JPH1085682A - 被汚染物体の洗浄方法及び装置 - Google Patents
被汚染物体の洗浄方法及び装置Info
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- JPH1085682A JPH1085682A JP9236550A JP23655097A JPH1085682A JP H1085682 A JPH1085682 A JP H1085682A JP 9236550 A JP9236550 A JP 9236550A JP 23655097 A JP23655097 A JP 23655097A JP H1085682 A JPH1085682 A JP H1085682A
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数の空洞を備えた被汚染物体の洗浄方法及
び装置であって、特に良好に実施することのできる方法
及び比較的簡単な手段で構成することのできる装置を提
供する。 【解決手段】 洗浄装置２は、洗浄すべき被汚染物体４
を収納するための支持装置１２、１４及び／又は容器３
８と、洗浄液Ｗを被汚染物体４にこの被汚染物体が支持
装置１２、４４及び／又は容器３８に配置されていると
きに直ちに供給する供給装置１４、１４ａ、１４ｂと、
必要に応じて被汚染物体４を支持装置１２、１４にもし
くはそれから及び／又は容器３８にもしくはそれから供
給及び／又は排出する装置１０、４４、４６と、汚染さ
れた洗浄液Ｗ´を回収する回収容器２２、５４とを備え
る。供給装置１４、１４ａ、１４ｂは少なくとも１つの
ノズル１６、１８、５６、６８を備え、これに相対的に
被汚染物体４が特に直線方向に或いは蛇行状に可動であ
るようにされる。
び装置であって、特に良好に実施することのできる方法
及び比較的簡単な手段で構成することのできる装置を提
供する。 【解決手段】 洗浄装置２は、洗浄すべき被汚染物体４
を収納するための支持装置１２、１４及び／又は容器３
８と、洗浄液Ｗを被汚染物体４にこの被汚染物体が支持
装置１２、４４及び／又は容器３８に配置されていると
きに直ちに供給する供給装置１４、１４ａ、１４ｂと、
必要に応じて被汚染物体４を支持装置１２、１４にもし
くはそれから及び／又は容器３８にもしくはそれから供
給及び／又は排出する装置１０、４４、４６と、汚染さ
れた洗浄液Ｗ´を回収する回収容器２２、５４とを備え
る。供給装置１４、１４ａ、１４ｂは少なくとも１つの
ノズル１６、１８、５６、６８を備え、これに相対的に
被汚染物体４が特に直線方向に或いは蛇行状に可動であ
るようにされる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、汚染物質を有す
る複数の貫通した空洞（通流路）を備えた被汚染物体の
洗浄方法及び装置に関する。
る複数の貫通した空洞（通流路）を備えた被汚染物体の
洗浄方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】洗浄の分野においては多数の貫通した通
流路を備えた物体を清潔に維持したり或いは清浄化する
ことは特別の問題である。このような通流路は例えば互
いに密接に存在していたり、矩形状の或いは蜂の巣状の
断面を持つことがある。洗浄は素早く、コスト的に有利
にかつそれに引き合う労働力で行われることが重要であ
る。
流路を備えた物体を清潔に維持したり或いは清浄化する
ことは特別の問題である。このような通流路は例えば互
いに密接に存在していたり、矩形状の或いは蜂の巣状の
断面を持つことがある。洗浄は素早く、コスト的に有利
にかつそれに引き合う労働力で行われることが重要であ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従ってこの発明の課題
は、複数の空洞を備えた被汚染物体の洗浄方法及び装置
であって、特に良好に実施することのできる方法及び比
較的簡単な手段で構成することのできる装置を提供する
ことにある。
は、複数の空洞を備えた被汚染物体の洗浄方法及び装置
であって、特に良好に実施することのできる方法及び比
較的簡単な手段で構成することのできる装置を提供する
ことにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明の方法に関する
課題は、この発明によれば、被汚染物体を洗浄液、特に
水で散水（なおここで「散水」とは、液体を霧状にして
振り掛けることを意味する。以下同じ。）し、そのとき
生ずる汚染された洗浄液を回収することにより解決され
る。
課題は、この発明によれば、被汚染物体を洗浄液、特に
水で散水（なおここで「散水」とは、液体を霧状にして
振り掛けることを意味する。以下同じ。）し、そのとき
生ずる汚染された洗浄液を回収することにより解決され
る。
【０００５】さらにこの発明の装置に関する課題は、こ
の発明によれば、洗浄される被汚染物体を収納する支持
装置及び／又は容器と、洗浄液を被汚染物体に、この被
汚染物体が支持装置及び／又は容器に配置されると直ち
に供給する供給装置と、必要に応じて支持装置及び／又
は容器にもしくはそれらから被汚染物体を供給及び／又
は排出する装置と、汚染された洗浄液を回収するための
回収装置とを備えることにより解決される。
の発明によれば、洗浄される被汚染物体を収納する支持
装置及び／又は容器と、洗浄液を被汚染物体に、この被
汚染物体が支持装置及び／又は容器に配置されると直ち
に供給する供給装置と、必要に応じて支持装置及び／又
は容器にもしくはそれらから被汚染物体を供給及び／又
は排出する装置と、汚染された洗浄液を回収するための
回収装置とを備えることにより解決される。
【０００６】この発明の有利な構成例は、被汚染物体の
空洞が例えば矩形状或いは蜂の巣状の断面を持つ通流路
であることから出発する。この構成例においては被汚染
物体は同時に或いは順次に両側から洗浄液で散水され
る。
空洞が例えば矩形状或いは蜂の巣状の断面を持つ通流路
であることから出発する。この構成例においては被汚染
物体は同時に或いは順次に両側から洗浄液で散水され
る。
【０００７】個々の空洞を順次洗浄液の噴出流で散水す
るか洗い落とすようにすると有利である。これを達成す
るために、この発明の好ましい実施態様によれば、被汚
染物体或いは洗浄液の供給装置が散水の際に動かされ
る。この動きは直線的な或いは蛇行状の運動である。勿
論、それに代わって洗浄液の供給装置は散水の際に、全
ての空洞が均一に散水されるような距離に被汚染物体か
ら離されて保持することもできる。その場合には洗浄液
の供給装置は動かす必要はなく、固定して配置すること
ができる。
るか洗い落とすようにすると有利である。これを達成す
るために、この発明の好ましい実施態様によれば、被汚
染物体或いは洗浄液の供給装置が散水の際に動かされ
る。この動きは直線的な或いは蛇行状の運動である。勿
論、それに代わって洗浄液の供給装置は散水の際に、全
ての空洞が均一に散水されるような距離に被汚染物体か
ら離されて保持することもできる。その場合には洗浄液
の供給装置は動かす必要はなく、固定して配置すること
ができる。
【０００８】被汚染物体を両側から散水することができ
るように、全洗浄過程において被汚染物体を１８０°転
向することが適当である。
るように、全洗浄過程において被汚染物体を１８０°転
向することが適当である。
【０００９】さらに環境汚染を少なくするために、汚染
された洗浄液を取り出して処理することが行われる。
された洗浄液を取り出して処理することが行われる。
【００１０】原則的には個々の被汚染物体をその特定の
使用場所から他の場所に移送して、そこで本来の洗浄を
行うことができる。しかしながら、有利な構成例におい
ては被汚染物体の設置された場所で散水が行われる。
使用場所から他の場所に移送して、そこで本来の洗浄を
行うことができる。しかしながら、有利な構成例におい
ては被汚染物体の設置された場所で散水が行われる。
【００１１】多数の被汚染物体を連続法で順次散水する
ことも有利である。
ことも有利である。
【００１２】この発明の装置の他の有利な構成例は従属
請求項に記載されている。
請求項に記載されている。
【００１３】驚くべきことに、火力発電所やごみ焼却施
設の煙道ガス中の脱ＮＯＸの目的で或いはダイオキシン
の除去のために使用される使用済のＳＣＲ触媒は、水で
散水し水と接触させて浄化されることにより、大幅に再
生できることが判明している。この水（高温水或いは飽
和蒸気）による散水は特に簡単でありかつ特にコスト的
に有利である。このようにして再生された触媒は再び高
い活性を帯びる。洗浄効果をさらに改善するためにこの
水に添加物を付加することができる。このような添加物
は選択的にある種の堆積物に化学的に作用するように選
ばれる。上述の方法及び上述の装置をＳＣＲ触媒の使用
例に適用することは特に好ましい。
設の煙道ガス中の脱ＮＯＸの目的で或いはダイオキシン
の除去のために使用される使用済のＳＣＲ触媒は、水で
散水し水と接触させて浄化されることにより、大幅に再
生できることが判明している。この水（高温水或いは飽
和蒸気）による散水は特に簡単でありかつ特にコスト的
に有利である。このようにして再生された触媒は再び高
い活性を帯びる。洗浄効果をさらに改善するためにこの
水に添加物を付加することができる。このような添加物
は選択的にある種の堆積物に化学的に作用するように選
ばれる。上述の方法及び上述の装置をＳＣＲ触媒の使用
例に適用することは特に好ましい。
【００１４】その場合、上記の装置は位置を固定して構
築し、再生センターで使用することができる。或いはま
た異なる場所で使用される可動ユニットとすることもで
きる。またこの装置は火力発電所やごみ焼却施設の固定
位置に設置して、脱ＮＯＸ炉の構成要素とすることもで
きる。
築し、再生センターで使用することができる。或いはま
た異なる場所で使用される可動ユニットとすることもで
きる。またこの装置は火力発電所やごみ焼却施設の固定
位置に設置して、脱ＮＯＸ炉の構成要素とすることもで
きる。
【００１５】
【実施例】この発明の実施例を以下に図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１６】図１において被汚染物体４を洗浄するため
の洗浄装置２が設けられている。この被汚染物体４は長
方形状に形成され、汚染されている矩形状の或いは蜂の
巣状の断面を持つ複数の貫通した空洞（通流路）６を備
えている。被汚染物体４は破線で示される被汚染物体４
を載置する積み卸ろし台８から把持・移送・転向装置１
０により、例えばフィルタの形の支持装置１２に供給さ
れる。洗浄される被汚染物体４はこの支持装置１２に載
置される。支持装置１２に関連して例えば水である洗浄
液Ｗを供給する供給装置１４が配置されている。供給装
置１４はノズル１６を持つ上部とノズル１８を持つ下部
から成り、これらは被汚染物体４の方向に、そしてこの
場合個々の空洞の開口の方向に向けられて配置されてい
る。洗浄液の排出の際に全ての通流路に達するために、
この場合支持装置１２は直線的に或いは蛇行状に水平方
向に動かすことができるようにされている。これは二重
矢印２０で示されている。
の洗浄装置２が設けられている。この被汚染物体４は長
方形状に形成され、汚染されている矩形状の或いは蜂の
巣状の断面を持つ複数の貫通した空洞（通流路）６を備
えている。被汚染物体４は破線で示される被汚染物体４
を載置する積み卸ろし台８から把持・移送・転向装置１
０により、例えばフィルタの形の支持装置１２に供給さ
れる。洗浄される被汚染物体４はこの支持装置１２に載
置される。支持装置１２に関連して例えば水である洗浄
液Ｗを供給する供給装置１４が配置されている。供給装
置１４はノズル１６を持つ上部とノズル１８を持つ下部
から成り、これらは被汚染物体４の方向に、そしてこの
場合個々の空洞の開口の方向に向けられて配置されてい
る。洗浄液の排出の際に全ての通流路に達するために、
この場合支持装置１２は直線的に或いは蛇行状に水平方
向に動かすことができるようにされている。これは二重
矢印２０で示されている。
【００１７】支持装置１２の下側には汚染された洗浄液
Ｗ´を回収するための回収容器２２が配置されている。
この回収容器２２は汚染された洗浄液Ｗ´を排出するた
めの排出弁２４を備えている。
Ｗ´を回収するための回収容器２２が配置されている。
この回収容器２２は汚染された洗浄液Ｗ´を排出するた
めの排出弁２４を備えている。
【００１８】把持・移送・転向装置１０はレール２６に
懸垂されている。この装置はローラー２８により水平方
向に動くことができ、これは二重矢印３０で示されてい
る。２つの平行アーム３２により被汚染物体４は慎重に
把持される。これらのアーム３２は、被汚染物体４が水
平軸３４を中心に１８０°回転できるように形成されて
いる。この回転は湾曲した二重矢印３６により示されて
いる。このようにして被汚染物体４は両側からノズル１
６、１８により散水され、噴霧され、接触され或いは他
の方法で圧力が加えられて洗浄することができる。
懸垂されている。この装置はローラー２８により水平方
向に動くことができ、これは二重矢印３０で示されてい
る。２つの平行アーム３２により被汚染物体４は慎重に
把持される。これらのアーム３２は、被汚染物体４が水
平軸３４を中心に１８０°回転できるように形成されて
いる。この回転は湾曲した二重矢印３６により示されて
いる。このようにして被汚染物体４は両側からノズル１
６、１８により散水され、噴霧され、接触され或いは他
の方法で圧力が加えられて洗浄することができる。
【００１９】これに代わって図１の装置２において、支
持装置１２の代わりに散水の際に供給装置１４を往復運
動させることも当然可能である。また装置２全体を或い
はその一部を、側壁のみが図示されている容器３８に収
納することができる。
持装置１２の代わりに散水の際に供給装置１４を往復運
動させることも当然可能である。また装置２全体を或い
はその一部を、側壁のみが図示されている容器３８に収
納することができる。
【００２０】図２に示された洗浄装置２においては全体
の容器３８が示されている。この容器はこの場合もフィ
ルタの形の支持装置１２並びに２つの被汚染物体４を収
納している。被汚染物体４を容器３８に移送する手段は
示されていない。この構成では両被汚染物体４は上から
少なくとも２つのノズル１６により散水されて洗浄され
る。
の容器３８が示されている。この容器はこの場合もフィ
ルタの形の支持装置１２並びに２つの被汚染物体４を収
納している。被汚染物体４を容器３８に移送する手段は
示されていない。この構成では両被汚染物体４は上から
少なくとも２つのノズル１６により散水されて洗浄され
る。
【００２１】ノズル１６を編み目スクリーン状に動かす
ために洗浄液Ｗの供給装置１４の直線運動が行われる。
これは二重矢印４０で示されている。この構成で注目す
べきことは、両被汚染物体４が互いに無関係に上から及
び／又は下から散水され或いは洗浄されることである。
ために洗浄液Ｗの供給装置１４の直線運動が行われる。
これは二重矢印４０で示されている。この構成で注目す
べきことは、両被汚染物体４が互いに無関係に上から及
び／又は下から散水され或いは洗浄されることである。
【００２２】図３には連続的に作動する洗浄装置２が示
されている。すなわちこの場合複数の被汚染物体４が順
次レール４６上を動く移送台車４４に載って洗浄装置２
を通過する。この洗浄装置２は殆ど閉鎖されている容器
３８を含む。個々の台車４４が出入するための入口門５
０及び出口門５２が設けられている。被汚染物体４は台
車４４に、長手通流路が垂直になるように配置されてい
る。容器３８の下部は汚染された洗浄液Ｗ´の回収容器
５４とされている。ここには同様に排出弁２４が設けら
れている。
されている。すなわちこの場合複数の被汚染物体４が順
次レール４６上を動く移送台車４４に載って洗浄装置２
を通過する。この洗浄装置２は殆ど閉鎖されている容器
３８を含む。個々の台車４４が出入するための入口門５
０及び出口門５２が設けられている。被汚染物体４は台
車４４に、長手通流路が垂直になるように配置されてい
る。容器３８の下部は汚染された洗浄液Ｗ´の回収容器
５４とされている。ここには同様に排出弁２４が設けら
れている。
【００２３】散水のために洗浄液Ｗの第一及び第二の供
給装置１４ａ、１４ｂが設けられている。これらの供給
装置１４ａ、１４ｂはこの例では直線状に或いは円形状
に配置された噴霧ノズル５８を有する端末分配システム
５６並びに噴霧ノズル６２を有する端末分配システム６
０を備えた管システムとして構成されている。第一の供
給装置１４ａはレール４６の上側に、第二の供給装置１
４ｂはレール４６の下側に配置されているので、被汚染
物体４は上及び下から散水することができる。下部５４
に回収された被汚染液Ｗ´は（図示されてない）処理装
置に導かれる。ここで種々の洗浄液の含有汚染物質が分
離され処理される。
給装置１４ａ、１４ｂが設けられている。これらの供給
装置１４ａ、１４ｂはこの例では直線状に或いは円形状
に配置された噴霧ノズル５８を有する端末分配システム
５６並びに噴霧ノズル６２を有する端末分配システム６
０を備えた管システムとして構成されている。第一の供
給装置１４ａはレール４６の上側に、第二の供給装置１
４ｂはレール４６の下側に配置されているので、被汚染
物体４は上及び下から散水することができる。下部５４
に回収された被汚染液Ｗ´は（図示されてない）処理装
置に導かれる。ここで種々の洗浄液の含有汚染物質が分
離され処理される。
【００２４】特に重要ことは、個別の被汚染物体４がご
み焼却施設或いは火力発電所の煙道ガス浄化設備からそ
の使用後に取り出された触媒モジュールであることであ
る。このモジュールは特にこれらの設備における窒素酸
化物或いはダイオキシンの除去に使用される触媒モジュ
ールである。このような触媒は公知のＳＣＲ法により作
動するものであるが、数時間の使用で堆積する。この触
媒の汚染を充分に洗浄し、付着した汚染物質を大幅に溶
解し、当該触媒にその本来の脱ＮＯＸ及びダイオキシン
活性の大部分を再生するためには、触媒の通流路を通常
の水で単に散水することで充分であることが判明してい
る。それにも係わらず、水（高温水、飽和蒸気）に少な
くとも溶解作用をする添加物を付加すると有利である。
このような添加物は、例えば酸化カリウム（Ｋ2 Ｏ）、
酸化ナトリウム（Ｎａ2 Ｏ）、酸化カルシウム（Ｃａ
Ｏ）或いは他のアルカリ又はアルカリ土化合物或いはま
た酸化鉛（ＰｂＯ）並びに他の溶解性重金属化合物のよ
うな汚染物質の所定の成分に選択的に作用する。化学的
作用の際に活性の触媒成分が化学的に侵されることを回
避する必要がある。添加物としては、例えばシュウ酸、
クエン酸、乳酸等或いはそれらの混合物のような水に溶
解する物質が適している。例えば亜硫酸（Ｈ2Ｓ
Ｏ3 ）、亜硝酸（ＨＮＯ2 ）或いはそれらの混合物のよ
うな鉱酸も適している。また過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ）も
使用することができる。これらの物質は水溶性である。
これらの物質は触媒の通流路における汚染物質の溶解挙
動に選択的に影響する。
み焼却施設或いは火力発電所の煙道ガス浄化設備からそ
の使用後に取り出された触媒モジュールであることであ
る。このモジュールは特にこれらの設備における窒素酸
化物或いはダイオキシンの除去に使用される触媒モジュ
ールである。このような触媒は公知のＳＣＲ法により作
動するものであるが、数時間の使用で堆積する。この触
媒の汚染を充分に洗浄し、付着した汚染物質を大幅に溶
解し、当該触媒にその本来の脱ＮＯＸ及びダイオキシン
活性の大部分を再生するためには、触媒の通流路を通常
の水で単に散水することで充分であることが判明してい
る。それにも係わらず、水（高温水、飽和蒸気）に少な
くとも溶解作用をする添加物を付加すると有利である。
このような添加物は、例えば酸化カリウム（Ｋ2 Ｏ）、
酸化ナトリウム（Ｎａ2 Ｏ）、酸化カルシウム（Ｃａ
Ｏ）或いは他のアルカリ又はアルカリ土化合物或いはま
た酸化鉛（ＰｂＯ）並びに他の溶解性重金属化合物のよ
うな汚染物質の所定の成分に選択的に作用する。化学的
作用の際に活性の触媒成分が化学的に侵されることを回
避する必要がある。添加物としては、例えばシュウ酸、
クエン酸、乳酸等或いはそれらの混合物のような水に溶
解する物質が適している。例えば亜硫酸（Ｈ2Ｓ
Ｏ3 ）、亜硝酸（ＨＮＯ2 ）或いはそれらの混合物のよ
うな鉱酸も適している。また過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ）も
使用することができる。これらの物質は水溶性である。
これらの物質は触媒の通流路における汚染物質の溶解挙
動に選択的に影響する。
【００２５】上記の目的のために、特に、ごみ焼却施設
や火力発電所に移送されそこで散水（必要に応じて添加
物を加えて）により触媒の洗浄に使用される可動の洗浄
装置２が使用される。このようなユニットは搬送可能に
構成され、設備内に組み込まれた触媒のできるだけ近く
に運ばれる。
や火力発電所に移送されそこで散水（必要に応じて添加
物を加えて）により触媒の洗浄に使用される可動の洗浄
装置２が使用される。このようなユニットは搬送可能に
構成され、設備内に組み込まれた触媒のできるだけ近く
に運ばれる。
【００２６】図４には固定かつ組み込み構造の洗浄装置
２が使用される実施例が示されている。ここでも個別の
被汚染物体４は触媒モジュールである。しかしながらこ
の実施例では被汚染物体４は、洗浄の際固定されてい
る。図４に示されるように、個別の被汚染物体４は、互
いに間隔を置いた数段（ここでは３段）にして容器３８
内の支持装置１２の上に収納されている。なおこの容器
は当該分野では炉とも称される。炉の運転中ボイラから
の煙道ガスは上からモジュール４の個々の段階を通って
導かれ、次いで下方で側面方向に煙突に導かれる。これ
は矢印７０、７２により示されている。その場合容器３
８の中には塵が堆積し、これは下の部分、即ち塵集合部
或いは回収容器５４に集められる。
２が使用される実施例が示されている。ここでも個別の
被汚染物体４は触媒モジュールである。しかしながらこ
の実施例では被汚染物体４は、洗浄の際固定されてい
る。図４に示されるように、個別の被汚染物体４は、互
いに間隔を置いた数段（ここでは３段）にして容器３８
内の支持装置１２の上に収納されている。なおこの容器
は当該分野では炉とも称される。炉の運転中ボイラから
の煙道ガスは上からモジュール４の個々の段階を通って
導かれ、次いで下方で側面方向に煙突に導かれる。これ
は矢印７０、７２により示されている。その場合容器３
８の中には塵が堆積し、これは下の部分、即ち塵集合部
或いは回収容器５４に集められる。
【００２７】図４から分かるように、通常運転において
は個々の段の間にそれぞれ１つの煤ブロワ７４が配置さ
れているか或いは搬入される。最上段の上方にもこのよ
うな煤ブロワ７４が設けられる。挿入口は７６で示され
ている。この煤ブロワ７４は下方向に向いたノズル７８
を備えた管構造であり、このノズル７８から堆積した煤
或いはその他の塵成分を吹き飛ばすために過熱された蒸
気が、個々のモジュール４の表面に向かって煙道ガス流
の方向に吹き出される。その場合過熱された蒸気は、塵
及び煤の粒子を機械的に削り落とす作用をする。化学的
プロセスはこれには伴っていない。
は個々の段の間にそれぞれ１つの煤ブロワ７４が配置さ
れているか或いは搬入される。最上段の上方にもこのよ
うな煤ブロワ７４が設けられる。挿入口は７６で示され
ている。この煤ブロワ７４は下方向に向いたノズル７８
を備えた管構造であり、このノズル７８から堆積した煤
或いはその他の塵成分を吹き飛ばすために過熱された蒸
気が、個々のモジュール４の表面に向かって煙道ガス流
の方向に吹き出される。その場合過熱された蒸気は、塵
及び煤の粒子を機械的に削り落とす作用をする。化学的
プロセスはこれには伴っていない。
【００２８】図４に示すように、個々の既存の煤ブロワ
７４はこの例で前述の意味での洗浄液Ｗが負荷される。
この洗浄液は特に少なくとも１つの添加物が付加されて
いる飽和蒸気とすることができる。個々のノズル７８の
分配により、モジュール４の全ての通流路６に均一に洗
浄液が加えられる。これにより機械的な洗浄の他に化学
的な洗浄が行われる。というのは水に溶けた添加物の成
分はここでは溶解可能な物質の除去に決定的に寄与する
からである。このようにして個々の触媒モジュール４の
中に含まれている例えばバナジウム、タングステン、モ
リブデンのような成分やその他の成分を殆ど取り去るこ
とができる。回収容器５４に堆積した汚染洗浄液Ｗ´は
フィルタ、阻止体或いは弁２４により下方に排出され
る。
７４はこの例で前述の意味での洗浄液Ｗが負荷される。
この洗浄液は特に少なくとも１つの添加物が付加されて
いる飽和蒸気とすることができる。個々のノズル７８の
分配により、モジュール４の全ての通流路６に均一に洗
浄液が加えられる。これにより機械的な洗浄の他に化学
的な洗浄が行われる。というのは水に溶けた添加物の成
分はここでは溶解可能な物質の除去に決定的に寄与する
からである。このようにして個々の触媒モジュール４の
中に含まれている例えばバナジウム、タングステン、モ
リブデンのような成分やその他の成分を殆ど取り去るこ
とができる。回収容器５４に堆積した汚染洗浄液Ｗ´は
フィルタ、阻止体或いは弁２４により下方に排出され
る。
【００２９】図示の煤ブロワ７４の代わりに、洗浄工程
の際に特別に適合された洗浄液Ｗを供給する供給装置１
４を使用することもできる。その場合、挿入口７６は兼
用される。この場合も添加物を加えた飽和蒸気が汚染物
質及び堆積物の選択溶解に使用される。
の際に特別に適合された洗浄液Ｗを供給する供給装置１
４を使用することもできる。その場合、挿入口７６は兼
用される。この場合も添加物を加えた飽和蒸気が汚染物
質及び堆積物の選択溶解に使用される。
【００３０】図４に示される装置２の利点は、個々のモ
ジュール４を分解する必要がないことである。また、常
に損傷の危険を伴うモジュール４の移動も必要がない。
ジュール４を分解する必要がないことである。また、常
に損傷の危険を伴うモジュール４の移動も必要がない。
【００３１】原理的には、主として数回の洗浄工程の経
過中に個々の触媒モジュール４が損傷され易い、即ち化
学的な方法で表面が侵され易いことがある。これにより
触媒活性の減退が起こり得る。これに対処するために、
洗浄の場合と同じ方法で含浸が行われる。これにより再
び触媒活性の向上がなされる。この含浸において洗い落
とされ或いは化学的に削り取られる触媒有効成分の損失
が補償される。換言すれば、この含浸の際に触媒活性成
分（通常の触媒においてはタングステン、バナジウム及
び／又はモリブデン）の１つが溶解化合物の形で個々の
通流路６に入り込み、この物質がそこに堆積する。通流
路の個々の表面を濡らした後に乾燥が行われる。この乾
燥は例えば高温の煙道ガスを導入することによって行う
ことができる。煙道ガスは元々触媒モジュールに含まれ
ている触媒成分の１つ或いは複数を一緒に運ぶこともあ
り得る。その場合には、化学反応によって起こる触媒活
性の損失の補償を行うために、ある一定時間の間煙道ガ
スをモジュール４の上に導くことで充分であろう。
過中に個々の触媒モジュール４が損傷され易い、即ち化
学的な方法で表面が侵され易いことがある。これにより
触媒活性の減退が起こり得る。これに対処するために、
洗浄の場合と同じ方法で含浸が行われる。これにより再
び触媒活性の向上がなされる。この含浸において洗い落
とされ或いは化学的に削り取られる触媒有効成分の損失
が補償される。換言すれば、この含浸の際に触媒活性成
分（通常の触媒においてはタングステン、バナジウム及
び／又はモリブデン）の１つが溶解化合物の形で個々の
通流路６に入り込み、この物質がそこに堆積する。通流
路の個々の表面を濡らした後に乾燥が行われる。この乾
燥は例えば高温の煙道ガスを導入することによって行う
ことができる。煙道ガスは元々触媒モジュールに含まれ
ている触媒成分の１つ或いは複数を一緒に運ぶこともあ
り得る。その場合には、化学反応によって起こる触媒活
性の損失の補償を行うために、ある一定時間の間煙道ガ
スをモジュール４の上に導くことで充分であろう。
【図１】個別の被汚染物体の把持・移送・転向装置を備
えた第一の実施例の洗浄装置の概略構成図。
えた第一の実施例の洗浄装置の概略構成図。
【図２】個別の被汚染物体を編み目スクリーン状に散水
する可動型に構成された第二の実施例の洗浄装置の概略
構成図。
する可動型に構成された第二の実施例の洗浄装置の概略
構成図。
【図３】上下から散水する連続動作型の第三の実施例の
洗浄装置の概略構成図。
洗浄装置の概略構成図。
【図４】火力発電所或いはごみ焼却施設の脱ＮＯＸ反応
炉に組み込まれた第四の実施例の洗浄装置の概略構成
図。
炉に組み込まれた第四の実施例の洗浄装置の概略構成
図。
２ 洗浄装置 ４ 被汚染物体 ６ 空洞 １０ 供給及び／又は排出装置 １２ 支持装置 １４ 洗浄液の供給装置 １６、１８ ノズル ３８ 回収容器 Ｗ 洗浄液 Ｗ´ 汚染された洗浄液
Claims (24)
- 【請求項１】 汚染物質を有する複数の貫通した空洞
（６）を備えた被汚染物体の洗浄方法であって、被汚染
物体（４）が洗浄液（Ｗ）特に水で散水され、そのとき
生じた汚染された洗浄液（Ｗ´）が回収されることを特
徴とする被汚染物体の洗浄方法。 - 【請求項２】 被汚染物体（４）の空洞（６）が特に矩
形状の或いは蜂の巣状の断面を持つ通流路である場合
に、被汚染物体（４）が同時に或いは順次に両側から洗
浄液で散水されることを特徴とする請求項１記載の方
法。 - 【請求項３】 被汚染物体（４）或いは洗浄液（６）の
供給装置（１４）が散水の際に動かされ、個々の空洞
（６）が順次に散水されることを特徴とする請求項１又
は２記載の方法。 - 【請求項４】 被汚染物体（４）が両側からの散水のた
めに１８０°転向されることを特徴とする請求項２又は
３記載の方法。 - 【請求項５】 汚染された洗浄液（Ｗ´）が取り出され
て処理されることを特徴とする請求項１乃至４の１つに
記載の方法。 - 【請求項６】 散水が被汚染物体（４）の設置された場
所で行われることを特徴とする請求項１乃至５の１つに
記載の方法。 - 【請求項７】 複数の被汚染物体（４）が連続処理法で
順次に散水されることを特徴とする請求項１乃至６の１
つに記載の方法。 - 【請求項８】 汚染物質を有する複数の貫通した空洞
（６）を備えた被汚染物体の洗浄装置であって、洗浄す
べき被汚染物体（４）を収納するための支持装置（１
２、４４）及び／又は容器（３８）と、洗浄液（Ｗ）を
被汚染物体（４）に、この被汚染物体（４）が支持装置
（１２、４４）及び／又は容器（３８）に配置されてい
るとき、直ちに供給する供給装置（１４、１４ａ、１４
ｂ）と、必要に応じて被汚染物体（４）を支持装置（１
２、４４）にもしくはそれから及び／又は容器（３８）
にもしくはそれから供給及び／又は排出する装置（１
０、４４、４６）と、汚染された洗浄液（Ｗ´）を回収
する回収容器装置（２２、５４）とを備えたことを特徴
とする請求項１乃至７の１つに記載の方法を実施するた
めの装置。 - 【請求項９】 供給装置（１４、１４ａ、１４ｂ）が少
なくとも１つのノズル（１６、１８）を備え、これに相
対的に被汚染物体（４）が特に直線方向に或いは蛇行状
に可動であることを特徴とする請求項８記載の装置。 - 【請求項１０】 供給装置（１４、１４ａ、１４ｂ）が
少なくとも１つのノズル（１６、１８）を備え、これに
相対的に被汚染物体（４）が固定的に配置されているこ
とを特徴とする請求項８記載の装置。 - 【請求項１１】 被汚染物体（４）が１８０°回転可能
であり、その結果被汚染物体（４）が両側から供給装置
（１４、１４ａ、１４ｂ）によって洗浄液（Ｗ）で散水
されることを特徴とする請求項８乃至１０の１つに記載
の装置。 - 【請求項１２】 容器（３８）の外部に積み卸ろし台
（８）が設けられていることを特徴とする請求項８乃至
１１の１つに記載の装置。 - 【請求項１３】 容器（３８）に被汚染物体（４）を動
かすための移送手段（１０、４４）を備えていることを
特徴とする請求項８乃至１２の１つに記載の装置。 - 【請求項１４】 支持装置（１２、４４）が容器（３
８）に収納されているかこの容器（３８）の構造部分で
あることを特徴とする請求項８乃至１３の１つに記載の
装置。 - 【請求項１５】 供給装置（１４、１４ａ、１４ｂ）が
容器（３８）の中で被汚染物体（４）の上に配置されて
いる出口ノズル（１６、５８、７８）を備えていること
を特徴とする請求項８乃至１４の１つに記載の装置。 - 【請求項１６】 供給装置（１４）が既存の煤ブロワ
（７４）から成ることを特徴とする請求項８乃至１５の
１つに記載の装置。 - 【請求項１７】 被汚染物体（４）がＳＣＲ触媒であ
り、洗浄液（Ｗ）が水或いは特に５バールまでのゲージ
圧を持つ水蒸気であることを特徴とする請求項８乃至１
６の１つに記載の装置。 - 【請求項１８】 洗浄液（Ｗ）が、少なくとも汚染物質
の１つに溶解作用をする少なくとも１つの添加物が付加
されている水であることを特徴とする請求項８乃至１７
の１つに記載の装置。 - 【請求項１９】 添加物がシュウ酸、クエン酸、乳酸或
いはこれらの混合物のような低分子有機酸、亜硫酸、亜
硝酸、硝酸或いはこれらの混合物のような鉱酸或いは過
酸化水素であることを特徴とする請求項１８記載の装
置。 - 【請求項２０】 被汚染物体（４）を洗浄後含浸剤
（Ｉ）に導く手段が設けられていることを特徴とする請
求項８乃至１９の１つに記載の装置。 - 【請求項２１】 被汚染物体（４）がＳＣＲ触媒であ
り、洗浄液（Ｗ）が水或いは特に５バールまでのゲージ
圧を持つ水蒸気であることを特徴とする請求項１乃至７
の１つに記載の方法。 - 【請求項２２】 洗浄液（Ｗ）が、少なくとも汚染物質
の１つに溶解作用をする少なくとも１つの添加物が付加
されている水であることを特徴とする請求項１乃至７の
１つ或いは請求項２１記載の方法。 - 【請求項２３】 添加物がシュウ酸、クエン酸、乳酸或
いはこれらの混合物のような低分子有機酸、亜硫酸、亜
硝酸、硝酸或いはこれらの混合物のような鉱酸或いは過
酸化水素であることを特徴とする請求項２２記載の方
法。 - 【請求項２４】 被汚染物体（４）が洗浄後含浸される
ことを特徴とする請求項１乃至７或いは請求項２１乃至
２３の１つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19633400 | 1996-08-19 | ||
| DE19633400.4 | 1996-08-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1085682A true JPH1085682A (ja) | 1998-04-07 |
Family
ID=7803023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9236550A Pending JPH1085682A (ja) | 1996-08-19 | 1997-08-18 | 被汚染物体の洗浄方法及び装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0824973A3 (ja) |
| JP (1) | JPH1085682A (ja) |
| KR (1) | KR19980018743A (ja) |
| TW (1) | TW436332B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002172364A (ja) * | 2000-12-06 | 2002-06-18 | Shimizu Corp | ダイオキシン汚染部材の洗浄方法 |
| WO2011148827A1 (ja) * | 2010-05-24 | 2011-12-01 | 昭和電工株式会社 | 洗浄方法 |
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|---|---|---|---|---|
| DE19723796C2 (de) | 1997-06-06 | 2003-07-17 | Saar En Gmbh | Verfahren zur erneuten Aktivierung wabenförmig aufgebauter Katalysatorelemente für die Entstickung von Rauchgasen |
| ITTO20011023A1 (it) * | 2001-10-26 | 2003-04-26 | R E A S N C Di Sassi E Baudin | Machina lavatrice a vapore |
| US7559993B1 (en) | 2003-06-03 | 2009-07-14 | Scr-Tech Llc | Process for decoating a washcoat catalyst substrate |
| US6929701B1 (en) | 2003-06-03 | 2005-08-16 | Scr-Tech Llc | Process for decoating a washcoat catalyst substrate |
| WO2006046842A1 (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-04 | Ilwoo Tech Co., Ltd. | Part washer |
| DE102005000873A1 (de) | 2005-01-05 | 2006-07-13 | Blohm, Maik | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von SCR-Katalysatoren zwecks Wiedererlangung der Aktivität |
| DE502005010940D1 (de) | 2005-12-16 | 2011-03-17 | Evonik Energy Services Gmbh | Verfahren zum Behandeln von Rauchgas-Katalysatoren |
| DE102007020855A1 (de) | 2007-05-02 | 2008-11-06 | Evonik Energy Services Gmbh | Verfahren zum Reinigen von Rauchgasen aus Verbrennungsanlagen |
| DK2033702T3 (da) | 2007-09-04 | 2011-05-02 | Evonik Energy Services Gmbh | Fremgangsmåde til fjernelse af kviksølv fra forbrændingsgasser |
| US7723251B2 (en) | 2008-03-11 | 2010-05-25 | Evonik Energy Services Llc | Method of regeneration of SCR catalyst |
| US7741239B2 (en) | 2008-03-11 | 2010-06-22 | Evonik Energy Services Llc | Methods of regeneration of SCR catalyst poisoned by phosphorous components in flue gas |
| DE102009039536B4 (de) | 2009-09-01 | 2020-06-04 | Johnson Matthey Catalysts (Germany) Gmbh | Verbrennungsanlage sowie Verfahren zur Reinigung einer in einem Abgaskanal einer Verbrennungsanlage installierten Katalysatoreinrichtung |
| KR101340130B1 (ko) * | 2012-03-26 | 2013-12-10 | 정민래 | 절단 파이프 세척장치 |
| CN103798157B (zh) * | 2014-02-19 | 2015-05-13 | 安徽光林蛋制品有限责任公司 | 生鲜鸡蛋清洗、消毒、检测、碎蛋一体机 |
| WO2016157107A1 (en) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Landucci S.R.L. | Die-washing machine and method for washing dies for pasta |
| CN114932111B (zh) * | 2022-05-31 | 2023-04-07 | 中南大学湘雅二医院 | 一种急诊科护理用品快速预清洁装置 |
| DE102023124043A1 (de) * | 2022-09-13 | 2024-03-14 | Eriver Ag | Anordnung zum Reinigen eines Grillrostes |
| DE102022003782A1 (de) * | 2022-10-13 | 2024-04-18 | Singulus Technologies Aktiengesellschaft | Durchlaufanlage |
| CN116764435B (zh) * | 2023-08-17 | 2023-11-03 | 山西毅诚科信科技有限公司 | 一种烟气scr脱硝混合反应装置 |
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| JPS58150418A (ja) * | 1982-03-01 | 1983-09-07 | Babcock Hitachi Kk | 触媒層用ス−トブロワ |
| JPS5962350A (ja) * | 1982-10-04 | 1984-04-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 触媒の再生法 |
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-
1997
- 1997-06-18 TW TW086108514A patent/TW436332B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-08-06 EP EP97113599A patent/EP0824973A3/de not_active Withdrawn
- 1997-08-18 JP JP9236550A patent/JPH1085682A/ja active Pending
- 1997-08-19 KR KR1019970039261A patent/KR19980018743A/ko not_active Ceased
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