JPH02251285A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、有機溶剤を用いて各種機械部品やプリント基
板等を洗浄する洗浄装置に関する。

〈従来の技術〉 フロン、トリクロルエタン等の有機溶剤を用いて各種機
械部品やプリント基板等を洗浄する洗浄装置として、従
来、第４図のような装置が使用されている。この洗浄装
置は、超音波洗浄槽５ｏの上方に蒸気洗浄エリア５１を
設け、超音波洗浄槽５０の側部に蒸気発生槽５２を並設
し、蒸気発生槽５２で発生した有機溶剤蒸気を蒸気洗浄
エリア５１に送るように構成される。

この洗浄装置における被洗浄物は、上方から挿入されて
昇降装置により先ず超音波洗浄槽５ｏに入れられ、その
後、上昇して蒸気洗浄エリア５１で停止し、ここで蒸気
洗浄を受ける。

一方、他の洗浄装置として、第５図に示す構造の装置が
使用されている。この洗浄装置は、蒸気槽５５、超音波
洗浄槽５６、すすぎ槽５７、及び仕上蒸気槽５８を横に
並べて設置し、多槽の上部を有機溶剤蒸気を回収する冷
却コイルで囲った構造である。そして、被洗浄物は、先
ず蒸気槽５５に入れられ、次に超音波洗浄槽５６に入れ
られ、次にすすぎ槽５７内に浸漬され、さらに仕上蒸気
槽５８に入れられて洗浄される。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、前者の装置は、比較的スペースの狭い場所に設
置して使用できるが、蒸気発生槽５２内の洗浄液に超音
波洗浄槽５０からオーバフローした洗浄液が流下するた
め、蒸気発生槽５２の洗浄液の汚れが早く、洗浄液の交
換頻度を多くする必要があり、またこの洗浄液の汚れが
ひどくなると、蒸気も汚れるため、被洗浄物に汚れが付
着し、良好な洗浄ができなくなる課題があった。

一方、後者の装置は、四つの檜を用いて洗浄するため、
前者の装置より洗浄効果が高いが、やはり最初に洗浄物
を入れる蒸気槽５５の洗浄液の汚れが早く、洗浄液の交
換頻度を多くする必要があり、またこの蒸気槽５５から
汚れた蒸気が発生すると、この蒸気が仕上蒸気槽５８ま
で侵入し、仕上洗浄される被洗浄物を汚してしまう課題
があった。

本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので
、洗浄液の交換頻度を少なくして洗浄液の消費量を削減
でき、且つ良好な洗浄を行うことがで幹る洗浄装置を提
供することを目的とする。

く課題を解決するための手段〉 上記の目的を達成するために、本発明の洗浄装置は、超
音波洗浄槽の上方に蒸気洗浄エリアが設けられ、洗浄液
を加熱蒸発させて蒸気を発生させる蒸気発生槽が並設さ
れ、その蒸気発生槽で発生した洗浄液の蒸気を前記蒸気
洗浄エリアに送るようにした洗浄装置において、槽内下
部にヒータを備え上部に蒸気回収用の冷却バイブを設け
た蒸溜槽を設置し、超音波洗浄槽の洗浄液を蒸溜槽に送
るための管路と、蒸溜槽上部の冷却バイブで回収した洗
浄液を蒸気発生槽に送るための管路を敷設して構成され
る。

く作用〉 この洗浄装置では、被洗浄物が先ず超音波洗浄槽に入れ
られ、超音波を洗浄液中に印加しながら被洗浄物を浸漬
揺動して超音波洗浄を行い、次に上方の蒸気洗浄エリア
に被洗浄物を引き上げて、蒸気発生槽から送られた洗浄
液の蒸気により被洗浄物を蒸気洗浄する。この間、蒸溜
檜では、超音波洗浄槽から送られる洗浄液を含む槽内の
洗浄液を加熱し、冷却バイブでその蒸気を回収すること
により洗浄液を蒸溜し、蒸溜した洗浄液を蒸気発生槽に
送る。

洗浄中、被洗浄物が浸漬される超音波洗浄槽内の洗浄液
の汚れは次第に進行するが、蒸溜槽によりこの洗浄液を
蒸溜してから蒸気発生槽に送るため、蒸気発生槽内の洗
浄液の汚れはそれほど進行せず、蒸気洗浄エリアの被洗
浄物は、汚れのない清浄な蒸気で良好に洗浄される。蒸
溜槽内の洗浄液は定期的に新洗浄液と交換されるが、蒸
溜槽内の汚れが蒸気発生槽の蒸気に直接影響を与えない
ため、洗浄液の交換頻度を従来の半分以下に抑えること
ができ、洗浄液の消費量を削減することができる。

なお、蒸溜槽を二槽並設し、超音波洗浄槽から送られた
洗浄液を二回蒸溜し、二度蒸溜した洗浄液を蒸気発生槽
に送るようにすれば、より良好な洗浄を行うことができ
る。

さらに、本発明の別の洗浄装置は、超音波洗浄槽の上方
に蒸気洗浄エリアが設けられ、洗浄液を加熱蒸発させて
蒸気を発生させる蒸気発生槽が並設され、その蒸気発生
槽で発生した洗浄液の蒸気を前記蒸気洗浄エリアに送り
、超音波洗浄槽のオーバフロー洗浄液を蒸気発生槽に送
るようにした洗浄装置において、槽内下部にヒータを備
え上部に蒸気回収用の冷却バイブを設けた仕上蒸気槽を
分離して設置し、その仕上蒸気槽の冷却バイブで回収し
た洗浄液を超音波洗浄槽に送るための管路と、蒸気洗浄
エリア上方の冷却バイブで回収した洗浄液を前記仕上蒸
気槽に送るための管路を配設して構成される。

この洗浄装置は、被洗浄物が先ず超音波洗浄槽に入れら
れ、超音波を洗浄液中に印加しながら被洗浄物を浸漬揺
動して超音波洗浄を行い、次に上方の蒸気洗浄エリアに
被洗浄物を引き上げて、蒸気発生槽から送られた洗浄液
の蒸気により被洗浄物を蒸気洗浄する。そしてさらに、
被洗浄物を仕上蒸気槽に入れ、その蒸気雰囲気中で仕上
のための蒸気洗浄を行う、この間、蒸気洗浄エリア上方
の冷却バイブで回収した洗浄液は管路を通して仕上蒸気
槽に送られ、仕上蒸気槽の冷却バイブで回収された洗浄
液は超音波洗浄槽に送られ、超音波洗浄槽からオーバフ
ローした洗浄液が蒸気発生槽に流入する。

この洗浄装置によれば、蒸気洗浄エリアで蒸気洗浄した
後、さらに仕上蒸気槽内で蒸気洗浄するため、充分な洗
浄を行うことができ、また仕上蒸気槽が超音波洗浄槽の
蒸気洗浄エリアとは分離されているため、仕上用の蒸気
が清浄に保たれ、良好な洗浄を行うことがで籾る。

〈実施例〉 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は有機溶剤を使用する洗浄装置の断面構成図を示
している。１は縦に長い超音波洗浄槽で、底部に超音波
振動子２が取着され、槽内の下部に洗浄液が溜められる
。槽内の中間部には蒸気洗浄エリア３が形成され、この
蒸気洗浄エリア３には後述の蒸気発生槽１１から連通部
を介して洗浄液の蒸気が送られる。また、超音波洗浄槽
１の上部内には洗浄液（蒸気）回収用の冷却コイル４が
側壁に沿って巻装され、冷凍機５からの冷媒がこの冷却
コイル４に供給される。

被洗浄物を入れた洗浄能１０は超音波洗浄槽１の上端部
から挿入されるが、図示しない昇降機構が超音波洗浄槽
１に設けられ、この昇降機構により洗浄能１０は、冷却
バイ°ブ４の中央を通り、蒸気洗浄エリア３を経て、底
部の洗浄液に浸漬される状態まで下降し、再び上昇する
。

冷却コイル４で回収した洗浄液を水抜きした後、再び槽
内に戻すために、管６が冷却コイル４の液受け４ａと洗
浄槽下部との間に接続され、水抜き槽フがその管６の途
中に配設される。水抜き槽７は洗浄液より比重の軽い水
を分離させて水抜きバルブ８より排出し、洗浄液のみ超
音波洗浄槽１の下部に戻すように作用する。

９は超音波洗浄槽１の下部に管路接続された濾通装置で
、ポンプとフィルターを内蔵し、洗浄槽１内の洗浄液を
循環させながら、フィルターで洗浄液を濾通し、ゴミや
切粉等を除去する。１１は超音波洗浄槽１に隣接して設
置された蒸気発生槽で、槽内の下部にヒータ１２を内蔵
し、洗浄液を加熱してその蒸気を発生させる。この蒸気
発生槽１１の上部は超音波洗浄槽１の中間付近に連通接
続され、発生した蒸気は洗浄槽１の蒸気洗浄エリア３に
送られる。１３は蒸気発生槽内の液面検出用のレベルス
イッチ、１４ｊｆ液温検出用の温度センナである。

１５は独立して設置された洗浄液の蒸溜槽で、槽内上部
に冷却コイル１６が側壁に沿って巻装され、冷却コイル
１６の下方に液化した洗浄液を受けるための液受け１６
ａが設けられ、槽内下部にヒータ１７が内蔵される。こ
の檜の・上部には蓋が被せられ、冷却コイル１６は冷凍
機５に接続され、冷凍機５から冷媒が供給される。

蒸溜槽１５は、そのヒータ１フによって洗浄液を加熱し
て蒸気を発生させ、上部の冷却コイル１６でその蒸気を
液化させ、液化した洗浄液を液受け１６ａで受ける構造
であるが、液受け１６ａで受けた洗浄液を蒸気発生槽１
１に送るために、バルブ付きの管路１８が蒸気発生槽１
１との間に接続される。また、超音波洗浄槽１内の洗浄
液を蒸溜槽１５内に送るために管路１９がそれらの検量
に接続され、超音波洗浄槽１においては、ある−定のレ
ベルからオーバフローした量の洗浄液を徐々に蒸溜槽１
５に送るようにするために、その液面付近に管路１９が
接続される。

２１は蒸溜槽１５内の液面検出用のレベルスイッチ、２
２は液温検出用の温度センサである。このレベルスイッ
チ２１、温度センサ２２、及びヒータ１７は、蒸気発生
槽１１内のレベルスイッチ１３、温度センサ１４、ヒー
タ１２と共に図示しない制御装置に接続され、制御装置
は、槽内の液面が設定範囲より上又は下になったとき異
常警報を出す、また、検出した液温に応じてヒータ１２
．１フへの通電を制御する。さらに、槽内の洗浄液の温
度を検出し、洗浄液の汚れに伴なう沸点の変化から、汚
れの状態を温度により表示する。

次に、上記構成の洗浄装置の動作を説明する。

洗浄装置の超音波洗浄槽１、蒸気発生槽１１、及び蒸溜
槽１５にはフロン、トリクロルエタン等の有機溶剤が洗
浄液として一定量入れられ、蒸気発生槽１１と蒸溜槽１
５内の洗浄液はヒータ１２．１７により例えば４５℃程
度に加熱される。また、超音波洗浄槽１と蒸溜槽１５の
冷却コイル４．１６、には、冷凍機５から約７℃以下の
冷媒が供給され、槽の上部を冷却し、超音波振動子２は
図示しない発振器により駆動され、超音波洗浄槽内の洗
浄液に超音波を印加する。

この状態で、被洗浄物を入れた洗浄能１０が超音波洗浄
槽１の上端部から槽内に挿入され、洗浄能１０は図示し
ない昇降機構により、先ず最下位置まで下降され、洗浄
液に浸漬される。洗浄籠丁０はこの洗浄液中で、超音波
を印加されながら揺動され、一定時間洗浄される。

次に、洗浄能１０は昇降機構により液中から引き上げら
れ、その上方の蒸気洗浄エリア３で停止し、この蒸気洗
浄エリア３において洗浄能１０は、蒸気発生槽１１から
送られた洗浄液の蒸気を浴び、ここで蒸気洗浄される。

そして、蒸気洗浄を終了した洗浄能１０は、次に冷却コ
イル４の中央位置まで引暫上げられて停止し、ここで冷
却乾燥され、乾燥を終えた洗浄能１０は檜の上端部から
搬出される。

上記のような洗浄が行われる間、蒸気洗浄エリア４の蒸
気は、冷却バイブ４により液化して液受け４ａで回収さ
れ、管路６を通り、超音波洗浄槽１に送られる。超音波
洗浄槽１内の洗浄液は、そのオーバフロー分が管路１９
を通して蒸溜槽１５に送られ、蒸溜槽１５では、槽内の
洗浄液がヒータ１７によって加熱され、そこで発生した
蒸気が冷却パイプ１６により液化し、液受け１６ａでそ
の洗浄液が回収されることにより、洗浄液の蒸溜が行わ
れる。そして、蒸溜された洗浄液は、管路１８を通って
蒸気発生槽１１に送られ、ここで、再び蒸気となり、洗
浄用の蒸気として蒸気洗浄エリア３に送られる。

このように、洗浄が行われることにより、被洗浄物の洗
浄能１０が浸漬される超音波洗浄槽１内の洗浄液の汚れ
は次第に進行する。しかし、蒸溜槽１５によってこの洗
浄液を蒸溜してから蒸気発生槽１１に送るため、蒸気発
生槽１１内の洗浄液の汚れはそれほど進行せず、蒸気洗
浄エリア３の被洗浄物は、汚れのない清浄な蒸気で良好
に洗浄される。

また、蒸溜槽１５内の洗浄液は定期的に新洗浄液と交換
されるが、蒸溜槽１５内の汚れが蒸気発生槽１１の蒸気
に直接影響を与えないため、洗浄液の交換頻度を従来の
半分以下に抑えることができ、洗浄液の消費量を削減す
ることができる。

第２図は他の実施例を示し、この洗浄装置は、上記実施
例の洗浄装置にざらに一槽の蒸溜槽を付加したものであ
り、上記装置と同様な部分は同一符号を付してその説明
を省略する。

即ち、この洗浄装置は、上記実施例の洗浄装置における
蒸気発生槽１１と管路１８との間に、もう−台の蒸溜槽
２５゛を設置したものであり、この蒸溜槽２５は、上記
の蒸溜槽１５と同様に、槽内下部にヒータ２７を挿入し
、上部に冷却コイル２６を配設して構成される。そして
、上記の蒸溜槽１５からの管路１８が蒸溜槽２５の中間
部に接続され、蒸溜槽２５の冷却パイプ２６により液化
して回収した洗浄液を送出する管路２８が蒸気発生槽１
１の中間部に接続される。

この洗浄装置では、超音波洗浄槽１の洗浄液のオーバフ
ロー分が管路１９を通して蒸溜槽１５に送られ、ここで
蒸溜された後、さらに次の蒸溜槽２５に管路１８を通し
て送られ、ここでも洗浄液の蒸溜が行われる。そして、
蒸溜槽２５で蒸溜された洗浄液は管路２８を通して蒸気
発生槽１１に送られ、蒸気発生槽１１で蒸気となって蒸
気洗浄に使用される。このように、洗浄液が二種の蒸溜
槽１５．２５で二回蒸溜されて蒸気発生槽１１に送られ
るため、蒸気発生槽１１で発生する洗浄液の蒸気はより
清浄な状態となり、より良好な洗浄を行うことができる
。

第３図はさらに別の実施例を示している。

この洗浄装置は、上記実施例の超音波洗浄槽１及び蒸気
洗浄槽１１と同じ構造の檜を有し、超音波洗浄槽１の上
方に蒸気洗浄エリア３が設けられ、洗浄液を加熱蒸発さ
せて蒸気を発生させる蒸気発生槽１１が並設され、その
蒸気発生槽で発生した洗浄液の蒸気を蒸気洗浄エリア３
に送るように構成される。しかし、上記のような管路１
９は接続されないため、超音波洗浄槽１のオーバフロー
洗浄液が蒸気発生槽１１に送られる構造となっている。

さらに、槽内にヒータ３３を備え上部に蒸気回収用の冷
却バイブ３２を設けた仕上蒸気槽３１が分離して設置さ
れる。この仕上蒸気槽３１は上端部から洗浄能を槽内に
搬入するように構成され、また、冷却バイブ３２で回収
した洗浄液を超音波洗浄槽１に送るための管路３５が接
続される。

方、超音波洗浄槽１と仕上蒸気槽３１の間には、蒸気洗
浄エリア３の上方の冷却バイブ４で回収した洗浄液を仕
上蒸気槽３１に送るための管路３４が接続される。

この洗浄装置では、被洗浄物の洗浄能１０が先ず超音波
洗浄槽１に入れられ、超音波を洗浄液中に印加しながら
洗浄能１０を浸漬揺動して超音波洗浄を行い、次に上方
の蒸気洗浄エリア３に洗浄能を引き上げて、蒸気発生槽
１１から送られた洗浄液の蒸気により被洗浄物を蒸気洗
浄する。そして次に、洗浄能１０を仕上蒸気槽３１に入
れ、その内部で蒸気を浴びて仕上のための蒸気洗浄を行
い、冷却パイプ３２付近で乾燥を行って洗浄を終了する
。

この間、蒸気洗浄エリア３上方の冷却バイブ４で回収し
た洗浄液は管路３４を通して仕上蒸気槽３１に送られ、
仕上蒸気槽３１の冷却バイブ３２で回収された洗浄液は
超音波洗浄槽１に送られ、超音波洗浄槽１からオーバフ
ローした洗浄液が蒸気発生槽１１に流入する。

この洗浄装置によれば、蒸気洗浄エリア３で蒸気洗浄し
た後、さらに仕上蒸気槽３１内で蒸気洗浄されるため、
充分な洗浄を行うことができ、また仕上蒸気槽３１が超
音波洗浄槽１の蒸気洗浄エリア３とは分離されているた
め、仕上用の蒸気が清浄に保たれ、良好な洗浄を行うこ
とができる。

〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明の洗浄装置によれば、蒸溜
槽によってこの洗浄液を蒸溜してから蒸気発生槽に送る
ため、蒸気発生槽内の洗浄液の汚れはそれほど進行せず
、蒸気洗浄エリアの被洗浄物は、汚れのない清浄な蒸気
で良好に洗浄される、また、蒸溜槽内の洗浄液は定期的
に新洗浄液と交換されるが、蒸溜槽内の汚れが蒸気発生
槽の蒸気に直接影響を与えないため、洗浄液の交換頻度
を従来の半分以下に抑えることができ、洗浄液の消費量
を削減することができる。さらに、別の洗浄装置によれ
ば、蒸気洗浄エリアで蒸気洗浄した後、さらに仕上蒸気
槽内で蒸気洗浄されるため、充分な洗浄を行うことがで
き、また仕上蒸気槽が超音波洗浄槽の蒸気洗浄エリアと
は分離されているため、仕上用の蒸気が清浄に保たれ、
良好な洗浄を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す洗浄装置の断面構成図
、 第２図は他の実施例の断面構成図、 第３図は別の実施例の断面構成図、 第４図と第５図は従来の洗浄装置の断面構成図である。 １・・・超音波洗浄槽、 ３・・・蒸気洗浄エリア、 ４．１６・・・冷却コイル、 １１・・・蒸気発生槽、 １２．１７・・・ヒータ、 １５・・・蒸溜槽、 １８．１９．３４．３５・・・管路、 ３１・・・仕上蒸気槽。 特　　許　　出　　願　　人

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）超音波洗浄槽の上方に蒸気洗浄エリアが設けられ
   、洗浄液を加熱蒸発させて蒸気を発生させる蒸気発生槽
   が並設され、該蒸気発生槽で発生した洗浄液の蒸気を前
   記蒸気洗浄エリアに送るようにした洗浄装置において、 槽内下部にヒータを備え上部に蒸気回収用の冷却パイプ
   を設けた蒸溜槽を設置し、前記超音波洗浄槽の洗浄液を
   該蒸溜槽に送るための管路と、該蒸溜槽上部の冷却パイ
   プで回収した洗浄液を前記蒸気発生槽に送るための管路
   を配設したことを特徴とする洗浄装置。
2. （２）蒸溜槽を二槽並設し、前記超音波洗浄槽から送ら
   れた洗浄液を二回蒸溜して前記蒸気発生槽に送るように
   管路を配設した請求項１記載の洗浄装置。
3. （３）超音波洗浄槽の上方に蒸気洗浄エリアが設けられ
   、洗浄液を加熱蒸発させて蒸気を発生させる蒸気発生槽
   が並設され、その蒸気発生槽で発生した洗浄液の蒸気を
   前記蒸気洗浄エリアに送り、超音波洗浄槽のオーバフロ
   ー洗浄液を蒸気発生槽に送るようにした洗浄装置におい
   て、 槽内下部にヒータを備え上部に蒸気回収用の冷却パイプ
   を設けた仕上蒸気槽を分離して設置し、該仕上蒸気槽の
   冷却パイプで回収した洗浄液を前記超音波洗浄槽に送る
   ための管路と、前記蒸気洗浄エリア上方の冷却パイプで
   回収した洗浄液を前記仕上蒸気槽に送るための管路を配
   設したことを特徴とする洗浄装置。