JPH1085683A

JPH1085683A - 洗浄装置

Info

Publication number: JPH1085683A
Application number: JP24599796A
Authority: JP
Inventors: Toshiharu Yamazawa; 俊治山沢; Takeshi Mori; 剛森
Original assignee: Toshiba Corp; Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
Current assignee: Toshiba Corp; Toshiba Development and Engineering Corp
Priority date: 1996-09-18
Filing date: 1996-09-18
Publication date: 1998-04-07

Abstract

(57)【要約】【課題】有機溶剤を用いた洗浄装置において、有機溶
剤の蒸気流の制御を可能にすることによって、有機溶剤
蒸気を被洗浄物の周囲に集中させると共に、有機溶剤蒸
気の吸引排気量を低減する。【解決手段】被洗浄物２０の表面で有機溶剤蒸気４３
を凝縮させ、被洗浄物２０の洗浄および乾燥を行う洗浄
装置において、底部に滞留させた有機溶剤３１を加熱し
て、有機溶剤蒸気４３を生じさせる蒸気洗浄槽４１内
に、被洗浄物２０処理位置近傍に冷却手段４５を設置す
ることによって、有機溶剤の蒸気流を被洗浄物２０の周
囲に集中させる。また、予め被洗浄物２０を有機溶剤３
１で浸漬洗浄する場合には、浸漬洗浄槽３２内に収容さ
れた有機溶剤３１を冷却し、この冷却された有機溶剤３
１で被洗浄物２０を冷温置換する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶用ガラス基板
等の各種被洗浄物を有機溶剤で洗浄する洗浄装置に係
り、特に有機溶剤の蒸気を被洗浄物表面で凝縮させて洗
浄および乾燥を行う洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】各種基板等の製造工程においては、基板
を水系洗浄液や水等を用いて洗浄した後に、さらにイソ
プロピルアルコール（ＩＰＡ）等の低沸点の有機溶剤を
用いて、表面の異物や水分等を除去しつつ乾燥させるこ
とが行われている。被洗浄物である基板の乾燥は、有機
溶剤の蒸気を基板表面で凝縮させ、表面の異物や水分等
と共に除去しつつ、最終的に基板表面の有機溶剤を乾燥
（揮発）させることによって行われる。このような乾燥
方法は、静電気等の影響によりごみ等の異物が付着しや
すい絶縁基板、例えばサイズの大きな液晶表示装置用の
ガラス基板に対して好適である。

【０００３】従来の有機溶剤を用いた洗浄装置につい
て、図３および図４を参照して説明する。例えば表面が
水に濡れた複数枚の基板１は、バスケット２により縦向
きに支持され、この状態でまず有機溶剤への浸漬洗浄工
程Ａに送られる。この浸漬洗浄工程Ａは、ＩＰＡ３等の
有機溶剤が収容された置換槽４を有しており、この置換
槽４にはオーバーフロー部５、循環ポンプ６および循環
フィルタ７による循環系が設けられている。被洗浄物で
ある基板１は、置換槽４で常温のＩＰＡ３に浸漬され、
基板１表面に付着する水等とＩＰＡ３との置換が行われ
る。

【０００４】浸漬洗浄工程Ａで水等とＩＰＡ３との置換
が行われた基板１は、次いで有機溶剤の蒸気槽８を有す
る蒸気洗浄（凝縮・乾燥）工程Ｂに送られる。蒸気槽８
内の下方には、有機溶剤として例えばＩＰＡ９が滞留し
ており、蒸気槽８底部に設置された加熱ヒータ１０によ
りＩＰＡ９が昇温されて、ＩＰＡの蒸気１１を生じさせ
ている。浸漬洗浄工程Ａを経た基板１は、このＩＰＡ蒸
気１１が充満している蒸気槽８内の所定の処理位置に移
送配置され、ＩＰＡ蒸気１１を基板１表面で凝縮させる
ことによって、基板１の洗浄および乾燥が行われる。

【０００５】蒸気槽８内の基板１の処理位置下方には、
基板１表面で凝縮して滴下するＩＰＡ廃液を回収する廃
液受皿１２が設けられており、これらＩＰＡ廃液はドレ
ンタンク１３等を介して廃棄される。また、蒸気槽８の
上方には、冷水が循環される凝縮コイル１４と排気ダク
ト１５とが設けられており、ＩＰＡの蒸気１１が蒸気槽
８の外部に流出することを抑制している。

【０００６】上述した従来の洗浄装置の蒸気洗浄（凝縮
・乾燥）工程Ｂにおいては、被洗浄物である基板１はＩ
ＰＡ蒸気１１内に移送配置され、基板１表面でＩＰＡ蒸
気１１の凝縮が行われるが、図４に示すように、ＩＰＡ
蒸気１１は基本的には蒸気槽８上部の凝縮コイル１４に
向けて流れており、また基板１としてガラス基板等を洗
浄する場合にはそれ自体の熱容量が小さいために、ＩＰ
Ａ蒸気１１の流れが基板１周囲に集中しずらいという問
題がある。加えて、従来の洗浄装置においては、浸漬洗
浄工程Ａで常温（室温に近い）のＩＰＡ３が用いられて
いるために、蒸気洗浄工程ＢでＩＰＡ蒸気１１と基板１
との温度差が小さく、これもＩＰＡ蒸気１１の基板１周
囲への集中を妨げている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のＩＰＡ等の有機溶剤を用いた洗浄装置においては、Ｉ
ＰＡ蒸気を被洗浄物の周囲に効率的に集中させることが
難しく、洗浄密度（洗浄性）や洗浄効率等が低いという
問題を有していた。また、発生させたＩＰＡ蒸気のう
ち、基板表面で凝縮した蒸気以外は基本的には蒸気槽上
部の凝縮コイルで凝縮されて回収されるが、ＩＰＡ蒸気
の多くが蒸気槽上部に達するため、それだけ排気ダクト
で吸引排気されるＩＰＡ蒸気量も多くなり、ＩＰＡの使
用量が増加するという問題を有していた。

【０００８】このようなことから、従来の有機溶剤を用
いた洗浄装置においては、有機溶剤の蒸気流の制御を可
能にすることによって、有機溶剤の蒸気を被洗浄物の周
囲に集中させると共に、有機溶剤の蒸気の吸引排気量を
低減することが課題とされている。

【０００９】本発明は、このような課題に対処するため
になされたもので、有機溶剤の蒸気を被洗浄物の周囲に
集中させて、洗浄密度（洗浄性）や洗浄効率等の向上を
図ると共に、有機溶剤の使用量の削減を図った洗浄装置
を提供することを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の洗浄装置
は、被洗浄物の表面で有機溶剤の蒸気を凝縮させ、前記
被洗浄物の洗浄および乾燥を行う洗浄装置において、前
記被洗浄物の移送手段と、底部に滞留させた前記有機溶
剤を加熱して、前記有機溶剤の蒸気を生じさせると共
に、前記被洗浄物が前記有機溶剤の蒸気流内の所定の処
理位置に移送配置される蒸気洗浄槽と、前記蒸気洗浄槽
内における前記被洗浄物の処理位置近傍に設置され、前
記有機溶剤の蒸気を冷却する冷却手段とを具備し、前記
冷却手段により前記有機溶剤の蒸気流を前記被洗浄物の
周囲に集中させるよう構成されていることを特徴として
いる。

【００１１】請求項２記載の洗浄装置は、被洗浄物を有
機溶剤で洗浄する洗浄装置において、前記被洗浄物の移
送手段と、有機溶剤が収容され、前記有機溶剤内に前記
被洗浄物が浸漬される浸漬洗浄槽と、前記浸漬洗浄槽内
に収容された前記有機溶剤を冷却する冷却手段とを有す
る浸漬洗浄部と、底部に滞留させた有機溶剤を加熱し
て、前記有機溶剤の蒸気を生じさせると共に、前記浸漬
洗浄部を経た前記被洗浄物が前記有機溶剤の蒸気流内の
所定の処理位置に移送配置される蒸気洗浄槽と、前記蒸
気洗浄槽内における前記被洗浄物の処理位置近傍に設置
され、前記有機溶剤の蒸気を冷却する冷却手段とを有
し、前記冷却手段により前記有機溶剤の蒸気流を前記被
洗浄物の周囲に集中させるよう構成されている蒸気洗浄
部とを具備することを特徴としている。

【００１２】請求項１記載の洗浄装置においては、蒸気
洗浄槽内における被洗浄物の処理位置近傍に冷却手段を
設け、この被洗浄物の処理位置近傍で有機溶剤の蒸気を
冷却している。この被洗浄物の処理位置近傍での有機溶
剤蒸気の冷却によって、蒸気洗浄槽の底部から上部に向
けた有機溶剤の蒸気流が被洗浄物の処理位置近傍に集中
する。すなわち、有機溶剤の蒸気流が被洗浄物に集中す
る。従って、被洗浄物の洗浄密度（洗浄性）や洗浄効率
等を向上させることができ、かつ有機溶剤蒸気の吸引排
気量を低減することが可能となる。

【００１３】請求項２記載の洗浄装置においては、蒸気
洗浄槽内の冷却手段に加えて、有機溶剤内に被洗浄物を
浸漬させる浸漬洗浄槽にも有機溶剤を冷却する冷却手段
を付設しており、これによって、蒸気洗浄槽には冷温置
換された被洗浄物が移送される。このように、蒸気洗浄
槽に移送する被洗浄物の温度を低下させることによっ
て、有機溶剤の蒸気流をより一層被洗浄物に集中させる
ことができる。従って、被洗浄物の洗浄密度（洗浄性）
や洗浄効率等をさらに向上させることができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施するための形
態について説明する。

【００１５】図１は、本発明の洗浄装置の一実施形態の
概略構成を示す図である。同図に示す洗浄装置は、大別
して浸漬洗浄工程Ａと蒸気洗浄工程Ｂとから主要部が構
成されており、これら各工程Ａ、Ｂに被洗浄物２０とし
ての例えば基板２１が複数収納されたバスケット２２を
順に移送する移送機構Ｃを有している。

【００１６】被洗浄物２０としての複数の基板２１は、
例えば別途設置された他の洗浄装置で水系洗浄液や水等
による洗浄工程を経たものであり、その表面には例えば
水が付着している。このような複数の基板２１は、バス
ケット２２により縦向きに支持されており、この状態で
浸漬洗浄工程Ａおよび蒸気洗浄工程Ｂに送られる。

【００１７】浸漬洗浄工程（浸漬洗浄部）Ａは、基板２
１の表面に付着する水と置換されるイソプロピルアルコ
ール（ＩＰＡ）３１等の有機溶剤が収容された浸漬洗浄
槽３２を有しており、この浸漬洗浄槽３２は置換洗浄槽
と言い換えることができる。浸漬洗浄槽３２に収容され
る有機溶剤は、必ずしも限定されるものではないが、後
工程の蒸気洗浄工程Ｂで使用される有機溶剤と同一のも
のが用いられ、このような有機溶剤としては上記したよ
うにＩＰＡ３１が挙げられる。

【００１８】なお、有機溶剤としてはＩＰＡ３１に限ら
ず、他の有機溶剤を使用することも可能であり、例えば
主として水との置換・洗浄を行う場合には、水と相溶性
を有しかつ低沸点の有機溶剤等が使用される。

【００１９】浸漬洗浄槽３２は、置換洗浄液としてのＩ
ＰＡ３１を循環させる循環系３３を有している。この循
環系３３は、ＩＰＡ３１を浸漬洗浄槽３２の上部に設け
られたオーバーフロー部３４から循環ポンプ３５を介し
て浸漬洗浄槽３２に循環させるように構成されている。
そして、この循環系３３には循環フィルタ３６に加え
て、冷却装置３７が介挿されている。この冷却装置３７
においては、冷却コイル３８の周囲に冷水が供給されて
おり、冷却コイル３８内を通過するＩＰＡ３１が冷却さ
れる。

【００２０】このように、浸漬洗浄工程Ａにおいては、
ＩＰＡ３１を循環系３３で循環させる際に冷却装置３７
で冷却している。従って、浸漬洗浄槽３２に収容された
ＩＰＡ３１は常温以下に冷却されている。この実施形態
においては、ＩＰＡ３１の設定温度は例えば283Kとされ
ている。

【００２１】蒸気洗浄工程（蒸気洗浄部）Ｂは、蒸気洗
浄槽４１を有している。この蒸気洗浄槽４１の内部下方
にはＩＰＡ３１が滞留しており、このＩＰＡ３１を蒸気
洗浄槽４１の底部に設置された加熱ヒータ４２で昇温す
ることによって、ＩＰＡ３１の蒸気４３を生じさせてい
る。このように、蒸気洗浄槽４１内にはＩＰＡ蒸気４３
がたえず生じている。

【００２２】蒸気洗浄槽４１の内部下方に滞留している
ＩＰＡ３１の加熱温度は、例えば図示を省略したサーマ
ルコントローラ等により最適な温度に制御されており、
またＩＰＡ３１の減少分は、図示を省略した液面検出セ
ンサ等に連動したＩＰＡ供給機構から随時供給され、蒸
気洗浄槽４１内には所定量のＩＰＡ３１が滞留している
ように構成されている。

【００２３】蒸気洗浄槽４１内には、浸漬洗浄工程Ａを
経た被洗浄物２０としてのバスケット２２に保持された
基板２１が所定の処理位置に移送配置されるが、この被
洗浄物２０の配置位置、すなわち蒸気洗浄処理位置の下
方には、基板２１表面で凝縮して滴下するＩＰＡ廃液を
回収する廃液受皿４４が設けられている。廃液受皿４４
で回収したＩＰＡ廃液は、ＩＰＡ廃液回収・再生機構Ｄ
に送られる。このＩＰＡ廃液の回収・再生機構Ｄについ
ては後に詳述する。

【００２４】そして、上述した廃液受皿４４には、ＩＰ
Ａ蒸気４３を冷却する冷却手段として冷却コイル４５が
設置されており、この冷却コイル４５には冷水が循環し
ている。この廃液受皿４４上に設けられた冷却コイル４
５、言い換えると蒸気洗浄槽４１内における被洗浄物２
０の処理位置の下方近傍に設けられている冷却コイル４
５により、ＩＰＡ蒸気４３が冷却されるため、蒸気洗浄
槽４１の底部付近で発生したＩＰＡ蒸気４３は冷却コイ
ル４５方向に引き寄せられる。すなわち、ＩＰＡ蒸気４
３の流れ（蒸気流）は冷却コイル４５により制御され、
被洗浄物２０の処理位置近傍に集中している。

【００２５】蒸気洗浄槽４１の上方には凝縮コイル４６
が設けられており、この凝縮コイル４６には廃液受皿４
４上の冷却コイル４５と共に冷水が循環している。この
凝縮コイル４６によって、蒸気洗浄槽４１内を上昇する
ΙＰＡ蒸気４３を冷却して凝縮させ、ΙＰＡ蒸気４３の
外部放出を抑制している。また、蒸気洗浄槽４１の上部
には排気ダクト４７が設けられている。

【００２６】ＩＰＡ廃液の回収・再生機構Ｄは、廃液受
皿４４で回収したＩＰＡ廃液を廃液回収管４８を介して
回収するドレンタンク４９を有している。なお、廃液回
収管４８には必要に応じて回収したＩＰＡ廃液を蒸気洗
浄槽４１に戻す再送配管５０が付設されている。

【００２７】この実施形態の洗浄装置は、冷却コイル４
５の存在により廃液受皿４４で回収するＩＰＡ廃液の量
が増大するため、ＩＰＡ廃液を単に廃棄するだけではな
く、ドレンタンク４９から移送ポンプ５１を介して一旦
廃液貯留槽５２に収容し、この廃液貯留槽５２からＩＰ
Ａ精製回収装置５３に送るように構成されている。この
ＩＰＡ精製回収装置５３で精製された再生ＩＰＡは、蒸
気洗浄槽４１に送られて再使用される。廃液貯留槽５２
には、必要に応じて廃液を廃棄し得るようにポンプ５４
が接続されている。

【００２８】上述した浸漬洗浄工程Ａおよび蒸気洗浄工
程Ｂに被洗浄物２０を順に移送する移送機構Ｃは、各工
程間を移送する横送り機構と、各工程で被洗浄物２０を
所定の処理位置に移送配置する昇降機構とを有してい
る。各工程位置および処理位置における被洗浄物２０の
位置制御や処理時間制御は、図示を省略したセンサや制
御部により実施される。

【００２９】次に、上記実施形態の洗浄装置の動作につ
いて説明する。

【００３０】まず、基板２１は例えば前工程にて洗浄処
理され、表面が水に濡れた状態でバスケット２２内に縦
向きに収容されている。この状態でまず浸漬洗浄工程Ａ
に送られ、浸漬洗浄槽３２でＩＰＡ３１内に浸漬され
る。この浸漬洗浄槽３２において、基板２１の表面に付
着する水等とＩＰＡ３１との置換が行われ、また同時に
基板２１表面に存在する異物等が除去される。

【００３１】この際、浸漬洗浄槽３２内に収容されたＩ
ＰＡ３１は、循環系３３を循環する際に冷却装置３７で
冷却されており、例えば283K程度の温度とされているた
め、浸漬洗浄槽３２内のＩＰＡ３１に浸漬された基板２
１は冷温置換される。基板２１は、この状態で次の蒸気
洗浄工程Ｂに送られる。すなわち、基板２１は室温より
冷却された状態で蒸気洗浄工程Ｂに送られる。

【００３２】蒸気洗浄工程Ｂに送られた基板２１（被洗
浄物２０）は、蒸気洗浄槽４１内の所定の処理位置に移
送配置される。このとき、蒸気洗浄槽４１内のＩＰＡ３
１はヒータ４２により加熱されており、所定温度例えば
353K以上に昇温されたＩＰＡ蒸気４３が蒸気洗浄槽４１
内に充満している。

【００３３】このＩＰＡ蒸気４３は、基本的には蒸気洗
浄槽４１の下方から上方に向けて流れており、この蒸気
流に沿って移送配置された基板２１の表面で凝縮する
が、図２に拡大して示すように、前述した廃液受皿４４
上に設けられた冷却コイル４５、言い換えると蒸気洗浄
槽４１内における被洗浄物２０の処理位置の下方近傍に
設けられた冷却コイル４５により、ＩＰＡ蒸気４３がた
えず冷却されているため、ＩＰＡ蒸気４３の流れ（蒸気
流）は図中矢印Ｘで示すように、冷却コイル４５方向に
引き寄せられている。すなわち、ＩＰＡ蒸気流Ｘは被洗
浄物２０近傍に集中している。加えて、基板２１（被洗
浄物２０）は浸漬洗浄工程Ａで冷温置換されており、Ｉ
ＰＡ蒸気４３との温度差が拡大されているため、より一
層効率よくＩＰＡ蒸気流Ｘを被洗浄物２０に集中させる
ことができる。

【００３４】このように、冷却コイル４５によりＩＰＡ
蒸気４３の流れを制御し、ＩＰＡ蒸気流Ｘを被洗浄物２
０の近傍に集中させることによって、基板２１の表面で
ＩＰＡ蒸気４３を効率よく凝縮させることができる。言
い換えると、短時間で多量のＩＰＡ蒸気４３を基板２１
の表面で凝縮させることができる。この基板２１の表面
で凝縮したＩＰＡ蒸気４３は、基板２１に付着する水分
や異物等と共に落下して、基板２１の最終的な洗浄が行
われると共に、蒸気洗浄槽４１外に移送される際に基板
２１表面のＩＰＡが揮散して、基板２１の洗浄および乾
燥工程が終了する。落下したＩＰＡ廃液は廃液受皿４４
で回収される。

【００３５】上述したように、ＩＰＡ蒸気４３を基板２
１表面で効率よく凝縮させることにより、洗浄密度（洗
浄性）や洗浄効率等を大幅に向上させることが可能とな
る。すなわち、基板２１により高度な洗浄品質を付与す
ることができる。また、従来と同程度の洗浄品質を得る
場合であれば、洗浄時間の短縮を図ることができる。こ
のような洗浄品質の向上は、静電気等の影響によりごみ
等の異物が付着しやすい絶縁基板、例えば大型化してい
る液晶表示装置用のガラス基板等に対して多大な効果を
もたらすものである。ただし、本発明における被洗浄物
は液晶表示装置用のガラス基板に限らず、各種の基板さ
らには基板以外の各種の工業用部品等に適用することが
できる。

【００３６】また、ＩＰＡ蒸気流Ｘを被洗浄物２０の近
傍に集中させることによって、蒸気洗浄槽４１外への排
出を抑制することができる。すなわち、排気ダクト４７
から外部へ排出されていたＩＰＡ蒸気４３を、冷却コイ
ル４５の設置により抑制することができるため、揮発排
出されていたＩＰＡ蒸気量を削減することができ、これ
によりＩＰＡの使用量すなわち洗浄コストを低減するこ
とが可能となる。

【００３７】このように、この実施形態の洗浄装置によ
れば、液晶表示装置用のガラス基板等の各種被洗浄物に
対して高度な洗浄品質を低コストで付与することが可能
となる。なお、この実施形態では浸漬洗浄工程Ａと蒸気
洗浄工程Ｂとを有する洗浄装置について説明したが、蒸
気洗浄工程Ｂのみで洗浄装置を構成する場合において
も、上述した廃液受皿４４上の冷却コイル４５は有効で
あり、ＩＰＡ蒸気流の集中による洗浄密度（洗浄性）や
洗浄効率等の向上を達成することができる。

【００３８】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の洗
浄装置によれば、被洗浄物の処理位置近傍に設置された
冷却手段により、有機溶剤蒸気を被洗浄物の周囲に集中
させることができるため、洗浄密度（洗浄性）や洗浄効
率等の向上を図ることができると共に、有機溶剤の使用
量の削減を図ることが可能となる。また、請求項２記載
の洗浄装置によれば、被洗浄物の浸漬洗浄時における冷
温置換によって、有機溶剤蒸気の被洗浄物周囲への集中
をより効果的に達成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄装置の一実施形態の概略構成を
示す図である。

【図２】図１に示す洗浄装置の蒸気洗浄槽部分を拡大
して示す図である。

【図３】従来の洗浄装置の一例の概略構成を示す図で
ある。

【図４】図３に示す洗浄装置の蒸気洗浄槽部分を拡大
して示す図である。

【符号の説明】

Ａ………浸漬洗浄工程Ｂ………蒸気洗浄工程Ｃ………移送機構Ｄ………ＩＰＡ廃液の回収・再生機構２０……被洗浄物３１……イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）３２……浸漬洗浄槽３７……冷却装置４１……蒸気洗浄槽４２……加熱ヒータ４３……ＩＰＡ蒸気４４……廃液受皿４５……冷却コイル

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【手続補正書】

【提出日】平成８年９月２５日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【特許請求の範囲】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被洗浄物の表面で有機溶剤の蒸気を凝縮
させ、前記被洗浄物の洗浄および乾燥を行う洗浄装置に
おいて、前記被洗浄物の移送手段と、底部に滞留させた前記有機溶剤を加熱して、前記有機溶
剤の蒸気を生じさせると共に、前記被洗浄物が前記有機
溶剤の蒸気流内の所定の処理位置に移送配置される蒸気
洗浄槽と、前記蒸気洗浄槽内における前記被洗浄物の処理位置近傍
に設置され、前記有機溶剤の蒸気を冷却する冷却手段と
を具備し、前記冷却手段により前記有機溶剤の蒸気流を前記被洗浄
物の周囲に集中させるよう構成されていることを特徴と
する洗浄装置。
【請求項２】被洗浄物を有機溶剤で洗浄する洗浄装置
において、前記被洗浄物の移送手段と、有機溶剤が収容され、前記有機溶剤内に前記被洗浄物が
浸漬される浸漬洗浄槽と、前記浸漬洗浄槽内に収容され
た前記有機溶剤を冷却する冷却手段とを有する浸漬洗浄
部と、底部に滞留させた有機溶剤を加熱して、前記有機溶剤の
蒸気を生じさせると共に、前記浸漬洗浄部を経た前記被
洗浄物が前記有機溶剤の蒸気流内の所定の処理位置に移
送配置される蒸気洗浄槽と、前記蒸気洗浄槽内における
前記被洗浄物の処理位置近傍に設置され、前記有機溶剤
の蒸気を冷却する冷却手段とを有し、前記冷却手段によ
り前記有機溶剤の蒸気流を前記被洗浄物の周囲に集中さ
せるよう構成されている蒸気洗浄部とを具備することを
特徴とする洗浄装置。