JPH1110665A - 支持体、および、それを用いた溶液製膜フイルムの製造方法 - Google Patents
支持体、および、それを用いた溶液製膜フイルムの製造方法Info
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- JPH1110665A JPH1110665A JP16443597A JP16443597A JPH1110665A JP H1110665 A JPH1110665 A JP H1110665A JP 16443597 A JP16443597 A JP 16443597A JP 16443597 A JP16443597 A JP 16443597A JP H1110665 A JPH1110665 A JP H1110665A
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- H05K1/02—Details
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- H05K1/0393—Flexible materials
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/381—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ドロップアウト等の発生がなく、平滑な表面を
もつ磁気記録媒体に好適な極めて表面性に優れた溶液製
膜フイルムが製造可能な支持体を提供する。 【解決手段】フイルムが接触する表面の４０μｍ以上の
介在物が４個/ｃｍ2以下であり、かつ、２０μｍ以上の
介在物が３０μｍ以内に近接して存在する介在物群が２
群/ｃｍ2以下であることを特徴とする支持体を用いる。
もつ磁気記録媒体に好適な極めて表面性に優れた溶液製
膜フイルムが製造可能な支持体を提供する。 【解決手段】フイルムが接触する表面の４０μｍ以上の
介在物が４個/ｃｍ2以下であり、かつ、２０μｍ以上の
介在物が３０μｍ以内に近接して存在する介在物群が２
群/ｃｍ2以下であることを特徴とする支持体を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は表面性に優れた支持
体、およびそれを用いた溶液製膜フイルムの製造方法に
関するものである。
体、およびそれを用いた溶液製膜フイルムの製造方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般にその融点以上の温度で溶融状態と
なる有機ポリマを口金から溶融膜として吐出するとフイ
ルムが成形される。しかし、融点と分解温度の近い、ま
たは融点が分解温度より高いポリマは、溶融と同時に分
解が起こるため、適当な溶媒にポリマを溶かし、得られ
たポリマ溶液を支持体上にキャストして、その後溶媒を
除去する溶液製膜法によりフイルムに成形される。溶液
製膜により成形されるポリマとしては、例えば、セルロ
ース、酢酸ビニル、あるいは芳香族ポリアミド、芳香族
ポリイミドなどが挙げられる。溶液製膜法により得られ
るフイルムは、溶融製膜により得られるフイルムに較
べ、生産性が悪く、コスト高となるが、一般に、強度、
耐熱性、表面性等が優れている。
なる有機ポリマを口金から溶融膜として吐出するとフイ
ルムが成形される。しかし、融点と分解温度の近い、ま
たは融点が分解温度より高いポリマは、溶融と同時に分
解が起こるため、適当な溶媒にポリマを溶かし、得られ
たポリマ溶液を支持体上にキャストして、その後溶媒を
除去する溶液製膜法によりフイルムに成形される。溶液
製膜により成形されるポリマとしては、例えば、セルロ
ース、酢酸ビニル、あるいは芳香族ポリアミド、芳香族
ポリイミドなどが挙げられる。溶液製膜法により得られ
るフイルムは、溶融製膜により得られるフイルムに較
べ、生産性が悪く、コスト高となるが、一般に、強度、
耐熱性、表面性等が優れている。
【０００３】例えばパラ系芳香族ポリアミドフイルム
は、その耐熱性、高剛性を活かして、磁気記録分野等に
使用されているが、近年、磁気記録媒体の高密度化、小
型化などの要請からより一層の表面性の向上による高機
能化が求められるようになっている。
は、その耐熱性、高剛性を活かして、磁気記録分野等に
使用されているが、近年、磁気記録媒体の高密度化、小
型化などの要請からより一層の表面性の向上による高機
能化が求められるようになっている。
【０００４】一般的に、溶液製膜フイルムを製膜する際
の支持体の表面には傷や介在物が多いので、特開平１−
２４５４１５号では平滑な表面を得るために支持体と反
対面側を利用することが提案されている。しかし、フイ
ルムを巻取った際に支持体側の面とその反対面は互いに
接するため、粗大な突起が多い支持体面側の表面がもう
一方の面に転写する。このため、支持体側の反対の面の
みららず、支持体側になる表面についても平滑にする必
要があった。また、製膜や磁気記録媒体製造時にガイド
ロールに触れて粗大突起が削れると、削れ粉がフイルム
表面に付着してドロップアウト等が発生するという問題
があるので、支持体側になる表面の突起を減少させる必
要があった。
の支持体の表面には傷や介在物が多いので、特開平１−
２４５４１５号では平滑な表面を得るために支持体と反
対面側を利用することが提案されている。しかし、フイ
ルムを巻取った際に支持体側の面とその反対面は互いに
接するため、粗大な突起が多い支持体面側の表面がもう
一方の面に転写する。このため、支持体側の反対の面の
みららず、支持体側になる表面についても平滑にする必
要があった。また、製膜や磁気記録媒体製造時にガイド
ロールに触れて粗大突起が削れると、削れ粉がフイルム
表面に付着してドロップアウト等が発生するという問題
があるので、支持体側になる表面の突起を減少させる必
要があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、かかる
問題点を解決するために支持体の表面性と、この支持体
を使用して製膜したフイルムの表面性との関係を鋭意検
討した結果、従来では得られなった平滑性のすぐれたフ
イルムを提供できる支持体、およびそれを用いた溶液製
膜フイルムの製造方法を提供することである。
問題点を解決するために支持体の表面性と、この支持体
を使用して製膜したフイルムの表面性との関係を鋭意検
討した結果、従来では得られなった平滑性のすぐれたフ
イルムを提供できる支持体、およびそれを用いた溶液製
膜フイルムの製造方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、フイルムが接
触する表面の４０μｍ以上の介在物が４個/ｃｍ2以下で
あり、かつ、２０μｍ以上の介在物が３０μｍ以内に近
接して存在する介在物群が２群/ｃｍ2以下であることを
特徴とする支持体およびそれを用いた溶液製膜フイルム
の製造方法である。
触する表面の４０μｍ以上の介在物が４個/ｃｍ2以下で
あり、かつ、２０μｍ以上の介在物が３０μｍ以内に近
接して存在する介在物群が２群/ｃｍ2以下であることを
特徴とする支持体およびそれを用いた溶液製膜フイルム
の製造方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明において支持体の形態は、
ドラムあるいはエンンドレスベルト等が好ましい。ま
た、支持体の材質は、鉄、ステンレス（ＳＵＳ）、ニッ
ケル、チタン、タンタル、銅等が好ましく、さらにこれ
らの表面にクロム、ニッケル等のメッキや表面処理が施
されていてもよい。
ドラムあるいはエンンドレスベルト等が好ましい。ま
た、支持体の材質は、鉄、ステンレス（ＳＵＳ）、ニッ
ケル、チタン、タンタル、銅等が好ましく、さらにこれ
らの表面にクロム、ニッケル等のメッキや表面処理が施
されていてもよい。
【０００８】支持体がエンドレスベルトの場合は、その
厚みが０．５〜３ｍｍであると平面性が良好になるので
好ましく、より好ましくは１〜２ｍｍである。また幅は
生産性の点から広いほうがよいが使用上からは１〜４ｍ
が好ましい。
厚みが０．５〜３ｍｍであると平面性が良好になるので
好ましく、より好ましくは１〜２ｍｍである。また幅は
生産性の点から広いほうがよいが使用上からは１〜４ｍ
が好ましい。
【０００９】この支持体の表面の４０μｍ以上の介在物
の頻度は４個/ｃｍ2以下の必要があり、好ましくは３個
/ｃｍ2以下、より好ましくは２．５個/ｃｍ2以下、さら
に好ましくは０．５個/ｃｍ2以下である。４個/ｃｍ2よ
り多い場合には製膜時に介在物がフイルムに転写し、粗
大突起となって良好な表面を得ることができない。
の頻度は４個/ｃｍ2以下の必要があり、好ましくは３個
/ｃｍ2以下、より好ましくは２．５個/ｃｍ2以下、さら
に好ましくは０．５個/ｃｍ2以下である。４個/ｃｍ2よ
り多い場合には製膜時に介在物がフイルムに転写し、粗
大突起となって良好な表面を得ることができない。
【００１０】また、２０μｍ以上の介在物が３０μｍ以
内に近接して存在するものを介在物群と定義したとき、
介在物群が２群/ｃｍ2以下であることが必要であり、好
ましくは１群/ｃｍ2以下、さらに好ましくは０．８群/
ｃｍ2以下である。介在物群が２群/ｃｍ2より多い場合
には製膜時にフイルムに転写し、粗大突起となって良好
な表面を得ることができない。
内に近接して存在するものを介在物群と定義したとき、
介在物群が２群/ｃｍ2以下であることが必要であり、好
ましくは１群/ｃｍ2以下、さらに好ましくは０．８群/
ｃｍ2以下である。介在物群が２群/ｃｍ2より多い場合
には製膜時にフイルムに転写し、粗大突起となって良好
な表面を得ることができない。
【００１１】支持体の表面に存在する７０μｍ以上の介
在物は２個/ｃｍ2以下が好ましい。より好ましくは１個
/ｃｍ2以下、更に好ましくは０．７個/ｃｍ2以下であ
る。２個/ｃｍ2より多い場合にはフイルムに転写してピ
ンホールが発生することがある。
在物は２個/ｃｍ2以下が好ましい。より好ましくは１個
/ｃｍ2以下、更に好ましくは０．７個/ｃｍ2以下であ
る。２個/ｃｍ2より多い場合にはフイルムに転写してピ
ンホールが発生することがある。
【００１２】このような表面性を有する支持体を得るに
は、まず支持体となる金属材料中の不純物が少ないこと
が重要であり、支持体の形に加工後、表面を十分研磨し
て平滑性をもたせることが好ましい。さらにこの上にク
ロム、金、銀、ニッケルなどのメッキやクロムの薄膜酸
化水和物皮膜などの表面処理を施してもよい。
は、まず支持体となる金属材料中の不純物が少ないこと
が重要であり、支持体の形に加工後、表面を十分研磨し
て平滑性をもたせることが好ましい。さらにこの上にク
ロム、金、銀、ニッケルなどのメッキやクロムの薄膜酸
化水和物皮膜などの表面処理を施してもよい。
【００１３】本発明の溶液製膜フイルムとは、ポリマと
溶媒を主成分とする溶液を口金より支持体状にキャスト
後、溶媒を除去して成形されるフイルムである。
溶媒を主成分とする溶液を口金より支持体状にキャスト
後、溶媒を除去して成形されるフイルムである。
【００１４】本発明の溶液製膜フイルムの製造方法にお
いて、溶媒の種類はポリマを溶解するものであれば特に
限定はされない。また、溶液中のポリマの濃度はポリマ
の種類にもよるが、一般的に４〜４０ｗｔ％であり、溶
液中にはポリマと溶媒以外に目的に応じて、滑剤、可塑
剤、導電性粒子、酸化防止剤その他の添加剤がブレンド
されていてもよい。
いて、溶媒の種類はポリマを溶解するものであれば特に
限定はされない。また、溶液中のポリマの濃度はポリマ
の種類にもよるが、一般的に４〜４０ｗｔ％であり、溶
液中にはポリマと溶媒以外に目的に応じて、滑剤、可塑
剤、導電性粒子、酸化防止剤その他の添加剤がブレンド
されていてもよい。
【００１５】本発明の溶液製膜フイルムの製造方法が適
用されるポリマは特に限定されないが、好ましくは、芳
香族ポリアミド、芳香族ポリイミド、ポリアリレート、
ポリカーボネート、二酢酸セルロースや三酢酸セルロー
スなどのセルロースポリマ、酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコールなどが挙げられ、特に、芳香族ポリアミドが好
ましい。製膜するフイルムの厚さは限定されないが、好
ましくは１〜５０μｍである。特に１５μｍ以下の薄い
フイルムになると、支持体の介在物がフイルムに転写し
て支持体面だけでなく、反支持体面まで表面性を悪化さ
せるので、本発明の効果が大きい。
用されるポリマは特に限定されないが、好ましくは、芳
香族ポリアミド、芳香族ポリイミド、ポリアリレート、
ポリカーボネート、二酢酸セルロースや三酢酸セルロー
スなどのセルロースポリマ、酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコールなどが挙げられ、特に、芳香族ポリアミドが好
ましい。製膜するフイルムの厚さは限定されないが、好
ましくは１〜５０μｍである。特に１５μｍ以下の薄い
フイルムになると、支持体の介在物がフイルムに転写し
て支持体面だけでなく、反支持体面まで表面性を悪化さ
せるので、本発明の効果が大きい。
【００１６】本発明の溶液製膜フイルムの製造方法を芳
香族ポリアミドフイルムを例にとって説明するがこれに
限定されるものではない。
香族ポリアミドフイルムを例にとって説明するがこれに
限定されるものではない。
【００１７】芳香族ポリアミドポリマは、酸クロリドと
ジアミンから得る場合は、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭ
Ｐ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極性溶媒
中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合な
どで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリ
ドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するので、水
酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムなどの
無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノ
ールアミン、ジエタノールアミンなどの有機の中和剤が
使用される。また、イソシアネートとカルボン酸との反
応により芳香族ポリアミドポリマを製造する場合は、非
プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれ
る。
ジアミンから得る場合は、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭ
Ｐ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極性溶媒
中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合な
どで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリ
ドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するので、水
酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムなどの
無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノ
ールアミン、ジエタノールアミンなどの有機の中和剤が
使用される。また、イソシアネートとカルボン酸との反
応により芳香族ポリアミドポリマを製造する場合は、非
プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれ
る。
【００１８】これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液と
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。
【００１９】フイルムの表面に微細な凹凸をつけるため
に粒子を添加することが好ましい。粒子の添加方法は、
粒子を予め溶媒中に十分スラリ−化した後、重合用溶媒
または希釈用溶媒として添加する方法や、製膜原液を調
製した後に直接添加する方法などがあるが特に限定され
ない。
に粒子を添加することが好ましい。粒子の添加方法は、
粒子を予め溶媒中に十分スラリ−化した後、重合用溶媒
または希釈用溶媒として添加する方法や、製膜原液を調
製した後に直接添加する方法などがあるが特に限定され
ない。
【００２０】製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば
塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化リチウム、硝
酸リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポ
リマ濃度は高い方が生産性向上につながるが、好ましく
は４〜４０％である。
塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化リチウム、硝
酸リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポ
リマ濃度は高い方が生産性向上につながるが、好ましく
は４〜４０％である。
【００２１】上記のように調製された製膜原液は、いわ
ゆる溶液製膜法によりフイルムに成形される。溶液製膜
法には、製膜原液をエンドレスベルト、ドラム等の支持
体にキャスト後、乾燥、フイルムの剥離、熱処理を行う
乾式法、製膜原液乾燥工程を経ずに直接水中に押し出
し、溶媒抽出後熱処理を行う湿式法、支持体上で乾燥、
フイルム剥離後湿式工程に導入する乾湿式法、支持体上
で乾燥後支持体ごと湿式工程に導入する半乾半湿式法な
どがあるが、本発明のフイルムを得るには溶液膜を支持
体上にキャストする乾式法、乾湿式法または半乾半湿式
法が好ましい。
ゆる溶液製膜法によりフイルムに成形される。溶液製膜
法には、製膜原液をエンドレスベルト、ドラム等の支持
体にキャスト後、乾燥、フイルムの剥離、熱処理を行う
乾式法、製膜原液乾燥工程を経ずに直接水中に押し出
し、溶媒抽出後熱処理を行う湿式法、支持体上で乾燥、
フイルム剥離後湿式工程に導入する乾湿式法、支持体上
で乾燥後支持体ごと湿式工程に導入する半乾半湿式法な
どがあるが、本発明のフイルムを得るには溶液膜を支持
体上にキャストする乾式法、乾湿式法または半乾半湿式
法が好ましい。
【００２２】例えば、乾湿式法で製膜するは、まず該溶
液を口金からドラムやエンドレスベルト等の支持体上に
押し出して薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛
散させ薄膜が自己保持性をもつまで乾燥する。
液を口金からドラムやエンドレスベルト等の支持体上に
押し出して薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛
散させ薄膜が自己保持性をもつまで乾燥する。
【００２３】このように支持体状にキャストされた溶液
膜は熱風、支持体加熱あるいは赤外線加熱などの方法に
より乾燥を受け溶媒を除去される。乾燥条件は室温〜溶
媒の沸点＋２０℃、６０分以内の範囲であり、好ましく
は室温〜溶媒の沸点の範囲である。
膜は熱風、支持体加熱あるいは赤外線加熱などの方法に
より乾燥を受け溶媒を除去される。乾燥条件は室温〜溶
媒の沸点＋２０℃、６０分以内の範囲であり、好ましく
は室温〜溶媒の沸点の範囲である。
【００２４】上記乾式工程を終えたフイルムは湿式工程
に導入され、ここでフイルム中に含有されている溶媒や
不純物が除去される。この浴は一般に水系媒体からなる
ものであり、水の他に有機溶媒や無機塩等を含有しても
よい。一般には水分量は３０％以上、好ましくは５０％
以上含有され、浴温度は通常、０〜１００℃で使用され
る。
に導入され、ここでフイルム中に含有されている溶媒や
不純物が除去される。この浴は一般に水系媒体からなる
ものであり、水の他に有機溶媒や無機塩等を含有しても
よい。一般には水分量は３０％以上、好ましくは５０％
以上含有され、浴温度は通常、０〜１００℃で使用され
る。
【００２５】この湿式工程では剥離されたフイルムはか
かる浴中に緊張下で浸漬され、フイルム中の無機化合物
が、０．１％未満、好ましくは０．０５％以下になるま
で抽出される。
かる浴中に緊張下で浸漬され、フイルム中の無機化合物
が、０．１％未満、好ましくは０．０５％以下になるま
で抽出される。
【００２６】湿式工程を出たフイルムは更に乾燥、熱処
理が行われてフイルムとなる。そのときの温度は２００
〜４５０℃で２０秒以上２０分以下である。
理が行われてフイルムとなる。そのときの温度は２００
〜４５０℃で２０秒以上２０分以下である。
【００２７】このように形成されるフイルムはその製膜
工程中で、機械特性向上の目的で延伸が行なわれてもよ
い。延伸倍率は、巻き取り速度をキャスト速度で除した
値である縦延伸倍率が０．９５〜２．０、面倍率で０．
８〜４．０（面倍率とは延伸後のフイルム面積を延伸前
のフイルムの面積で除した値で定義する。１以下はリラ
ックスを意味する。）の範囲内であると局所厚みむら、
機械特性の点から好ましく、より好ましくは縦延伸倍率
が１．０５〜１．５、面倍率が１．１〜３．０である。
工程中で、機械特性向上の目的で延伸が行なわれてもよ
い。延伸倍率は、巻き取り速度をキャスト速度で除した
値である縦延伸倍率が０．９５〜２．０、面倍率で０．
８〜４．０（面倍率とは延伸後のフイルム面積を延伸前
のフイルムの面積で除した値で定義する。１以下はリラ
ックスを意味する。）の範囲内であると局所厚みむら、
機械特性の点から好ましく、より好ましくは縦延伸倍率
が１．０５〜１．５、面倍率が１．１〜３．０である。
【００２８】こうして得られたフイルムを巻き取って芳
香族ポリアミドフイルムが得られる。
香族ポリアミドフイルムが得られる。
【００２９】
【実施例】本発明の測定方法、効果の評価方法は次の方
法による。
法による。
【００３０】（１）介在物 支持体の表面をランダムに５０ｃｍ2、倍率１００倍の
顕微鏡で観察し、島状に存在する幅１０μｍ以上の不連
続部分を介在物とする。支持体材料中の不純物が原因で
発生する物や、研磨時に発生した傷等も介在物とする。
介在物の大きさはその長さ（長径）で表した。
顕微鏡で観察し、島状に存在する幅１０μｍ以上の不連
続部分を介在物とする。支持体材料中の不純物が原因で
発生する物や、研磨時に発生した傷等も介在物とする。
介在物の大きさはその長さ（長径）で表した。
【００３１】（２）粗大突起 支持体面側のフイルム表面について測定した。フイルム
表面１００ｃｍ2の範囲で、偏向下で、粗大突起を観
察、マーキングし、その部分の高さを波長０．５４μｍ
で多重干渉計を用いて観察して、干渉縞の数で高さを求
めた。三重環以上の粗大突起数が１個／ｃｍ2以下の場
合を○、それ以上のものを×とした。
表面１００ｃｍ2の範囲で、偏向下で、粗大突起を観
察、マーキングし、その部分の高さを波長０．５４μｍ
で多重干渉計を用いて観察して、干渉縞の数で高さを求
めた。三重環以上の粗大突起数が１個／ｃｍ2以下の場
合を○、それ以上のものを×とした。
【００３２】（３）ピンホール フイルム１０ｍ2を肉眼、あるいは５０倍の顕微鏡で観
察し、ピンホールの数が０．１個／ｍ2以下の場合は
○、０．１〜０．５個／ｍ2の場合は△、それ以上の場
合は×とした。
察し、ピンホールの数が０．１個／ｍ2以下の場合は
○、０．１〜０．５個／ｍ2の場合は△、それ以上の場
合は×とした。
【００３３】実施例１ Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）に芳香族ジアミン成分
として８５モル％に相当する２−クロルパラフェニレン
ジアミンと、１５モル％に相当する４、４−ジアミノジ
フェニルエ−テルとを溶解させ、これに９９モル％に相
当する２−クロルテレフタル酸クロリドを添加し、重合
前に４５ｎｍ径のコロイダルシリカを、ポリマ当たり
０．２ｗｔ％になるように添加して、２時間撹拌して重
合を完了した。これを水酸化リチウムで中和して、ポリ
マ濃度１０ｗｔ％、固有粘度２．６、溶液粘度３５００
ポイズ（３０℃）の芳香族ポリアミド溶液を得た。
として８５モル％に相当する２−クロルパラフェニレン
ジアミンと、１５モル％に相当する４、４−ジアミノジ
フェニルエ−テルとを溶解させ、これに９９モル％に相
当する２−クロルテレフタル酸クロリドを添加し、重合
前に４５ｎｍ径のコロイダルシリカを、ポリマ当たり
０．２ｗｔ％になるように添加して、２時間撹拌して重
合を完了した。これを水酸化リチウムで中和して、ポリ
マ濃度１０ｗｔ％、固有粘度２．６、溶液粘度３５００
ポイズ（３０℃）の芳香族ポリアミド溶液を得た。
【００３４】このポリマ溶液を５μｍカットのフィルタ
−を通した後、口金から表１に示した表面性をもつステ
ンレス製のエンドレスベルト上にキャストした。
−を通した後、口金から表１に示した表面性をもつステ
ンレス製のエンドレスベルト上にキャストした。
【００３５】このベルト上でポリマ溶液を１５０℃の熱
風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を有す
るフイルムをベルトから連続的に剥離した。次に３０℃
の水槽内へフイルムを導入して残存溶媒と中和で生じた
無機塩などを抽出し、さらに３００℃のテンタ−で１．
５分間水分の乾燥と熱処理を行なって厚さ５μｍの芳香
族ポリアミドフイルムを得た。この間にフイルム長手方
向と幅方向に各々１．２倍、１．３４倍延伸を行なっ
た。
風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を有す
るフイルムをベルトから連続的に剥離した。次に３０℃
の水槽内へフイルムを導入して残存溶媒と中和で生じた
無機塩などを抽出し、さらに３００℃のテンタ−で１．
５分間水分の乾燥と熱処理を行なって厚さ５μｍの芳香
族ポリアミドフイルムを得た。この間にフイルム長手方
向と幅方向に各々１．２倍、１．３４倍延伸を行なっ
た。
【００３６】このフイルムのヤング率は、長手方向１３
２０ｋｇ／ｍｍ2、幅方向１３５０ｋｇ／ｍｍ2であり優
れたものであった。また、フイルムの表面性を表１に示
した。表面性の優れたフイルムが得られた。
２０ｋｇ／ｍｍ2、幅方向１３５０ｋｇ／ｍｍ2であり優
れたものであった。また、フイルムの表面性を表１に示
した。表面性の優れたフイルムが得られた。
【００３７】実施例２〜４ 実施例１と同一のポリマ溶液を用いて、表１に示すエン
ドレスベルトを使ってフイルムを製膜した。表１に示し
たように、得られたフイルムの表面性は優れたものであ
った。
ドレスベルトを使ってフイルムを製膜した。表１に示し
たように、得られたフイルムの表面性は優れたものであ
った。
【００３８】比較例１〜３ 実施例１と同一のポリマ溶液を用いて、表１に示すエン
ドレスベルトを使ってフイルムを製膜した。表１に示し
たように、表面性のよいフイルムは得られなかった。
ドレスベルトを使ってフイルムを製膜した。表１に示し
たように、表面性のよいフイルムは得られなかった。
【００３９】
【表１】
【００４０】
【発明の効果】本発明の支持体は表面性が優れ、この支
持体を使用して製造される溶液製膜フイルムは表面性は
極めて優れている。特に芳香族ポリアミドフイルムを本
発明の支持体を用いて製造すると、極めて表面性のよい
フイルムとなり、その主要な用途である磁気記録媒体用
フイルムに要求される平滑な表面を形成することができ
る。
持体を使用して製造される溶液製膜フイルムは表面性は
極めて優れている。特に芳香族ポリアミドフイルムを本
発明の支持体を用いて製造すると、極めて表面性のよい
フイルムとなり、その主要な用途である磁気記録媒体用
フイルムに要求される平滑な表面を形成することができ
る。
【００４１】また、本発明の支持体を用いて、ＦＰＣ，
ＴＡＢ、プリンターリボン、ケーブル被覆などに使用さ
れるフイルムを製膜した場合は、表面の均一性が増しフ
イルムの加工性が向上するなどの効果を発揮する。
ＴＡＢ、プリンターリボン、ケーブル被覆などに使用さ
れるフイルムを製膜した場合は、表面の均一性が増しフ
イルムの加工性が向上するなどの効果を発揮する。
Claims (6)
- 【請求項１】フイルムが接触する表面の４０μｍ以上の
介在物が４個/ｃｍ2以下であり、かつ、２０μｍ以上の
介在物が３０μｍ以内に近接して存在する介在物群が２
群/ｃｍ2以下であることを特徴とする支持体。 - 【請求項２】フイルムが接触する表面の７０μｍ以上の
介在物が２個/ｃｍ2以下であることを特徴とする請求項
１に記載の支持体。 - 【請求項３】支持体が、ドラムであることを特徴とする
請求項１または２に記載の支持体。 - 【請求項４】支持体が、エンドレスベルトであることを
特徴とする請求項１または２に記載の支持体。 - 【請求項５】ポリマ溶液を支持体上に流延してフイルム
に成形する溶液製膜フイルムの製造方法において、請求
項１、２、３または４に記載の支持体を用いることを特
徴とする溶液製膜フイルムの製造方法。 - 【請求項６】溶液製膜フイルムが芳香族ポリアミドフイ
ルムであることを特徴とする請求項５に記載の溶液製膜
フイルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16443597A JPH1110665A (ja) | 1997-06-20 | 1997-06-20 | 支持体、および、それを用いた溶液製膜フイルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16443597A JPH1110665A (ja) | 1997-06-20 | 1997-06-20 | 支持体、および、それを用いた溶液製膜フイルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1110665A true JPH1110665A (ja) | 1999-01-19 |
Family
ID=15793117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16443597A Pending JPH1110665A (ja) | 1997-06-20 | 1997-06-20 | 支持体、および、それを用いた溶液製膜フイルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1110665A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004025672A (ja) * | 2002-06-26 | 2004-01-29 | Jsr Corp | プロトン伝導性フィルムの製造法およびプロトン伝導性フィルム |
-
1997
- 1997-06-20 JP JP16443597A patent/JPH1110665A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004025672A (ja) * | 2002-06-26 | 2004-01-29 | Jsr Corp | プロトン伝導性フィルムの製造法およびプロトン伝導性フィルム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040415 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040427 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040727 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20040628 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |