JPH0933910A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程が簡易かつ高スループットで製造す
ることができ、かつ周辺部の色のにじみのない各画素ご
との色再現性の良好なカラーフィルタを備えた、高品位
なカラー画像の表示が可能な液晶表示装置の製造方法を
提供する。 【解決手段】 露光した部分１０８のみが親水性となっ
ておりその他の部分は撥水性なので、前記の露光した部
分１０８のみが選択的に赤色に着色され、その他の部分
は着色液で着色されることなくむしろ撥水するので赤色
が滲むことがなく、露光した部分１０８のみに赤色の色
セル１０７Ｒを形成することができる。これと同様に、
緑色の色セル１０７Ｇや青色の色セルＢについてもガラ
ス基板１０６上に形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、色セルの周縁部に
色のにじみの無いカラーフィルタを備えて色再現性や表
示品質の良好なカラー画像の表示が可能な液晶表示装
置、およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は、一般に、互いに対向配
置されて画素を形成する電極をそれぞれ有する 2枚の電
極基板が間隙を有して対向配置され、その間隙に周囲を
封止されて液晶層が挟持されて、その主要部が構成され
ている。

【０００３】液晶表示装置におけるこのような概要構造
は、単純マトリックス型液晶表示装置にも、アクティブ
マトリックス型液晶表示装置にもあてはまる。

【０００４】単純マトリックス型液晶表示装置において
は、複数の走査電極と複数の信号電極とが直角に交差す
るように間隙を有して対向配置され、その間隙に液晶層
が挟持されて各交差部分ごとに画素が形成されている。

【０００５】アクティブマトリックス型液晶表示装置に
おいては、アクティブマトリックス基板上に各画素ごと
に配設された画素電極と対向基板上に形成された対向電
極とが間隙を有して対向配置され、その間隙に液晶層が
挟持されて、各素電極と対向電極とが対向する部分ごと
に画素が形成される。

【０００６】液晶表示装置の中でも、特に平面的な画面
に任意のカラー画像を表示することが可能な液晶表示装
置においては、一般にカラーフィルタが用いられてい
る。

【０００７】カラーフィルタは、 2枚の電極基板のうち
少なくともいずれか一方の基板に例えば赤・緑・青（Ｒ
・Ｇ・Ｂ）、あるいはイエロー・マゼンタ・シアン（Ｙ
・Ｍ・Ｃ）のような三原色、あるいはカラー表示を可能
とする色相の着色セルが各画素ごとに配列された構造に
形成されている。

【０００８】例えば、単純マトリックス駆動方式のカラ
ー型ドットマトリックス型液晶表示装置においては、横
方向に帯状にパターニングされた走査電極を備えた走査
電極基板と、縦方向に帯状にパターニングされた信号電
極とカラーフィルタとを備えた信号電極基板とを、走査
電極と信号電極とがほぼ直角に交差するようにそれらの
間に間隙（セルギャップ）を有して対向配置し、その間
隙に液晶組成物を挟持させ、基板の周囲を封止した構造
に形成されている。

【０００９】また、アクティブマトリックス駆動方式の
カラー型液晶表示装置においては、例えばアモルファス
シリコン（以下、ａ−Ｓｉと略称）を半導体層として用
いた薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと略称）をスイッ
チング素子として用いるとともに、それに接続された画
素電極と走査線及び信号線とを備えたＴＦＴアレイ基板
と、このＴＦＴアレイ基板に対面して画素電極との間で
間隙を有して対向配置される対向電極を備えた対向基板
とを有しており、例えばＲ・Ｇ・Ｂのような三原色のそ
れぞれに対応する色セルを各画素ごとに配置してなるカ
ラーフィルタがいずれか一方の基板上に形成されてい
る。

【００１０】そして前記間隙に周囲を封止して液晶組成
物が注入されて液晶層が形成されている。液晶層として
は、一般に正または負の誘電率異方性を有するネマティ
ック型液晶が用いられる。

【００１１】ネマティック型液晶による光の偏波面の旋
回性を用いて各画素ごとに光の偏波面の旋回を制御し、
液晶セルを上下から挟持する 2枚の偏光板の偏光効果と
あいまって、液晶セルを透過する光の透過／遮断を制御
して画像を表示する。

【００１２】このようなカラー画像表示を行う液晶表示
装置においては、一般にカラーフィルタが用いられる。

【００１３】カラーフィルタの製造方法としては、被着
色層に顔料を分散してカラーフィルタを形成する顔料分
散法、被着色層に染料を分散してカラーフィルタを形成
する染料分散法、あるいは電着によってカラーフィルタ
を形成する電着法、あるいは凹版やオフセット版のよう
な印刷版を用いてカラーフィルタの着色材料をインキと
して基板上に印刷してカラーフィルタを形成する印刷法
等が提案されており、すでに実用化されているものもあ
る。

【００１４】しかしながら、このような従来の製造方法
では、いずれもカラーフィルタの製造工程にフォトファ
ブリケーションプロセスを多用しているため、カラーフ
ィルタの製造工程が極めて煩雑なものとなるという問題
がある。

【００１５】そして、ますます微細化する画素サイズに
対応するためには、さらにフォトファブリケーションプ
ロセスの精度が要求されるが、これを精度良くかつ高歩
留まりで製造することは容易ではないという問題があ
る。

【００１６】また印刷法においては、カラーフィルタを
形成する際にはフォトリソグラフィ等の技術は直接は用
いられないが、印刷版の製造が煩雑であるので上記と同
じような問題が生じる。しかも印刷法では、さらに微細
な画素寸法に対応した精確なカラーフィルタの形成が実
際上困難であるという問題もある。

【００１７】そこで、上記のようなフォトリソグラフィ
プロセスを用いない微細なカラーフィルタの製造方法と
して、インクジェット装置を用いて着色材料を受容層に
投射してカラーフィルタを形成するという製造方法が提
案されている。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、そのよ
うなインクジェット方式でカラーフィルタを製造する場
合、従来は投射された着色材料が被着した着色部分の周
辺部で、隣接する他色の着色材料と色が混ざり合ってに
じみが生じてしまい、鮮明な色の再現が困難となるとい
う問題があった。

【００１９】このため、インクジェット装置により極め
て良好なスループットでカラーフィルタの形成が可能と
なっても、得られたカラーフィルタの色の再現性が低
い。従って、そのような従来のインクジェット方式によ
るカラーフィルタを用いた液晶表示装置におけるカラー
画像の色再現性及び表示品位が低くなるという問題があ
った。

【００２０】本発明は、このような問題を解決するため
に成されたもので、その目的は、製造工程が簡易かつ高
スループットで製造することができ、かつ周辺部の色の
にじみのない各画素ごとの色再現性の良好なカラーフィ
ルタを備えた、高品位なカラー画像の表示が可能な液晶
表示装置の製造方法を提供することにある。

【００２１】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、第１の電極を有する第１の基板と、前記第１の基板
に間隙を保持しつつ対向配置され、前記第１の基板と対
向して画素を形成する第２の電極を有する第２の基板
と、前記第１の基板または前記第２の基板のうち少なく
とも一方に前記各画素に対応した部分ごとに複数色の色
セルが着色受容層内に着色形成されたカラーフィルタ
と、前記各画素を避けて非画素部を覆うように形成され
た遮光膜と、前記第１の基板と前記第２の基板との間の
前記間隙に挟持された液晶層とを備えた液晶表示装置に
おいて、前記カラーフィルタの各色セルと前記遮光膜と
のうちの一方は前記着色受容層における親水性の部分に
着色形成されており、他方は前記着色受容層における親
油性の部分に着色形成されていることを特徴とする液晶
表示装置である。

【００２２】また、本発明の液晶表示装置の製造方法
は、第１の電極を有する第１の基板と、前記第１の基板
と対向して画素を形成する第２の電極を有する第２の基
板とを、間隙を保持しつつ対向配置する工程と、前記第
１の基板または前記第２の基板のうち少なくとも一方に
前記各画素に対応した部分ごとに複数色の色セルを着色
受容層内に着色形成してカラーフィルタを形成する工程
と、前記各画素を避けて非画素部を覆うように遮光膜を
形成する工程と、前記第１の基板と前記第２の基板との
間の前記間隙に液晶層を挟持させる工程とを備えた液晶
表示装置の製造方法において、エネルギビームが照射さ
れると親油性に変性するが本来は親水性である着色受容
層を、前記第１の基板または前記第２の基板のうち少な
くとも一方の上に塗布する工程と、前記複数色のうちの
一色ずつを着色する際に、該一色に対応する部分に前記
エネルギビームを選択的に照射して、該部分を親油性に
変性させ、該部分を前記色の油性の着色液で選択的に前
記色に着色することを前記複数色にわたって行なってカ
ラーフィルタを形成する工程と、前記着色受容層のうち
前記カラーフィルタを形成する工程では未だ親油性に変
性されることなく親水性として残しておいた部分を、黒
色系の水性の着色液で選択的に黒色系に着色して遮光膜
を形成する工程とを具備することを特徴とする液晶表示
装置の製造方法である。

【００２３】また、第１の電極を有する第１の基板と、
前記第１の基板と対向して画素を形成する第２の電極を
有する第２の基板とを、間隙を保持しつつ対向配置する
工程と、前記第１の基板または前記第２の基板のうち少
なくとも一方に前記各画素に対応した部分ごとに複数色
の色セルを着色受容層内に着色形成してカラーフィルタ
を形成する工程と、前記各画素を避けて非画素部を覆う
ように遮光膜を形成する工程と、前記第１の基板と前記
第２の基板との間の前記間隙に液晶層を挟持させる工程
とを備えた液晶表示装置の製造方法において、エネルギ
ビームが照射されると親水性に変性するが本来は親油性
である着色受容層を、前記第１の基板または前記第２の
基板のうち少なくとも一方の上に塗布する工程と、前記
複数色のうちの一色ずつを着色する際に、該一色に対応
する部分に前記エネルギビームを選択的に照射して、該
部分を親水性に変性させ、該部分を前記色の水性の着色
液で選択的に前記色に着色することを前記複数色にわた
って行なってカラーフィルタを形成する工程と、前記着
色受容層のうち前記カラーフィルタを形成する工程では
未だ親水性に変性されることなく親油性として残してお
いた部分を、黒色系の油性の着色液で選択的に黒色系に
着色して遮光膜を形成する工程とを具備することを特徴
とする液晶表示装置の製造方法である。

【００２４】また、上記の第２又は第３番目の項目とし
て記載の液晶表示装置の製造方法において、前記カラー
フィルタを形成する工程および前記遮光膜を形成する工
程のうち少なくともいずれか一方は、インクジェット装
置を用いて前記着色液を前記着色受容層の所定部分に投
射する工程を含んでいることを特徴する液晶表示装置の
製造方法である。

【００２５】また、上記の第２乃至第４番目の項目いず
れかに記載の液晶表示装置の製造方法において、前記エ
ネルギビームとして、紫外線を照射することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法である。

【００２６】また、上記の第５番目の項目として記載の
液晶表示装置の製造方法において、前記着色受容層とし
て、紫外線変性型高分子樹脂膜を用いることを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法である。

【００２７】なお、上記の親水性である着色受容層とし
ては、例えば紫外線変性型高分子樹脂膜として、親水性
アクリル樹脂に化学増幅レジストＰ（t-BOCST ）／オニ
ウム塩を添加したものなどを好適に用いることができ
る。

【００２８】また、上記の親油性である着色受容層とし
ては、例えば例えば紫外線変性型高分子樹脂膜として、
疎水性アクリル樹脂に化学増幅レジストＰ（t-BOCST ）
／オニウム塩を添加したものなどを好適に用いることが
できる。

【００２９】また、上記の水性の着色液としては、例え
ば、水溶性の染料、ベーシック・レッド２７、ベーシッ
ク・ブルー７などを好適に用いることができる。

【００３０】また、上記の油性の着色液としては、例え
ば、油溶性染料、ソルベント・レッド１２５、ソルベン
ト・ブルー６７、ソルベント・イエロー２５などを好適
に用いることができる。

【００３１】本発明においては、上述のように、カラー
フィルタを選択的に露光して、着色受容層に親水性の部
分と親油性の部分とを作り分ける。つまり、互いに隣接
した部分、特に遮光膜とカラーフィルタの各色セルとの
間では、色のにじみが生じやすかったので、この遮光膜
と各色セルとで、一方は受容層として親水性とし、他方
は親油性とする。これにより、カラーフィルタの色セル
および遮光層を、互いににじむことなくしかも簡易に形
成することができる。つまり、従来の染色法等でカラー
フィルタを形成する際の、レジスト現像やエッチング・
プロセスやリフトオフプロセスといった、極めて煩雑な
多段階を要するフォトリソグラフィプロセスをほとんど
用いること無く、カラーフィルタをインクジェット方式
あるいは浸漬（染色）方式で極めて簡易に、かつ色セル
等がにじむことなく、製造することができる。その結
果、本発明によれば、カラーフィルタを備えて良好なカ
ラー表示を行なうことのできる液晶表示装置を、簡易か
つ高スループットで安価に提供することができる。しか
もこのとき、従来のインクジェット方式や染色方式では
問題となっていた各画素に対応した色セルの周辺部での
色のにじみの問題を解消して、各画素ごとの色再現性の
良好なカラーフィルタを備えた高品位なカラー画像の表
示が可能な液晶表示装置を提供することができる。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶表示装置
の実施の形態を、図面を参照しつつ詳細に説明する。

【００３３】（実施の形態１）図１は、本発明に係る液
晶表示装置の概要を示す断面図、図２はそのなかでも特
に本発明の要部であるカラーフィルタを中心とした製造
方法の概要を示す図である。

【００３４】まず、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等が配
設された一般的なＴＦＴアレイ基板を形成するプロセス
と同様に、各種の成膜およびパターニング等を繰り返し
て、ａ−ＳｉＴＦＴ１０１、走査線および信号線（図示
省略）、画素電極１０２など、一般にＴＦＴアレイ基板
として必要な種々の構造物をガラス基板１０３上に配設
して、ＴＦＴアレイ基板１０４を形成する。

【００３５】次に、図２（ａ）に示すように、対向基板
１０５のガラス基板１０６の上に全面にわたって撥水性
（親油性）受容層１０７を塗布する。

【００３６】次に、カラーフィルタとしての各色セルご
とに着色する。例えば、まず赤色を所定の部分１０８に
着色して赤色セルを形成するために、図２（ｂ）に示す
ように、着色したい位置には開口が開けられているマス
クパターン１０９を備えたフォトマスク１１０を用い
て、赤色セルを形成したい部分１０８に選択的にエネル
ギビームとして紫外線を照射して、その部分１０８を親
水性に変性させる。

【００３７】続いて、赤の染料や顔料を水に分散もしく
は溶解した、水溶性の着色液中に、上記の撥水性受容層
１０７が形成されたガラス基板１０６全体を浸漬する。
このとき、前記の露光した部分１０８のみが親水性とな
っておりその他の部分は撥水性なので、前記の露光した
部分１０８のみが選択的に赤色に着色され、その他の部
分は着色液で着色されることなくむしろ撥水するので赤
色が滲むことがなく、露光した部分１０８のみに赤色の
色セル１０７Ｒを形成することができる。これと同様
に、緑色の色セル１０７Ｇや青色の色セルＢについても
ガラス基板１０６上に形成する。これを図２（ｃ）に示
す。

【００３８】次に、色セル１０７Ｒ、１０７Ｇ、１０７
Ｂが十分に乾燥した後、有機溶剤に黒色の染料または顔
料を分散もしくは溶解した油性の着色液中に上記の色セ
ル１０７Ｒ、１０７Ｇ、１０７Ｂが形成されたガラス基
板１０６全体を浸漬して、上記の工程では露光しないま
まに残しておいた撥水性（親油性）の部分１１１を黒色
に着色する。このとき、撥水性の部分１１１は油性の着
色液との馴染みが良いので油性の着色液によって黒色に
着色されて、この部分が図２（ｄ）に示すように遮光膜
１１２となる。こうして、色セル１０７Ｒ、１０７Ｇ、
１０７Ｂおよび遮光膜１１２を含むカラーフィルタ層１
１３を得ることができる。

【００３９】その後、配向膜材料を全面に塗布し、ラビ
ング処理を行なって、配向膜１１４を形成した。一方、
対向基板１０５においては、透明電極としてＩＴＯ膜を
形成してこれを対向電極１１５とし、その上に配向膜材
料を形成した後ラビング処理を行なって、配向膜１１６
を形成した。続いて、両基板１０４、１０５の周縁に沿
って（ただし注入口（図示省略）を除いて）封着材１１
７を印刷した。そしてＴＦＴアレイ基板１０４の表面に
間隙材（スペーサ）１１８として粒径 6μｍの積水ファ
インケミカル社製のミクロパールを散布した。

【００４０】次に、配向膜１１４、１１６が互いに対向
してそれぞれのラビング方向が90度となるように両基板
１０４、１０６を対向配置し、加熱して封着材１１７を
硬化させて、両基板１０４、１０６を貼り合わせた。

【００４１】次に、通常の方法によって注入口から液晶
組成物としてＺＬＩ−1565（Ｅ．メルク社製）にＳ811
を 0.1ｗｔ％添加したものを注入して液晶層１１９と
し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止した。こうして、本
発明によるカラーフィルタを備えてカラー表示が可能
で、縦 100画素×横 100画素の合計 10000画素の表示容
量を有する、液晶表示装置の主要部の構造を製造するこ
とができる。

【００４２】なお、上記の着色は、上記第１の実施例と
同様に撥水性受容層１０７が形成されたガラス基板１０
６全体を着色液の中に浸漬する以外にも、例えば、着色
液をインクジェット法で撥水性受容層１０７に対して投
射して着色してもよいことは言うまでもない。

【００４３】（実施の形態２）この第２の実施の形態に
おいては、上記の第１の実施の形態の場合の撥水性受容
層１０７の代りに（むしろこれとは逆に）親水性受容層
を、対向基板１０５のガラス基板１０６の上に全面にわ
たって塗布し、着色したい部分１０８に対応する位置に
は開口が開けられているマスクパターン１０９を備えた
フォトマスク１１０を用いて、その着色したい部分１０
８に選択的に紫外線を照射して、その部分１０８を撥水
性に変性させ、染料あるいは顔料を含んだ油性の着色液
で着色する。そして、露光しないで残しておいた部分
を、水に黒色の染料または顔料を分散もしくは溶解した
水性の着色液で黒色に着色する。

【００４４】こうして、色セル１０７Ｒ、１０７Ｇ、１
０７Ｂと、それらが形成された部分以外のいわゆる非画
素領域として遮光が必要な部分に遮光膜１１２とを、互
いに色のにじみ無く形成して、色再現性および表示品位
の高いカラー画像表示に寄与するカラーフィルタを形成
することができる。

【００４５】なお、上記の着色は、上記第１の実施の形
態と同様に撥水性受容層１０７が形成されたガラス基板
１０６全体を着色液の中に浸漬すればよい。

【００４６】そして、ＴＦＴ１０１や画素電極１０２と
いった、カラーフィルタ以外の各種構造物については、
上記第１の実施例と同様に形成すればよい。

【００４７】（実施の形態３）この第３の実施の形態に
おいては、上記の第１の実施の形態の場合の撥水性受容
層１０７の代りに（これとは逆に）親水性受容層を、対
向基板１０５のガラス基板１０６の上に全面にわたって
塗布し、着色したい部分１０８に対応する位置には開口
が開けられているマスクパターン１０９を備えたフォト
マスク１１０を用いて、その着色したい部分１０８に選
択的に紫外線を照射して、その部分１０８を撥水性に変
性させ、染料あるいは顔料を含んだ油性の着色液で着色
する。そして露光しないで残しておいた部分を、水に黒
色の染料または顔料を分散もしくは溶解した水性の着色
液で黒色に着色する。そして本実施例においては、上記
実施例とは異なり、上記の各色の着色を、インクジェッ
ト装置を用いたインクジェット法で行なうことが特徴的
な点である。

【００４８】即ち、親水性受容層のうち、着色したい部
分に対して紫外線を露光しその部分を撥水性にする。

【００４９】次に、インクジェット装置を用いて、赤ま
たは緑または青の染料や顔料を有機溶剤に分散もしくは
溶解した溶滴を、前記の着色したい最適位置に対して投
射して着色を行なう。この着色工程を、赤・青・緑の 3
色それぞれに対して各々行なって、カラーフィルタの各
色セルを着色形成する。

【００５０】そして、露光のされていない親水性の部分
に対して、水に黒色の染料または顔料を分散もしくは溶
解した液をインクジェット装置を用いて投射して、その
部分を黒色に着色し遮光膜１１２を形成する。

【００５１】次に、 230℃で 1時間にわたって焼成し、
染料もしくは顔料で着色されたカラーフィルタ層１１３
を焼き固める。続いて、保護層（図示省略）としてアク
リル樹脂をスピンコートで全面均一に 2μｍ着膜した
後、焼成する。そして対向電極１１５としてＩＴＯ膜を
150ｎｍマスクスパッタ法にて形成する。その後の、配
向膜１１６等を形成する工程以降については、上記各実
施例と同様にして、本発明に係る第３の実施の形態の液
晶表示装置を作製することができる。

【００５２】

【発明の効果】本発明によれば、カラー表示型液晶表示
素子に用いるカラーフィルタの製造工程を簡略化し、こ
れを用いたカラー表示型液晶表示素子を安価に提供する
ことができる。

【００５３】また、アクティブマトリックス基板と対向
基板との組立の誤差を考慮せずに済み開口率の高い明る
いカラー表示型液晶表示素子を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る実施の形態の液晶表示装置の概要
を示す断面図である。

【図２】本発明に係る実施の形態の液晶表示装置のなか
でも特に本発明の要部であるカラーフィルタを中心とし
た、製造方法の概要を示す図である。

【符号の説明】

１０１…ａ−ＳｉＴＦＴ、１０２…画素電極、１０３…
ガラス基板、１０４…ＴＦＴアレイ基板、１０５…対向
基板、１０６…ガラス基板、１０７…撥水性（親油性）
受容層、１０７Ｒ…赤色セル、１０７Ｇ…緑色セル、１
０７Ｂ…青色セル、１１２…遮光膜、１１３…カラーフ
ィルタ層、１１４…配向膜、１１５…対向電極、１１６
…配向膜、１１７…封着材、１１８…間隙材（スペー
サ）、１１９…液晶層

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１の電極を有する第１の基板と、前記
   第１の基板に間隙を保持しつつ対向配置され、前記第１
   の基板と対向して画素を形成する第２の電極を有する第
   ２の基板と、前記第１の基板または前記第２の基板のう
   ち少なくとも一方に前記各画素に対応した部分ごとに複
   数色の色セルが着色受容層内に着色形成されたカラーフ
   ィルタと、前記各画素を避けて非画素部を覆うように形
   成された遮光膜と、前記第１の基板と前記第２の基板と
   の間の前記間隙に挟持された液晶層とを備えた液晶表示
   装置において、 前記カラーフィルタの各色セルと前記遮光膜とのうちの
   一方は前記着色受容層における親水性の部分に着色形成
   されており、他方は前記着色受容層における親油性の部
   分に着色形成されていることを特徴とする液晶表示装
   置。
2. 【請求項２】 第１の電極を有する第１の基板と、前記
   第１の基板と対向して画素を形成する第２の電極を有す
   る第２の基板とを、間隙を保持しつつ対向配置する工程
   と、前記第１の基板または前記第２の基板のうち少なく
   とも一方に前記各画素に対応した部分ごとに複数色の色
   セルを着色受容層内に着色形成してカラーフィルタを形
   成する工程と、前記各画素を避けて非画素部を覆うよう
   に遮光膜を形成する工程と、前記第１の基板と前記第２
   の基板との間の前記間隙に液晶層を挟持させる工程とを
   備えた液晶表示装置の製造方法において、 エネルギビームが照射されると親油性に変性するが本来
   は親水性である着色受容層を、前記第１の基板または前
   記第２の基板のうち少なくとも一方の上に塗布する工程
   と、 前記複数色のうちの一色ずつを着色する際に、該一色に
   対応する部分に前記エネルギビームを選択的に照射し
   て、該部分を親油性に変性させ、該部分を前記色の油性
   の着色液で選択的に前記色に着色することを前記複数色
   にわたって行なってカラーフィルタを形成する工程と、 前記着色受容層のうち前記カラーフィルタを形成する工
   程では未だ親油性に変性されることなく親水性として残
   しておいた部分を、黒色系の水性の着色液で選択的に黒
   色系に着色して遮光膜を形成する工程とを具備すること
   を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
3. 【請求項３】 第１の電極を有する第１の基板と、前記
   第１の基板と対向して画素を形成する第２の電極を有す
   る第２の基板とを、間隙を保持しつつ対向配置する工程
   と、前記第１の基板または前記第２の基板のうち少なく
   とも一方に前記各画素に対応した部分ごとに複数色の色
   セルを着色受容層内に着色形成してカラーフィルタを形
   成する工程と、前記各画素を避けて非画素部を覆うよう
   に遮光膜を形成する工程と、前記第１の基板と前記第２
   の基板との間の前記間隙に液晶層を挟持させる工程とを
   備えた液晶表示装置の製造方法において、 エネルギビームが照射されると親水性に変性するが本来
   は親油性である着色受容層を、前記第１の基板または前
   記第２の基板のうち少なくとも一方の上に塗布する工程
   と、 前記複数色のうちの一色ずつを着色する際に、該一色に
   対応する部分に前記エネルギビームを選択的に照射し
   て、該部分を親水性に変性させ、該部分を前記色の水性
   の着色液で選択的に前記色に着色することを前記複数色
   にわたって行なってカラーフィルタを形成する工程と、 前記着色受容層のうち前記カラーフィルタを形成する工
   程では未だ親水性に変性されることなく親油性として残
   しておいた部分を、黒色系の油性の着色液で選択的に黒
   色系に着色して遮光膜を形成する工程とを具備すること
   を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
4. 【請求項４】 請求項２又は３記載の液晶表示装置の製
   造方法において、 前記カラーフィルタを形成する工程および前記遮光膜を
   形成する工程のうち少なくともいずれか一方は、インク
   ジェット装置を用いて前記着色液を前記着色受容層の所
   定部分に投射する工程を含んでいることを特徴する液晶
   表示装置の製造方法。
5. 【請求項５】 請求項２乃至４いずれかに記載の液晶表
   示装置の製造方法において、 前記エネルギビームとして、紫外線を照射することを特
   徴とする液晶表示装置の製造方法。
6. 【請求項６】 請求項５記載の液晶表示装置の製造方法
   において、 前記着色受容層として、紫外線変性型高分子樹脂膜を用
   いることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。