JPH11100337A - 1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの同時製造方法 - Google Patents
1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの同時製造方法Info
- Publication number
- JPH11100337A JPH11100337A JP9263337A JP26333797A JPH11100337A JP H11100337 A JPH11100337 A JP H11100337A JP 9263337 A JP9263337 A JP 9263337A JP 26333797 A JP26333797 A JP 26333797A JP H11100337 A JPH11100337 A JP H11100337A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- butanediol
- distilled
- purity
- diacetoxybutane
- side stream
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 64
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 11
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 15
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- MWMZFSMADXAYHC-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butane-1,2-diol Chemical class CC(O)=O.CCC(O)CO MWMZFSMADXAYHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000001273 butane Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 claims abstract 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 87
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 25
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- MWWXARALRVYLAE-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxybut-3-enyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC(C=C)OC(C)=O MWWXARALRVYLAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 claims description 5
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 18
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 12
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XUKSWKGOQKREON-UHFFFAOYSA-N 1,4-diacetoxybutane Chemical compound CC(=O)OCCCCOC(C)=O XUKSWKGOQKREON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 10
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 9
- KPTMSNPLDZKSST-UHFFFAOYSA-N glyceryl diacetate or diacetin Chemical compound CC(=O)OC(CC)COC(C)=O KPTMSNPLDZKSST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 9
- 238000006137 acetoxylation reaction Methods 0.000 description 8
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 8
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- FLVQOAUAIBIIGO-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCCCO FLVQOAUAIBIIGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- KUDQSWWPCLAILS-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxybut-1-enyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(CC)=COC(C)=O KUDQSWWPCLAILS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NMPJHMFXHISVBR-UHFFFAOYSA-N 4-(oxolan-2-yloxy)butan-1-ol Chemical compound OCCCCOC1CCCO1 NMPJHMFXHISVBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VIRPYONDKXQHHU-UHFFFAOYSA-N 4-acetyloxybut-3-enyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCC=COC(C)=O VIRPYONDKXQHHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 acetate ester Chemical class 0.000 description 3
- PQLVXDKIJBQVDF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;hydrate Chemical compound O.CC(O)=O PQLVXDKIJBQVDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CEAFMKFVSIOXOA-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxybutan-2-yl acetate Chemical compound CCC(CO)OC(C)=O CEAFMKFVSIOXOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMNRJWUOBYYCRX-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxybutyl acetate Chemical class CCCC(O)OC(C)=O BMNRJWUOBYYCRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZLQSYFOTWOIDC-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl acetate Chemical compound CCC(O)COC(C)=O BZLQSYFOTWOIDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVCLXNHIJBDDTH-UHFFFAOYSA-N but-1-en-2-yl acetate Chemical compound CCC(=C)OC(C)=O BVCLXNHIJBDDTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 2
- 238000011027 product recovery Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKTCBAGSMQIFNL-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrofuran Chemical compound C1CC=CO1 JKTCBAGSMQIFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 3-acetyloxybutyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C)CCOC(C)=O MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFGRALUHHHDIQI-UHFFFAOYSA-N butyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)CO VFGRALUHHHDIQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940023913 cation exchange resins Drugs 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
ジオールを簡便な方法で精製し、工業原料として利用可
能な高純度の1,2−ブタンジオールとして1,4−ブ
タンジオールと同時に製造する方法の提供。 【解決手段】 1,2−ブタンジオール、1,4−ブタ
ンジオール及びそれらの酢酸エステル類を含む混合物か
ら高純度の1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタン
ジオールを製造する方法において、同一の蒸留塔の頭頂
部から濃縮された1,2−ブタンジオールの酢酸エステ
ル類を含む留分を留出させ、上部側流から高純度の1,
2−ブタンジオールを留出させ、中部側流から濃縮され
た1,4−ブタンジオールの酢酸エステル類を含む留分
を留出させ、下部側流又は缶出より高純度の1,4−ブ
タンジオールを得る。
Description
オール及び1,4−ブタンジオールの同時製造方法に関
する。詳しくは、蒸留方法の改良により高純度の1,2
−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールを同時に
製造する方法に関する。1,4−ブタンジオールはPB
T樹脂、γ−ブチロラクトンの原料や、有機溶剤、ポリ
テトラメチレンエーテルグリコール(PTMG)の原料
として用いられるテトラヒドロフランの原料として有用
な化合物である。一方、1,2−ブタンジオールはポリ
エステル或いはポリウレタンその他の原料として興味が
持たれていたものの、工業的に安価に製造する方法はこ
れ迄知られていない。
素化して得られるジアセトキシブタンを加水分解してブ
タンジオールを製造する方法は従来から知られている。
この場合、ブダジエン、酢酸及び分子状酸素を貴金属触
媒の存在下に反応させてジアセトキシブテンを得る方法
が、例えば特開昭50−4011号公報に開示されてお
り、得られたジアセトキシブテンを触媒の存在下に水素
添加してジアセトキシブタンを製造する方法が、例えば
特開昭51−29426号公報に開示されており、更に
このジアセトキシブタンを触媒の存在下に加水分解し
て、1,4−ブタンジオールを製造する方法が、例えば
特開昭52−7909号、同52−65208号、特開
平6−172235号各公報等に開示されている。
子状酸素とを貴金属触媒(主としてパラジウム、テルル
を担体に担持した触媒)の存在下に反応させジアセトキ
シブテンを得ている。この反応では、1,4−ジアセト
キシブテンが主成分として得られるが、同時に異性体で
ある1,2−ジアセトキシブテンも少量生成する。ジア
セトキシブテンは異性体の混合物のまま水添工程に送ら
れ水素添加により、ジアセトキシブタンの混合物とされ
る。ここで得られるジアセトキシブタンは、1,4−及
び1,2−ジアセトキシブタンを主成分とする反応液で
あるが、分離することなく加水分解工程に送られる。加
水分解工程では、ジアセトキシブタンと水を固体酸触媒
特に好ましくは強酸性イオン交換樹脂と反応器中で接触
反応させ、水、酢酸、未反応ジアセトキシブタン、モノ
アセトキシブタン、ブタンジオール等からなる反応混合
物にされる。反応混合物は、水、酢酸分離塔で水、酢酸
を留出させ塔底よりブタンジオールを含む塔底液を抜き
出す。塔床液は未反応物回収塔に送られ、塔頂より軽沸
物、1,2−ジアセトキシブタン、1,2−ブタンジオ
ール等からなる留出物を留出させ、上部側流より1,4
−ジアセトキシブタン、1−ヒドロキシ−4−アセトキ
シブタンを主成分とする未反応物を留分として回収し、
未反応留分は加水分解反応器に循環し、塔底より1,4
−ブタンジオールを主成分とする缶出液を得、該缶出液
を蒸留することによって、留出物として1,4−ブタン
ジオールを得る方法を提供している。
−ブタンジオールについては、未反応物回収塔で得られ
た1,2−ブタンジオールを含む留出物は、混合物であ
り工業原料として用いるには純度が低く、また、新たに
蒸留塔を設けて精製するのは経済的でないため、焼却廃
棄せざるを得ないという問題点がある。本発明は、従来
焼却廃棄されていた粗1,2−ブタンジオールを簡便な
方法で精製し、工業原料として利用可能な高純度の1,
2−ブタンジオールを1,4−ブタンジオールと同時に
製造する方法を提供することを目的とする。
に鑑み鋭意検討した結果、ブタジエンを原料として、ブ
タンジオールの酢酸エステルの混合物を得、該酢酸エス
テルを水と固体酸触媒の存在下接触反応させ、加水分解
した後、反応液から水、酢酸を分離した生成物より、塔
頂より軽沸物及び1,2−ブタンジオールの酢酸エステ
ルを留出させ、上部側流より高純度の1,2−ブタンジ
オールを留出させ、中部側流より1,4−ブタンジオー
ルの未反応酢酸エステルを留出させ、1,4−ブタンジ
オールの未反応酢酸エステルは加水分解に循環し、塔底
より1,4−ブタンジオールを缶出させることによって
その目的が達成されることを見出し、本発明を完成する
に至った。
オール、1,4−ブタンジオール及びそれらの酢酸エス
テル類を含む混合物から高純度の1,2−ブタンジオー
ル及び1,4−ブタンジオールを製造する方法におい
て、同一の蒸留塔の頭頂部から濃縮された1,2−ブタ
ンジオールの酢酸エステル類を含む留分を留出させ、上
部側流から高純度の1,2−ブタンジオールを留出さ
せ、中部側流から濃縮された1,4−ブタンジオールの
酢酸エステル類を含む留分を留出させ、下部側流又は缶
出より高純度の1,4−ブタンジオールを得ることを特
徴とする1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジ
オールの同時製造方法、にある。以下、本発明を詳細に
説明する。
シ化反応、それに引き続く水素化、加水分解工程を経
て、1,4−ブタンジオールを製造する方法は、従来か
ら知られている。アセトキシ化反応は、パラジウム系触
媒の存在下、ブタジエン、酢酸及び分子状酸素を反応さ
せる公知の方法により行われる。パラジウム系触媒とし
ては、パラジウム金属又はその塩を単独で、或いは、助
触媒としてビスマス、セレン、アンチモン、テルル、銅
等の金属又はその塩と組み合わせて用いられる。触媒
は、シリカ、アルミナ、活性炭等の担体に担持させて用
いることが好ましい。
℃の温度範囲で、常圧以上の圧力下で実施される。酢酸
の使用量は溶媒を兼ねて大過剰に用いることが望まし
く、通常、共役ジエン1モルに対して、5〜60モル、
好ましくは10〜40モルである。なお、アセトキシ化
反応は公知の固定床方式、流動床方式、触媒懸濁方式等
任意の方法で実施される。反応生成物より、ジアセトキ
シブテンと水、酢酸及びモノアセトキシブテンを含むそ
の他の軽沸物とは蒸留によって分離される。モノアセト
キシブテンを含む水、酢酸を主成分とする留出物は、酢
酸精製工程に送られる。
1,2−ジアセトキシブテン、及び高沸物等からなり、
高沸物を分離した後、水添されジアセトキシブタンの混
合物となる。水添反応は、パラジウム、ルテニウム等の
貴金属触媒の存在下に、ジアセトキシブテンを水素と接
触させ、通常40〜180℃の温度範囲で、常圧以上の
反応圧力で反応させることによって実施される。なお、
水素化反応は、公知の固定床方式、流動床方式、触媒懸
濁方式等の任意の方式で実施される。
媒の存在下、水と接触させて加水分解されてブタンジオ
ールが得られる。本発明に用いられる原料のジアセトキ
シブタンとしては、1,4−ジアセトキシブタンを主体
とするものの外、その製造及び精製処理工程によって
は、1,4−ジアセトキシブタンと1,2−ジアセトキ
シブタン、1,3−ジアセトキシブタン等との異性体混
合物も含まれる。また、ある場合には、加水分解反応を
ある程度進行させた後、水及び酢酸を除いた1,4−ジ
アセトキシブタン、1,4−モノヒドロキシアセトキシ
ブタン及び1,4−ブタンジオールの混合物も利用でき
る。
シリカ−アルミナ、活性土、シリカ、陽イオン交換樹脂
等が挙げられるが、陽イオン交換樹脂が加水分解速度が
大きく、しかもテトラヒドロフラン等の副生物が少ない
ので好ましい。陽イオン交換樹脂としては、スチレンと
ジビニルベンゼンとの共重合体を母体とするスルホン酸
型強酸性イオン交換樹脂が好適であり、ゲル型樹脂でも
ポーラス型樹脂でもよい。その具体例としては、例えば
三菱化学(株)製SK1B,SK104,SK108,
PK208,PK216,PK228等が挙げられる。
好ましくは40〜90℃で実施される。温度が低過ぎる
と反応速度が著しく遅く、多量の触媒を必要とし、他
方、温度が余り高過ぎると、テトラヒドロフラン、ジヒ
ドロフラン等への副反応が増加する。反応圧力について
は、特に限定はされないが、通常は常圧〜10kg/c
m2・Gの範囲である。
反応原料であると同時に溶媒でもあるので、化学量論量
以上用いられる。ジアセトキシブタンと水とのモル比
は、通常2〜100、好ましくは4〜50の範囲で用い
られる。加水分解反応は、回分式でも連続式等の任意の
方法で実施される。イオン交換樹脂を用いる場合、懸濁
状態で反応させる方式でも、イオン交換樹脂の充填層に
反応原料を通過させる方式でもよく、工業的には固定床
連続法が有利である。
成分とする留分と未反応物を含む粗ブタンジオールとに
分けられる。水、酢酸を主成分とする留分は、ジアセト
キシブテンの水添で発生する酢酸ブチル等を若干含んで
いるが、酢酸精製工程に送られ、先に述べた、アセトキ
シ化反応から回収される酢酸と共に、精製される。粗ブ
タンジオールは、1,2−ジアセトキシブタン(1,2
DAB)、1−ヒドロキシ−2−アセトキシブタン
(1,2HAB)、2−ヒドロキシ−1−アセトキシブ
タン(2,1HAB)、1,2−ブタンジオール(1,
2BG)、1,4−ジアセトキシブタン(1,4DA
B)、1−ヒドロキシ−4−アセトキシブタン(1,4
HAB)1,4−ブタンジオール(1,4BG)、2−
(4−ヒドロキシブトキシ)テトラヒドロフラン及び構
造が不明な高沸物と若干の軽沸物等を含んでいる。
5208号各公報の方法によれば、粗ブタンジオール
は、蒸留により、軽沸物、1,2DAB、1,2HA
B、2,1HAB及び1,2BGを主体とする留分(留
分)と、1,4DAB、1,4HABを主体とする留
分(留分)と、1,4BG及び高沸を含む缶出液とに
分けられる。この蒸留は、50〜400Torr(0.
006〜0.05MPa)の減圧下、塔底温度150〜
250℃で実施される。留分は、1,2BGを含んで
いるが純度が低い(約70重量%)ために工業原料とし
て利用することが出来ずに焼却廃棄される。留分は加
水分解反応に返送され未反応物を加水分解し、1,4B
Gを製造する、或いは、THF製造の原料として利用さ
れる。
り若干の不純物、例えばヒドロキシアセトキシブタン、
2−(4−ヒドロキシブトキシ)テトラヒドロフラン等
の不純物を若干含む留分を留出させ、塔頂側留として製
品の1,4−ブタンジオールを留出させ、高沸物を缶出
させる。必要に応じ、塔頂の留分は未反応物回収塔に循
環され、高沸物は更に有効成分を回収する為に処理され
る場合もある。この蒸留は、50〜400Torr
(0.006〜0.05MPa)の減圧下、塔底温度1
50〜250℃で実施される。
1,2−ブタンジオールの純度が低く、工業的には利用
不可能な品質の留分しか製造できない。工業的に利用で
きるような純度の1,2−ブタンジオールの簡便に製造
方法を種々検討した結果、未反応物回収塔において、塔
頂より軽沸分を含む濃縮された1,2−ジアセトキシブ
タンを主な成分として含む留分を留出し、上部側流より
高純度の1,2−ブタンジオールを留出させ、中部側流
より未反応の1,4−ジアセトキシブタン、1−ヒドロ
キシ−4−アセトキシブタンを含む留分を留出させ、缶
出より1,4−ブタンジオールを抜き出すことによって
達成される。
65208号各公報の方法によれば、未反応回収塔の塔
頂より、1,2−ブタンジオールを含む留分を留出させ
る方法が開示されている。この方法で得られた、1,2
−ブタンジオールは純度が低いので、該留分を別の蒸留
塔で蒸留し、未反応の1,2−ブタンジオール酢酸エス
テル類と1,2−ブタンジオールを分離し高純度の1,
2−ブタンジオールを得ることもできる。しかしなが
ら、この方法では、新たに蒸留塔を設置しなければなら
ず、経済的な1,2−ブタンジオールの製造法とは言い
難い、本発明で開示する方法に従えば、新たに蒸留塔を
設置すること無く、ブタンジオールの酢酸エステルの加
水分解物から、1,4−ブタンジオールを製造すると同
時に、高純度の1,2−ブタンジオールを製造すること
が出来る。
は、ブタジエン、酢酸、酸素を原料としPd/Teを担
持した触媒の存在下、3〜10MPa、40〜100℃
で反応させ、ジアセトキシブテンを得、高沸を分離した
後、Pd及びRuを触媒として、2〜10MPa、40
〜120℃で水添しジアセトキシブタンを合成し、合成
したジアセトキシブタンは水と共に、イオン交換樹脂を
触媒とした反応器に送られ加水分解される。ジアセトキ
シブタンと水のモル比は1:10〜1:3程度の範囲が
好適である。反応温度40〜80℃、反応時間1〜10
時間で加水分解され、酢酸分離塔に送られる。酢酸分離
塔は常圧〜50Torr(0.095〜0.006MP
a)の減圧で操作され酢酸、水及び若干の軽沸物が留出
する。缶出より、未反応物を含む粗1,4−ブタンジオ
ールを抜き出し未反応物分離塔に送る。
段で、上部側流は塔頂より10〜15段、中部側流は塔
頂より20〜30段、フィード段は塔頂より35〜40
段の蒸留塔で、300〜20Torr(0.04〜0.
002MPa)、好ましくは200〜100Torr
(0.027〜0.013MPa)の減圧で、還流比通
常10〜150、好ましくは20〜50で運転される。
塔頂より1,2−ジアセトキシブタン、1−ヒドロキシ
−2−アセトキシブタン、2−ヒドロキシ−1−アセト
キシブタンを主成分とする留分を留出させ、上部側流よ
り純度の高い1.2−ブタンジオールを留出させ、中部
側流より未反応物である1,4−ジアセトキシブタン、
1−ヒドロキシ−4−アセトキシブタンを留出させ、缶
出、又は下部側流より1,4−ブタンジオールを抜き出
す。なお、下部側流は、塔底より5〜10段を指す。塔
底の温度は、150〜230℃で運転されるが、ブタン
ジオールの分解を防止するためには200℃以下が好ま
しい。1,2−ジアセトキシブタン、1,4−ジアセト
キシブタン等の未反応物を含む留分は必要に応じて、加
水分解反応に送り加水分解することもできる。本発明に
従えば、ブタジエンのアセトキシ化反応によって製造さ
れる、ブタンジオールの酢酸エステルの混合物から、容
易に工業原料として使用できる純度の高い1,2−ブタ
ンジオールを製造することが出来る。
明するが、本発明はその要旨を越えない限り実施例に限
定されるものではない。なお、以下の「%」は「重量
%」を表わす。 実施例1 ブタジエンと酢酸をアセトキシ化触媒(Pd 5重量
%、Te/Pd原子比0.25、シリカ担体)の存在
下、圧力8MPa、温度70〜85℃の条件で、窒素で
希釈した空気を用いて連続的に反応させ、1,4−ジア
セトキシブテン、1,2−ジアセトキシブテンを含む酢
酸溶液を得た。この溶液を蒸留塔で蒸留し、酢酸及び高
沸物を除去した後、水素添加し1,4−ジアセトキシブ
タン、1,2−ジアセトキシブタン等を含む混合物を得
た。水素添加反応は、Pdを活性炭に担持した触媒を用
い、圧力6MPa、温度50〜70℃で行い、得られた
反応液を更にRuを担持した触媒を用いて、同一圧力、
温度80〜90℃で含まれるカルボニル化合物を水素添
加することによって実施した。得られた反応液5800
kg/hrを第2酢酸蒸留塔より回収した酢酸を含む水
4400kg/hrと共に、強酸性イオン交換樹脂(三
菱化学(株)製 SK1BH)35m3 を保持する第1
反応器に送入し、50℃で加水分解を行った。加水分解
反応液は、理論段10を有する第1蒸留塔で蒸留し、塔
頂より酢酸を含む5400kg/hrの水を留出させ、
塔底より4800kg/hrの生成物を得た。塔底より
得た缶出液は、第3蒸留塔より回収した酢酸を含む水4
200kg/hrと共に、強酸性イオン交換樹脂(同
上)25m3 を保有する第2反応器に送入し、50℃で
加水分解反応を行った。加水分解反応液は、理論段10
段を有する蒸留塔で蒸留し、塔頂より酢酸を含む440
0kg/hrの水を留出させ第1反応器に送入した。塔
底より4600kg/hrの缶出液を得た。塔底より得
た缶出液は、未反応物分離塔の中部側流1500kg及
び水3000kg/hrと共に、強酸性イオン交換樹脂
(同上)25m3 を保有する第3反応器に送入し、50
℃で加水分解反応を行った。加水分解反応液は、理論段
10段を有する蒸留塔で蒸留し、塔頂より酢酸を含む4
200kg/hrの水を留出させ第1反応器に送入し
た。塔底より4900kg/hrの缶出液を得た。
ン0.2%、1,2−ブタンジオールのモノ酢酸エステ
ル2.1%、1,2−ブタンジオール8.7%、1,4
−ジアセトキシブタン7.1%、1−ヒドロキシ−4−
アセトキシブタン38.1%、1,4−ブタンジオール
43.4%を含有していた。この加水分解生成物を、理
論段96段の充填物を有するSUS316製の精製塔で
蒸留した。蒸留は、塔頂圧力77Torr、還流比80
で操作し、塔頂より1,2−ジアセトキシブタンを主成
分とする留分350kg/hrを留去し、最上段から1
5段目に相当する部分より純度95%の1,2−ブタン
ジオールを170kg/hrで留出させ、最上段から2
5段目に相当する部分より1,4−ジアセトキシブタ
ン、1−ヒドロキシ−4−アセトキシブタン、1,4−
ブタンジオールを含有する留分2780kg/hrを留
去し一部を第3加水分解反応器に供給し残部をTHFの
原料として使用した。塔底からは1,4−ブタンジオー
ル(純度99.5%、1−ヒドロキシ−4−アセトキシ
ブタン0.03%、2−(4−ヒドロキシブトキシ)テ
トラヒドロフラン0.45%を含む)1600kg/h
rを得た。
た粗1,2−ブタンジオールを簡便な方法で精製し、工
業原料として利用可能な高純度の1,2−ブタンジオー
ルとして1,4−ブタンジオールと同時に製造すること
ができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 1,2−ブタンジオール、1,4−ブタ
ンジオール及びそれらの酢酸エステル類を含む混合物か
ら高純度の1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタン
ジオールを製造する方法において、同一の蒸留塔の頭頂
部から濃縮された1,2−ブタンジオールの酢酸エステ
ル類を含む留分を留出させ、上部側流から高純度の1,
2−ブタンジオールを留出させ、中部側流から濃縮され
た1,4−ブタンジオールの酢酸エステル類を含む留分
を留出させ、下部側流又は缶出より高純度の1,4−ブ
タンジオールを得ることを特徴とする1,2−ブタンジ
オール及び1,4−ブタンジオールの同時製造方法。 - 【請求項2】 1,2−ブタンジオール、1,4−ブタ
ンジオール及びそれらの酢酸エステル類を含む混合物
が、ブタジエン、酢酸及び分子状酸素をパラジウム系触
媒の存在下で反応させ、次いで得られたジアセトキシブ
テン類を貴金属触媒の存在下に水素添加して、次いで得
られたジアセトキシブタン類を固体酸触媒の存在下に加
水分解して得られたものである請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 高純度の1,2−ブタンジオールを抜き
出す蒸留塔の上部側流が、蒸留塔の塔頂よりその理論段
数の約1ないし2割下の段にある請求項1又は2に記載
の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26333797A JP3995312B2 (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | 1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの同時製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26333797A JP3995312B2 (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | 1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの同時製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11100337A true JPH11100337A (ja) | 1999-04-13 |
| JP3995312B2 JP3995312B2 (ja) | 2007-10-24 |
Family
ID=17388081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26333797A Expired - Fee Related JP3995312B2 (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | 1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの同時製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3995312B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11100338A (ja) * | 1997-09-29 | 1999-04-13 | Mitsubishi Chemical Corp | 1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの製造方法 |
| JP2019026741A (ja) * | 2017-07-31 | 2019-02-21 | 三菱ケミカル株式会社 | 1,2−アルカンジオール組成物及び水性混合物 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5219610A (en) * | 1975-08-04 | 1977-02-15 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Process for preparation of high purity butanediol |
| JPS5265208A (en) * | 1975-11-20 | 1977-05-30 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Manufacture of 1,4-butanediol |
| JPS59142801A (ja) * | 1983-01-26 | 1984-08-16 | バスフ アクチエンゲゼルシヤフト | 多数の留分から成る供給物質を蒸留分解するための蒸留塔 |
| JPH06172235A (ja) * | 1992-12-10 | 1994-06-21 | Mitsubishi Kasei Corp | 1,4−ブタンジオールの精製方法 |
| JPH11100338A (ja) * | 1997-09-29 | 1999-04-13 | Mitsubishi Chemical Corp | 1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの製造方法 |
-
1997
- 1997-09-29 JP JP26333797A patent/JP3995312B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5219610A (en) * | 1975-08-04 | 1977-02-15 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Process for preparation of high purity butanediol |
| JPS5265208A (en) * | 1975-11-20 | 1977-05-30 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Manufacture of 1,4-butanediol |
| JPS59142801A (ja) * | 1983-01-26 | 1984-08-16 | バスフ アクチエンゲゼルシヤフト | 多数の留分から成る供給物質を蒸留分解するための蒸留塔 |
| JPH06172235A (ja) * | 1992-12-10 | 1994-06-21 | Mitsubishi Kasei Corp | 1,4−ブタンジオールの精製方法 |
| JPH11100338A (ja) * | 1997-09-29 | 1999-04-13 | Mitsubishi Chemical Corp | 1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11100338A (ja) * | 1997-09-29 | 1999-04-13 | Mitsubishi Chemical Corp | 1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの製造方法 |
| JP2019026741A (ja) * | 2017-07-31 | 2019-02-21 | 三菱ケミカル株式会社 | 1,2−アルカンジオール組成物及び水性混合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3995312B2 (ja) | 2007-10-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5124366B2 (ja) | 99%を越える純度を有する1,6−ヘキサンジオールの製法 | |
| EP0601571B1 (en) | Method for purifying 1,4-butanediol, by hydrogenation and distillation | |
| JPH0635404B2 (ja) | 粗1,4−ブタンジオ−ルの精製方法 | |
| KR20070059116A (ko) | 1,4-부탄디올의 정제 방법 | |
| JP3959993B2 (ja) | 1,4−ブタンジオールの製造方法 | |
| JP3995313B2 (ja) | 1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの製造方法 | |
| JP3995312B2 (ja) | 1,2−ブタンジオール及び1,4−ブタンジオールの同時製造方法 | |
| CN1379746A (zh) | 同时生产马来酸酐和其氢化衍生物的方法 | |
| KR101659171B1 (ko) | 트랜스-1,4-사이클로헥산디메탄올의 직접 제조방법 | |
| JPH0629280B2 (ja) | 粗テトラヒドロフランの精製方法 | |
| KR101639487B1 (ko) | 공정 단순화를 위한 트랜스-1,4-사이클로헥산디메탄올 제조장치 | |
| KR20190063704A (ko) | 1,4-사이클로헥산디메탄올 제조 방법 | |
| US20250162967A1 (en) | Process for producing a refined 1,4-butanediol stream | |
| JP3991513B2 (ja) | ブタンジオールの製造方法 | |
| JP3744097B2 (ja) | 1,4−ブタンジオールの製造方法 | |
| JP3572636B2 (ja) | ブタンジオールの製造方法 | |
| JP3956442B2 (ja) | ブタンジオールの製造方法 | |
| JP3956444B2 (ja) | ブタンジオールの製造方法 | |
| JP3959793B2 (ja) | ブタンジオールの製造方法 | |
| US4105679A (en) | Process for producing a cylic ether from an acetic ester of a 1,4-glycol | |
| CA2247991C (en) | Process for preparing 1,6 hexane diol with a level of purity over 99 % | |
| JP3903513B2 (ja) | ジアセトキシブテンの製造方法 | |
| JP2003089694A (ja) | テトラヒドロフランの精製方法 | |
| JP3463326B2 (ja) | 1,4−ブタンジオール及びテトラヒドロフランの製造方法 | |
| JPH0395136A (ja) | メチルイソブチルケトンの製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040908 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070416 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070424 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070621 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070621 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070731 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070731 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100810 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100810 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100810 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110810 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120810 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130810 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |