JPH1096810A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
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- JPH1096810A JPH1096810A JP25211696A JP25211696A JPH1096810A JP H1096810 A JPH1096810 A JP H1096810A JP 25211696 A JP25211696 A JP 25211696A JP 25211696 A JP25211696 A JP 25211696A JP H1096810 A JPH1096810 A JP H1096810A
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- Japan
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- polysilane
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- colors
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- Ink Jet (AREA)
- Coloring (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 表示装置用カラーフィルターの製造におい
て、混色、色むら、パターンくずれなどの問題があっ
た。そこで本発明は、優れた高精細の表示装置用カラー
フィルターを単純な工程で容易に低コストで製造できる
方法を提供する。 【課題の解決手段】 基板上に設けられたポリシランか
らなる感光層を選択的に紫外線露光してカラーパターン
の潜像を形成した後、親水性カラーインクを用いてイン
クジェット方式によりＲ，Ｇ，Ｂ３色を一回の工程で着
色する。
て、混色、色むら、パターンくずれなどの問題があっ
た。そこで本発明は、優れた高精細の表示装置用カラー
フィルターを単純な工程で容易に低コストで製造できる
方法を提供する。 【課題の解決手段】 基板上に設けられたポリシランか
らなる感光層を選択的に紫外線露光してカラーパターン
の潜像を形成した後、親水性カラーインクを用いてイン
クジェット方式によりＲ，Ｇ，Ｂ３色を一回の工程で着
色する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルター
の製造方法に関し、特に表示装置用カラーフィルターの
製造方法に関する。
の製造方法に関し、特に表示装置用カラーフィルターの
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、表示装置用カラーフィルターの製
造方法としては、染色法、顔料分散法、電着法および印
刷法が一般的に用いられている。
造方法としては、染色法、顔料分散法、電着法および印
刷法が一般的に用いられている。
【０００３】まず、染色法について以下に説明する。最
初に、天然高分子材料のゼラチン、グリュウ、カゼイ
ン、あるいは、合成高分子材料のＰＶＡ（ポリビニルア
ルコール）、ＰＶＰ（ポリビニルピロリドン）、アクリ
ルなどをベースとした感光性の材料を基板上に塗布・乾
燥する。
初に、天然高分子材料のゼラチン、グリュウ、カゼイ
ン、あるいは、合成高分子材料のＰＶＡ（ポリビニルア
ルコール）、ＰＶＰ（ポリビニルピロリドン）、アクリ
ルなどをベースとした感光性の材料を基板上に塗布・乾
燥する。
【０００４】つぎに、フォトマスクを用いて紫外線で露
光、現像すること(フォトリソグラフィ法)によリパター
ン化する。
光、現像すること(フォトリソグラフィ法)によリパター
ン化する。
【０００５】次に、基板を染色液に浸漬させることによ
って、パターン化によって形成された可染領域に染料が
吸着・拡散し、色を呈する。以上の工程を３回繰り返す
ことによりＲ，Ｇ，Ｂを順に構成することによって、カ
ラーフィルターを製造する。
って、パターン化によって形成された可染領域に染料が
吸着・拡散し、色を呈する。以上の工程を３回繰り返す
ことによりＲ，Ｇ，Ｂを順に構成することによって、カ
ラーフィルターを製造する。
【０００６】顔料分散法は、あらかじめ顔料により調色
された感光性のレジストを用いる。この種のレジストの
べースポリマーとしては、重合型のアクリル樹脂と架橋
型のＰＶＡが挙げられる。このレジストを基板上に塗布
し、染色法と同様に、フォトリソグラフィ法によリパタ
ーン化する。以上の工程を繰り返すことによりＲ，Ｇ，
Ｂを構成し、カラーフィルターを製造する。
された感光性のレジストを用いる。この種のレジストの
べースポリマーとしては、重合型のアクリル樹脂と架橋
型のＰＶＡが挙げられる。このレジストを基板上に塗布
し、染色法と同様に、フォトリソグラフィ法によリパタ
ーン化する。以上の工程を繰り返すことによりＲ，Ｇ，
Ｂを構成し、カラーフィルターを製造する。
【０００７】電着法は、基板上に形成されたＩＴＯ膜
（ＩｎＴｉＯ膜）をフォトリソグラフィ法で所定のパタ
ーンにエッチングし、これを電極として電気泳動電着で
色材を電極に膜形成する方式であり、電極と色材を変え
ることによりＲ，Ｇ，Ｂの３色を構成し、カラーフィル
ターを製造する。
（ＩｎＴｉＯ膜）をフォトリソグラフィ法で所定のパタ
ーンにエッチングし、これを電極として電気泳動電着で
色材を電極に膜形成する方式であり、電極と色材を変え
ることによりＲ，Ｇ，Ｂの３色を構成し、カラーフィル
ターを製造する。
【０００８】印刷法は、種々の方式があるが、いずれも
ガラス基板に粘度の高いインクをオフセット印刷する工
程をＲ，Ｇ，Ｂの色毎に３回繰り返すだけであり、比較
的製造工程は簡単である。
ガラス基板に粘度の高いインクをオフセット印刷する工
程をＲ，Ｇ，Ｂの色毎に３回繰り返すだけであり、比較
的製造工程は簡単である。
【０００９】上記方法以外に、インクジェット方式でカ
ラーフィルターを製造する方法が特開平７―１７４９１
５号公報に提案されている。これは基板上に１工程で
Ｒ，Ｇ，Ｂの３色のインクを印刷でき、工程が簡単であ
るという特徴を有する。
ラーフィルターを製造する方法が特開平７―１７４９１
５号公報に提案されている。これは基板上に１工程で
Ｒ，Ｇ，Ｂの３色のインクを印刷でき、工程が簡単であ
るという特徴を有する。
【００１０】また、染色法に含まれる一方法であるが、
基板上に塗布したポリシラン層に染料で染色しカラーフ
ィルターを製造する方法が、特開平５―１８８２１５号
公報に開示されている。この方法はポリシランに紫外線
を照射するとシラノール基が発生し、照射部のポリシラ
ンが疎水性から親水性に変化することを利用する。すな
わち、基板上にポリシランを塗布・乾燥し、フォトマス
クで紫外線を照射した後、染色液中に浸漬して親水性に
変化した紫外線照射部を染色する。この工程をＲ，Ｇ，
Ｂの３回繰り返して３色を構成し、カラーフィルターを
製造する。
基板上に塗布したポリシラン層に染料で染色しカラーフ
ィルターを製造する方法が、特開平５―１８８２１５号
公報に開示されている。この方法はポリシランに紫外線
を照射するとシラノール基が発生し、照射部のポリシラ
ンが疎水性から親水性に変化することを利用する。すな
わち、基板上にポリシランを塗布・乾燥し、フォトマス
クで紫外線を照射した後、染色液中に浸漬して親水性に
変化した紫外線照射部を染色する。この工程をＲ，Ｇ，
Ｂの３回繰り返して３色を構成し、カラーフィルターを
製造する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上記方法のうち、イン
クジェット方式以外はいずれの方法も、Ｒ，Ｇ，Ｂの３
回の工程を繰り返す必要があリ、工程数が多く複雑であ
るという問題がある。
クジェット方式以外はいずれの方法も、Ｒ，Ｇ，Ｂの３
回の工程を繰り返す必要があリ、工程数が多く複雑であ
るという問題がある。
【００１２】さらに染色法には、各色の染色後には混色
を防止するために防染膜を形成しなければならないので
一層工程が複雑になり、製造コストが高くなるという問
題がある。
を防止するために防染膜を形成しなければならないので
一層工程が複雑になり、製造コストが高くなるという問
題がある。
【００１３】また印刷法には、粘性の高いインクを使用
するのでパターンの端部がくずれたり、ずれたりし、そ
のために所定のパターンを精度よく形成することができ
ないという問題が加わる。
するのでパターンの端部がくずれたり、ずれたりし、そ
のために所定のパターンを精度よく形成することができ
ないという問題が加わる。
【００１４】インクジェット方式は、ガラス基板上に
Ｒ，Ｇ，Ｂの３色のインクを１工程で印刷する際、ガラ
ス基板上ではインクが浸透しないので乾燥が遅く、混色
やにじみの問題が発生するという問題がある。
Ｒ，Ｇ，Ｂの３色のインクを１工程で印刷する際、ガラ
ス基板上ではインクが浸透しないので乾燥が遅く、混色
やにじみの問題が発生するという問題がある。
【００１５】特開平５―１８８２１５号公報に開示され
ているポリシラン層に染色する方法では、上記染色法と
同じ問題に加え、以下の問題があることが分かった。す
なわち、ポリシラン層と基板との接着力は弱いので、染
色のたびに液中への浸漬が繰り返されると、ポリシラン
膜のはがれが発生しやすく、これはカラーフィルターの
パターン不良となった。特に、高精細のパターンを形成
する際には製造歩留まりが悪くなるという問題が生じ
た。
ているポリシラン層に染色する方法では、上記染色法と
同じ問題に加え、以下の問題があることが分かった。す
なわち、ポリシラン層と基板との接着力は弱いので、染
色のたびに液中への浸漬が繰り返されると、ポリシラン
膜のはがれが発生しやすく、これはカラーフィルターの
パターン不良となった。特に、高精細のパターンを形成
する際には製造歩留まりが悪くなるという問題が生じ
た。
【００１６】以上のように、それぞれの方法に問題があ
り、いまだ満足できるカラーフィル夕ーの製造方法はな
かった。
り、いまだ満足できるカラーフィル夕ーの製造方法はな
かった。
【００１７】本発明の目的は上述の問題を解決して、混
色、色むら、パターンくずれのない優れた高精細のカラ
ーフィルターを、単純な工程で容易に低コストで製造で
きるカラーフィルターの製造方法を提供することであ
る。
色、色むら、パターンくずれのない優れた高精細のカラ
ーフィルターを、単純な工程で容易に低コストで製造で
きるカラーフィルターの製造方法を提供することであ
る。
【００１８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、基板上に設けられたポリシランからなる感光層を紫
外線露光することによって、パターンの潜像を形成する
工程と、親水性インクを用いたインクジェット方式によ
り着色する工程とを有することを特徴とする。
に、基板上に設けられたポリシランからなる感光層を紫
外線露光することによって、パターンの潜像を形成する
工程と、親水性インクを用いたインクジェット方式によ
り着色する工程とを有することを特徴とする。
【００１９】また、前記ポリシランが構造式（Ｉ）で表
わされるものを使用することが好ましい。
わされるものを使用することが好ましい。
【００２０】
【化２】
【００２１】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、同―ま
たは異なって、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素残基、
芳香族炭化水素残基、および脂環式炭化水素残基のいず
れでもよく、これらの基は置換基を有してもよく、ｍお
よびｎは整数である。） このポリシラン樹脂は有機溶媒可溶性であり、透明均一
な薄漠でコーティング可能なものであればよい。また、
このポリシラン層の厚さは１〜１０μｍとすることが好
ましい。
たは異なって、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素残基、
芳香族炭化水素残基、および脂環式炭化水素残基のいず
れでもよく、これらの基は置換基を有してもよく、ｍお
よびｎは整数である。） このポリシラン樹脂は有機溶媒可溶性であり、透明均一
な薄漠でコーティング可能なものであればよい。また、
このポリシラン層の厚さは１〜１０μｍとすることが好
ましい。
【００２２】上記のポリシランを溶解する有機溶媒は、
ポリシランを溶解可能な蒸発性有機溶媒であれば特に限
定されるものではない。中でもポリシランにとって良溶
媒であり、溶解度の大きいトルエン、キシレンが好まし
い。
ポリシランを溶解可能な蒸発性有機溶媒であれば特に限
定されるものではない。中でもポリシランにとって良溶
媒であり、溶解度の大きいトルエン、キシレンが好まし
い。
【００２３】また、ポリシラン層に対して紫外線露光を
行った場合、紫外線露光された部分のポリシラン層は、
疎水性から親水性に変化する。一方、露光されていない
部分のポリシラン層は疎水性の状態を保持する。これに
より、親水性のカラーパターン潜像が形成される。な
お、紫外線照射線量は０．５〜１０Ｊ／ｃｍ2とするこ
とが好ましい。
行った場合、紫外線露光された部分のポリシラン層は、
疎水性から親水性に変化する。一方、露光されていない
部分のポリシラン層は疎水性の状態を保持する。これに
より、親水性のカラーパターン潜像が形成される。な
お、紫外線照射線量は０．５〜１０Ｊ／ｃｍ2とするこ
とが好ましい。
【００２４】また、前記親水性インクに含まれる着色材
料が、塩基性染料であることが好ましい。一般的に、塩
基性染料は紫外線照射でポリシラン層中に形成されるシ
ラノール基と相互作用することによりポリシラン層に吸
着すると考えられる。紫外線露光されていない部分のポ
リシラン層は疎水性であるので、親水性ポリシラン層に
付着した親水性インクがにじみ出すことがない。そのた
め、Ｒ，Ｇ，Ｂの混色のない高精細なカラーパターンが
形成可能となる。
料が、塩基性染料であることが好ましい。一般的に、塩
基性染料は紫外線照射でポリシラン層中に形成されるシ
ラノール基と相互作用することによりポリシラン層に吸
着すると考えられる。紫外線露光されていない部分のポ
リシラン層は疎水性であるので、親水性ポリシラン層に
付着した親水性インクがにじみ出すことがない。そのた
め、Ｒ，Ｇ，Ｂの混色のない高精細なカラーパターンが
形成可能となる。
【００２５】本発明に用いるインクジェット用インクは
水溶性染料を添加物を含む水溶液にト１０％で溶解して
作製する。この場合、添加物としては、グリセリン、ジ
エチルグリコール、ジエチルグリコールモノブチルエー
テル、各種アルコール類、アセトニトリルなどが挙げら
れる。また、添加物１００部（重量部、以下同じ）に対
して、水２００〜２０００部を混合したものを用いるこ
とが好ましい。
水溶性染料を添加物を含む水溶液にト１０％で溶解して
作製する。この場合、添加物としては、グリセリン、ジ
エチルグリコール、ジエチルグリコールモノブチルエー
テル、各種アルコール類、アセトニトリルなどが挙げら
れる。また、添加物１００部（重量部、以下同じ）に対
して、水２００〜２０００部を混合したものを用いるこ
とが好ましい。
【００２６】
（実施の形態１）本発明の表示装置用カラーフィルター
の製造上の工程を示す模式図を図１に示す。
の製造上の工程を示す模式図を図１に示す。
【００２７】まず、図１（ａ）に示すように、メチルフ
ェニルポリシランをトルエンに溶解して濃度が１５％程
度のトルエン溶液を作った。この溶液をガラス基板上に
スピンコートし、乾燥後の膜厚が２μｍのポリシラン層
２を形成した。
ェニルポリシランをトルエンに溶解して濃度が１５％程
度のトルエン溶液を作った。この溶液をガラス基板上に
スピンコートし、乾燥後の膜厚が２μｍのポリシラン層
２を形成した。
【００２８】次いで、図１（ｂ）に示すように、ポリシ
ラン層２に対して、Ｒ，Ｇ，Ｂの透過パターンが形成さ
れたフォトマスク３を通して、高圧水銀灯を用いて４Ｊ
／ｃｍ2 の光量の紫外線４を照射することで、カラーパ
ターン潜像を形成した。
ラン層２に対して、Ｒ，Ｇ，Ｂの透過パターンが形成さ
れたフォトマスク３を通して、高圧水銀灯を用いて４Ｊ
／ｃｍ2 の光量の紫外線４を照射することで、カラーパ
ターン潜像を形成した。
【００２９】この後、図１（ｃ）に示すように、下記に
示すカラーインク５を用いてインクジェット方式で、こ
のカラーパターンの潜像に対してＲ，Ｇ，Ｂの３色を１
回の工程で着色する。インクジェット方式としては、通
常用いられるバブルジェット型やピエゾジェット型のい
ずれを用いてもよい。また、使用するインクジェット装
置は、ノズル面にＲ，Ｇ，Ｂが横並びであるノズル列を
有し、コンピュータなどによる制御によって、所定の位
置に所定の色をノズルから吐出することができるため、
着色面積及び着色パターンを任意に設定することができ
る。表示装置用カラーフィルターを生産する上で、生産
性を考慮するとノズル列に対して垂直方向に走査して、
同時にＲ，Ｇ，Ｂを着色できるので、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色
パターンをライン状に形成することが好ましい。
示すカラーインク５を用いてインクジェット方式で、こ
のカラーパターンの潜像に対してＲ，Ｇ，Ｂの３色を１
回の工程で着色する。インクジェット方式としては、通
常用いられるバブルジェット型やピエゾジェット型のい
ずれを用いてもよい。また、使用するインクジェット装
置は、ノズル面にＲ，Ｇ，Ｂが横並びであるノズル列を
有し、コンピュータなどによる制御によって、所定の位
置に所定の色をノズルから吐出することができるため、
着色面積及び着色パターンを任意に設定することができ
る。表示装置用カラーフィルターを生産する上で、生産
性を考慮するとノズル列に対して垂直方向に走査して、
同時にＲ，Ｇ，Ｂを着色できるので、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色
パターンをライン状に形成することが好ましい。
【００３０】グリーンインク C.I.Basic Yellow7 ０．５部 C.I.Basic Blue1 ０．５部 グリセリン ２６部 水 ６３部 レッドインク C.I.Basic Red12 １部 グリセリン ２６部 水 ６３部 ブルーインク C.I.Basic Blue26 １部 グリセリン ２６部 水 ６３部 図１（ｄ）に示すように、ここまで製造したカラーフィ
ルターを乾燥した後、カラーパターン以外部分にブラッ
クマトリックス６を形成してカラーフィルターを完成し
た。
ルターを乾燥した後、カラーパターン以外部分にブラッ
クマトリックス６を形成してカラーフィルターを完成し
た。
【００３１】ブラックマトリックスの形成方法として
は、樹脂ブラックでコーティングする方法、黒色油性イ
ンクを用いて着色する方法、または着色したポリシラン
層を全面露光した後に黒色水溶性インクで着色する方法
などを用いることができる。
は、樹脂ブラックでコーティングする方法、黒色油性イ
ンクを用いて着色する方法、または着色したポリシラン
層を全面露光した後に黒色水溶性インクで着色する方法
などを用いることができる。
【００３２】このようにして得られたカラーフィルター
を光学顕微鏡により観察したところ、ポリシラン層のは
がれ、混色、色むら、端部パターンのくずれなどの問題
は観察されなかった。
を光学顕微鏡により観察したところ、ポリシラン層のは
がれ、混色、色むら、端部パターンのくずれなどの問題
は観察されなかった。
【００３３】製造したカラーフィルターの可視吸収スペ
クトルを測定したところ、各色染料の最大吸収波長にお
ける透過率は１％以下であり、ポリシラン層が十分着色
されていた。
クトルを測定したところ、各色染料の最大吸収波長にお
ける透過率は１％以下であり、ポリシラン層が十分着色
されていた。
【００３４】さらに、上記のカラーフィルターを用い
て、カラー液晶パネルを作製した。図２（ａ）は、カラ
ー液晶パネルの断面図を示し、図２（ｂ）は、カラー液
晶パネルの透視斜視図を示す。カラー液晶パネルは、透
明性絶縁基板からなる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板
２２と対向基板２３とを対向配置し、シール材２４を介
して貼り合わせて、液晶を封入して液晶層３３を形成し
た構造、すなわちＴＦＴ基板２２と対向基板２３とによ
り液晶層３３を挟持した構造になっている。
て、カラー液晶パネルを作製した。図２（ａ）は、カラ
ー液晶パネルの断面図を示し、図２（ｂ）は、カラー液
晶パネルの透視斜視図を示す。カラー液晶パネルは、透
明性絶縁基板からなる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板
２２と対向基板２３とを対向配置し、シール材２４を介
して貼り合わせて、液晶を封入して液晶層３３を形成し
た構造、すなわちＴＦＴ基板２２と対向基板２３とによ
り液晶層３３を挟持した構造になっている。
【００３５】上記ＴＦＴ基板２２上には、マトリクス状
に画素電極２５が形成されると共に、信号電極２６、お
よび走査電極２７が形成されている。これら信号電極２
６および走査電極２７の交点付近には、薄膜トランジス
タ（ＴＦＴ）２８が設けられており、このＴＦＴ２８に
上記画素電極２５が接続されている。
に画素電極２５が形成されると共に、信号電極２６、お
よび走査電極２７が形成されている。これら信号電極２
６および走査電極２７の交点付近には、薄膜トランジス
タ（ＴＦＴ）２８が設けられており、このＴＦＴ２８に
上記画素電極２５が接続されている。
【００３６】一方、対向基板２３上には、上記のように
して形成したカラーパターン３０及びブラックマトリッ
クス３１を有したカラーフィルターの上に共通電極であ
るＩＴＯ膜２９、および配向膜３４が形成されている。
して形成したカラーパターン３０及びブラックマトリッ
クス３１を有したカラーフィルターの上に共通電極であ
るＩＴＯ膜２９、および配向膜３４が形成されている。
【００３７】さらにＴＦＴ基板２２と対向基板２３の外
側両面に偏光板３５が設けられ、図２に示すようなカラ
ー液晶パネルが完成される。
側両面に偏光板３５が設けられ、図２に示すようなカラ
ー液晶パネルが完成される。
【００３８】本実施の形態ではポリシラン膜としてメチ
ルフェニルポリシランを用いたが、エチルフェニルポリ
シラン、ブチルフェニルポリシラン、ジブチルポリシラ
ン、ジペンチルポリシラン、メチルブチルポリシラン、
ビフェニルメチルポリシラン、メチルトリルポリシラ
ン、トリメチルフェニルポリシジシラン、ジフェニルジ
メチルポリジシラン、ジヘキシルポリシラン、シクロへ
キシルメチルポリシランでもよい。
ルフェニルポリシランを用いたが、エチルフェニルポリ
シラン、ブチルフェニルポリシラン、ジブチルポリシラ
ン、ジペンチルポリシラン、メチルブチルポリシラン、
ビフェニルメチルポリシラン、メチルトリルポリシラ
ン、トリメチルフェニルポリシジシラン、ジフェニルジ
メチルポリジシラン、ジヘキシルポリシラン、シクロへ
キシルメチルポリシランでもよい。
【００３９】（実施の形態２）下記のカラーインクを用
いること以外は実施例１と同様にして、カラーフィルタ
ーを得た。ポリシラン層のはがれが観察されず、透過率
は１％以下で、カラーフィルターとして十分着色され
た。
いること以外は実施例１と同様にして、カラーフィルタ
ーを得た。ポリシラン層のはがれが観察されず、透過率
は１％以下で、カラーフィルターとして十分着色され
た。
【００４０】グリーンインク C.I.Basic green4 １部 アセトニトリル ２６部 水 ６３部 レッドインク C.I.Basic Red1 １部 アセトニトリル ２６部 水 ６３部 ブルーインク C.I.Basic Blue1 １部 アセトニトリル ２６部 水 ６３部 上記実施例に記載された染料の以外に、塩基性染料のＣ
ｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ（C.I.）としては、ベーシック・
レッド２、ベーシック・レッド２７、ベーシック・バイ
オレット３、ベーシック・バイオレット７、ベーシック
・バイオレット１０、ベーシック・ブルー３、ベーシッ
ク・ブルー７７、ベーシック・プルー１２４、ベーシッ
ク・グリーン１、ベーシック・イエロー１１、ベーシッ
ク・バイオレット２１などを使用してもよい。
ｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ（C.I.）としては、ベーシック・
レッド２、ベーシック・レッド２７、ベーシック・バイ
オレット３、ベーシック・バイオレット７、ベーシック
・バイオレット１０、ベーシック・ブルー３、ベーシッ
ク・ブルー７７、ベーシック・プルー１２４、ベーシッ
ク・グリーン１、ベーシック・イエロー１１、ベーシッ
ク・バイオレット２１などを使用してもよい。
【００４１】
【発明の効果】本発明では、インクジェットプリント方
式で着色することにより、液に浸漬する工程がなく、ポ
リシラン膜はがれが発生しない。上記カラーパターン潜
像が形成されたポリシラン層に対して、インクジェット
プリント方式でＲ，Ｇ，Ｂの３色に対応する親水性イン
クを用いて１回の工程で着色を行うことにより、着色さ
れたポリシランパターンを得ることができる。従って、
工程数が大幅に減少できる。
式で着色することにより、液に浸漬する工程がなく、ポ
リシラン膜はがれが発生しない。上記カラーパターン潜
像が形成されたポリシラン層に対して、インクジェット
プリント方式でＲ，Ｇ，Ｂの３色に対応する親水性イン
クを用いて１回の工程で着色を行うことにより、着色さ
れたポリシランパターンを得ることができる。従って、
工程数が大幅に減少できる。
【００４２】また、構造式（Ｉ）で示されるポリシラン
は有機溶媒によく溶解し、膜の形成性もよいため、均一
な感光層が形成できる。
は有機溶媒によく溶解し、膜の形成性もよいため、均一
な感光層が形成できる。
【００４３】本発明による表示装置用カラーフィルター
の製造方法を採用により、Ｒ，Ｇ，Ｂの混色がなく、ポ
リシラン層の膜はがれなどの問題を生じず、かつ、３色
同時着色できる単純な工程で、安価で高精細なカラーフ
ィルターを提供することができる。
の製造方法を採用により、Ｒ，Ｇ，Ｂの混色がなく、ポ
リシラン層の膜はがれなどの問題を生じず、かつ、３色
同時着色できる単純な工程で、安価で高精細なカラーフ
ィルターを提供することができる。
【図１】本発明の表示装置用カラーフィルターの製造工
程を示す模式図である。
程を示す模式図である。
【図２】本発明の表示装置用カラーフィルターの断面図
及び透視斜視図である。
及び透視斜視図である。
【符号の説明】 １ ガラス基板 ２ ポリシラン層 ３ マスクパターン ４ 紫外線 ５ カラーインク ６ ブラックマトリックス ２２ 薄膜トランジスタ基板 ２３ 対向基板 ２４ シール材 ２５ 画素電極 ２６ 信号電極 ２７ 走査電極 ２８ 薄膜トランジスタ ２９ ＩＴＯ膜 ３０ カラーパターン ３１ ブラックマトリックス ３３ 液晶層 ３４ 配向膜 ３５ 偏光板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｂ４１Ｊ 2/01 Ｃ０９Ｄ 11/00 Ｃ０９Ｄ 11/00 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｙ
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上に設けられたポリシランからなる
感光層を紫外線露光することによって、カラーパターン
の潜像を形成する工程と、親水性インクを用いたインク
ジェット方式により着色する工程とを有することを特徴
とするカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２】 前記ポリシランが構造式（Ｉ）で表わさ
れることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ
ーの製造方法。 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、同―または異なっ
て、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化
水素残基、および脂環式炭化水素残基のいずれでもよ
く、これらの基は置換基を有してもよく、ｍおよびｎは
整数である。） - 【請求項３】 前記親水性インクに含まれる着色材料
が、塩基性染料であることを特徴とする請求項１乃至２
に記載のカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25211696A JPH1096810A (ja) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25211696A JPH1096810A (ja) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | カラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1096810A true JPH1096810A (ja) | 1998-04-14 |
Family
ID=17232704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25211696A Pending JPH1096810A (ja) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1096810A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6399257B1 (en) * | 1999-03-10 | 2002-06-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Color filter manufacturing method, color filter manufactured by the method, and liquid crystal device employing the color filter |
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-
1996
- 1996-09-25 JP JP25211696A patent/JPH1096810A/ja active Pending
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