JPH1095861A5 - - Google Patents

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JPH1095861A5
JPH1095861A5 JP1997157832A JP15783297A JPH1095861A5 JP H1095861 A5 JPH1095861 A5 JP H1095861A5 JP 1997157832 A JP1997157832 A JP 1997157832A JP 15783297 A JP15783297 A JP 15783297A JP H1095861 A5 JPH1095861 A5 JP H1095861A5
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Description

【発明の名称】セルロースアセテートフイルムおよび偏光板保護膜
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
従来の通常のソルベントキャスト法により製造するセルロースアセテートフイルムでは、光学的性質や物性の改良が既に限界に近づいている。従来の方法とは全く異なるメルトキャスト法も提案されているが、それにより得られたフイルムは、従来のソルベントキャスト法により製造したフイルムよりも、光学的性質や物性が劣っていた。
本発明の目的は、従来の方法では製造することができなかった、優れた光学的性質や物性を有するセルロースアセテートフイルムおよび偏光板保護膜を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、下記(1)〜(7)のセルロースアセテートフイルムおよび下記(8)の偏光板保護膜により達成された。
(1)58.0乃至62.5%の平均酢化度を有し、80μmの厚さに換算したヘイズが0.4%以下であるセルロースアセテートフイルム。
(2)58.0乃至62.5%の平均酢化度を有し、80μmの厚さに換算した引裂強度が20g以上であるセルロースアセテートフイルム。
(3)58.0乃至62.5%の平均酢化度を有し、80μmの厚さに換算したヘイズが0.4%以下であり、かつ80μmの厚さに換算した引裂強度が20g以上であるセルロースアセテートフイルム。
(4)劣化防止剤を含む(1)乃至(3)のいずれか一つに記載のセルロースアセテートフイルム。
(5)セルロースアセテートを有機溶媒で膨潤させた膨潤混合物を、−100乃至−10℃に冷却してから0乃至120℃に加温して得られたセルロースアセテートの有機溶媒溶液を、支持体上に塗布して得られた(1)乃至(3)のいずれか一つに記載のセルロースアセテートフイルム。
(6)有機溶媒が、酢酸メチルを50重量%以上含む(5)に記載のセルロースアセテートフイルム。
(7)反射防止処理が実施されている(1)乃至(3)のいずれか一つに記載のセルロースアセテートフイルム。
(8)上記(1)乃至(7)のいずれか一つに記載のセルロースアセテートフイルムからなる偏光板保護膜。

Claims (8)

  1. 58.0乃至62.5%の平均酢化度を有し、80μmの厚さに換算したヘイズが0.4%以下であるセルロースアセテートフイルム。
  2. 58.0乃至62.5%の平均酢化度を有し、80μmの厚さに換算した引裂強度が20g以上であるセルロースアセテートフイルム。
  3. 58.0乃至62.5%の平均酢化度を有し、80μmの厚さに換算したヘイズが0.4%以下であり、かつ80μmの厚さに換算した引裂強度が20g以上であるセルロースアセテートフイルム。
  4. 劣化防止剤を含む請求項1乃至3のいずれか一項に記載のセルロースアセテートフイルム。
  5. セルロースアセテートを有機溶媒で膨潤させた膨潤混合物を、−100乃至−10℃に冷却してから0乃至120℃に加温して得られたセルロースアセテートの有機溶媒溶液を、支持体上に塗布して得られた請求項1乃至3のいずれか一項に記載のセルロースアセテートフイルム。
  6. 有機溶媒が、酢酸メチルを50重量%以上含む請求項5に記載のセルロースアセテートフイルム。
  7. 反射防止処理が実施されている請求項1乃至3のいずれか一項に記載のセルロースアセテートフイルム。
  8. 請求項1乃至7のいずれか一項に記載のセルロースアセテートフイルムからなる偏光板保護膜。
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