JPH11111601A5 - 露光方法及び装置、並びにマスク - Google Patents

Description

更に本発明は、そのような露光方法を使用できる露光装置及びマスクを提供することをも目的とする。

また、本発明による露光装置は、スリット状の照明領域でマスク（Ｒ）のパターンを照明し、そのマスクのパターンがその照明領域の走査方向に複数配置され、そのマスクと基板（Ｗ）とを同期走査させることによってそのマスクのパターン像をその基板の同一レジスト上に投影する露光装置であって、そのマスクとその基板とをその走査方向に同期走査して露光を行う際に、そのスリット状の照明領域が次のパターン領域に移動するのに応じて露光条件を変化させる露光条件制御系（１１，１２，４１，４３）を設けたものである。斯かる露光装置によれば、本発明の第１及び第２の露光方法が使用できる。
また、本発明によるマスクは、露光対象の基板の同一レジスト上の複数の被露光領域（４６Ｂ〜４６Ｇ）にそれぞれ異なるＮ個（Ｎは２以上の整数）のマスクパターンの像を重ねて露光する露光方法であり、且つ、この基板上にこのＮ個のマスクパターンの像（Ａ１，Ｂ１）を露光する第１工程と、この第１工程の後にこの基板とこのマスクパターンとを所定方向に所定幅だけ相対移動してその基板上にそのＮ個のマスクパターンの像（Ａ２，Ｂ２）を部分的に重ね合わせて露光する第２工程とを有し、この第２工程を少なくとも（Ｎ−２）回繰り返す露光方法に適用されるマスクであって、そのマスク上には、その所定方向にそれぞれその所定幅を持つそのＮ個のマスクパターン（４５Ａ，４５Ｂ）が、この所定方向に一列に配列されているものである。
このマスクを用いることによって、本発明の第１の露光方法を実施できる。

また、本発明の第２の露光方法によれば、１枚のマスク上に複数個のマスクパターンが形成されているため、マスクの製造コストや管理コストを低減できる。更に、マスクパターン毎に露光条件を最適化して多重露光を行うことができるため、高い結像特性が得られる利点がある。更に、本発明の露光装置によれば、本発明の露光方法が使用できる。また、本発明のマスクを用いることによって、本発明の第１の露光方法を実施できる。

Claims (5)

1. 露光対象の基板の同一レジスト上の複数の被露光領域にそれぞれ異なるＮ個（Ｎは２以上の整数）のマスクパターンの像を重ねて露光する露光方法において、
   マスク上で所定方向に一列に配置された前記Ｎ個のマスクパターン領域を形成しておき、
   前記基板上に前記マスク上の前記Ｎ個のマスクパターンの像を露光する第１工程と、
   前記基板と前記マスクとを前記マスクパターン領域の前記所定方向の幅に対応する幅だけ前記所定方向に相対移動して、前記基板上に前記マスク上の前記Ｎ個のマスクパターンの像を部分的に重ね合わせて露光する第２工程と、を有し、
   前記第２工程を更に少なくとも（Ｎ−２）回繰り返すことを特徴とする露光方法。
2. 前記Ｎ個のマスクパターンの像を前記基板上に露光する際に、前記マスクパターンを照明する照明光束に対して、前記マスクと前記基板とを同期走査させて露光し、
   前記マスク上での前記Ｎ個のマスクパターン領域の配列方向と前記同期走査の走査方向とを平行に設置し、
   該マスクパターン毎に露光条件を変化させることを特徴とする請求項１記載の露光方法。
3. スリット状の照明領域でマスクのパターンを照明し、前記マスクのパターンが前記照明領域の走査方向に複数配置され、前記マスクと基板とを同期走査させることによって前記マスクのパターンの像を前記基板の同一レジスト上に投影する露光方法であって、
   前記マスクのパターン毎に露光条件を変化させて露光することを特徴とする露光方法。
4. スリット状の照明領域でマスクのパターンを照明し、前記マスクのパターンが前記照明領域の走査方向に複数配置され、前記マスクと基板とを同期走査させることによって前記マスクのパターン像を前記基板の同一レジスト上に投影する露光装置であって、
   前記マスクと前記基板とを前記走査方向に同期走査して露光を行う際に、前記スリット状の照明領域が次のパターン領域に移動するのに応じて露光条件を変化させる露光条件制御系を設けたことを特徴とする露光装置。
5. 露光対象の基板の同一レジスト上の複数の被露光領域にそれぞれ異なるＮ個（Ｎは２以上の整数）のマスクパターンの像を重ねて露光する露光方法であり、且つ、該基板上に該Ｎ個のマスクパターンの像を露光する第１工程と、該第１工程の後に該基板と該マスクパターンとを所定方向に所定幅だけ相対移動して前記基板上に前記Ｎ個のマスクパターンの像を部分的に重ね合わせて露光する第２工程とを有し、該第２工程を少なくとも（Ｎ−２）回繰り返す露光方法に適用されるマスクであって、
   前記マスク上には、前記所定方向にそれぞれ前記所定幅を持つ前記Ｎ個のマスクパターンが、該所定方向に一列に配列されていることを特徴とするマスク。