ
れたものであって、電子銃のメンテナンスや交換がやり
易く、しかも蒸着効率を向上させたテープ蒸着装置にお
ける電子銃取付構造の提供を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and has as its object to provide an electron gun mounting structure in a tape evaporation apparatus in which maintenance and replacement of an electron gun are easy and the evaporation efficiency is improved. And

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明においては、装置本体内に、冷却ドラムおよ
びその下部近傍に蒸着容器を設け、該蒸着容器内の蒸着
材を加熱溶解して蒸発させるための電子銃を備え、前記
冷却ドラム表面上を蒸着すべきテープが通過し、該テー
プの蒸着部分が開口した防着マスクをその支持部材とと
もに一体化して防着板ユニットを形成し、該防着板ユニ
ットを前記装置本体に対し着脱可能に構成したテープ蒸
着装置において、前記電子銃を前記防着板ユニットに取
付けたことを特徴とするテープ蒸着装置の電子銃取付け
構造を提供する。
In order to achieve the above object, according to the present invention, a cooling drum and a vapor deposition container are provided in the vicinity of a lower portion of the apparatus main body, and the vapor deposition material in the vapor deposition container is heated and melted. With an electron gun for evaporating, a tape to be vapor-deposited on the surface of the cooling drum passes, and a deposition-prevention mask in which a deposition portion of the tape is opened is integrated with its supporting member to form a deposition-prevention plate unit, An electron gun mounting structure for a tape vapor deposition device, wherein the electron gun is mounted on the deposition plate unit in a tape deposition device in which the deposition plate unit is configured to be detachable from the apparatus main body.

【0010】上記構成によれば、電子銃から磁性材料を
収容する蒸着容器までの距離を短くすることができ、し
かも電子ビームを磁性材料による蒸着雲の影響が少ない
側面方向から磁性材料に照射させることができ、テープ
への蒸着効率を向上させることができる。また、電子銃
を着脱可能な防着板ユニットとともに装置本体から分離
して動かすことができ、電子銃の周りに付着する蒸着物
を取り除く清掃等のメンテナンスや電子銃の交換が容易
にできる。
According to the above structure, the distance from the electron gun to the vapor deposition container containing the magnetic material can be shortened, and the magnetic material is irradiated from the side of the magnetic material with little influence of the vapor deposition cloud by the magnetic material. And the efficiency of vapor deposition on the tape can be improved. Further, the electron gun can be moved separately from the apparatus main body together with the detachable attachment-preventing plate unit, so that maintenance such as cleaning for removing deposited matter adhering around the electron gun and replacement of the electron gun can be easily performed.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】好ましい実施の形態においては、
前記電子銃の取付け角度調整手段を備えたことを特徴と
している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In a preferred embodiment,
The apparatus is characterized in that it is provided with a mounting angle adjusting means for the electron gun.

【0012】さらに好ましい実施の形態においては、前
記取付け角度調整手段は、電子銃側に設けたウォームホ
イルと、このウォームホイルに噛み合う防着板ユニット
側に設けたウォームとからなることを特徴としている。
In a further preferred embodiment, the mounting angle adjusting means comprises a worm wheel provided on the electron gun side and a worm provided on the attachment-preventing plate unit side meshing with the worm wheel. .

【0013】[0013]

【実施例】次に本発明に係るテープ蒸着装置における電
子銃の取付構造の実施の一例について説明する。テープ
蒸着装置の基本構成については、電子銃の取付位置を除
けば、前述した図5の基本構成図のものと特に異なると
ころはなく、巻出軸から巻き出されたテープが冷却ドラ
ムを通過する際に、そのテープ表面に電子銃からのビー
ムにより蒸発させた磁性材料を凝縮させ、磁性膜が形成
されたテープを巻取軸に巻き取る構成のものである。こ
のような基本構成において、本発明はその電子銃の取付
け配置構造に特徴を有する。
Next, an embodiment of the mounting structure of the electron gun in the tape evaporation apparatus according to the present invention will be described. The basic configuration of the tape deposition apparatus is not particularly different from that of the basic configuration diagram of FIG. 5 described above except for the mounting position of the electron gun, and the tape unwound from the unwinding shaft passes through the cooling drum. At this time, a magnetic material evaporated by a beam from an electron gun is condensed on the surface of the tape, and the tape on which the magnetic film is formed is wound around a winding shaft. In such a basic configuration, the present invention is characterized by the mounting structure of the electron gun.

【0014】図1は、本発明の実施例に係るテープ蒸着
装置の電子銃と磁性材料を収容した蒸着容器、および磁
性材料蒸着時のマスキング用防着板ユニットの位置関係
を詳細に説明する図である。図示するように、この装置
は、内部を真空雰囲気とした装置本体1内にテープ22
(例えばPETからなる)を冷却しながらこのテープ2
2に蒸着するための冷却ドラム2が設置され、その斜め
下側に隣接してドラム下部近傍に磁性材料(主としてC
o−Ni)からなる蒸着材3を収容した蒸着容器(るつ
ぼ)4が設置される。この蒸着容器4は、支柱20を介
して装置本体1のベース21に固定される。
FIG. 1 is a diagram for explaining in detail the positional relationship between an electron gun and a vapor deposition container accommodating a magnetic material of a tape vapor deposition apparatus according to an embodiment of the present invention, and a masking deposition plate unit during vapor deposition of a magnetic material. It is. As shown in the figure, this device has a tape 22 inside a device main body 1 in which a vacuum atmosphere is provided.
While cooling (for example, made of PET) this tape 2
A cooling drum 2 for vapor deposition on the drum 2 is installed, and a magnetic material (mainly C
An evaporation container (crucible) 4 containing an evaporation material 3 made of o-Ni) is provided. This vapor deposition container 4 is fixed to a base 21 of the apparatus main body 1 via a support 20.

【0015】装置本体1の外側には、左方より装置本体
1に着脱自在に移動する可動式の防着板ユニット5が設
置される。この防着板ユニット5は、図2の斜視図に示
すように、隔壁13から突出して固定された2本の支持
台19上に、防着マスク15を設置して有するものであ
る。隔壁13は、この防着板ユニット5を装置本体1に
装着した際、装置本体1の開口14(図1)を塞ぐ。ま
た、この隔壁13には覗き窓12が設けられる。この防
着マスク15を固定支持する隔壁13は、支持枠23を
介して台車24上に固定される。このような防着マスク
15およびこれを支持する支持台19、支持枠23およ
び台車24等の支持部材により防着板ユニット5が形成
される。
On the outside of the apparatus main body 1, a movable adhesion-preventing plate unit 5 which is detachably movable from the left side to the apparatus main body 1 is installed. As shown in the perspective view of FIG. 2, the deposition-preventing plate unit 5 has a deposition-preventing mask 15 installed on two support bases 19 protruding from the partition wall 13 and fixed. The partition 13 closes the opening 14 (FIG. 1) of the apparatus main body 1 when the anti-adhesion plate unit 5 is mounted on the apparatus main body 1. The partition 13 is provided with a viewing window 12. The partition wall 13 that fixedly supports the deposition mask 15 is fixed on a carriage 24 via a support frame 23. The deposition-resistant plate unit 5 is formed by such a deposition-preventing mask 15 and supporting members such as the support base 19, the support frame 23, and the carriage 24 that support the mask.

【0016】前記防着マスク15は、その背面に電子ビ
ーム通過用の開口18(図1)を有し、また前面側の冷
却ドラム2に対向する位置に蒸着領域を形成する蒸着用
開口16を有する。この蒸着用開口16部分にはさらに
シャッタ17が設けられ蒸着面積を調整可能とする。
The deposition-preventing mask 15 has an opening 18 (FIG. 1) for passing an electron beam on its rear surface, and a vapor-deposition opening 16 for forming a vapor-deposition area at a position facing the cooling drum 2 on the front side. Have. A shutter 17 is further provided at the vapor deposition opening 16 so that the vapor deposition area can be adjusted.

【0017】この防着板ユニット5の隔壁13の背面
に、ユニットフランジ7およびフレキシブルジョイント
6を介して電子銃8が装着される。電子銃8は、図3に
示すように、ユニットフランジ7に固定され、このユニ
ットフランジ7にウォームホイル11が装着される。こ
のウォームホイル11は、ウォーム10と噛み合う。こ
のウォーム10は、防着板ユニット5の台車24上に設
けた台枠25上に設置される。トルクモータ9あるいは
手動でウォーム10を回転させることにより、ウォーム
ホイル11が回転して、フレキシブルジョイント6を介
する電子銃8の取付け角度が変り、電子ビームの照射方
向が調整可能になる。
An electron gun 8 is mounted on the back surface of the partition 13 of the attachment-preventing plate unit 5 via a unit flange 7 and a flexible joint 6. As shown in FIG. 3, the electron gun 8 is fixed to a unit flange 7, and a worm wheel 11 is mounted on the unit flange 7. The worm wheel 11 meshes with the worm 10. The worm 10 is installed on an underframe 25 provided on a trolley 24 of the deposition preventing plate unit 5. When the worm 10 is rotated by the torque motor 9 or manually, the worm wheel 11 is rotated, the mounting angle of the electron gun 8 via the flexible joint 6 is changed, and the irradiation direction of the electron beam can be adjusted.

【0018】電子銃8からの電子ビームは、図示しない
偏向コイルにより進路を曲線状に曲げられ、防着マスク
15の開口18を通して蒸着容器4内の蒸着材3を照射
し、これを加熱溶融させさらに蒸発させる。
The path of the electron beam from the electron gun 8 is bent into a curved shape by a deflection coil (not shown). The electron beam irradiates the vapor deposition material 3 in the vapor deposition container 4 through the opening 18 of the deposition mask 15 and heats and melts it. Further evaporate.

【0019】このような電子銃8を取付けた防着板ユニ
ット5は、図4に示すように、台車24を移動させて、
装置本体1の開口14を介して防着マスク15を装置本
体内部に進入させ、この開口14を隔壁13により気密
封止して装着される。
As shown in FIG. 4, the proof plate unit 5 to which the electron gun 8 is attached is moved by moving the cart 24,
The deposition mask 15 is caused to enter the inside of the apparatus main body through the opening 14 of the apparatus main body 1, and the opening 14 is hermetically sealed by the partition 13 and mounted.

【0020】上記構成の電子銃の取付構造によれば、電
子銃8は、装置本体1の側面に対し着脱可能な可動式の
防着板ユニット5に取り付けられているので、電子ビー
ムの照射距離を短くすることができ、しかも電子ビーム
は側方から蒸着容器4内の磁性材料を照射するため、容
器上方に形成される蒸着雲の影響が少なくなって、加熱
エネルギーロスが小さくなり、蒸着効率を向上させるこ
とができる。また、装置を使用しないときは、可動式の
防着板ユニット5を装置本体1から離脱させることがで
き、これに伴い電子銃8を作業し易い場所に移動でき、
電子銃8の周りに付着した蒸着物を取り除く清掃等のメ
ンテナンスや電子銃の交換が容易にできる。さらに、電
子銃8の電子ビーム照射角度をトルクモータ9等の駆動
により上下方向に調整することができるので、各蒸着プ
ロセスごとに最適な照射角度の蒸着ポジションを得るこ
とができ、この点からも蒸着効率を向上させることがで
きる。なお、テープの表面に形成される磁性膜の状態は
図1の覗き窓12から観察することができる。
According to the mounting structure of the electron gun having the above-described structure, the electron gun 8 is mounted on the movable deposition-preventing plate unit 5 which can be attached to and detached from the side surface of the apparatus main body 1. In addition, since the electron beam irradiates the magnetic material in the evaporation container 4 from the side, the influence of the evaporation cloud formed above the container is reduced, the heating energy loss is reduced, and the evaporation efficiency is reduced. Can be improved. Also, when the device is not used, the movable deposition-preventing plate unit 5 can be detached from the device main body 1, and accordingly, the electron gun 8 can be moved to a place where it is easy to work.
Maintenance such as cleaning for removing deposits adhered around the electron gun 8 and replacement of the electron gun can be easily performed. Further, since the electron beam irradiation angle of the electron gun 8 can be adjusted in the vertical direction by driving the torque motor 9, etc., it is possible to obtain a deposition position having an optimum irradiation angle for each deposition process. The deposition efficiency can be improved. The state of the magnetic film formed on the surface of the tape can be observed through the viewing window 12 in FIG.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、電子銃を装置本体側面の可動式の防着板ユニットに
取付けたので、電子銃を装置本体上面側に取付けた従来
の場合に比べて、電子ビームの照射距離を短くすること
ができ、しかも電子ビームを蒸着雲の影響が少ない側面
方向から照射させることができ、エネルルギーロスを抑
えてテープへの蒸着効率を向上させることができる。ま
た、電子銃を可動式の防着板ユニットとともに動かすこ
とができ、電子銃の周りに付着する蒸着物を取り除く清
掃等のメンテナンスや電子銃の交換が容易にできる。
As described above, according to the present invention, since the electron gun is mounted on the movable deposition-preventing plate unit on the side of the apparatus main body, the present invention is compared with the conventional case where the electron gun is mounted on the upper surface of the apparatus main body. Thus, the irradiation distance of the electron beam can be shortened, and the electron beam can be irradiated from the side direction where the influence of the vapor deposition cloud is small, and the energy efficiency can be suppressed and the vapor deposition efficiency on the tape can be improved. . Further, the electron gun can be moved together with the movable deposition-preventing plate unit, so that maintenance such as cleaning for removing deposited matter adhering around the electron gun and replacement of the electron gun can be easily performed.

【0022】さらに、電子銃をその照射角度が調整自在
に可動式の防着板ユニットに取付ければ、蒸着プロセス
ごとに最適な照射角度の蒸着ポジションを得ることがで
き、蒸着効率を一層向上させることができる。
Furthermore, if the electron gun is mounted on a movable deposition-preventing plate unit whose irradiation angle can be adjusted, a vapor deposition position with an optimum irradiation angle can be obtained for each vapor deposition process, and the vapor deposition efficiency is further improved. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係るテープ蒸着装置における電子銃
取付構造の実施の一例を示す構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an example of an embodiment of an electron gun mounting structure in a tape evaporation apparatus according to the present invention.

【図2】 図1の防着マスクの斜視図。FIG. 2 is a perspective view of the deposition mask of FIG.

【図3】 図1の電子銃取付け部分の斜視図。FIG. 3 is a perspective view of a mounting portion of the electron gun in FIG. 1;

【図4】 本発明に係る防着板ユニットを装置本体に装
着する状態の説明図。
FIG. 4 is an explanatory view of a state in which the attachment-preventing plate unit according to the present invention is mounted on the apparatus main body.

【図5】 テープ蒸着装置の基本構成図。FIG. 5 is a basic configuration diagram of a tape evaporation apparatus.

【図6】 従来のテープ蒸着装置における電子銃取付構
造の構成図。
FIG. 6 is a configuration diagram of an electron gun mounting structure in a conventional tape evaporation apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:装置本体、2:冷却ドラム、3:蒸着材、4:蒸着
容器、5:防着板ユニット、6:フレキシブルジョイン
ト、7:ユニットフランジ、8:電子銃、9:トルクモ
ータ、10:ウォーム、11:ウォームホイール、1
2:覗き窓、13:隔壁、14:装置本体の開口、1
5:防着マスク、16:蒸着用開口、17:シャッタ、
18:電子ビーム通過用開口、19:支持台、20:支
柱、21:装置本体のベース、22:テープ、23:支
持枠、24:台車、25:台枠
1: apparatus main body, 2: cooling drum, 3: vapor deposition material, 4: vapor deposition container, 5: deposition prevention plate unit, 6: flexible joint, 7: unit flange, 8: electron gun, 9: torque motor, 10: worm , 11: worm wheel, 1
2: Viewing window, 13: Partition wall, 14: Opening of device main body, 1
5: deposition mask, 16: vapor deposition opening, 17: shutter,
18: electron beam passage opening, 19: support base, 20: support, 21: base of the apparatus body, 22: tape, 23: support frame, 24: trolley, 25: gantry

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】装置本体内に、冷却ドラムおよびその下部
近傍に蒸着容器を設け、 該蒸着容器内の蒸着材を加熱溶解して蒸発させるための
電子銃を備え、 前記冷却ドラム表面上を蒸着すべきテープが通過し、 該テープの蒸着部分が開口した防着マスクをその支持部
材とともに一体化して防着板ユニットを形成し、 該防着板ユニットを前記装置本体に対し着脱可能に構成
したテープ蒸着装置において、 前記電子銃を前記防着板ユニットに取付けたことを特徴
とするテープ蒸着装置の電子銃取付け構造。
1. A cooling drum and a vapor deposition container provided in the vicinity of a lower portion thereof are provided in an apparatus main body, and an electron gun for heating and melting and vaporizing a vapor deposition material in the vapor deposition container is provided. A tape to be passed through, an adhesion mask having an opening where the vapor deposition portion of the tape is opened is integrated with a supporting member to form an adhesion plate unit, and the adhesion plate unit is configured to be detachable from the apparatus main body. An electron gun mounting structure for a tape vapor deposition device, wherein the electron gun is mounted on the deposition preventing plate unit.
【請求項2】前記電子銃の取付け角度調整手段を備えた
ことを特徴とする請求項1に記載のテープ蒸着装置の電
子銃取付け構造。
2. The mounting structure of an electron gun according to claim 1, further comprising means for adjusting the mounting angle of said electron gun.
【請求項3】前記取付け角度調整手段は、電子銃側に設
けたウォームホイルと、このウォームホイルに噛み合う
防着板ユニット側に設けたウォームとからなることを特
徴とする請求項2に記載のテープ蒸着装置の電子銃取付
け構造。
3. The apparatus according to claim 2, wherein said mounting angle adjusting means comprises a worm wheel provided on an electron gun side and a worm provided on a deposition-proof plate unit side meshing with said worm wheel. An electron gun mounting structure for the tape evaporation device.
JP23335496A 1996-09-03 1996-09-03 Electron gun mounting structure for tape deposition equipment Pending JPH1081959A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23335496A JPH1081959A (en) 1996-09-03 1996-09-03 Electron gun mounting structure for tape deposition equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23335496A JPH1081959A (en) 1996-09-03 1996-09-03 Electron gun mounting structure for tape deposition equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1081959A true JPH1081959A (en) 1998-03-31

Family

ID=16953843

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23335496A Pending JPH1081959A (en) 1996-09-03 1996-09-03 Electron gun mounting structure for tape deposition equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1081959A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003522293A (en) * 1999-08-04 2003-07-22 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Electron beam physical vapor deposition equipment
JP2006176867A (en) * 2004-12-24 2006-07-06 Utec:Kk Film-forming apparatus and vapor deposition apparatus
KR101118196B1 (en) 2011-07-20 2012-02-24 김민호 Drum mask with lower drum mask
KR101118193B1 (en) * 2011-07-20 2012-03-05 김민호 Cooling drum mask

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003522293A (en) * 1999-08-04 2003-07-22 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Electron beam physical vapor deposition equipment
JP4841776B2 (en) * 1999-08-04 2011-12-21 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Electron beam physical vapor deposition equipment
JP2006176867A (en) * 2004-12-24 2006-07-06 Utec:Kk Film-forming apparatus and vapor deposition apparatus
KR101118196B1 (en) 2011-07-20 2012-02-24 김민호 Drum mask with lower drum mask
KR101118193B1 (en) * 2011-07-20 2012-03-05 김민호 Cooling drum mask

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1081959A (en) Electron gun mounting structure for tape deposition equipment
JP2003231963A (en) Process and device for vacuum deposition
JPH0788566B2 (en) Continuous vacuum deposition or ion plating method on metal strip characterized by performing pretreatment of ion beam irradiation
JPH0610117A (en) Thin film forming method, thin film forming apparatus, laser light irradiation apparatus, and bombarding apparatus
JPH06228743A (en) Vacuum deposition equipment
JPS6320464A (en) Vacuum deposition equipment
JP4212338B2 (en) Method and apparatus for depositing metal objects
JP3469013B2 (en) Vacuum deposition equipment
JPH09165674A (en) Vacuum coating apparatus
JPH0499175A (en) Observation window
JPH06111317A (en) Vacuum deposition equipment
JP3781154B2 (en) Vacuum deposition equipment
JPH0797684A (en) Thin film forming equipment
JPS6318065A (en) Vacuum deposition apparatus
JPH09143736A (en) Device for preventing deposition of ineffective deposits in continuous vacuum deposition equipment
JPH10183346A (en) Continuous vacuum deposition equipment
JPS6318064A (en) Vacuum deposition method
JPH0230442Y2 (en)
JPS6147221B2 (en)
JPH0459966A (en) Vapor-deposition equipment
JPH09143735A (en) Splash adhesion preventive device in continuous vacuum deposition apparatus and adhesion preventing method thereof
JPH08185820A (en) Discharge prevention method in energetic particle generator, discharge prevention structure thereof and energetic particle generator
JPH0798865A (en) Magnetic recording medium manufacturing equipment
JP3818719B2 (en) Vapor deposition method on flexible support
JPH06111318A (en) Vacuum deposition equipment