JPH1096601A - 光波干渉測定装置 - Google Patents
光波干渉測定装置Info
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- JPH1096601A JPH1096601A JP8271427A JP27142796A JPH1096601A JP H1096601 A JPH1096601 A JP H1096601A JP 8271427 A JP8271427 A JP 8271427A JP 27142796 A JP27142796 A JP 27142796A JP H1096601 A JPH1096601 A JP H1096601A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光路中の気体の密度変動および湿度変動に伴
う屈折率変動に起因する測定誤差を補正することのでき
る高精度な光波干渉測定装置。 【解決手段】 物体の変位量を光学的に測定するための
測定光学系と、測定光学系の光路中の気体の密度変動お
よび湿度変動に伴う屈折率変動を測定するための屈折率
変動測定系とを備えている。そして、測定光学系で測定
した物体の変位量を屈折率変動測定系で測定した光路中
の気体の屈折率変動情報に基づいて補正することによっ
て物体の幾何学的変位量を測定する。
う屈折率変動に起因する測定誤差を補正することのでき
る高精度な光波干渉測定装置。 【解決手段】 物体の変位量を光学的に測定するための
測定光学系と、測定光学系の光路中の気体の密度変動お
よび湿度変動に伴う屈折率変動を測定するための屈折率
変動測定系とを備えている。そして、測定光学系で測定
した物体の変位量を屈折率変動測定系で測定した光路中
の気体の屈折率変動情報に基づいて補正することによっ
て物体の幾何学的変位量を測定する。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光波干渉測定装置に
関し、特に物体の長さ、変位、密度などを高精度に測定
するための光波干渉測定装置に関するものである。
関し、特に物体の長さ、変位、密度などを高精度に測定
するための光波干渉測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図9は、従来の光波干渉測定装置の構成
を概略的に示す図である。図9の光波干渉測定装置は、
ステージ131の光軸方向(図中矢印方向)の変位を測
定するためのヘテロダイン干渉方式の測長用干渉計と、
測長用干渉計の測定光路中の空気(またはその他の気
体:以下、単に「空気」という)の屈折率変動を測定す
るための屈折率変動測定系とから構成されている。
を概略的に示す図である。図9の光波干渉測定装置は、
ステージ131の光軸方向(図中矢印方向)の変位を測
定するためのヘテロダイン干渉方式の測長用干渉計と、
測長用干渉計の測定光路中の空気(またはその他の気
体:以下、単に「空気」という)の屈折率変動を測定す
るための屈折率変動測定系とから構成されている。
【0003】図9の測長用干渉計において、測長用光源
314は、周波数が互いにわずかに異なり且つ偏光方位
が直交した周波数f00の光と周波数f01の光とを射出す
る。この2つの異なる周波数の光は、ビームスプリッタ
101、ダイクロイックミラー118およびダイクロイ
ックミラー128を介して偏光ビームスプリッタ402
に入射し、周波数f00の光と周波数f01の光とに分離さ
れる。すなわち、偏光ビームスプリッタ402で反射さ
れた周波数f01の光は参照光となり、固定鏡152で反
射された後、再び偏光ビームスプリッタ402に戻る。
また、偏光ビームスプリッタ402を透過した周波数f
00の光は測定光となり、ステージ131に取り付けられ
た移動鏡142で反射された後、再び偏光ビームスプリ
ッタ402に戻る。
314は、周波数が互いにわずかに異なり且つ偏光方位
が直交した周波数f00の光と周波数f01の光とを射出す
る。この2つの異なる周波数の光は、ビームスプリッタ
101、ダイクロイックミラー118およびダイクロイ
ックミラー128を介して偏光ビームスプリッタ402
に入射し、周波数f00の光と周波数f01の光とに分離さ
れる。すなわち、偏光ビームスプリッタ402で反射さ
れた周波数f01の光は参照光となり、固定鏡152で反
射された後、再び偏光ビームスプリッタ402に戻る。
また、偏光ビームスプリッタ402を透過した周波数f
00の光は測定光となり、ステージ131に取り付けられ
た移動鏡142で反射された後、再び偏光ビームスプリ
ッタ402に戻る。
【0004】偏光ビームスプリッタ402に戻った測定
光と参照光とは、ほぼ同一の光路に沿って偏光ビームス
プリッタ402から射出され、ダイクロイックミラー1
27および周波数フィルタ420を介して、偏光子付き
のレシーバ219に入射する。こうして、偏光子を介し
て生成された干渉光はレシーバ219によって検出さ
れ、ステージ131の変位測定のための測定ビート信号
として演算器203に入力される。
光と参照光とは、ほぼ同一の光路に沿って偏光ビームス
プリッタ402から射出され、ダイクロイックミラー1
27および周波数フィルタ420を介して、偏光子付き
のレシーバ219に入射する。こうして、偏光子を介し
て生成された干渉光はレシーバ219によって検出さ
れ、ステージ131の変位測定のための測定ビート信号
として演算器203に入力される。
【0005】一方、測長用光源314から射出された周
波数f00の光および周波数f01の光の一部は、ビームス
プリッタ101によって反射され、偏光子付きのレシー
バ218に入射する。偏光子を介して生成された干渉光
はレシーバ218によって検出され、ステージ131の
変位測定のための参照ビート信号として演算器203に
入力される。演算器203では、レシーバ218からの
参照ビート信号に対するレシーバ219からの測定ビー
ト信号の位相変化に基づいて、屈折率変動の影響を考慮
していないステージ131の変位量ΔD(f00)を求め
る。
波数f00の光および周波数f01の光の一部は、ビームス
プリッタ101によって反射され、偏光子付きのレシー
バ218に入射する。偏光子を介して生成された干渉光
はレシーバ218によって検出され、ステージ131の
変位測定のための参照ビート信号として演算器203に
入力される。演算器203では、レシーバ218からの
参照ビート信号に対するレシーバ219からの測定ビー
ト信号の位相変化に基づいて、屈折率変動の影響を考慮
していないステージ131の変位量ΔD(f00)を求め
る。
【0006】一方、屈折率変動測定系は、周波数f1 の
光と、その第2高調波である周波数f2 の光(f2 =2
f1 )とを互いにほぼ平行に射出する光源315を備え
ている。なお、周波数f1 の光の偏光方位と周波数f2
の光の偏光方位とは互いにほぼ一致し、測長用光源31
4からの周波数f00の光の偏光方位とほぼ同じである。
光源315から射出された周波数f1 の光および周波数
f2 の光は、周波数シフタ414および415にそれぞ
れ入射する。周波数シフタ414に入射した周波数f1
の光は、周波数f1 からわずかに周波数のずれた周波数
f10の光(f10=f1 +Δf1 )に周波数変調される。
また、周波数シフタ415に入射した周波数f2 の光
は、周波数f2 からわずかに周波数のずれた周波数f20
の光(f20=f2 +Δf2 )に周波数変調される。
光と、その第2高調波である周波数f2 の光(f2 =2
f1 )とを互いにほぼ平行に射出する光源315を備え
ている。なお、周波数f1 の光の偏光方位と周波数f2
の光の偏光方位とは互いにほぼ一致し、測長用光源31
4からの周波数f00の光の偏光方位とほぼ同じである。
光源315から射出された周波数f1 の光および周波数
f2 の光は、周波数シフタ414および415にそれぞ
れ入射する。周波数シフタ414に入射した周波数f1
の光は、周波数f1 からわずかに周波数のずれた周波数
f10の光(f10=f1 +Δf1 )に周波数変調される。
また、周波数シフタ415に入射した周波数f2 の光
は、周波数f2 からわずかに周波数のずれた周波数f20
の光(f20=f2 +Δf2 )に周波数変調される。
【0007】周波数f10の光および周波数f20の光は、
周波数結合素子であるダイクロイックミラー117に入
射する。こうして、ダイクロイックミラー117を介し
てほぼ同一の光路に沿って結合された周波数f10の光お
よび周波数f20の光は、もう1つのダイクロイックミラ
ー118に入射する。ダイクロイックミラー118で反
射された周波数f10の光および周波数f20の光は、測長
用光源314からの周波数f00の光および周波数f01の
光とほぼ同一の光路に沿って結合され、偏光ビームスプ
リッタ402に入射する。
周波数結合素子であるダイクロイックミラー117に入
射する。こうして、ダイクロイックミラー117を介し
てほぼ同一の光路に沿って結合された周波数f10の光お
よび周波数f20の光は、もう1つのダイクロイックミラ
ー118に入射する。ダイクロイックミラー118で反
射された周波数f10の光および周波数f20の光は、測長
用光源314からの周波数f00の光および周波数f01の
光とほぼ同一の光路に沿って結合され、偏光ビームスプ
リッタ402に入射する。
【0008】周波数f10の光および周波数f20の光は、
偏光ビームスプリッタ402を透過し、移動鏡142に
入射する。移動鏡142で反射された周波数f10の光お
よび周波数f20の光は、偏光ビームスプリッタ402を
透過し、周波数分離素子であるダイクロイックミラー1
27に入射する。ダイクロイックミラー127で反射さ
れた周波数f10の光および周波数f20の光は、第2高調
波変換素子(以下、「SHG変換素子」という)185
に入射する。SHG変換素子185では、周波数f10の
光の一部がSHG変換されて周波数f10' (f10' =2
f10)の光になる。一方、周波数f20の光は、SHG変
換素子185をそのまま透過する。SHG変換素子18
5から射出された周波数f10' の光および周波数f20の
光は、周波数フィルタ421を介して、偏光子付きのレ
シーバ430に入射する。こうして、偏光子を介して生
成された干渉光はレシーバ430によって検出され、屈
折率変動測定のための測定ビート信号として演算器20
3に入力される。
偏光ビームスプリッタ402を透過し、移動鏡142に
入射する。移動鏡142で反射された周波数f10の光お
よび周波数f20の光は、偏光ビームスプリッタ402を
透過し、周波数分離素子であるダイクロイックミラー1
27に入射する。ダイクロイックミラー127で反射さ
れた周波数f10の光および周波数f20の光は、第2高調
波変換素子(以下、「SHG変換素子」という)185
に入射する。SHG変換素子185では、周波数f10の
光の一部がSHG変換されて周波数f10' (f10' =2
f10)の光になる。一方、周波数f20の光は、SHG変
換素子185をそのまま透過する。SHG変換素子18
5から射出された周波数f10' の光および周波数f20の
光は、周波数フィルタ421を介して、偏光子付きのレ
シーバ430に入射する。こうして、偏光子を介して生
成された干渉光はレシーバ430によって検出され、屈
折率変動測定のための測定ビート信号として演算器20
3に入力される。
【0009】一方、光源315からの周波数f10の光お
よび周波数f20の光の一部は、ダイクロイックミラー1
28によって反射され、SHG変換素子186に入射す
る。SHG変換素子186では、周波数f10の光の一部
がSHG変換されて周波数f10' (f10' =2f10)の
光になる。一方、周波数f20の光は、SHG変換素子1
86をそのまま透過する。SHG変換素子186から射
出された周波数f10'の光および周波数f20の光は、周
波数フィルタ422を介して、偏光子付きのレシーバ4
31に入射する。こうして、偏光子を介して生成された
干渉光はレシーバ431によって検出され、屈折率変動
測定のための参照ビート信号として演算器203に入力
される。
よび周波数f20の光の一部は、ダイクロイックミラー1
28によって反射され、SHG変換素子186に入射す
る。SHG変換素子186では、周波数f10の光の一部
がSHG変換されて周波数f10' (f10' =2f10)の
光になる。一方、周波数f20の光は、SHG変換素子1
86をそのまま透過する。SHG変換素子186から射
出された周波数f10'の光および周波数f20の光は、周
波数フィルタ422を介して、偏光子付きのレシーバ4
31に入射する。こうして、偏光子を介して生成された
干渉光はレシーバ431によって検出され、屈折率変動
測定のための参照ビート信号として演算器203に入力
される。
【0010】演算器203では、レシーバ431からの
参照ビート信号に対するレシーバ430からの測定ビー
ト信号の位相変化に基づいて、測長用干渉計の測定光路
中の空気の屈折率変動を測定する。そして、屈折率変動
測定系で測定した屈折率変動に基づいて、測長用干渉計
で測定したステージ131の変位量ΔD(f00)を補正
し、ステージ131の真の変位量(幾何学的な距離)Δ
Dを求める。以下、ステージ131の変位量D(f00)
から真の変位量ΔDへの補正について説明する。
参照ビート信号に対するレシーバ430からの測定ビー
ト信号の位相変化に基づいて、測長用干渉計の測定光路
中の空気の屈折率変動を測定する。そして、屈折率変動
測定系で測定した屈折率変動に基づいて、測長用干渉計
で測定したステージ131の変位量ΔD(f00)を補正
し、ステージ131の真の変位量(幾何学的な距離)Δ
Dを求める。以下、ステージ131の変位量D(f00)
から真の変位量ΔDへの補正について説明する。
【0011】周波数fa、fbおよびfcの光に対する
光路長D(fa)、D(fb)およびD(fc)は、そ
れぞれ次の式(1)〜(3)により表される。
光路長D(fa)、D(fb)およびD(fc)は、そ
れぞれ次の式(1)〜(3)により表される。
【数1】 D(fa)={1+N・F(fa)}D (1) D(fb)={1+N・F(fb)}D (2) D(fc)={1+N・F(fc)}D (3)
【0012】ここで、Dは幾何学的な距離であり、Nは
空気の密度である。また、F(f)は、空気の構成比が
不変であれば空気の密度に依存することなく光の周波数
fのみに依存する関数である。上述の式(1)〜(3)
より、幾何学的距離Dは次の式(4)によって与えられ
る。
空気の密度である。また、F(f)は、空気の構成比が
不変であれば空気の密度に依存することなく光の周波数
fのみに依存する関数である。上述の式(1)〜(3)
より、幾何学的距離Dは次の式(4)によって与えられ
る。
【数2】 D=D(fa)−A{D(fc)−D(fb)} (4) 但し、A=F(fa)/{F(fc)−F(fb)}で
ある。
ある。
【0013】式(4)より、幾何学的距離Dの変化量す
なわち真の変位量ΔDは、次の式(5)によって与えら
れる。
なわち真の変位量ΔDは、次の式(5)によって与えら
れる。
【数3】 ΔD=ΔD(fa)−A{ΔD(fc)−ΔD(fb)} (5) ここで、ΔD(fa)、ΔD(fb)およびΔD(f
c)は、周波数fa、fbおよびfcの光に対する光路
長変化である。
c)は、周波数fa、fbおよびfcの光に対する光路
長変化である。
【0014】上述したように、式(5)の右辺第1項の
ΔD(fa)は、測長用干渉計においてレシーバ218
からの参照ビート信号とレシーバ219からの測定ビー
ト信号との位相変化に基づいて求められる。また、式
(5)の右辺第2項の{ΔD(fc)−ΔD(fb)}
は、屈折率変動測定系においてレシーバ431からの参
照ビート信号とレシーバ430からの測定ビート信号と
の位相変化に基づいて求められる。こうして、演算器2
03では、式(5)の演算式に基づいて、測長用干渉計
で測定した変位量ΔD(fa)を補正し、真の変位量Δ
Dを求めることができる。
ΔD(fa)は、測長用干渉計においてレシーバ218
からの参照ビート信号とレシーバ219からの測定ビー
ト信号との位相変化に基づいて求められる。また、式
(5)の右辺第2項の{ΔD(fc)−ΔD(fb)}
は、屈折率変動測定系においてレシーバ431からの参
照ビート信号とレシーバ430からの測定ビート信号と
の位相変化に基づいて求められる。こうして、演算器2
03では、式(5)の演算式に基づいて、測長用干渉計
で測定した変位量ΔD(fa)を補正し、真の変位量Δ
Dを求めることができる。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】一般に、光路中の空気
の屈折率変動は、空気の密度変動(すなわち温度変動)
だけに依存するわけでなく、空気の湿度変動にも依存す
る。しかしながら、上述の従来の光波干渉測定装置で
は、光路中の空気の密度変動に伴う屈折率変動の影響だ
けを考慮して、測長用干渉計の測定値を補正している。
その結果、光路中の空気の湿度が変動するような環境下
で従来の光波干渉測定装置を使用すると、湿度変動に伴
う屈折率変動に起因して測定誤差が発生し、測定精度が
低下するという不都合があった。
の屈折率変動は、空気の密度変動(すなわち温度変動)
だけに依存するわけでなく、空気の湿度変動にも依存す
る。しかしながら、上述の従来の光波干渉測定装置で
は、光路中の空気の密度変動に伴う屈折率変動の影響だ
けを考慮して、測長用干渉計の測定値を補正している。
その結果、光路中の空気の湿度が変動するような環境下
で従来の光波干渉測定装置を使用すると、湿度変動に伴
う屈折率変動に起因して測定誤差が発生し、測定精度が
低下するという不都合があった。
【0016】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、光路中の気体の密度変動および湿度変動に伴
う屈折率変動に起因する測定誤差を補正することのでき
る高精度な光波干渉測定装置を提供することを目的とす
る。
のであり、光路中の気体の密度変動および湿度変動に伴
う屈折率変動に起因する測定誤差を補正することのでき
る高精度な光波干渉測定装置を提供することを目的とす
る。
【0017】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明において、物体の変位量を光学的に測定する
ための測定光学系と、前記測定光学系の光路中の気体の
密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動を測定するた
めの屈折率変動測定系とを備え、前記測定光学系で測定
した前記物体の変位量を前記屈折率変動測定系で測定し
た前記光路中の気体の屈折率変動情報に基づいて補正す
ることによって前記物体の幾何学的変位量を測定するこ
とを特徴とする光波干渉測定装置を提供する。
に、本発明において、物体の変位量を光学的に測定する
ための測定光学系と、前記測定光学系の光路中の気体の
密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動を測定するた
めの屈折率変動測定系とを備え、前記測定光学系で測定
した前記物体の変位量を前記屈折率変動測定系で測定し
た前記光路中の気体の屈折率変動情報に基づいて補正す
ることによって前記物体の幾何学的変位量を測定するこ
とを特徴とする光波干渉測定装置を提供する。
【0018】本発明の好ましい態様によれば、前記測定
光学系は、所定方向に沿った移動鏡の変位量を測定する
ための測長用干渉計であり、前記屈折率変動測定系は、
互いに異なる周波数を有する第1の光、第2の光および
第3の光をほぼ同一の光路に沿って出力するための第1
光源部と、前記測長用干渉計の所定光路を介した前記第
1の光および前記第2の光のうち前記第1の光の周波数
を前記第2の光の周波数とほぼ一致させることによって
第1干渉光を生成するための第1干渉光生成系と、前記
測長用干渉計の前記所定光路を介した前記第2の光およ
び前記第3の光のうち前記第2の光の周波数を前記第3
の光の周波数とほぼ一致させることによって第2干渉光
を生成するための第2干渉光生成系とを備え、前記第1
干渉光および前記第2干渉光に基づいて、前記測長用干
渉計の前記所定光路中の気体の密度変動および湿度変動
に伴う屈折率変動を測定し、前記測長用干渉計で測定し
た前記移動鏡の変位量を補正する。
光学系は、所定方向に沿った移動鏡の変位量を測定する
ための測長用干渉計であり、前記屈折率変動測定系は、
互いに異なる周波数を有する第1の光、第2の光および
第3の光をほぼ同一の光路に沿って出力するための第1
光源部と、前記測長用干渉計の所定光路を介した前記第
1の光および前記第2の光のうち前記第1の光の周波数
を前記第2の光の周波数とほぼ一致させることによって
第1干渉光を生成するための第1干渉光生成系と、前記
測長用干渉計の前記所定光路を介した前記第2の光およ
び前記第3の光のうち前記第2の光の周波数を前記第3
の光の周波数とほぼ一致させることによって第2干渉光
を生成するための第2干渉光生成系とを備え、前記第1
干渉光および前記第2干渉光に基づいて、前記測長用干
渉計の前記所定光路中の気体の密度変動および湿度変動
に伴う屈折率変動を測定し、前記測長用干渉計で測定し
た前記移動鏡の変位量を補正する。
【0019】また、本発明の好ましい態様によれば、前
記測定光学系は、所定方向に沿った移動鏡の変位量を測
定するための測長用干渉計であり、前記屈折率変動測定
系は、互いに異なる周波数を有する第1の光、第2の光
および第3の光と、前記第1の光とわずかに周波数の異
なる第4の光、前記第2の光とわずかに周波数の異なる
第5の光、および前記第3の光とわずかに周波数の異な
る第6の光とをほぼ同一の光路に沿って出力するための
第2光源部と、前記測長用干渉計の参照光路を介した前
記第1の光と前記測長用干渉計の測定光路を介した前記
第4の光との第1干渉光を生成するための第1干渉光生
成系と、前記測長用干渉計の参照光路を介した前記第2
の光と前記測長用干渉計の測定光路を介した前記第5の
光との第2干渉光を生成するための第2干渉光生成系
と、前記測長用干渉計の参照光路を介した前記第3の光
と前記測長用干渉計の測定光路を介した前記第6の光と
の第3干渉光を生成するための第3干渉光生成系とを備
え、前記第1干渉光、前記第2干渉光および前記第3干
渉光に基づいて、前記測長用干渉計の参照光路および測
定光路中の気体の密度変動および湿度変動に伴う屈折率
変動を測定し、前記測長用干渉計で測定した前記移動鏡
の変位量を補正する。
記測定光学系は、所定方向に沿った移動鏡の変位量を測
定するための測長用干渉計であり、前記屈折率変動測定
系は、互いに異なる周波数を有する第1の光、第2の光
および第3の光と、前記第1の光とわずかに周波数の異
なる第4の光、前記第2の光とわずかに周波数の異なる
第5の光、および前記第3の光とわずかに周波数の異な
る第6の光とをほぼ同一の光路に沿って出力するための
第2光源部と、前記測長用干渉計の参照光路を介した前
記第1の光と前記測長用干渉計の測定光路を介した前記
第4の光との第1干渉光を生成するための第1干渉光生
成系と、前記測長用干渉計の参照光路を介した前記第2
の光と前記測長用干渉計の測定光路を介した前記第5の
光との第2干渉光を生成するための第2干渉光生成系
と、前記測長用干渉計の参照光路を介した前記第3の光
と前記測長用干渉計の測定光路を介した前記第6の光と
の第3干渉光を生成するための第3干渉光生成系とを備
え、前記第1干渉光、前記第2干渉光および前記第3干
渉光に基づいて、前記測長用干渉計の参照光路および測
定光路中の気体の密度変動および湿度変動に伴う屈折率
変動を測定し、前記測長用干渉計で測定した前記移動鏡
の変位量を補正する。
【0020】
【発明の実施の形態】本発明の光波干渉測定装置では、
たとえば所定方向に沿った移動鏡の変位量を測定するた
めの測長用干渉計の光路中の気体の密度変動および湿度
変動に伴う屈折率変動を測定するための屈折率変動測定
系を備えている。したがって、測長用干渉計の光路中の
気体の密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動に起因
する測定誤差を補正し、移動鏡の変位量を高精度に測定
することができる。
たとえば所定方向に沿った移動鏡の変位量を測定するた
めの測長用干渉計の光路中の気体の密度変動および湿度
変動に伴う屈折率変動を測定するための屈折率変動測定
系を備えている。したがって、測長用干渉計の光路中の
気体の密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動に起因
する測定誤差を補正し、移動鏡の変位量を高精度に測定
することができる。
【0021】具体的な一例として、屈折率変動測定系
は、第1の光、第2の光および第3の光をほぼ同一の光
路に沿って出力するための第1光源部を備えている。そ
して、測長用干渉計の測定光路を介した第1の光の周波
数を第2の光の周波数とほぼ一致させることによって第
1干渉光を生成する。また、測長用干渉計の測定光路を
介した第2の光の周波数を第3の光の周波数とほぼ一致
させることによって第2干渉光を生成する。こうして、
3つの異なる周波数の光を利用して光路中の気体の密度
変動および湿度変動に伴う屈折率変動に起因する測定誤
差を補正することができるので、移動鏡の変位量を高精
度に測定することができる。
は、第1の光、第2の光および第3の光をほぼ同一の光
路に沿って出力するための第1光源部を備えている。そ
して、測長用干渉計の測定光路を介した第1の光の周波
数を第2の光の周波数とほぼ一致させることによって第
1干渉光を生成する。また、測長用干渉計の測定光路を
介した第2の光の周波数を第3の光の周波数とほぼ一致
させることによって第2干渉光を生成する。こうして、
3つの異なる周波数の光を利用して光路中の気体の密度
変動および湿度変動に伴う屈折率変動に起因する測定誤
差を補正することができるので、移動鏡の変位量を高精
度に測定することができる。
【0022】以下、本発明の実施例を、添付図面に基づ
いて説明する。図1は、本発明の第1実施例にかかる光
波干渉測定装置の構成を概略的に示す図である。また、
図2は、図1の光源部300の内部構成を概略的に示す
図である。さらに、図3は、図1の測定検出部320A
および参照検出部320Bの内部構成を概略的に示す図
である。
いて説明する。図1は、本発明の第1実施例にかかる光
波干渉測定装置の構成を概略的に示す図である。また、
図2は、図1の光源部300の内部構成を概略的に示す
図である。さらに、図3は、図1の測定検出部320A
および参照検出部320Bの内部構成を概略的に示す図
である。
【0023】図1の光波干渉測定装置は、ステージ13
0の光軸方向(図中矢印方向)の変位を測定するための
ヘテロダイン干渉方式の測長用干渉計を備えている。測
長用干渉計において、たとえばHe−Neレーザ光源か
らなる測長用光源310は、周波数が互いにわずかに異
なり且つ偏光方位が直交する2つの光、すなわち周波数
f00の光および周波数f01(f01=f00+Δf00)の光
をほぼ同一の光路に沿って射出する。なお、図中矢印で
示すように、周波数f00の光の偏光方位は図1の紙面に
平行であり、周波数f01の光の偏光方位は紙面に垂直で
あるものとする。
0の光軸方向(図中矢印方向)の変位を測定するための
ヘテロダイン干渉方式の測長用干渉計を備えている。測
長用干渉計において、たとえばHe−Neレーザ光源か
らなる測長用光源310は、周波数が互いにわずかに異
なり且つ偏光方位が直交する2つの光、すなわち周波数
f00の光および周波数f01(f01=f00+Δf00)の光
をほぼ同一の光路に沿って射出する。なお、図中矢印で
示すように、周波数f00の光の偏光方位は図1の紙面に
平行であり、周波数f01の光の偏光方位は紙面に垂直で
あるものとする。
【0024】測長用光源310から射出された2つの異
なる周波数の光は、ビームスプリッタ100を介して、
周波数結合素子であるダイクロイックミラー110に入
射する。ダイクロイックミラー110は、周波数がf00
近傍の光のみを透過し、それ以外の周波数の光を反射す
る特性を有する。したがって、ダイクロイックミラー1
10を透過した周波数f00の光および周波数f01の光
は、周波数分離素子であるダイクロイックミラー120
を介して偏光ビームスプリッタ160に入射する。偏光
ビームスプリッタ160は、図1の紙面に平行な偏光方
位を有する光を透過し、紙面に垂直な偏光方位を有する
光を反射するように配置されている。したがって、周波
数f01の光は偏光ビームスプリッタ160で反射され、
参照光としてコーナキューブプリズムからなる固定鏡1
50に導かれる。一方、周波数f00の光は偏光ビームス
プリッタ160を透過し、測定光としてコーナキューブ
プリズムからなる移動鏡140に導かれる。移動鏡14
0は、図中矢印の方向に沿って移動可能なステージ13
0に取り付けられている。
なる周波数の光は、ビームスプリッタ100を介して、
周波数結合素子であるダイクロイックミラー110に入
射する。ダイクロイックミラー110は、周波数がf00
近傍の光のみを透過し、それ以外の周波数の光を反射す
る特性を有する。したがって、ダイクロイックミラー1
10を透過した周波数f00の光および周波数f01の光
は、周波数分離素子であるダイクロイックミラー120
を介して偏光ビームスプリッタ160に入射する。偏光
ビームスプリッタ160は、図1の紙面に平行な偏光方
位を有する光を透過し、紙面に垂直な偏光方位を有する
光を反射するように配置されている。したがって、周波
数f01の光は偏光ビームスプリッタ160で反射され、
参照光としてコーナキューブプリズムからなる固定鏡1
50に導かれる。一方、周波数f00の光は偏光ビームス
プリッタ160を透過し、測定光としてコーナキューブ
プリズムからなる移動鏡140に導かれる。移動鏡14
0は、図中矢印の方向に沿って移動可能なステージ13
0に取り付けられている。
【0025】周波数f01の光からなる参照光は、固定鏡
150で反射された後、再び偏光ビームスプリッタ16
0に戻る。また、周波数f00の光からなる測定光は、移
動鏡140で反射され、再び偏光ビームスプリッタ16
0に戻る。こうして、参照光路を介して偏光ビームスプ
リッタ160から射出された周波数f01の光と、測定光
路を介して偏光ビームスプリッタ160から射出された
周波数f00の光とは、ほぼ同一の光路に沿って周波数分
離素子であるダイクロイックミラー121に入射する。
ダイクロイックミラー121は、ダイクロイックミラー
110と同様に、周波数がf00近傍の光のみを透過し、
他の周波数の光を反射する特性を有する。
150で反射された後、再び偏光ビームスプリッタ16
0に戻る。また、周波数f00の光からなる測定光は、移
動鏡140で反射され、再び偏光ビームスプリッタ16
0に戻る。こうして、参照光路を介して偏光ビームスプ
リッタ160から射出された周波数f01の光と、測定光
路を介して偏光ビームスプリッタ160から射出された
周波数f00の光とは、ほぼ同一の光路に沿って周波数分
離素子であるダイクロイックミラー121に入射する。
ダイクロイックミラー121は、ダイクロイックミラー
110と同様に、周波数がf00近傍の光のみを透過し、
他の周波数の光を反射する特性を有する。
【0026】したがって、周波数f01の参照光および周
波数f00の測定光は、ダイクロイックミラー121を透
過し、周波数フィルタ170に入射する。周波数フィル
タ170は、周波数f00の光および周波数f01の光だけ
を透過し、それ以外の周波数の光すなわち誤差光を遮断
する。周波数フィルタ170を透過した周波数f01の参
照光および周波数f00の測定光は、偏光子付きのレシー
バ211に入射する。レシーバ211の偏光子は、周波
数f00の測定光の偏光方位および周波数f01の参照光の
偏光方位に対してそれぞれ45°だけ傾いて配置されて
いる。したがって、周波数f00の測定光と周波数f01の
参照光とは偏光子を介して干渉し、レシーバ211は干
渉光に基づくビート信号(周波数Δf00=f01−f00)
をステージ130の変位測定のための測定ビート信号と
して演算器200に供給する。
波数f00の測定光は、ダイクロイックミラー121を透
過し、周波数フィルタ170に入射する。周波数フィル
タ170は、周波数f00の光および周波数f01の光だけ
を透過し、それ以外の周波数の光すなわち誤差光を遮断
する。周波数フィルタ170を透過した周波数f01の参
照光および周波数f00の測定光は、偏光子付きのレシー
バ211に入射する。レシーバ211の偏光子は、周波
数f00の測定光の偏光方位および周波数f01の参照光の
偏光方位に対してそれぞれ45°だけ傾いて配置されて
いる。したがって、周波数f00の測定光と周波数f01の
参照光とは偏光子を介して干渉し、レシーバ211は干
渉光に基づくビート信号(周波数Δf00=f01−f00)
をステージ130の変位測定のための測定ビート信号と
して演算器200に供給する。
【0027】一方、測長用光源310から射出された周
波数f01の光および周波数f00の光の一部は、ビームス
プリッタ100によって反射された後、偏光子付きのレ
シーバ210に入射する。レシーバ210の偏光子は、
周波数f00の測定光の偏光方位および周波数f01の参照
光の偏光方位に対してそれぞれ45°だけ傾いて配置さ
れている。したがって、周波数f00の測定光と周波数f
01の参照光とは偏光子を介して干渉し、レシーバ210
は干渉光に基づくビート信号(周波数Δf00)をステー
ジ130の変位測定のための参照ビート信号として演算
器200に供給する。演算器200では、レシーバ21
0からの参照ビート信号に対するレシーバ211からの
測定ビート信号の位相変化に基づいて、屈折率変動の影
響を考慮していないステージ130の変位量ΔD(f0
0)が求められる。
波数f01の光および周波数f00の光の一部は、ビームス
プリッタ100によって反射された後、偏光子付きのレ
シーバ210に入射する。レシーバ210の偏光子は、
周波数f00の測定光の偏光方位および周波数f01の参照
光の偏光方位に対してそれぞれ45°だけ傾いて配置さ
れている。したがって、周波数f00の測定光と周波数f
01の参照光とは偏光子を介して干渉し、レシーバ210
は干渉光に基づくビート信号(周波数Δf00)をステー
ジ130の変位測定のための参照ビート信号として演算
器200に供給する。演算器200では、レシーバ21
0からの参照ビート信号に対するレシーバ211からの
測定ビート信号の位相変化に基づいて、屈折率変動の影
響を考慮していないステージ130の変位量ΔD(f0
0)が求められる。
【0028】図1の光波干渉測定装置はまた、測長用干
渉計の測定光路中の空気密度および空気湿度の変動に伴
う屈折率変動を測定するための屈折率変動測定系を備え
ている。屈折率変動測定系において、光源部300の光
源311は、周波数f1 の光(たとえば波長1064n
mの光)と、その第2高調波である周波数f2 の光(f
2 =2f1 :たとえば波長532nmの光)とを、互い
にほぼ平行な光路に沿ってそれぞれ射出する。なお、周
波数f1 の光および周波数f2 の光はともに、図1およ
び図2の紙面に平行な偏光方位を有する。また、周波数
f1 の光および周波数f2 の光は、測長用光源310か
らの周波数f00の光および周波数f01の光とは実質的に
異なる周波数を有する。
渉計の測定光路中の空気密度および空気湿度の変動に伴
う屈折率変動を測定するための屈折率変動測定系を備え
ている。屈折率変動測定系において、光源部300の光
源311は、周波数f1 の光(たとえば波長1064n
mの光)と、その第2高調波である周波数f2 の光(f
2 =2f1 :たとえば波長532nmの光)とを、互い
にほぼ平行な光路に沿ってそれぞれ射出する。なお、周
波数f1 の光および周波数f2 の光はともに、図1およ
び図2の紙面に平行な偏光方位を有する。また、周波数
f1 の光および周波数f2 の光は、測長用光源310か
らの周波数f00の光および周波数f01の光とは実質的に
異なる周波数を有する。
【0029】周波数f1 の光は、周波数シフタ220を
介してわずかに周波数変調され、周波数f10(f10=f
1 +Δf1 )の光になる。一方、周波数f2 の光は、S
HG変換素子180に入射し、周波数f2 の光の一部が
SHG変換素子180により周波数f3 (f3 =2f2
)の光に変換され、その残部がSHG変換素子180
をそのまま透過する。なお、SHG変換素子180に
は、KTP(KTiOPO4 )などの非線形光学結晶を
用いることができる。SHG変換素子180から射出さ
れた周波数f2 の光および周波数f3 の光は、ほぼ同一
の光路に沿って周波数分離素子であるダイクロイックミ
ラー122に入射する。
介してわずかに周波数変調され、周波数f10(f10=f
1 +Δf1 )の光になる。一方、周波数f2 の光は、S
HG変換素子180に入射し、周波数f2 の光の一部が
SHG変換素子180により周波数f3 (f3 =2f2
)の光に変換され、その残部がSHG変換素子180
をそのまま透過する。なお、SHG変換素子180に
は、KTP(KTiOPO4 )などの非線形光学結晶を
用いることができる。SHG変換素子180から射出さ
れた周波数f2 の光および周波数f3 の光は、ほぼ同一
の光路に沿って周波数分離素子であるダイクロイックミ
ラー122に入射する。
【0030】ダイクロイックミラー122を透過した周
波数f2 の光は周波数シフタ221に、ダイクロイック
ミラー122で反射された周波数f3 の光は周波数シフ
タ222にそれぞれ入射する。周波数シフタ221で
は、周波数f2 の光がわずかに周波数変調され、周波数
f20(f20=f2 +Δf2 )の光になる。また、周波数
シフタ222では、周波数f3 の光がわずかに周波数変
調され、周波数f30(f30=f3 +Δf3 )の光にな
る。ここで、Δf2 ≠2Δf1 で且つΔf3 ≠2Δf2
である。周波数変調された周波数f10の光、周波数f20
の光および周波数f30の光は、周波数結合素子であるダ
イクロイックミラー111および112の作用によりほ
ぼ同一の光路に沿って結合され、光源部300から射出
される。
波数f2 の光は周波数シフタ221に、ダイクロイック
ミラー122で反射された周波数f3 の光は周波数シフ
タ222にそれぞれ入射する。周波数シフタ221で
は、周波数f2 の光がわずかに周波数変調され、周波数
f20(f20=f2 +Δf2 )の光になる。また、周波数
シフタ222では、周波数f3 の光がわずかに周波数変
調され、周波数f30(f30=f3 +Δf3 )の光にな
る。ここで、Δf2 ≠2Δf1 で且つΔf3 ≠2Δf2
である。周波数変調された周波数f10の光、周波数f20
の光および周波数f30の光は、周波数結合素子であるダ
イクロイックミラー111および112の作用によりほ
ぼ同一の光路に沿って結合され、光源部300から射出
される。
【0031】光源部300からほぼ同一の光路に沿って
射出された周波数f10の光、周波数f20の光および周波
数f30の光は、ダイクロイックミラー110で反射さ
れ、測長用光源310からの光(周波数がf00近傍の
光)とほぼ同一の光路に沿って結合される。ダイクロイ
ックミラー110で反射された周波数f10の光、周波数
f20の光および周波数f30の光は、ダイクロイックミラ
ー120を介して偏光ビームスプリッタ160に入射す
る。偏光ビームスプリッタ160は、上述したように、
図1の紙面に平行な偏光方位を有する光を透過し、紙面
に垂直な偏光方位を有する光を反射するように配置され
ている。したがって、偏光ビームスプリッタ160に入
射した周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f
30の光は、偏光ビームスプリッタ160を透過し、移動
鏡140で反射された後、再び偏光ビームスプリッタ1
60に戻る。
射出された周波数f10の光、周波数f20の光および周波
数f30の光は、ダイクロイックミラー110で反射さ
れ、測長用光源310からの光(周波数がf00近傍の
光)とほぼ同一の光路に沿って結合される。ダイクロイ
ックミラー110で反射された周波数f10の光、周波数
f20の光および周波数f30の光は、ダイクロイックミラ
ー120を介して偏光ビームスプリッタ160に入射す
る。偏光ビームスプリッタ160は、上述したように、
図1の紙面に平行な偏光方位を有する光を透過し、紙面
に垂直な偏光方位を有する光を反射するように配置され
ている。したがって、偏光ビームスプリッタ160に入
射した周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f
30の光は、偏光ビームスプリッタ160を透過し、移動
鏡140で反射された後、再び偏光ビームスプリッタ1
60に戻る。
【0032】こうして、測定光路を介して偏光ビームス
プリッタ160から射出された周波数f10の光、周波数
f20の光および周波数f30の光は、ダイクロイックミラ
ー121に入射する。ダイクロイックミラー121は、
前述したように、周波数がf00近傍の光のみを透過し、
他の周波数の光を反射する特性を有する。したがって、
ダイクロイックミラー121の作用により、周波数f10
の光、周波数f20の光および周波数f30の光は、測長用
光源310からの光(周波数がf00近傍の光)から分離
される。こうして、ダイクロイックミラー121で反射
された周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f
30の光は、測定検出部320Aに入射する。
プリッタ160から射出された周波数f10の光、周波数
f20の光および周波数f30の光は、ダイクロイックミラ
ー121に入射する。ダイクロイックミラー121は、
前述したように、周波数がf00近傍の光のみを透過し、
他の周波数の光を反射する特性を有する。したがって、
ダイクロイックミラー121の作用により、周波数f10
の光、周波数f20の光および周波数f30の光は、測長用
光源310からの光(周波数がf00近傍の光)から分離
される。こうして、ダイクロイックミラー121で反射
された周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f
30の光は、測定検出部320Aに入射する。
【0033】図3を参照すると、ほぼ同一の光路に沿っ
て測定検出部320Aに入射した周波数f10の光、周波
数f20の光および周波数f30の光は、ビームスプリッタ
104によりその一部が反射され、周波数分離素子であ
るダイクロイックミラー440に入射する。ダイクロイ
ックミラー440で反射された周波数f30の光はレシー
バ431に入射し、ダイクロイックミラー440を透過
した周波数f10の光および周波数f20の光はもう1つの
周波数分離素子であるダイクロイックミラー441に入
射する。ダイクロイックミラー441で反射された周波
数f20の光はレシーバ432に入射し、ダイクロイック
ミラー441を透過した周波数f10の光はレシーバ43
3に入射する。レシーバ431〜433は各光束の光路
変動を検出するためのレシーバであり、検出された光路
変動に関する信号は演算器200に供給される。なお、
レシーバ431〜433として、たとえば高分解能のP
SD(Position Sensitive Detector )、CCD、4分
割ディテクタのように、ビームのx方向変位およびy方
向変位を測定可能な素子を用いることができる。
て測定検出部320Aに入射した周波数f10の光、周波
数f20の光および周波数f30の光は、ビームスプリッタ
104によりその一部が反射され、周波数分離素子であ
るダイクロイックミラー440に入射する。ダイクロイ
ックミラー440で反射された周波数f30の光はレシー
バ431に入射し、ダイクロイックミラー440を透過
した周波数f10の光および周波数f20の光はもう1つの
周波数分離素子であるダイクロイックミラー441に入
射する。ダイクロイックミラー441で反射された周波
数f20の光はレシーバ432に入射し、ダイクロイック
ミラー441を透過した周波数f10の光はレシーバ43
3に入射する。レシーバ431〜433は各光束の光路
変動を検出するためのレシーバであり、検出された光路
変動に関する信号は演算器200に供給される。なお、
レシーバ431〜433として、たとえば高分解能のP
SD(Position Sensitive Detector )、CCD、4分
割ディテクタのように、ビームのx方向変位およびy方
向変位を測定可能な素子を用いることができる。
【0034】一方、ビームスプリッタ104を透過した
周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30の光
は、周波数分離素子であるダイクロイックミラー128
に入射する。ダイクロイックミラー128は、周波数f
10の光のほぼ全部および周波数f20の光の一部を反射
し、周波数f30の光のほぼ全部および周波数f20の光の
残部を透過する特性を有する。ダイクロイックミラー1
28で反射された周波数f10の光および周波数f20の光
は、SHG変換素子181に入射する。なお、SHG変
換素子181には、KTP(KTiOPO4 )などの非
線形光学結晶を用いることができる。
周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30の光
は、周波数分離素子であるダイクロイックミラー128
に入射する。ダイクロイックミラー128は、周波数f
10の光のほぼ全部および周波数f20の光の一部を反射
し、周波数f30の光のほぼ全部および周波数f20の光の
残部を透過する特性を有する。ダイクロイックミラー1
28で反射された周波数f10の光および周波数f20の光
は、SHG変換素子181に入射する。なお、SHG変
換素子181には、KTP(KTiOPO4 )などの非
線形光学結晶を用いることができる。
【0035】SHG変換素子181では、周波数f20の
光がそのまま透過し、周波数f10の光の一部がSHG変
換され周波数f10' の光(f10' =2f10)になる。S
HG変換素子181から射出された周波数f10' の光お
よび周波数f20の光は、周波数フィルタ171を介して
偏光子付きのレシーバ212に入射する。周波数フィル
タ171は、周波数f10' の光および周波数f20の光だ
けを透過し、それ以外の周波数の光すなわち誤差光を遮
断する。周波数f10' の光と周波数f20の光とはレシー
バ212の偏光子を介して干渉し、レシーバ212は干
渉光に基づくビート信号(周波数f10' −f20=2Δf
1 −Δf2 )を屈折率変動の測定のための測定ビート信
号として演算器200に供給する。
光がそのまま透過し、周波数f10の光の一部がSHG変
換され周波数f10' の光(f10' =2f10)になる。S
HG変換素子181から射出された周波数f10' の光お
よび周波数f20の光は、周波数フィルタ171を介して
偏光子付きのレシーバ212に入射する。周波数フィル
タ171は、周波数f10' の光および周波数f20の光だ
けを透過し、それ以外の周波数の光すなわち誤差光を遮
断する。周波数f10' の光と周波数f20の光とはレシー
バ212の偏光子を介して干渉し、レシーバ212は干
渉光に基づくビート信号(周波数f10' −f20=2Δf
1 −Δf2 )を屈折率変動の測定のための測定ビート信
号として演算器200に供給する。
【0036】また、ダイクロイックミラー128を透過
した周波数f20の光および周波数f30の光は、ミラー1
45を介して、SHG変換素子182に入射する。SH
G変換素子182では、周波数f30の光がそのまま透過
し、周波数f20の光の一部がSHG変換され周波数f2
0' の光(f20' =2f20)になる。なお、SHG変換
素子182には、KDP(KH2 PO4 )などの非線形
光学結晶を用いることができる。SHG変換素子182
から射出された周波数f20' の光および周波数f30の光
は、周波数フィルタ172を介して偏光子付きのレシー
バ213に入射する。周波数フィルタ172は、周波数
f20' の光および周波数f30の光だけを透過し、それ以
外の周波数の光すなわち誤差光を遮断する。周波数f2
0' の光と周波数f30の光とはレシーバ213の偏光子
を介して干渉し、レシーバ213は干渉光に基づくビー
ト信号(周波数f20' −f30=2Δf2 −Δf3 )を屈
折率変動の測定のための測定ビート信号として演算器2
00に供給する。
した周波数f20の光および周波数f30の光は、ミラー1
45を介して、SHG変換素子182に入射する。SH
G変換素子182では、周波数f30の光がそのまま透過
し、周波数f20の光の一部がSHG変換され周波数f2
0' の光(f20' =2f20)になる。なお、SHG変換
素子182には、KDP(KH2 PO4 )などの非線形
光学結晶を用いることができる。SHG変換素子182
から射出された周波数f20' の光および周波数f30の光
は、周波数フィルタ172を介して偏光子付きのレシー
バ213に入射する。周波数フィルタ172は、周波数
f20' の光および周波数f30の光だけを透過し、それ以
外の周波数の光すなわち誤差光を遮断する。周波数f2
0' の光と周波数f30の光とはレシーバ213の偏光子
を介して干渉し、レシーバ213は干渉光に基づくビー
ト信号(周波数f20' −f30=2Δf2 −Δf3 )を屈
折率変動の測定のための測定ビート信号として演算器2
00に供給する。
【0037】一方、光源部300からほぼ同一の光路に
沿って射出された周波数f10の光、周波数f20の光およ
び周波数f30の光の一部は、ダイクロイックミラー12
0によって反射され、参照検出部320Bに入射する。
なお、図3に示すように、参照検出部320Bの構成
は、測定検出部320Aの構成と全く同じである。した
がって、参照検出部320Bにおいても、レシーバ43
1〜433で検出された光路変動に関する信号は演算器
200に供給される。また、レシーバ212は、干渉光
に基づくビート信号(周波数f10' −f20=2Δf1 −
Δf2 )を屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
して演算器200に供給する。さらに、レシーバ213
は、干渉光に基づくビート信号(周波数f20' −f30=
2Δf2 −Δf3 )を屈折率変動の測定のための参照ビ
ート信号として演算器200に供給する。
沿って射出された周波数f10の光、周波数f20の光およ
び周波数f30の光の一部は、ダイクロイックミラー12
0によって反射され、参照検出部320Bに入射する。
なお、図3に示すように、参照検出部320Bの構成
は、測定検出部320Aの構成と全く同じである。した
がって、参照検出部320Bにおいても、レシーバ43
1〜433で検出された光路変動に関する信号は演算器
200に供給される。また、レシーバ212は、干渉光
に基づくビート信号(周波数f10' −f20=2Δf1 −
Δf2 )を屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
して演算器200に供給する。さらに、レシーバ213
は、干渉光に基づくビート信号(周波数f20' −f30=
2Δf2 −Δf3 )を屈折率変動の測定のための参照ビ
ート信号として演算器200に供給する。
【0038】こうして、演算器200では、レシーバ2
12からの屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波数f2 の
光に対する光路長変化ΔD(f2 )と周波数f1 の光に
対する光路長変化ΔD(f1)との差すなわち{ΔD
(f2 )−ΔD(f1 )}を求める。また、レシーバ2
13からの屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波数f3 の
光に対する光路長変化ΔD(f3 )と周波数f2の光に
対する光路長変化ΔD(f2 )との差すなわち{ΔD
(f3 )−ΔD(f2 )}を求める。さらに、レシーバ
431〜433からの信号に基づいて、主として光源3
11の射出角の変動に起因する各光路の変動を検出す
る。なお、各光路の変動に起因する測定誤差の補正につ
いては周知であり、以下の各実施例においてその詳細な
説明を省略する。
12からの屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波数f2 の
光に対する光路長変化ΔD(f2 )と周波数f1 の光に
対する光路長変化ΔD(f1)との差すなわち{ΔD
(f2 )−ΔD(f1 )}を求める。また、レシーバ2
13からの屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波数f3 の
光に対する光路長変化ΔD(f3 )と周波数f2の光に
対する光路長変化ΔD(f2 )との差すなわち{ΔD
(f3 )−ΔD(f2 )}を求める。さらに、レシーバ
431〜433からの信号に基づいて、主として光源3
11の射出角の変動に起因する各光路の変動を検出す
る。なお、各光路の変動に起因する測定誤差の補正につ
いては周知であり、以下の各実施例においてその詳細な
説明を省略する。
【0039】第1実施例では、演算器200において、
変位量ΔD(f00)に関する信号と、{ΔD(f2 )−
ΔD(f1 )}に関する信号と、{ΔD(f3 )−ΔD
(f2 )}に関する信号とに基づいて、測定光路中の空
気の密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動に起因す
る測定誤差を補正したステージ130の真の変位量ΔD
を求める。以下、ステージ130の変位量ΔD(f00)
から真の変位量ΔDへの補正について説明する。
変位量ΔD(f00)に関する信号と、{ΔD(f2 )−
ΔD(f1 )}に関する信号と、{ΔD(f3 )−ΔD
(f2 )}に関する信号とに基づいて、測定光路中の空
気の密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動に起因す
る測定誤差を補正したステージ130の真の変位量ΔD
を求める。以下、ステージ130の変位量ΔD(f00)
から真の変位量ΔDへの補正について説明する。
【0040】周波数fa、fb、fcおよびfdの光に
対する光路長D(fa)、D(fb)、D(fc)およ
びD(fd)は、B. Edlenの式(Metrologia, vol.2, p
71,1966)にしたがって、それぞれ次の式(6)〜
(9)により表される。
対する光路長D(fa)、D(fb)、D(fc)およ
びD(fd)は、B. Edlenの式(Metrologia, vol.2, p
71,1966)にしたがって、それぞれ次の式(6)〜
(9)により表される。
【数4】 D(fa)={1+N・F(fa)+p・G(fa)}D (6) D(fb)={1+N・F(fb)+p・G(fb)}D (7) D(fc)={1+N・F(fc)+p・G(fc)}D (8) D(fd)={1+N・F(fd)+p・G(fd)}D (9)
【0041】ここで、Dは幾何学的な距離であり、Nは
空気の密度であり、pは空気の湿度(水蒸気分圧)であ
る。また、F(f)およびG(f)は、空気の構成比が
不変であれば空気の密度および湿度に依存することなく
光の周波数fのみに依存する関数である。上述の式
(6)乃至(9)より、幾何学的距離Dは次の式(10)
によって与えられる。
空気の密度であり、pは空気の湿度(水蒸気分圧)であ
る。また、F(f)およびG(f)は、空気の構成比が
不変であれば空気の密度および湿度に依存することなく
光の周波数fのみに依存する関数である。上述の式
(6)乃至(9)より、幾何学的距離Dは次の式(10)
によって与えられる。
【0042】
【数5】 D=D(fa)−A{D(fc)−D(fb)}−B{D(fd)−D(fc)} (10) 但し、 A=[F(fa)(G(fd)-G(fc))-G(fa)(F(fd)-F(fc)]/[(F(f
c)-F(fb))(G(fd)-G(fc))-(F(fd)-F(fc))(G(fc)-G(fb))] B=[G(fa)(F(fc)-F(fb))-F(fa)(G(fc)-G(fb)]/[(F(f
c)-F(fb))(G(fd)-G(fc))-(F(fd)-F(fc))(G(fc)-G(fb))]
c)-F(fb))(G(fd)-G(fc))-(F(fd)-F(fc))(G(fc)-G(fb))] B=[G(fa)(F(fc)-F(fb))-F(fa)(G(fc)-G(fb)]/[(F(f
c)-F(fb))(G(fd)-G(fc))-(F(fd)-F(fc))(G(fc)-G(fb))]
【0043】式(10)より、真の変位量ΔDすなわち幾
何学的距離Dの変化量は、次の式(11)によって与えら
れる。
何学的距離Dの変化量は、次の式(11)によって与えら
れる。
【数6】ΔD=ΔD(fa)−A{ΔD(fc)−ΔD(fb)} −B{ΔD(fd)−ΔD(fc)} (11) ここで、ΔD(fa)、ΔD(fb)、ΔD(fc)お
よびΔD(fd)は、周波数fa、fb、fcおよびf
dの光に対する光路長変化である。
よびΔD(fd)は、周波数fa、fb、fcおよびf
dの光に対する光路長変化である。
【0044】上述したように、式(11)の右辺第1項の
ΔD(fa)は、レシーバ210からの参照ビート信号
に対するレシーバ211からの測定ビート信号の位相変
化に基づいて、変位量ΔD(f00)として求めることが
できる。また、式(11)の右辺第2項の{ΔD(fc)
−ΔD(fb)}は、レシーバ212からの屈折率変動
の測定のための参照ビート信号と測定ビート信号との位
相変化に基づいて、光路長変化の差{ΔD(f2 )−Δ
D(f1 )}として求めることができる。さらに、式
(11)の右辺第3項の{ΔD(fd)−ΔD(fc)}
は、レシーバ213からの屈折率変動の測定のための参
照ビート信号と測定ビート信号との位相変化に基づい
て、光路長変化の差{ΔD(f3 )−ΔD(f2 )}と
して求めることができる。こうして、第1実施例では、
測定光路中の空気の密度変動および湿度変動に伴う屈折
率変動に起因する測定誤差を補正し、移動鏡140の真
の変位量ΔDをひいてはステージ130の真の変位量Δ
Dを高精度に求めることができる。
ΔD(fa)は、レシーバ210からの参照ビート信号
に対するレシーバ211からの測定ビート信号の位相変
化に基づいて、変位量ΔD(f00)として求めることが
できる。また、式(11)の右辺第2項の{ΔD(fc)
−ΔD(fb)}は、レシーバ212からの屈折率変動
の測定のための参照ビート信号と測定ビート信号との位
相変化に基づいて、光路長変化の差{ΔD(f2 )−Δ
D(f1 )}として求めることができる。さらに、式
(11)の右辺第3項の{ΔD(fd)−ΔD(fc)}
は、レシーバ213からの屈折率変動の測定のための参
照ビート信号と測定ビート信号との位相変化に基づい
て、光路長変化の差{ΔD(f3 )−ΔD(f2 )}と
して求めることができる。こうして、第1実施例では、
測定光路中の空気の密度変動および湿度変動に伴う屈折
率変動に起因する測定誤差を補正し、移動鏡140の真
の変位量ΔDをひいてはステージ130の真の変位量Δ
Dを高精度に求めることができる。
【0045】図4は、本発明の第2実施例にかかる光波
干渉測定装置の構成を概略的に示す図である。また、図
5は、図4の光源部301の内部構成を概略的に示す図
である。さらに、図6は、図4の測定検出部321Aお
よび参照検出部321Bの内部構成を概略的に示す図で
ある。第2実施例は第1実施例と同様の構成を有する
が、光源部301および検出部321の内部構成が第1
実施例と基本的に相違している。したがって、図4にお
いて、第1実施例の構成要素と同様の機能を有する要素
には図1と同じ参照符号を付している。以下、第1実施
例との相違点に着目して第2実施例を説明する。
干渉測定装置の構成を概略的に示す図である。また、図
5は、図4の光源部301の内部構成を概略的に示す図
である。さらに、図6は、図4の測定検出部321Aお
よび参照検出部321Bの内部構成を概略的に示す図で
ある。第2実施例は第1実施例と同様の構成を有する
が、光源部301および検出部321の内部構成が第1
実施例と基本的に相違している。したがって、図4にお
いて、第1実施例の構成要素と同様の機能を有する要素
には図1と同じ参照符号を付している。以下、第1実施
例との相違点に着目して第2実施例を説明する。
【0046】図4の光波干渉測定装置は、ステージ13
0の光軸方向(図中矢印方向)の変位を測定するための
ヘテロダイン干渉方式の測長用干渉計を備えている。な
お、第2実施例における測長用干渉計の構成は、第1実
施例と全く同じである。したがって、演算器201で
は、レシーバ210からの参照ビート信号に対するレシ
ーバ211からの測定ビート信号の位相変化に基づい
て、屈折率変動の影響を考慮していないステージ130
の変位量ΔD(f00)が求められる。
0の光軸方向(図中矢印方向)の変位を測定するための
ヘテロダイン干渉方式の測長用干渉計を備えている。な
お、第2実施例における測長用干渉計の構成は、第1実
施例と全く同じである。したがって、演算器201で
は、レシーバ210からの参照ビート信号に対するレシ
ーバ211からの測定ビート信号の位相変化に基づい
て、屈折率変動の影響を考慮していないステージ130
の変位量ΔD(f00)が求められる。
【0047】図4の光波干渉測定装置はまた、測長用干
渉計の参照光路および測定光路中の空気密度および空気
湿度の変動に伴う屈折率変動を測定するための屈折率変
動測定系を備えている。第2実施例の屈折率変動測定系
において、光源部301の光源312は、周波数f1 の
光と、その第2高調波である周波数f2 の光(f2 =2
f1 )とを、互いにほぼ平行な光路に沿ってそれぞれ射
出する。なお、周波数f1 の光および周波数f2 の光は
ともに、図4および図5の紙面に平行な偏光方位を有す
る。また、周波数f1 の光および周波数f2 の光は、測
長用光源310からの周波数f00の光および周波数f01
の光とは実質的に異なる周波数を有する。
渉計の参照光路および測定光路中の空気密度および空気
湿度の変動に伴う屈折率変動を測定するための屈折率変
動測定系を備えている。第2実施例の屈折率変動測定系
において、光源部301の光源312は、周波数f1 の
光と、その第2高調波である周波数f2 の光(f2 =2
f1 )とを、互いにほぼ平行な光路に沿ってそれぞれ射
出する。なお、周波数f1 の光および周波数f2 の光は
ともに、図4および図5の紙面に平行な偏光方位を有す
る。また、周波数f1 の光および周波数f2 の光は、測
長用光源310からの周波数f00の光および周波数f01
の光とは実質的に異なる周波数を有する。
【0048】周波数f1 の光は、波長板190を介し
て、偏光ビームスプリッタ161に入射する。波長板1
90は、偏光ビームスプリッタ161の偏光分離面の配
置に応じて入射する周波数f1 の光の偏光方位を適宜回
転させる。その結果、周波数f1 の光は、波長板190
と偏光ビームスプリッタ161との作用により、強度が
互いにほぼ等しく且つ偏光方位が直交した2つの光に分
離される。すなわち、偏光ビームスプリッタ161で反
射された周波数f1 の光(図5の紙面に垂直な偏光方位
を有する光)は周波数シフタ223に、偏光ビームスプ
リッタ161を透過した周波数f1 の光(図5の紙面に
平行な偏光方位を有する光)は周波数シフタ224にそ
れぞれ入射する。
て、偏光ビームスプリッタ161に入射する。波長板1
90は、偏光ビームスプリッタ161の偏光分離面の配
置に応じて入射する周波数f1 の光の偏光方位を適宜回
転させる。その結果、周波数f1 の光は、波長板190
と偏光ビームスプリッタ161との作用により、強度が
互いにほぼ等しく且つ偏光方位が直交した2つの光に分
離される。すなわち、偏光ビームスプリッタ161で反
射された周波数f1 の光(図5の紙面に垂直な偏光方位
を有する光)は周波数シフタ223に、偏光ビームスプ
リッタ161を透過した周波数f1 の光(図5の紙面に
平行な偏光方位を有する光)は周波数シフタ224にそ
れぞれ入射する。
【0049】周波数シフタ223では、周波数f1 の光
がわずかに周波数変調され、周波数f11(f11=f1 +
Δf1')の光になる。また、周波数シフタ224では、
周波数f1 の光がわずかに周波数変調され、周波数f10
(f10=f1 +Δf1 )の光になる。一方、周波数f2
の光は、SHG変換素子183に入射し、周波数f2 の
光の一部がSHG変換素子183により周波数f3 (f
3 =2f2 )の光に変換され、その残部がSHG変換素
子183をそのまま透過する。SHG変換素子183か
ら射出された周波数f2 の光および周波数f3 の光は、
ほぼ同一の光路に沿って周波数分離素子であるダイクロ
イックミラー123に入射する。
がわずかに周波数変調され、周波数f11(f11=f1 +
Δf1')の光になる。また、周波数シフタ224では、
周波数f1 の光がわずかに周波数変調され、周波数f10
(f10=f1 +Δf1 )の光になる。一方、周波数f2
の光は、SHG変換素子183に入射し、周波数f2 の
光の一部がSHG変換素子183により周波数f3 (f
3 =2f2 )の光に変換され、その残部がSHG変換素
子183をそのまま透過する。SHG変換素子183か
ら射出された周波数f2 の光および周波数f3 の光は、
ほぼ同一の光路に沿って周波数分離素子であるダイクロ
イックミラー123に入射する。
【0050】ダイクロイックミラー123を透過した周
波数f2 の光は、波長板191を介して、偏光ビームス
プリッタ163に入射する。周波数f2 の光は、波長板
191と偏光ビームスプリッタ163との作用により、
強度が互いにほぼ等しく且つ偏光方位が直交した2つの
光に分離される。すなわち、偏光ビームスプリッタ16
3で反射された周波数f2 の光(図5の紙面に垂直な偏
光方位を有する光)は周波数シフタ226に、偏光ビー
ムスプリッタ163を透過した周波数f2 の光(図5の
紙面に平行な偏光方位を有する光)は周波数シフタ22
5にそれぞれ入射する。周波数シフタ226では、周波
数f2 の光がわずかに周波数変調され、周波数f21(f
21=f2 +Δf2')の光になる。また、周波数シフタ2
25では、周波数f2 の光がわずかに周波数変調され、
周波数f20(f20=f2 +Δf2)の光になる。
波数f2 の光は、波長板191を介して、偏光ビームス
プリッタ163に入射する。周波数f2 の光は、波長板
191と偏光ビームスプリッタ163との作用により、
強度が互いにほぼ等しく且つ偏光方位が直交した2つの
光に分離される。すなわち、偏光ビームスプリッタ16
3で反射された周波数f2 の光(図5の紙面に垂直な偏
光方位を有する光)は周波数シフタ226に、偏光ビー
ムスプリッタ163を透過した周波数f2 の光(図5の
紙面に平行な偏光方位を有する光)は周波数シフタ22
5にそれぞれ入射する。周波数シフタ226では、周波
数f2 の光がわずかに周波数変調され、周波数f21(f
21=f2 +Δf2')の光になる。また、周波数シフタ2
25では、周波数f2 の光がわずかに周波数変調され、
周波数f20(f20=f2 +Δf2)の光になる。
【0051】ダイクロイックミラー123で反射された
周波数f3 の光は、波長板192を介して、偏光ビーム
スプリッタ165に入射する。周波数f3 の光は、波長
板192と偏光ビームスプリッタ165との作用によ
り、強度が互いにほぼ等しく且つ偏光方位が直交した2
つの光に分離される。すなわち、偏光ビームスプリッタ
165で反射された周波数f3 の光(図5の紙面に垂直
な偏光方位を有する光)は周波数シフタ228に、偏光
ビームスプリッタ165を透過した周波数f3 の光(図
5の紙面に平行な偏光方位を有する光)は周波数シフタ
227にそれぞれ入射する。周波数シフタ228では、
周波数f3 の光がわずかに周波数変調され、周波数f31
(f31=f3 +Δf3')の光になる。また、周波数シフ
タ227では、周波数f3 の光がわずかに周波数変調さ
れ、周波数f30(f30=f3 +Δf3 )の光になる。
周波数f3 の光は、波長板192を介して、偏光ビーム
スプリッタ165に入射する。周波数f3 の光は、波長
板192と偏光ビームスプリッタ165との作用によ
り、強度が互いにほぼ等しく且つ偏光方位が直交した2
つの光に分離される。すなわち、偏光ビームスプリッタ
165で反射された周波数f3 の光(図5の紙面に垂直
な偏光方位を有する光)は周波数シフタ228に、偏光
ビームスプリッタ165を透過した周波数f3 の光(図
5の紙面に平行な偏光方位を有する光)は周波数シフタ
227にそれぞれ入射する。周波数シフタ228では、
周波数f3 の光がわずかに周波数変調され、周波数f31
(f31=f3 +Δf3')の光になる。また、周波数シフ
タ227では、周波数f3 の光がわずかに周波数変調さ
れ、周波数f30(f30=f3 +Δf3 )の光になる。
【0052】周波数f10の光と周波数f11の光とは、偏
光ビームスプリッタ162の作用により、ほぼ同一の光
路に沿って結合される。また、周波数f20の光と周波数
f21の光とは、偏光ビームスプリッタ164の作用によ
り、ほぼ同一の光路に沿って結合される。さらに、周波
数f30の光と周波数f31の光とは、偏光ビームスプリッ
タ166の作用により、ほぼ同一の光路に沿って結合さ
れる。こうして、図4および図5の紙面に平行な偏光方
位を有する周波数f10の光、周波数f20の光および周波
数f30の光、並びに紙面に垂直な偏光方位を有する周波
数f11の光、周波数f21の光および周波数f31の光は、
周波数結合素子であるダイクロイックミラー113およ
び114の作用によりほぼ同一の光路に沿って結合さ
れ、光源部301から射出される。
光ビームスプリッタ162の作用により、ほぼ同一の光
路に沿って結合される。また、周波数f20の光と周波数
f21の光とは、偏光ビームスプリッタ164の作用によ
り、ほぼ同一の光路に沿って結合される。さらに、周波
数f30の光と周波数f31の光とは、偏光ビームスプリッ
タ166の作用により、ほぼ同一の光路に沿って結合さ
れる。こうして、図4および図5の紙面に平行な偏光方
位を有する周波数f10の光、周波数f20の光および周波
数f30の光、並びに紙面に垂直な偏光方位を有する周波
数f11の光、周波数f21の光および周波数f31の光は、
周波数結合素子であるダイクロイックミラー113およ
び114の作用によりほぼ同一の光路に沿って結合さ
れ、光源部301から射出される。
【0053】光源部301からほぼ同一の光路に沿って
射出された周波数f10の光、周波数f20の光および周波
数f30の光、並びに周波数f11の光、周波数f21の光お
よび周波数f31の光は、ダイクロイックミラー110お
よびダイクロイックミラー120を介して偏光ビームス
プリッタ160に入射する。偏光ビームスプリッタ16
0は、図4の紙面に平行な偏光方位を有する光を透過
し、紙面に垂直な偏光方位を有する光を反射するように
配置されている。したがって、周波数f10の光、周波数
f20の光および周波数f30の光は、偏光ビームスプリッ
タ160を透過し、移動鏡140で反射された後、再び
偏光ビームスプリッタ160に戻る。また、周波数f11
の光、周波数f21の光および周波数f31の光は、偏光ビ
ームスプリッタ160で反射され、固定鏡150で反射
された後、再び偏光ビームスプリッタ160に戻る。
射出された周波数f10の光、周波数f20の光および周波
数f30の光、並びに周波数f11の光、周波数f21の光お
よび周波数f31の光は、ダイクロイックミラー110お
よびダイクロイックミラー120を介して偏光ビームス
プリッタ160に入射する。偏光ビームスプリッタ16
0は、図4の紙面に平行な偏光方位を有する光を透過
し、紙面に垂直な偏光方位を有する光を反射するように
配置されている。したがって、周波数f10の光、周波数
f20の光および周波数f30の光は、偏光ビームスプリッ
タ160を透過し、移動鏡140で反射された後、再び
偏光ビームスプリッタ160に戻る。また、周波数f11
の光、周波数f21の光および周波数f31の光は、偏光ビ
ームスプリッタ160で反射され、固定鏡150で反射
された後、再び偏光ビームスプリッタ160に戻る。
【0054】こうして、測定光路を介した周波数f10の
光、周波数f20の光および周波数f30の光と、参照光路
を介した周波数f11の光、周波数f21の光および周波数
f31の光とは、偏光ビームスプリッタ160からほぼ同
一の光路に沿って射出され、ダイクロイックミラー12
1に入射する。ダイクロイックミラー121で反射され
た周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30の
光、並びに周波数f11の光、周波数f21の光および周波
数f31の光は、測長用光源310からの周波数がf00近
傍の光から分離され、測定検出部321Aに入射する。
光、周波数f20の光および周波数f30の光と、参照光路
を介した周波数f11の光、周波数f21の光および周波数
f31の光とは、偏光ビームスプリッタ160からほぼ同
一の光路に沿って射出され、ダイクロイックミラー12
1に入射する。ダイクロイックミラー121で反射され
た周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30の
光、並びに周波数f11の光、周波数f21の光および周波
数f31の光は、測長用光源310からの周波数がf00近
傍の光から分離され、測定検出部321Aに入射する。
【0055】図6を参照すると、ほぼ同一の光路に沿っ
て測定検出部321Aに入射した周波数f10の光、周波
数f20の光および周波数f30の光の一部は、偏光ビーム
スプリッタ403により反射され、周波数分離素子であ
るダイクロイックミラー442に入射する。ダイクロイ
ックミラー442で反射された周波数f30の光はレシー
バ434に入射し、ダイクロイックミラー442を透過
した周波数f10の光および周波数f20の光はもう1つの
周波数分離素子であるダイクロイックミラー443に入
射する。ダイクロイックミラー443で反射された周波
数f20の光はレシーバ435に入射し、ダイクロイック
ミラー443を透過した周波数f10の光はレシーバ43
6に入射する。こうして、レシーバ434〜436で検
出された光路変動に関する信号は、演算器201に供給
される。
て測定検出部321Aに入射した周波数f10の光、周波
数f20の光および周波数f30の光の一部は、偏光ビーム
スプリッタ403により反射され、周波数分離素子であ
るダイクロイックミラー442に入射する。ダイクロイ
ックミラー442で反射された周波数f30の光はレシー
バ434に入射し、ダイクロイックミラー442を透過
した周波数f10の光および周波数f20の光はもう1つの
周波数分離素子であるダイクロイックミラー443に入
射する。ダイクロイックミラー443で反射された周波
数f20の光はレシーバ435に入射し、ダイクロイック
ミラー443を透過した周波数f10の光はレシーバ43
6に入射する。こうして、レシーバ434〜436で検
出された光路変動に関する信号は、演算器201に供給
される。
【0056】一方、偏光ビームスプリッタ403を透過
した周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30
の光の残部、並びに周波数f11の光、周波数f21の光お
よび周波数f31の光は、周波数分離素子であるダイクロ
イックミラー124に入射する。ダイクロイックミラー
124は、周波数f10の光および周波数f11の光を反射
し、他の周波数の光を透過する特性を有する。したがっ
て、ダイクロイックミラー124で反射された周波数f
10の光および周波数f11の光は、周波数フィルタ173
を介して偏光子付きのレシーバ214に入射する。周波
数フィルタ173は、周波数f10の光および周波数f11
の光だけを透過し、それ以外の周波数の光すなわち誤差
光を遮断する。周波数f10の光と周波数f11の光とはレ
シーバ214の偏光子を介して干渉し、レシーバ214
は干渉光に基づくビート信号(周波数f10−f11=Δf
1 −Δf1')を屈折率変動の測定のための測定ビート信
号として演算器201に供給する。
した周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30
の光の残部、並びに周波数f11の光、周波数f21の光お
よび周波数f31の光は、周波数分離素子であるダイクロ
イックミラー124に入射する。ダイクロイックミラー
124は、周波数f10の光および周波数f11の光を反射
し、他の周波数の光を透過する特性を有する。したがっ
て、ダイクロイックミラー124で反射された周波数f
10の光および周波数f11の光は、周波数フィルタ173
を介して偏光子付きのレシーバ214に入射する。周波
数フィルタ173は、周波数f10の光および周波数f11
の光だけを透過し、それ以外の周波数の光すなわち誤差
光を遮断する。周波数f10の光と周波数f11の光とはレ
シーバ214の偏光子を介して干渉し、レシーバ214
は干渉光に基づくビート信号(周波数f10−f11=Δf
1 −Δf1')を屈折率変動の測定のための測定ビート信
号として演算器201に供給する。
【0057】ダイクロイックミラー124を透過した周
波数f20の光および周波数f30の光、並びに周波数f21
の光および周波数f31の光は、周波数分離素子であるダ
イクロイックミラー125に入射する。ダイクロイック
ミラー125は、周波数f20の光および周波数f21の光
を反射し、他の周波数の光を透過する特性を有する。し
たがって、ダイクロイックミラー125で反射された周
波数f20の光および周波数f21の光は、周波数フィルタ
174を介して偏光子付きのレシーバ215に入射す
る。周波数フィルタ174は、周波数f20の光および周
波数f21の光だけを透過し、それ以外の周波数の光すな
わち誤差光を遮断する。周波数f20の光と周波数f21の
光とはレシーバ215の偏光子を介して干渉し、レシー
バ215は干渉光に基づくビート信号(周波数f20−f
21=Δf2 −Δf2')を屈折率変動の測定のための測定
ビート信号として演算器201に供給する。
波数f20の光および周波数f30の光、並びに周波数f21
の光および周波数f31の光は、周波数分離素子であるダ
イクロイックミラー125に入射する。ダイクロイック
ミラー125は、周波数f20の光および周波数f21の光
を反射し、他の周波数の光を透過する特性を有する。し
たがって、ダイクロイックミラー125で反射された周
波数f20の光および周波数f21の光は、周波数フィルタ
174を介して偏光子付きのレシーバ215に入射す
る。周波数フィルタ174は、周波数f20の光および周
波数f21の光だけを透過し、それ以外の周波数の光すな
わち誤差光を遮断する。周波数f20の光と周波数f21の
光とはレシーバ215の偏光子を介して干渉し、レシー
バ215は干渉光に基づくビート信号(周波数f20−f
21=Δf2 −Δf2')を屈折率変動の測定のための測定
ビート信号として演算器201に供給する。
【0058】ダイクロイックミラー125を透過した周
波数f30の光および周波数f31の光は、ミラー146で
折り曲げられた後、周波数フィルタ175を介して偏光
子付きのレシーバ216に入射する。周波数フィルタ1
75は、周波数f30の光および周波数f31の光だけを透
過し、それ以外の周波数の光すなわち誤差光を遮断す
る。周波数f30の光と周波数f31の光とはレシーバ21
6の偏光子を介して干渉し、レシーバ216は干渉光に
基づくビート信号(周波数f30−f31=Δf3 −Δf
3')を屈折率変動の測定のための測定ビート信号として
演算器201に供給する。
波数f30の光および周波数f31の光は、ミラー146で
折り曲げられた後、周波数フィルタ175を介して偏光
子付きのレシーバ216に入射する。周波数フィルタ1
75は、周波数f30の光および周波数f31の光だけを透
過し、それ以外の周波数の光すなわち誤差光を遮断す
る。周波数f30の光と周波数f31の光とはレシーバ21
6の偏光子を介して干渉し、レシーバ216は干渉光に
基づくビート信号(周波数f30−f31=Δf3 −Δf
3')を屈折率変動の測定のための測定ビート信号として
演算器201に供給する。
【0059】一方、光源部301からほぼ同一の光路に
沿って射出された周波数f10の光、周波数f20の光およ
び周波数f30の光、並びに周波数f11の光、周波数f21
の光および周波数f31の光の一部は、ダイクロイックミ
ラー120によって反射され、参照検出部321Bに入
射する。なお、図6に示すように、参照検出部321B
の構成は、測定検出部321Aの構成と全く同じであ
る。したがって、参照検出部321Bにおいても、レシ
ーバ434〜436で検出された光路変動に関する信号
は演算器201に供給される。また、レシーバ214
は、干渉光に基づくビート信号(周波数f10−f11=Δ
f1 −Δf1')を屈折率変動の測定のための参照ビート
信号として演算器201に供給する。さらに、レシーバ
215は、干渉光に基づくビート信号(周波数f20−f
21=Δf2 −Δf2')を屈折率変動の測定のための参照
ビート信号として演算器201に供給する。また、レシ
ーバ216は、干渉光に基づくビート信号(周波数f30
−f31=Δf3 −Δf3')を屈折率変動の測定のための
参照ビート信号として演算器201に供給する。
沿って射出された周波数f10の光、周波数f20の光およ
び周波数f30の光、並びに周波数f11の光、周波数f21
の光および周波数f31の光の一部は、ダイクロイックミ
ラー120によって反射され、参照検出部321Bに入
射する。なお、図6に示すように、参照検出部321B
の構成は、測定検出部321Aの構成と全く同じであ
る。したがって、参照検出部321Bにおいても、レシ
ーバ434〜436で検出された光路変動に関する信号
は演算器201に供給される。また、レシーバ214
は、干渉光に基づくビート信号(周波数f10−f11=Δ
f1 −Δf1')を屈折率変動の測定のための参照ビート
信号として演算器201に供給する。さらに、レシーバ
215は、干渉光に基づくビート信号(周波数f20−f
21=Δf2 −Δf2')を屈折率変動の測定のための参照
ビート信号として演算器201に供給する。また、レシ
ーバ216は、干渉光に基づくビート信号(周波数f30
−f31=Δf3 −Δf3')を屈折率変動の測定のための
参照ビート信号として演算器201に供給する。
【0060】こうして、演算器201では、レシーバ2
14からの屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波数f1 の
光に対する光路長変化ΔD(f1 )を求める。また、レ
シーバ215からの屈折率変動の測定のための参照ビー
ト信号と測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波
数f2 の光に対する光路長変化ΔD(f2 )を求める。
さらに、レシーバ216からの屈折率変動の測定のため
の参照ビート信号と測定ビート信号との位相変化に基づ
いて、周波数f3 の光に対する光路長変化ΔD(f3 )
を求める。また、レシーバ434〜436からの信号に
基づいて、主として光源312の射出角の変動に起因す
る各光路の変動を検出する。
14からの屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波数f1 の
光に対する光路長変化ΔD(f1 )を求める。また、レ
シーバ215からの屈折率変動の測定のための参照ビー
ト信号と測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波
数f2 の光に対する光路長変化ΔD(f2 )を求める。
さらに、レシーバ216からの屈折率変動の測定のため
の参照ビート信号と測定ビート信号との位相変化に基づ
いて、周波数f3 の光に対する光路長変化ΔD(f3 )
を求める。また、レシーバ434〜436からの信号に
基づいて、主として光源312の射出角の変動に起因す
る各光路の変動を検出する。
【0061】したがって、上述の演算式(11)におい
て、ΔD(fa)として変位量ΔD(f00)を、ΔD
(fb)として周波数f1 の光に対する光路長変化ΔD
(f1 )を、ΔD(fc)として周波数f2 の光に対す
るΔD(f2 )を、ΔD(fd)として周波数f3 の光
に対する光路長変化ΔD(f3 )をそれぞれ代入するこ
とにより、参照光路および測定光路中の空気の密度変動
および湿度変動に伴う屈折率変動に起因する測定誤差を
補正したステージ130の真の変位量ΔDを求めること
ができる。こうして、第2実施例では、参照光路および
測定光路中の空気の密度変動および湿度変動に伴う屈折
率変動に起因する測定誤差を補正し、移動鏡140の真
の変位量ΔDをひいてはステージ130の真の変位量Δ
Dを高精度に求めることができる。
て、ΔD(fa)として変位量ΔD(f00)を、ΔD
(fb)として周波数f1 の光に対する光路長変化ΔD
(f1 )を、ΔD(fc)として周波数f2 の光に対す
るΔD(f2 )を、ΔD(fd)として周波数f3 の光
に対する光路長変化ΔD(f3 )をそれぞれ代入するこ
とにより、参照光路および測定光路中の空気の密度変動
および湿度変動に伴う屈折率変動に起因する測定誤差を
補正したステージ130の真の変位量ΔDを求めること
ができる。こうして、第2実施例では、参照光路および
測定光路中の空気の密度変動および湿度変動に伴う屈折
率変動に起因する測定誤差を補正し、移動鏡140の真
の変位量ΔDをひいてはステージ130の真の変位量Δ
Dを高精度に求めることができる。
【0062】図7は、本発明の第3実施例にかかる光波
干渉測定装置の構成を概略的に示す図である。また、図
8は、図7の光源部302の内部構成を概略的に示す図
である。第3実施例は、第1実施例と同様の構成を有す
る。しかしながら、第1実施例における測長用光源31
0および光源部300が第2実施例では1つの光源部3
02で置換されている点が基本的に相違している。した
がって、図7において、第1実施例の構成要素と同様の
機能を有する要素には図1と同じ参照符号を付してい
る。以下、第1実施例との相違点に着目して第3実施例
を説明する。
干渉測定装置の構成を概略的に示す図である。また、図
8は、図7の光源部302の内部構成を概略的に示す図
である。第3実施例は、第1実施例と同様の構成を有す
る。しかしながら、第1実施例における測長用光源31
0および光源部300が第2実施例では1つの光源部3
02で置換されている点が基本的に相違している。した
がって、図7において、第1実施例の構成要素と同様の
機能を有する要素には図1と同じ参照符号を付してい
る。以下、第1実施例との相違点に着目して第3実施例
を説明する。
【0063】図7の光波干渉測定装置は、光源部302
を備えている。図8を参照すると、光源部302の光源
313は、周波数f1 の光と、その第2高調波である周
波数f2 の光(f2 =2f1 )とを、互いにほぼ平行な
光路に沿ってそれぞれ射出する。なお、周波数f1 の光
および周波数f2 の光はともに、図7および図8の紙面
に平行な偏光方位を有する。以下、説明を簡単にするた
めに、図7および図8の紙面に平行な偏光方位を有する
光をp偏光の光とし、紙面に垂直な偏光方位を有する光
をs偏光の光とする。周波数f1 の光は、波長板195
を介して、偏光ビームスプリッタ400に入射する。波
長板195は、偏光ビームスプリッタ400の偏光分離
面の配置に応じて入射する周波数f1 の光の偏光方位を
適宜回転させる。その結果、周波数f1 の光は、波長板
195と偏光ビームスプリッタ400との作用により、
偏光方位が直交した2つの光すなわちp偏光の光とs偏
光の光とに分離される。
を備えている。図8を参照すると、光源部302の光源
313は、周波数f1 の光と、その第2高調波である周
波数f2 の光(f2 =2f1 )とを、互いにほぼ平行な
光路に沿ってそれぞれ射出する。なお、周波数f1 の光
および周波数f2 の光はともに、図7および図8の紙面
に平行な偏光方位を有する。以下、説明を簡単にするた
めに、図7および図8の紙面に平行な偏光方位を有する
光をp偏光の光とし、紙面に垂直な偏光方位を有する光
をs偏光の光とする。周波数f1 の光は、波長板195
を介して、偏光ビームスプリッタ400に入射する。波
長板195は、偏光ビームスプリッタ400の偏光分離
面の配置に応じて入射する周波数f1 の光の偏光方位を
適宜回転させる。その結果、周波数f1 の光は、波長板
195と偏光ビームスプリッタ400との作用により、
偏光方位が直交した2つの光すなわちp偏光の光とs偏
光の光とに分離される。
【0064】すなわち、偏光ビームスプリッタ400で
反射された周波数f1 のs偏光の光は周波数シフタ41
1に、偏光ビームスプリッタ400を透過した周波数f
1 のp偏光の光は周波数シフタ410にそれぞれ入射す
る。なお、偏光ビームスプリッタ400で反射される周
波数f1 のs偏光の光と偏光ビームスプリッタ400を
透過する周波数f1 のp偏光の光との強度比は、波長板
195と偏光ビームスプリッタ400との組み合わせに
より適宜調整可能である。後述するように、偏光ビーム
スプリッタ400を透過した周波数f1 のp偏光の光
は、周波数変調されて周波数f10の光となった後、測定
検出部320Aおよび参照検出部320BにおいてSH
G変換素子181により周波数変換される。周波数変換
には大きな光強度が必要であるため、偏光ビームスプリ
ッタ400で反射される周波数f1 のs偏光の光の強度
に比べて偏光ビームスプリッタ400を透過する周波数
f1 のp偏光の光の強度が大きくなるように、波長板1
95と偏光ビームスプリッタ400とを組み合わせるこ
とが好ましい。
反射された周波数f1 のs偏光の光は周波数シフタ41
1に、偏光ビームスプリッタ400を透過した周波数f
1 のp偏光の光は周波数シフタ410にそれぞれ入射す
る。なお、偏光ビームスプリッタ400で反射される周
波数f1 のs偏光の光と偏光ビームスプリッタ400を
透過する周波数f1 のp偏光の光との強度比は、波長板
195と偏光ビームスプリッタ400との組み合わせに
より適宜調整可能である。後述するように、偏光ビーム
スプリッタ400を透過した周波数f1 のp偏光の光
は、周波数変調されて周波数f10の光となった後、測定
検出部320Aおよび参照検出部320BにおいてSH
G変換素子181により周波数変換される。周波数変換
には大きな光強度が必要であるため、偏光ビームスプリ
ッタ400で反射される周波数f1 のs偏光の光の強度
に比べて偏光ビームスプリッタ400を透過する周波数
f1 のp偏光の光の強度が大きくなるように、波長板1
95と偏光ビームスプリッタ400とを組み合わせるこ
とが好ましい。
【0065】周波数シフタ411では、s偏光状態にあ
る周波数f1 の光がわずかに周波数変調され、周波数f
11(f11=f1 +Δf1')の光になる。また、周波数シ
フタ410では、p偏光状態にある周波数f1 の光がわ
ずかに周波数変調され、周波数f10(f10=f1 +Δf
1 )の光になる。周波数シフタ411のドライバの駆動
出力および周波数シフタ410のドライバの駆動出力
は、移動鏡141の変位測定のための参照信号として演
算器202に供給される。
る周波数f1 の光がわずかに周波数変調され、周波数f
11(f11=f1 +Δf1')の光になる。また、周波数シ
フタ410では、p偏光状態にある周波数f1 の光がわ
ずかに周波数変調され、周波数f10(f10=f1 +Δf
1 )の光になる。周波数シフタ411のドライバの駆動
出力および周波数シフタ410のドライバの駆動出力
は、移動鏡141の変位測定のための参照信号として演
算器202に供給される。
【0066】一方、周波数f2 の光は、SHG変換素子
184に入射し、周波数f2 の光の一部がSHG変換素
子184により周波数f3 (f3 =2f2 )の光に変換
され、その残部がSHG変換素子184をそのまま透過
する。なお、SHG変換素子184には、KDP(KH
2 PO4 )などの非線形光学結晶を用いることができ
る。SHG変換素子184から射出された周波数f2 の
光および周波数f3 の光は、ほぼ同一の光路に沿って周
波数分離素子であるダイクロイックミラー126に入射
する。
184に入射し、周波数f2 の光の一部がSHG変換素
子184により周波数f3 (f3 =2f2 )の光に変換
され、その残部がSHG変換素子184をそのまま透過
する。なお、SHG変換素子184には、KDP(KH
2 PO4 )などの非線形光学結晶を用いることができ
る。SHG変換素子184から射出された周波数f2 の
光および周波数f3 の光は、ほぼ同一の光路に沿って周
波数分離素子であるダイクロイックミラー126に入射
する。
【0067】ダイクロイックミラー126を透過した周
波数f2 の光は周波数シフタ412に、ダイクロイック
ミラー123で反射された周波数f3 の光は周波数シフ
タ413にそれぞれ入射する。周波数シフタ412で
は、周波数f2 の光がわずかに周波数変調され、周波数
f20(f20=f2 +Δf2 )の光になる。また、周波数
シフタ413では、周波数f3 の光がわずかに周波数変
調され、周波数f30(f30=f3 +Δf3 )の光にな
る。
波数f2 の光は周波数シフタ412に、ダイクロイック
ミラー123で反射された周波数f3 の光は周波数シフ
タ413にそれぞれ入射する。周波数シフタ412で
は、周波数f2 の光がわずかに周波数変調され、周波数
f20(f20=f2 +Δf2 )の光になる。また、周波数
シフタ413では、周波数f3 の光がわずかに周波数変
調され、周波数f30(f30=f3 +Δf3 )の光にな
る。
【0068】周波数f10の光と周波数f11の光とは、偏
光ビームスプリッタ401の作用により、ほぼ同一の光
路に沿って結合される。また、周波数f20の光と周波数
f30の光とは、周波数結合素子であるダイクロイックミ
ラー115の作用により、ほぼ同一の光路に沿って結合
される。こうして、p偏光状態にある周波数f10の光、
周波数f20の光および周波数f30の光、並びにs偏光状
態にある周波数f11の光は、周波数結合素子であるダイ
クロイックミラー116の作用によりほぼ同一の光路に
沿って結合され、光源部302から射出される。
光ビームスプリッタ401の作用により、ほぼ同一の光
路に沿って結合される。また、周波数f20の光と周波数
f30の光とは、周波数結合素子であるダイクロイックミ
ラー115の作用により、ほぼ同一の光路に沿って結合
される。こうして、p偏光状態にある周波数f10の光、
周波数f20の光および周波数f30の光、並びにs偏光状
態にある周波数f11の光は、周波数結合素子であるダイ
クロイックミラー116の作用によりほぼ同一の光路に
沿って結合され、光源部302から射出される。
【0069】光源部302からほぼ同一の光路に沿って
射出された周波数f10の光、周波数f11の光、周波数f
20の光および周波数f30の光は、周波数分離素子である
ダイクロイックミラー102を介して偏光ビームスプリ
ッタ167に入射する。偏光ビームスプリッタ167
は、p偏光の光を透過し、s偏光の光を反射するように
配置されている。したがって、p偏光状態にある周波数
f10の光、周波数f20の光および周波数f30の光は偏光
ビームスプリッタ167を透過し、s偏光状態にある周
波数f11の光は偏光ビームスプリッタ167で反射され
る。
射出された周波数f10の光、周波数f11の光、周波数f
20の光および周波数f30の光は、周波数分離素子である
ダイクロイックミラー102を介して偏光ビームスプリ
ッタ167に入射する。偏光ビームスプリッタ167
は、p偏光の光を透過し、s偏光の光を反射するように
配置されている。したがって、p偏光状態にある周波数
f10の光、周波数f20の光および周波数f30の光は偏光
ビームスプリッタ167を透過し、s偏光状態にある周
波数f11の光は偏光ビームスプリッタ167で反射され
る。
【0070】偏光ビームスプリッタ167で反射された
周波数f11のs偏光の光は、波長板193を介して円偏
光になった後、周波数フィルタ176を介して、平面鏡
からなる固定鏡151に入射する。固定鏡151で入射
光路と同じ光路に沿って反射された周波数f11の円偏光
の光は、周波数フィルタ176および波長板193を介
してp偏光となり、偏光ビームスプリッタ167に戻
る。偏光ビームスプリッタ167に戻った周波数f11の
p偏光の光は、偏光ビームスプリッタ167を透過し、
偏光ビームスプリッタ168に入射する。偏光ビームス
プリッタ168は、偏光ビームスプリッタ167と同様
に、p偏光の光を透過し、s偏光の光を反射するように
配置されている。したがって、偏光ビームスプリッタ1
68を透過した周波数f11のp偏光の光は、周波数フィ
ルタ177を介して、コーナーキューブ135に入射す
る。
周波数f11のs偏光の光は、波長板193を介して円偏
光になった後、周波数フィルタ176を介して、平面鏡
からなる固定鏡151に入射する。固定鏡151で入射
光路と同じ光路に沿って反射された周波数f11の円偏光
の光は、周波数フィルタ176および波長板193を介
してp偏光となり、偏光ビームスプリッタ167に戻
る。偏光ビームスプリッタ167に戻った周波数f11の
p偏光の光は、偏光ビームスプリッタ167を透過し、
偏光ビームスプリッタ168に入射する。偏光ビームス
プリッタ168は、偏光ビームスプリッタ167と同様
に、p偏光の光を透過し、s偏光の光を反射するように
配置されている。したがって、偏光ビームスプリッタ1
68を透過した周波数f11のp偏光の光は、周波数フィ
ルタ177を介して、コーナーキューブ135に入射す
る。
【0071】コーナーキューブ135で反射された周波
数f11のp偏光の光は、周波数フィルタ177および偏
光ビームスプリッタ168を介して、偏光ビームスプリ
ッタ167に戻る。偏光ビームスプリッタ167に戻っ
た周波数f11のp偏光の光は、偏光ビームスプリッタ1
67を透過し、波長板193を介して円偏光になった
後、周波数フィルタ176を介して、固定鏡151に再
び入射する。固定鏡151で反射された周波数f11の円
偏光の光は、周波数フィルタ176および波長板193
を介してs偏光となり、偏光ビームスプリッタ167に
戻る。偏光ビームスプリッタ167に戻った周波数f11
のs偏光の光は、偏光ビームスプリッタ167で反射さ
れ、周波数分離素子であるダイクロイックミラー103
に向かって射出される。なお、偏光ビームスプリッタ1
67と固定鏡151との間の参照光路中の屈折率変動を
小さく抑えるために、参照光路はエアチューブ330に
よって包囲されている。
数f11のp偏光の光は、周波数フィルタ177および偏
光ビームスプリッタ168を介して、偏光ビームスプリ
ッタ167に戻る。偏光ビームスプリッタ167に戻っ
た周波数f11のp偏光の光は、偏光ビームスプリッタ1
67を透過し、波長板193を介して円偏光になった
後、周波数フィルタ176を介して、固定鏡151に再
び入射する。固定鏡151で反射された周波数f11の円
偏光の光は、周波数フィルタ176および波長板193
を介してs偏光となり、偏光ビームスプリッタ167に
戻る。偏光ビームスプリッタ167に戻った周波数f11
のs偏光の光は、偏光ビームスプリッタ167で反射さ
れ、周波数分離素子であるダイクロイックミラー103
に向かって射出される。なお、偏光ビームスプリッタ1
67と固定鏡151との間の参照光路中の屈折率変動を
小さく抑えるために、参照光路はエアチューブ330に
よって包囲されている。
【0072】偏光ビームスプリッタ167を透過したp
偏光状態にある周波数f10の光、周波数f20の光および
周波数f30の光は、波長板194を介して円偏光になっ
た後、平面鏡からなる移動鏡141に入射する。なお、
移動鏡141は、図中矢印方向に沿って移動可能なステ
ージ(不図示)に取り付けられている。移動鏡141で
入射光路と同じ光路に沿って反射された円偏光状態にあ
る周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30の
光は、波長板194を介してs偏光となり、偏光ビーム
スプリッタ167に戻る。偏光ビームスプリッタ167
に戻ったs偏光状態にある周波数f10の光、周波数f20
の光および周波数f30の光は、偏光ビームスプリッタ1
67で反射され、偏光ビームスプリッタ168に入射す
る。偏光ビームスプリッタ168で反射されたs偏光状
態にある周波数f10の光、周波数f20の光および周波数
f30の光は、偏光ビームスプリッタ169に入射する。
偏光ビームスプリッタ169は、偏光ビームスプリッタ
167および168と同様に、p偏光の光を透過し、s
偏光の光を反射するように配置されている。したがっ
て、偏光ビームスプリッタ169で反射されたs偏光状
態にある周波数f10の光、周波数f20の光および周波数
f30の光は、コーナーキューブ136に入射する。
偏光状態にある周波数f10の光、周波数f20の光および
周波数f30の光は、波長板194を介して円偏光になっ
た後、平面鏡からなる移動鏡141に入射する。なお、
移動鏡141は、図中矢印方向に沿って移動可能なステ
ージ(不図示)に取り付けられている。移動鏡141で
入射光路と同じ光路に沿って反射された円偏光状態にあ
る周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30の
光は、波長板194を介してs偏光となり、偏光ビーム
スプリッタ167に戻る。偏光ビームスプリッタ167
に戻ったs偏光状態にある周波数f10の光、周波数f20
の光および周波数f30の光は、偏光ビームスプリッタ1
67で反射され、偏光ビームスプリッタ168に入射す
る。偏光ビームスプリッタ168で反射されたs偏光状
態にある周波数f10の光、周波数f20の光および周波数
f30の光は、偏光ビームスプリッタ169に入射する。
偏光ビームスプリッタ169は、偏光ビームスプリッタ
167および168と同様に、p偏光の光を透過し、s
偏光の光を反射するように配置されている。したがっ
て、偏光ビームスプリッタ169で反射されたs偏光状
態にある周波数f10の光、周波数f20の光および周波数
f30の光は、コーナーキューブ136に入射する。
【0073】コーナーキューブ136で反射されたs偏
光状態にある周波数f10の光、周波数f20の光および周
波数f30の光は、偏光ビームスプリッタ169および1
68を介して、偏光ビームスプリッタ167に戻る。偏
光ビームスプリッタ167に戻ったs偏光状態にある周
波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30の光
は、偏光ビームスプリッタ167で反射され、波長板1
94を介して円偏光になった後、移動鏡141に再び入
射する。移動鏡141で反射された円偏光状態にある周
波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30の光
は、波長板194を介してp偏光となり、偏光ビームス
プリッタ167に戻る。偏光ビームスプリッタ167に
戻ったp偏光状態にある周波数f10の光、周波数f20の
光および周波数f30の光は、偏光ビームスプリッタ16
7を透過し、周波数f11の光とほぼ同一の光路に沿って
ダイクロイックミラー103に向かって射出される。
光状態にある周波数f10の光、周波数f20の光および周
波数f30の光は、偏光ビームスプリッタ169および1
68を介して、偏光ビームスプリッタ167に戻る。偏
光ビームスプリッタ167に戻ったs偏光状態にある周
波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30の光
は、偏光ビームスプリッタ167で反射され、波長板1
94を介して円偏光になった後、移動鏡141に再び入
射する。移動鏡141で反射された円偏光状態にある周
波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30の光
は、波長板194を介してp偏光となり、偏光ビームス
プリッタ167に戻る。偏光ビームスプリッタ167に
戻ったp偏光状態にある周波数f10の光、周波数f20の
光および周波数f30の光は、偏光ビームスプリッタ16
7を透過し、周波数f11の光とほぼ同一の光路に沿って
ダイクロイックミラー103に向かって射出される。
【0074】こうして、測定光路を介したp偏光状態に
ある周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30
の光と、参照光路を介したs偏光状態にある周波数f11
の光とは、ほぼ同一の光路に沿ってダイクロイックミラ
ー103に入射する。ダイクロイックミラー103は、
周波数f11の光のほぼ全部および周波数f10の光の一部
を透過し、他の周波数の光を反射する特性を有する。し
たがって、ダイクロイックミラー103を透過した周波
数f11のs偏光の光および周波数f10のp偏光の光は、
周波数フィルタ178に入射する。周波数フィルタ17
8は、周波数f11の光および周波数f10の光だけを透過
し、それ以外の周波数の光すなわち誤差光を遮断する。
周波数フィルタ178を透過した周波数f11の参照光お
よび周波数f10の測定光は、偏光子付きのレシーバ21
7に入射する。
ある周波数f10の光、周波数f20の光および周波数f30
の光と、参照光路を介したs偏光状態にある周波数f11
の光とは、ほぼ同一の光路に沿ってダイクロイックミラ
ー103に入射する。ダイクロイックミラー103は、
周波数f11の光のほぼ全部および周波数f10の光の一部
を透過し、他の周波数の光を反射する特性を有する。し
たがって、ダイクロイックミラー103を透過した周波
数f11のs偏光の光および周波数f10のp偏光の光は、
周波数フィルタ178に入射する。周波数フィルタ17
8は、周波数f11の光および周波数f10の光だけを透過
し、それ以外の周波数の光すなわち誤差光を遮断する。
周波数フィルタ178を透過した周波数f11の参照光お
よび周波数f10の測定光は、偏光子付きのレシーバ21
7に入射する。
【0075】レシーバ217の偏光子は、周波数f10の
測定光の偏光方位および周波数f11の参照光の偏光方位
に対してそれぞれ45°だけ傾いて配置されている。し
たがって、周波数f10の測定光と周波数f11の参照光と
は偏光子を介して干渉し、レシーバ217は干渉光に基
づくビート信号(周波数f10−f11=Δf1 −Δf1')
を移動鏡141の変位測定のための測定信号として演算
器202に供給する。演算器202では、光源部302
からの参照信号とレシーバ217からの測定信号とを比
較して、屈折率変動の影響を考慮していない移動鏡14
1のひいてはステージの変位量ΔD(f1 )が求められ
る。
測定光の偏光方位および周波数f11の参照光の偏光方位
に対してそれぞれ45°だけ傾いて配置されている。し
たがって、周波数f10の測定光と周波数f11の参照光と
は偏光子を介して干渉し、レシーバ217は干渉光に基
づくビート信号(周波数f10−f11=Δf1 −Δf1')
を移動鏡141の変位測定のための測定信号として演算
器202に供給する。演算器202では、光源部302
からの参照信号とレシーバ217からの測定信号とを比
較して、屈折率変動の影響を考慮していない移動鏡14
1のひいてはステージの変位量ΔD(f1 )が求められ
る。
【0076】また、ダイクロイックミラー103で反射
されたp偏光状態にある周波数f10の光、周波数f20の
光および周波数f30の光は、測定検出部320Aに入射
する。なお、測定検出部320Aおよび参照検出部32
0Bの構成は、第1実施例の構成と同じであり、図3に
示す通りである。したがって、測定検出部320Aにお
いて、レシーバ431〜433で検出された光路変動に
関する信号は演算器202に供給される。また、レシー
バ212は干渉光に基づくビート信号(周波数f10' −
f20=2Δf1 −Δf2 )を屈折率変動の測定のための
測定ビート信号として演算器202に供給する。さら
に、レシーバ213は干渉光に基づくビート信号(周波
数f20' −f30=2Δf2 −Δf3 )を屈折率変動の測
定のための測定ビート信号として演算器202に供給す
る。
されたp偏光状態にある周波数f10の光、周波数f20の
光および周波数f30の光は、測定検出部320Aに入射
する。なお、測定検出部320Aおよび参照検出部32
0Bの構成は、第1実施例の構成と同じであり、図3に
示す通りである。したがって、測定検出部320Aにお
いて、レシーバ431〜433で検出された光路変動に
関する信号は演算器202に供給される。また、レシー
バ212は干渉光に基づくビート信号(周波数f10' −
f20=2Δf1 −Δf2 )を屈折率変動の測定のための
測定ビート信号として演算器202に供給する。さら
に、レシーバ213は干渉光に基づくビート信号(周波
数f20' −f30=2Δf2 −Δf3 )を屈折率変動の測
定のための測定ビート信号として演算器202に供給す
る。
【0077】一方、光源部302からほぼ同一の光路に
沿って射出されたp偏光状態にある周波数f10の光、周
波数f20の光および周波数f30の光の一部は、ダイクロ
イックミラー102によって反射され、参照検出部32
0Bに入射する。したがって、参照検出部320Bにお
いても、レシーバ431〜433で検出された光路変動
に関する信号は演算器202に供給される。また、レシ
ーバ212は、干渉光に基づくビート信号(周波数f1
0' −f20=2Δf1 −Δf2 )を屈折率変動の測定の
ための参照ビート信号として演算器202に供給する。
さらに、レシーバ213は、干渉光に基づくビート信号
(周波数f20' −f30=2Δf2 −Δf3 )を屈折率変
動の測定のための参照ビート信号として演算器202に
供給する。
沿って射出されたp偏光状態にある周波数f10の光、周
波数f20の光および周波数f30の光の一部は、ダイクロ
イックミラー102によって反射され、参照検出部32
0Bに入射する。したがって、参照検出部320Bにお
いても、レシーバ431〜433で検出された光路変動
に関する信号は演算器202に供給される。また、レシ
ーバ212は、干渉光に基づくビート信号(周波数f1
0' −f20=2Δf1 −Δf2 )を屈折率変動の測定の
ための参照ビート信号として演算器202に供給する。
さらに、レシーバ213は、干渉光に基づくビート信号
(周波数f20' −f30=2Δf2 −Δf3 )を屈折率変
動の測定のための参照ビート信号として演算器202に
供給する。
【0078】こうして、演算器202では、レシーバ2
12からの屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波数f2 の
光に対する光路長変化ΔD(f2 )と周波数f1 の光に
対する光路長変化ΔD(f1)との差すなわち{ΔD
(f2 )−ΔD(f1 )}を求める。また、レシーバ2
13からの屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波数f3 の
光に対する光路長変化ΔD(f3 )と周波数f2の光に
対する光路長変化ΔD(f2 )との差すなわち{ΔD
(f3 )−ΔD(f2 )}を求める。さらに、レシーバ
431〜433からの信号に基づいて、主として光源3
12の射出角の変動に起因する各光路の変動を検出す
る。
12からの屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波数f2 の
光に対する光路長変化ΔD(f2 )と周波数f1 の光に
対する光路長変化ΔD(f1)との差すなわち{ΔD
(f2 )−ΔD(f1 )}を求める。また、レシーバ2
13からの屈折率変動の測定のための参照ビート信号と
測定ビート信号との位相変化に基づいて、周波数f3 の
光に対する光路長変化ΔD(f3 )と周波数f2の光に
対する光路長変化ΔD(f2 )との差すなわち{ΔD
(f3 )−ΔD(f2 )}を求める。さらに、レシーバ
431〜433からの信号に基づいて、主として光源3
12の射出角の変動に起因する各光路の変動を検出す
る。
【0079】こうして、第3実施例では、変位量ΔD
(f1 )に関する信号と、{ΔD(f2 )−ΔD(f1
)}に関する信号と、{ΔD(f3 )−ΔD(f2
)}に関する信号とに基づいて、測定光路中の空気の
密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動に起因する測
定誤差を補正した移動鏡141の真の変位量ΔDを求め
る必要がある。すなわち、第1実施例および第2実施例
では測長用干渉計で用いた光とは異なる3つの周波数の
光に基づいて屈折率変動に起因する測定誤差を補正して
いるが、第3実施例では屈折率変動に起因する測定誤差
の補正に用いられる3つの異なる周波数の光のうち1つ
の光が測長用干渉計に併用されている。
(f1 )に関する信号と、{ΔD(f2 )−ΔD(f1
)}に関する信号と、{ΔD(f3 )−ΔD(f2
)}に関する信号とに基づいて、測定光路中の空気の
密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動に起因する測
定誤差を補正した移動鏡141の真の変位量ΔDを求め
る必要がある。すなわち、第1実施例および第2実施例
では測長用干渉計で用いた光とは異なる3つの周波数の
光に基づいて屈折率変動に起因する測定誤差を補正して
いるが、第3実施例では屈折率変動に起因する測定誤差
の補正に用いられる3つの異なる周波数の光のうち1つ
の光が測長用干渉計に併用されている。
【0080】そこで、第3実施例では、第1実施例およ
び第2実施例で用いた演算式(11)を変形した次の式
(12)にしたがって真の変位量ΔDを求める。
び第2実施例で用いた演算式(11)を変形した次の式
(12)にしたがって真の変位量ΔDを求める。
【数7】ΔD=ΔD(fb)−A' {ΔD(fc)−ΔD(fb)} −B' {ΔD(fd)−ΔD(fc)} (12) 但し、 A' =[F(fb)(G(fd)-G(fc))-G(fb)(F(fd)-F(fc)]/[(F
(fc)-F(fb))(G(fd)-G(fc))-(F(fd)-F(fc))(G(fc)-G(f
b))] B' =[G(fb)F(fc)-F(fb)G(fc)] /[(F(fc)-F(fb))(G(f
d)-G(fc))-(F(fd)-F(fc))(G(fc)-G(fb))]
(fc)-F(fb))(G(fd)-G(fc))-(F(fd)-F(fc))(G(fc)-G(f
b))] B' =[G(fb)F(fc)-F(fb)G(fc)] /[(F(fc)-F(fb))(G(f
d)-G(fc))-(F(fd)-F(fc))(G(fc)-G(fb))]
【0081】上述したように、式(12)の右辺第1項の
ΔD(fb)は、光源部302からの参照信号とレシー
バ217からの測定信号との比較に基づいて、変位量Δ
D(f1 )として求めることができる。また、式(12)
の右辺第2項の{ΔD(fc)−ΔD(fb)}は、レ
シーバ212からの屈折率変動の測定のための参照ビー
ト信号と測定ビート信号との位相変化に基づいて、光路
長変化の差{ΔD(f2 )−ΔD(f1 )}として求め
ることができる。さらに、式(12)の右辺第3項の{Δ
D(fd)−ΔD(fc)}は、レシーバ213からの
屈折率変動の測定のための参照ビート信号と測定ビート
信号との位相変化に基づいて、光路長変化の差{ΔD
(f3 )−ΔD(f2 )}として求めることができる。
ΔD(fb)は、光源部302からの参照信号とレシー
バ217からの測定信号との比較に基づいて、変位量Δ
D(f1 )として求めることができる。また、式(12)
の右辺第2項の{ΔD(fc)−ΔD(fb)}は、レ
シーバ212からの屈折率変動の測定のための参照ビー
ト信号と測定ビート信号との位相変化に基づいて、光路
長変化の差{ΔD(f2 )−ΔD(f1 )}として求め
ることができる。さらに、式(12)の右辺第3項の{Δ
D(fd)−ΔD(fc)}は、レシーバ213からの
屈折率変動の測定のための参照ビート信号と測定ビート
信号との位相変化に基づいて、光路長変化の差{ΔD
(f3 )−ΔD(f2 )}として求めることができる。
【0082】こうして、第3実施例においても、測定光
路中の空気の密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動
に起因する測定誤差を補正し、移動鏡141の真の変位
量ΔDをひいてはステージの真の変位量ΔDを高精度に
求めることができる。なお、上述の第3実施例では、周
波数f1 の光を用いて移動鏡141の変位量を測定して
いるが、原理的には周波数f2 の光を用いても周波数f
3 の光を用いても測定が可能である。しかしながら、3
つの周波数の光のうち周波数が最も小さい周波数の光
(第3実施例では周波数f1 の光)を用いて移動鏡14
1の変位量を測定するのが好ましい。以下、その理由に
ついて説明する。
路中の空気の密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動
に起因する測定誤差を補正し、移動鏡141の真の変位
量ΔDをひいてはステージの真の変位量ΔDを高精度に
求めることができる。なお、上述の第3実施例では、周
波数f1 の光を用いて移動鏡141の変位量を測定して
いるが、原理的には周波数f2 の光を用いても周波数f
3 の光を用いても測定が可能である。しかしながら、3
つの周波数の光のうち周波数が最も小さい周波数の光
(第3実施例では周波数f1 の光)を用いて移動鏡14
1の変位量を測定するのが好ましい。以下、その理由に
ついて説明する。
【0083】一般に、測長用干渉計において、偏光ビー
ムスプリッタの消光比に起因する測定精度の低下の問題
がある。そこで、第3実施例では、3つの偏光ビームス
プリッタ167、168および169を組み合わせるこ
とにより、全体としての消光比を向上させている。しか
しながら、偏光ビームスプリッタの消光比が有限である
ため、本来偏光ビームスプリッタを透過すべき光が反射
されたり、本来偏光ビームスプリッタで反射されるべき
光が透過してしまう。その結果、本来透過すべきところ
を反射された光および本来反射されるべきところを透過
した光が誤差光となり、測長用干渉計の測定精度を低下
させてしまう。
ムスプリッタの消光比に起因する測定精度の低下の問題
がある。そこで、第3実施例では、3つの偏光ビームス
プリッタ167、168および169を組み合わせるこ
とにより、全体としての消光比を向上させている。しか
しながら、偏光ビームスプリッタの消光比が有限である
ため、本来偏光ビームスプリッタを透過すべき光が反射
されたり、本来偏光ビームスプリッタで反射されるべき
光が透過してしまう。その結果、本来透過すべきところ
を反射された光および本来反射されるべきところを透過
した光が誤差光となり、測長用干渉計の測定精度を低下
させてしまう。
【0084】第3実施例において、偏光ビームスプリッ
タ167を本来透過すべきところを反射された周波数f
10のp偏光の光は、測定検出部320AのSHG変換素
子181を介してレシーバ212に達する。SHG変換
素子181で変換されるSHG光の強度は入射光の強度
の二乗に比例するため、周波数f10の光の変換効率は多
くとも1%程度である(光源313が周波数f1 および
f2 の光をそれぞれ200mWの強度で射出する場合に
ついて考えている)。その結果、測長用干渉計の測定精
度は、大きな影響を受けることがない。
タ167を本来透過すべきところを反射された周波数f
10のp偏光の光は、測定検出部320AのSHG変換素
子181を介してレシーバ212に達する。SHG変換
素子181で変換されるSHG光の強度は入射光の強度
の二乗に比例するため、周波数f10の光の変換効率は多
くとも1%程度である(光源313が周波数f1 および
f2 の光をそれぞれ200mWの強度で射出する場合に
ついて考えている)。その結果、測長用干渉計の測定精
度は、大きな影響を受けることがない。
【0085】これに対し、周波数f2 の光(または周波
数f3 の光)を用いて移動鏡141の変位量を測定する
と、偏光ビームスプリッタ167で反射された誤差光す
なわち周波数f20のp偏光の光(または周波数f30のp
偏光の光)は、SHG変換素子181(またはSHG変
換素子182)でSHG変換されることなく、そのまま
レシーバ212(またはレシーバ213)に達する。そ
の結果、測長用干渉計の測定精度は、大きな影響を受け
てしまう。このように、第3実施例では、偏光ビームス
プリッタの消光比に起因する測定精度の低下を抑えるた
めに、3つの周波数の光のうち周波数が最も小さい周波
数f1 の光を用いて移動鏡141の変位量を測定するの
が好ましい。
数f3 の光)を用いて移動鏡141の変位量を測定する
と、偏光ビームスプリッタ167で反射された誤差光す
なわち周波数f20のp偏光の光(または周波数f30のp
偏光の光)は、SHG変換素子181(またはSHG変
換素子182)でSHG変換されることなく、そのまま
レシーバ212(またはレシーバ213)に達する。そ
の結果、測長用干渉計の測定精度は、大きな影響を受け
てしまう。このように、第3実施例では、偏光ビームス
プリッタの消光比に起因する測定精度の低下を抑えるた
めに、3つの周波数の光のうち周波数が最も小さい周波
数f1 の光を用いて移動鏡141の変位量を測定するの
が好ましい。
【0086】上述の各実施例では、ヘテロダイン干渉方
式の測長用干渉計を用いているが、ホモダイン干渉方式
の測長用干渉計を用いることもできる。また、上述の第
1実施例および第3実施例では、測定光路中の屈折率変
動を測定しているが、参照光路中の屈折率変動を測定す
ることもできる。さらに、上述の各実施例では、ヘテロ
ダイン干渉方式の屈折率変動測定系を用いているが、ホ
モダイン干渉方式の屈折率変動測定系を用いることもで
きる。また、上述の各実施例では、測長用干渉計に本発
明を適用しているが、一般に物体の変位量を光学的に測
定するための測定光学系に対して本発明を適用すること
ができる。
式の測長用干渉計を用いているが、ホモダイン干渉方式
の測長用干渉計を用いることもできる。また、上述の第
1実施例および第3実施例では、測定光路中の屈折率変
動を測定しているが、参照光路中の屈折率変動を測定す
ることもできる。さらに、上述の各実施例では、ヘテロ
ダイン干渉方式の屈折率変動測定系を用いているが、ホ
モダイン干渉方式の屈折率変動測定系を用いることもで
きる。また、上述の各実施例では、測長用干渉計に本発
明を適用しているが、一般に物体の変位量を光学的に測
定するための測定光学系に対して本発明を適用すること
ができる。
【0087】
【効果】以上説明したように、本発明によれば、光路中
の気体の密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動に起
因する測定誤差を補正することのできる高精度な光波干
渉測定装置を実現することができる。
の気体の密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動に起
因する測定誤差を補正することのできる高精度な光波干
渉測定装置を実現することができる。
【図1】本発明の第1実施例にかかる光波干渉測定装置
の構成を概略的に示す図である。
の構成を概略的に示す図である。
【図2】図1の光源部300の内部構成を概略的に示す
図である。
図である。
【図3】図1および図7の測定検出部320Aおよび参
照検出部320Bの内部構成を概略的に示す図である。
照検出部320Bの内部構成を概略的に示す図である。
【図4】本発明の第2実施例にかかる光波干渉測定装置
の構成を概略的に示す図である。
の構成を概略的に示す図である。
【図5】図4の光源部301の内部構成を概略的に示す
図である。
図である。
【図6】図4の測定検出部321Aおよび参照検出部3
21Bの内部構成を概略的に示す図である。
21Bの内部構成を概略的に示す図である。
【図7】本発明の第3実施例にかかる光波干渉測定装置
の構成を概略的に示す図である。
の構成を概略的に示す図である。
【図8】図7の光源部302の内部構成を概略的に示す
図である。
図である。
【図9】従来の光波干渉測定装置の構成を概略的に示す
図である。
図である。
100、101、104〜106 ビームスプリッタ 110〜118 周波数結合素子 102、103、120〜128 周波数分離素子 130、131 ステージ 135、136 コーナーキューブ 140〜142 移動鏡 145、146 ミラー 150〜152 固定鏡 160〜169、440、401 偏光ビームスプリッ
タ 170〜178 周波数フィルタ 180〜186 SHG変換素子 190〜195 波長板 200〜203 演算器 210〜219、430〜436 レシーバ 220〜228 周波数フィルタ 300〜302 光源部 310〜315 光源 320、321 検出部 330 エアチューブ
タ 170〜178 周波数フィルタ 180〜186 SHG変換素子 190〜195 波長板 200〜203 演算器 210〜219、430〜436 レシーバ 220〜228 周波数フィルタ 300〜302 光源部 310〜315 光源 320、321 検出部 330 エアチューブ
Claims (11)
- 【請求項1】 物体の変位量を光学的に測定するための
測定光学系と、 前記測定光学系の光路中の気体の密度変動および湿度変
動に伴う屈折率変動を測定するための屈折率変動測定系
とを備え、 前記測定光学系で測定した前記物体の変位量を前記屈折
率変動測定系で測定した前記光路中の気体の屈折率変動
情報に基づいて補正することによって前記物体の幾何学
的変位量を測定することを特徴とする光波干渉測定装
置。 - 【請求項2】 前記測定光学系は、所定方向に沿った移
動鏡の変位量を測定するための測長用干渉計であり、 前記屈折率変動測定系は、 互いに異なる周波数を有する第1の光、第2の光および
第3の光をほぼ同一の光路に沿って出力するための第1
光源部と、 前記測長用干渉計の所定光路を介した前記第1の光およ
び前記第2の光のうち前記第1の光の周波数を前記第2
の光の周波数とほぼ一致させることによって第1干渉光
を生成するための第1干渉光生成系と、 前記測長用干渉計の前記所定光路を介した前記第2の光
および前記第3の光のうち前記第2の光の周波数を前記
第3の光の周波数とほぼ一致させることによって第2干
渉光を生成するための第2干渉光生成系とを備え、 前記第1干渉光および前記第2干渉光に基づいて、前記
測長用干渉計の前記所定光路中の気体の密度変動および
湿度変動に伴う屈折率変動を測定し、前記測長用干渉計
で測定した前記移動鏡の変位量を補正することを特徴と
する請求項1に記載の光波干渉測定装置。 - 【請求項3】 前記測長用干渉計は、前記第1光源部か
ら射出された前記第1の光、前記第2の光および前記第
3の光のうちいずれか1つの光に基づいて前記移動鏡の
変位量を測定することを特徴とする請求項2に記載の光
波干渉測定装置。 - 【請求項4】 前記第1光源部は、 第4の光と、その高調波である第5の光とを供給する光
源と、 前記光源からの前記第4の光の一部を高調波に変換し、
該高調波を第6の光として射出するための第1高調波変
換素子と、 前記第4の光をわずかに周波数変調させて前記第1の光
として射出するための第1周波数変調素子と、 前記第5の光をわずかに周波数変調させて前記第2の光
として射出するための第2周波数変調素子と、 前記第6の光をわずかに周波数変調させて前記第3の光
として射出するための第3周波数変調素子とを有し、 前記第1干渉光生成系は、前記第1の光の一部を高調波
に変換するための第2高調波変換素子を有し、該第2高
調波変換素子を介して得られた高調波と前記第2の光と
のヘテロダイン干渉によって前記第1干渉光を生成し、 前記第2干渉光生成系は、前記第2の光の一部を高調波
に変換するための第3高調波変換素子を有し、該第3高
調波変換素子を介して得られた高調波と前記第3の光と
のヘテロダイン干渉によって前記第2干渉光を生成する
ことを特徴とする請求項2または3に記載の光波干渉測
定装置。 - 【請求項5】 前記第5の光は、前記第4の光の第2高
調波であり、 前記第1高調波変換素子は、前記第4の光の一部を第2
高調波に変換し、 前記第2高調波変換素子は、前記第1の光の一部を第2
高調波に変換し、 前記第3高調波変換素子は、前記第2の光の一部を第2
高調波に変換することを特徴とする請求項4に記載の光
波干渉測定装置。 - 【請求項6】 前記第1光源部は、 前記第1の光と、その高調波である前記第2の光とを供
給する光源と、 前記光源からの前記第2の光の一部を高調波に変換し、
該高調波を前記第3の光として射出するための第4高調
波変換素子とを有し、 前記第1干渉光生成系は、前記第1の光の一部を高調波
に変換するための第5高調波変換素子を有し、該第5高
調波変換素子を介して得られた高調波と前記第2の光と
のホモダイン干渉によって前記第1干渉光を生成し、 前記第2干渉光生成系は、前記第2の光の一部を高調波
に変換するための第6高調波変換素子を有し、該第6高
調波変換素子を介して得られた高調波と前記第3の光と
のホモダイン干渉によって前記第2干渉光を生成するこ
とを特徴とする請求項2または3に記載の光波干渉測定
装置。 - 【請求項7】 前記第2の光は、前記第1の光の第2高
調波であり、 前記第4高調波変換素子は、前記第2の光の一部を第2
高調波に変換し、 前記第5高調波変換素子は、前記第1の光の一部を第2
高調波に変換し、 前記第6高調波変換素子は、前記第2の光の一部を第2
高調波に変換することを特徴とする請求項6に記載の光
波干渉測定装置。 - 【請求項8】 前記測定光学系は、所定方向に沿った移
動鏡の変位量を測定するための測長用干渉計であり、 前記屈折率変動測定系は、 互いに異なる周波数を有する第1の光、第2の光および
第3の光と、前記第1の光とわずかに周波数の異なる第
4の光、前記第2の光とわずかに周波数の異なる第5の
光、および前記第3の光とわずかに周波数の異なる第6
の光とをほぼ同一の光路に沿って出力するための第2光
源部と、 前記測長用干渉計の参照光路を介した前記第1の光と前
記測長用干渉計の測定光路を介した前記第4の光との第
1干渉光を生成するための第1干渉光生成系と、 前記測長用干渉計の参照光路を介した前記第2の光と前
記測長用干渉計の測定光路を介した前記第5の光との第
2干渉光を生成するための第2干渉光生成系と、 前記測長用干渉計の参照光路を介した前記第3の光と前
記測長用干渉計の測定光路を介した前記第6の光との第
3干渉光を生成するための第3干渉光生成系とを備え、 前記第1干渉光、前記第2干渉光および前記第3干渉光
に基づいて、前記測長用干渉計の参照光路および測定光
路中の気体の密度変動および湿度変動に伴う屈折率変動
を測定し、前記測長用干渉計で測定した前記移動鏡の変
位量を補正することを特徴とする請求項1に記載の光波
干渉測定装置。 - 【請求項9】 前記第2光源部は、 第7の光と、その高調波である第8の光とを供給する光
源と、 前記光源からの前記第7の光の一部を高調波に変換し、
該高調波を第9の光として射出するための第1高調波変
換素子と、 前記第7の光の一部を第1変調周波数だけわずかに周波
数変調させて前記第1の光として射出するための第1周
波数変調素子と、 前記第7の光の残部を前記第1変調周波数とは異なる第
2変調周波数だけわずかに周波数変調させて前記第4の
光として射出するための第2周波数変調素子と、 前記第8の光の一部を第3変調周波数だけわずかに周波
数変調させて前記第2の光として射出するための第3周
波数変調素子と、 前記第8の光の残部を前記第3変調周波数とは異なる第
4変調周波数だけわずかに周波数変調させて前記第5の
光として射出するための第4周波数変調素子と、 前記第9の光の一部を第5変調周波数だけわずかに周波
数変調させて前記第3の光として射出するための第5周
波数変調素子と、 前記第9の光の残部を前記第5変調周波数とは異なる第
6変調周波数だけわずかに周波数変調させて前記第6の
光として射出するための第6周波数変調素子とを有する
ことを特徴とする請求項8に記載の光波干渉測定装置。 - 【請求項10】 前記第8の光は、前記第7の光の第2
高調波であり、 前記第1高調波変換素子は、前記第2の光の一部を第2
高調波に変換することを特徴とする請求項9に記載の光
波干渉測定装置。 - 【請求項11】 前記複数の光のうち少なくとも1つの
光の光路変動を検出するための光路変動検出手段を備え
ていることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1
項に記載の光波干渉測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8271427A JPH1096601A (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 光波干渉測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8271427A JPH1096601A (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 光波干渉測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1096601A true JPH1096601A (ja) | 1998-04-14 |
Family
ID=17499890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8271427A Pending JPH1096601A (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 光波干渉測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1096601A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002148021A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-22 | Yokogawa Electric Corp | 位置決め装置 |
| JP2011203231A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-10-13 | Canon Inc | 光波干渉計測装置 |
| JP2013225661A (ja) * | 2012-03-19 | 2013-10-31 | Canon Inc | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
| JP2016138795A (ja) * | 2015-01-27 | 2016-08-04 | 株式会社東京精密 | 干渉計測装置及び干渉計測方法 |
-
1996
- 1996-09-20 JP JP8271427A patent/JPH1096601A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002148021A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-22 | Yokogawa Electric Corp | 位置決め装置 |
| JP2011203231A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-10-13 | Canon Inc | 光波干渉計測装置 |
| US8416422B2 (en) | 2010-03-03 | 2013-04-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Lightwave interference measurement apparatus used to measure optical path length or distance |
| JP2013225661A (ja) * | 2012-03-19 | 2013-10-31 | Canon Inc | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
| JP2016138795A (ja) * | 2015-01-27 | 2016-08-04 | 株式会社東京精密 | 干渉計測装置及び干渉計測方法 |
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