JPH1111905A - 気体の、メタン含有塩化水素を浄化する方法および該塩化水素の使用 - Google Patents
気体の、メタン含有塩化水素を浄化する方法および該塩化水素の使用Info
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- JPH1111905A JPH1111905A JP10160689A JP16068998A JPH1111905A JP H1111905 A JPH1111905 A JP H1111905A JP 10160689 A JP10160689 A JP 10160689A JP 16068998 A JP16068998 A JP 16068998A JP H1111905 A JPH1111905 A JP H1111905A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い純度の塩化水素を製造する方法を提供す
る。 【解決手段】 気体の、メタン含有塩化水素を浄化する
方法において、８〜１３バールの過圧および−２２℃〜
−３６℃の温度で気体の塩化水素を部分的に凝縮し、気
体成分を分離し、液化した塩化水素を蒸発後に単離する
ことを特徴とする。
る。 【解決手段】 気体の、メタン含有塩化水素を浄化する
方法において、８〜１３バールの過圧および−２２℃〜
−３６℃の温度で気体の塩化水素を部分的に凝縮し、気
体成分を分離し、液化した塩化水素を蒸発後に単離する
ことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高い純度の塩化水
素を製造する方法および半導体材料を製造する際の該塩
化水素の使用に関する。
素を製造する方法および半導体材料を製造する際の該塩
化水素の使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータチップを製造するために使
用されるようなウェーハー板は多工程により製造され、
その際まずトリクロロシランを熱分解し、これにより得
られる多結晶シリコンを帯域溶融法またはるつぼ溶融法
により棒状の単結晶に更に加工し、最後に単結晶の棒を
鋸で削ることによりウェーハーを製造する。異種原子に
よるシリコン単結晶の汚染をできるだけ阻止することが
重要である。これは、特に炭素による汚染（シリコン１
ｃｍ3当たりＣ原子１０15未満）に該当する。
用されるようなウェーハー板は多工程により製造され、
その際まずトリクロロシランを熱分解し、これにより得
られる多結晶シリコンを帯域溶融法またはるつぼ溶融法
により棒状の単結晶に更に加工し、最後に単結晶の棒を
鋸で削ることによりウェーハーを製造する。異種原子に
よるシリコン単結晶の汚染をできるだけ阻止することが
重要である。これは、特に炭素による汚染（シリコン１
ｃｍ3当たりＣ原子１０15未満）に該当する。
【０００３】しかしながら、フェロシリコンを塩化水素
と反応することにより得られる出発生成物であるトリク
ロロシランを製造する際に、種々の供給源からの塩化水
素が使用され、該塩化水素はしばしばアルカン、アルケ
ンおよびアルキンのような炭化水素化合物で汚染されて
いる。１,２−ジクロロエタン熱分解から生じる塩化水
素は、特にエチレンおよびアセチレンで汚染されてい
る。塩化アリル合成から生じる塩化水素は高級オレフィ
ン、たとえばプロピレンを含有する。メタン塩素化およ
び塩化メチル塩素化の際に生じる塩化水素はアルカン、
特にメタンで汚染されている。
と反応することにより得られる出発生成物であるトリク
ロロシランを製造する際に、種々の供給源からの塩化水
素が使用され、該塩化水素はしばしばアルカン、アルケ
ンおよびアルキンのような炭化水素化合物で汚染されて
いる。１,２−ジクロロエタン熱分解から生じる塩化水
素は、特にエチレンおよびアセチレンで汚染されてい
る。塩化アリル合成から生じる塩化水素は高級オレフィ
ン、たとえばプロピレンを含有する。メタン塩素化およ
び塩化メチル塩素化の際に生じる塩化水素はアルカン、
特にメタンで汚染されている。
【０００４】１,２−ジクロロエタン熱分解から生じる
塩化水素を浄化する方法はドイツ特許第３８１７９３８
号明細書から公知であり、この方法では塩化水素からア
セチレンおよびエチレンを除去することができる。その
際第１工程でアセチレンおよびエチレンを過剰の塩素で
塩素化し、相当する飽和または不飽和のクロロ炭化水素
を生じる。第２工程で、第１工程からの過剰の塩素を、
大気圧で気体であり、かつ大気圧で−５０〜＋１０℃で
沸騰するオレフィンと反応させることにより除去し、引
き続き塩化水素を低温圧縮精留により分離する。
塩化水素を浄化する方法はドイツ特許第３８１７９３８
号明細書から公知であり、この方法では塩化水素からア
セチレンおよびエチレンを除去することができる。その
際第１工程でアセチレンおよびエチレンを過剰の塩素で
塩素化し、相当する飽和または不飽和のクロロ炭化水素
を生じる。第２工程で、第１工程からの過剰の塩素を、
大気圧で気体であり、かつ大気圧で−５０〜＋１０℃で
沸騰するオレフィンと反応させることにより除去し、引
き続き塩化水素を低温圧縮精留により分離する。
【０００５】ドイツ特許第３８１７９３８号明細書に開
示された塩化水素を浄化する３工程の方法により、塩化
水素からエチレンおよびアセチレンのほかに同族のアル
ケンおよびアルキンを分離することができる。しかしな
がらアルカンはこの触媒による塩素化の際に蒸留により
分離できない高沸点物に変換される。しかしながらＣ 3
−アルカンおよび高級の同族物はこの方法の最後の工程
で精留により塩化水素から分離することができる、それ
というのもこれらは塩化水素より高い温度で沸騰するか
らである。メタンおよびエタンは塩化水素に対して易沸
点物であり、従って蒸留により塩化水素から分離でき
ず、塩化水素中に残留する。
示された塩化水素を浄化する３工程の方法により、塩化
水素からエチレンおよびアセチレンのほかに同族のアル
ケンおよびアルキンを分離することができる。しかしな
がらアルカンはこの触媒による塩素化の際に蒸留により
分離できない高沸点物に変換される。しかしながらＣ 3
−アルカンおよび高級の同族物はこの方法の最後の工程
で精留により塩化水素から分離することができる、それ
というのもこれらは塩化水素より高い温度で沸騰するか
らである。メタンおよびエタンは塩化水素に対して易沸
点物であり、従って蒸留により塩化水素から分離でき
ず、塩化水素中に残留する。
【０００６】きわめて純粋な珪素を製造する際の第１工
程である、フェロシリコンおよび塩化水素から前記のト
リクロロシランを合成する際に、浄化された塩化水素中
に含まれるエタンは問題を生じない、それというのもた
とえば形成されるエチルジクロロシラン（ＨＳｉＣｌ2
Ｃ2Ｈ5）は約３５℃だけ高いその沸点により、トリクロ
ロシランおよびトリクロロシラン合成の使用可能な主要
副生成物、四塩化珪素（沸点５６.７℃）から蒸留によ
り容易に分離することができるからである。しかしなが
らメタンはフェロシリコンおよび塩化水素からトリクロ
ロシランを合成する際に、すでに塩化水素中で２０〜１
００容量ｐｐｍの程度で妨害作用する。すなわちメタン
は反応してメチルジクロロシラン（ＨＳｉＣｌ2ＣＨ3、
沸点４０.４℃）を生じ、これを目的生成物、トリクロ
ロシラン（ＳｉＨＣｌ3、沸点３１.７℃）から蒸留によ
り分離することは、狭い沸点の差により、多くの収率を
損失してもきわめて困難である。出発生成物、トリクロ
ロシラン中のメタン含量により、最終生成物、単結晶シ
リコン中の炭素含量が許容できない値に上昇する。
程である、フェロシリコンおよび塩化水素から前記のト
リクロロシランを合成する際に、浄化された塩化水素中
に含まれるエタンは問題を生じない、それというのもた
とえば形成されるエチルジクロロシラン（ＨＳｉＣｌ2
Ｃ2Ｈ5）は約３５℃だけ高いその沸点により、トリクロ
ロシランおよびトリクロロシラン合成の使用可能な主要
副生成物、四塩化珪素（沸点５６.７℃）から蒸留によ
り容易に分離することができるからである。しかしなが
らメタンはフェロシリコンおよび塩化水素からトリクロ
ロシランを合成する際に、すでに塩化水素中で２０〜１
００容量ｐｐｍの程度で妨害作用する。すなわちメタン
は反応してメチルジクロロシラン（ＨＳｉＣｌ2ＣＨ3、
沸点４０.４℃）を生じ、これを目的生成物、トリクロ
ロシラン（ＳｉＨＣｌ3、沸点３１.７℃）から蒸留によ
り分離することは、狭い沸点の差により、多くの収率を
損失してもきわめて困難である。出発生成物、トリクロ
ロシラン中のメタン含量により、最終生成物、単結晶シ
リコン中の炭素含量が許容できない値に上昇する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、電子レベルの塩素の純度要求を満たす程度に塩化水
素中のメタン成分を減少することができる、種々の供給
源からのメタン含有塩化水素を浄化するための経済的な
方法を開発することである。
は、電子レベルの塩素の純度要求を満たす程度に塩化水
素中のメタン成分を減少することができる、種々の供給
源からのメタン含有塩化水素を浄化するための経済的な
方法を開発することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】意想外にも、メタン含有
塩化水素を部分的に凝縮する際に、塩化水素気相中でメ
タンの濃縮が行われ、液化した成分が、溶解したメタン
を著しく濃縮した形で含有することが判明した。
塩化水素を部分的に凝縮する際に、塩化水素気相中でメ
タンの濃縮が行われ、液化した成分が、溶解したメタン
を著しく濃縮した形で含有することが判明した。
【０００９】本発明の対象は、気体の、メタン含有塩化
水素を浄化する方法において、８〜１３バールの過圧お
よび−２２℃〜−３６℃の温度で気体の塩化水素を部分
的に凝縮し、気体成分を分離し、液化した塩化水素を蒸
発後に単離することを特徴とする。
水素を浄化する方法において、８〜１３バールの過圧お
よび−２２℃〜−３６℃の温度で気体の塩化水素を部分
的に凝縮し、気体成分を分離し、液化した塩化水素を蒸
発後に単離することを特徴とする。
【００１０】本発明の方法は、種々の供給源、たとえば
塩化ビニルを製造する１,２−ジクロロエタン熱分解か
ら、メタン塩素化からおよび塩化メチル塩素化から生じ
る気体の、メタン含有塩化水素を浄化するために適して
いる。種々の塩化水素を製造する方法に由来する塩化水
素の混合物を使用することもできる。
塩化ビニルを製造する１,２−ジクロロエタン熱分解か
ら、メタン塩素化からおよび塩化メチル塩素化から生じ
る気体の、メタン含有塩化水素を浄化するために適して
いる。種々の塩化水素を製造する方法に由来する塩化水
素の混合物を使用することもできる。
【００１１】部分的凝縮の際の液化程度（Verfluessigu
ngsgrad）は塩化水素中のメタンの量の割合および本発
明の方法により液化した塩化水素の所望の純度に依存す
る。これと並んで液化程度は本発明の方法の経済性を決
定する。
ngsgrad）は塩化水素中のメタンの量の割合および本発
明の方法により液化した塩化水素の所望の純度に依存す
る。これと並んで液化程度は本発明の方法の経済性を決
定する。
【００１２】経験により以下の関係式が確定される。
【００１３】凝縮した塩化水素成分中のメタンの容量ｐ
ｐｍ ＝ ０.０４８５×気体の出発塩化水素中のメタ
ンの容量ｐｐｍ有利には液化程度０.１〜０.３で作動
し、すなわち気体の、メタン含有塩化水素０.１〜０.３
重量部を部分的に凝縮する。
ｐｍ ＝ ０.０４８５×気体の出発塩化水素中のメタ
ンの容量ｐｐｍ有利には液化程度０.１〜０.３で作動
し、すなわち気体の、メタン含有塩化水素０.１〜０.３
重量部を部分的に凝縮する。
【００１４】本発明による方法を使用して、出発生成物
中のメタン１００容量ｐｐｍにおいて、メタン含量５容
量ｐｐｍ未満の塩化水素を使用することができる。この
種の高い純度の塩化水素を、純粋の珪素を製造する前工
程で、たとえばトリクロロシランの合成に使用すること
ができる。凝縮されない、メタンが多くなった成分は、
たとえばオキシ塩素化、メタノールエステル化、または
塩酸の製造に使用することができる。
中のメタン１００容量ｐｐｍにおいて、メタン含量５容
量ｐｐｍ未満の塩化水素を使用することができる。この
種の高い純度の塩化水素を、純粋の珪素を製造する前工
程で、たとえばトリクロロシランの合成に使用すること
ができる。凝縮されない、メタンが多くなった成分は、
たとえばオキシ塩素化、メタノールエステル化、または
塩酸の製造に使用することができる。
【００１５】メタンのほかになお高い割合のアルケンま
たはアルキンを含有する気体の塩化水素を浄化する場合
は、本発明の方法により更にドイツ特許第３８１７９３
８号明細書に記載の３工程の浄化法を実施することがで
きる。
たはアルキンを含有する気体の塩化水素を浄化する場合
は、本発明の方法により更にドイツ特許第３８１７９３
８号明細書に記載の３工程の浄化法を実施することがで
きる。
【００１６】このために、部分的凝縮後に液体で存在す
る塩化水素成分を５〜２０バール絶対の圧力で蒸発さ
せ、１２０〜２２０℃の温度に加熱し、断熱的に作動す
る反応器中で、遷移金属塩化物が含浸されている活性炭
触媒の存在で、反応器から放出する際に塩化水素中にな
お塩素１００〜２０００容量ｐｐｍが含有されている量
の塩素ガスと反応させる。第２工程で、第２の断熱的に
作動する反応器中で、第１反応器と同じ触媒の存在で、
８０〜１８０℃の温度で、反応混合物を、大気圧で気体
であり、大気圧で−５０℃〜＋１０℃の温度範囲で沸騰
するオレフィンまたはクロロオレフィンと反応させ、そ
の際このオレフィンまたはクロロオレフィンの量は、反
応器から放出される塩化水素中になおこのオレフィンま
たはクロロオレフィンが１００〜１５００容量ｐｐｍ含
有されている量である。最後の工程で、これらの工程で
得られる反応混合物を、低温圧縮精留により分離し、純
粋の塩化水素を９〜１４バール絶対の圧力および−２０
℃〜−４０℃の温度で凝縮により単離する。この変法は
ドイツ特許第３８１７９３８号第２欄、３４行から第５
欄５５行に詳細に記載されている。
る塩化水素成分を５〜２０バール絶対の圧力で蒸発さ
せ、１２０〜２２０℃の温度に加熱し、断熱的に作動す
る反応器中で、遷移金属塩化物が含浸されている活性炭
触媒の存在で、反応器から放出する際に塩化水素中にな
お塩素１００〜２０００容量ｐｐｍが含有されている量
の塩素ガスと反応させる。第２工程で、第２の断熱的に
作動する反応器中で、第１反応器と同じ触媒の存在で、
８０〜１８０℃の温度で、反応混合物を、大気圧で気体
であり、大気圧で−５０℃〜＋１０℃の温度範囲で沸騰
するオレフィンまたはクロロオレフィンと反応させ、そ
の際このオレフィンまたはクロロオレフィンの量は、反
応器から放出される塩化水素中になおこのオレフィンま
たはクロロオレフィンが１００〜１５００容量ｐｐｍ含
有されている量である。最後の工程で、これらの工程で
得られる反応混合物を、低温圧縮精留により分離し、純
粋の塩化水素を９〜１４バール絶対の圧力および−２０
℃〜−４０℃の温度で凝縮により単離する。この変法は
ドイツ特許第３８１７９３８号第２欄、３４行から第５
欄５５行に詳細に記載されている。
【００１７】
【実施例】本発明を以下の実施例により詳細に説明す
る。
る。
【００１８】例１ メタン５０容量ｐｐｍを有する気体の塩化水素毎時５ｋ
モルを８.５バール過圧にして、−３３℃に冷却し、そ
の際塩化水素毎時０.５ｋモルを液化し（液化程度０.
１）、塩化水素毎時４.５ｋモルを気体で残留した。液
化した塩化水素を分離し、引き続き熱交換器中で蒸発し
た。分離し、引き続き蒸発した液体の塩化水素中で、メ
タン含量２.４０容量ｐｐｍを測定した。部分的凝縮の
際に残留する気体の塩化水素はメタン５５.３ｐｐｍを
含有した。
モルを８.５バール過圧にして、−３３℃に冷却し、そ
の際塩化水素毎時０.５ｋモルを液化し（液化程度０.
１）、塩化水素毎時４.５ｋモルを気体で残留した。液
化した塩化水素を分離し、引き続き熱交換器中で蒸発し
た。分離し、引き続き蒸発した液体の塩化水素中で、メ
タン含量２.４０容量ｐｐｍを測定した。部分的凝縮の
際に残留する気体の塩化水素はメタン５５.３ｐｐｍを
含有した。
【００１９】例２ 例１と同様に実施したが、８.５バール過圧および−３
３℃の温度で、メタン５０容量ｐｐｍを有する塩化水素
毎時５ｋモルから塩化水素毎時１.２５ｋモルを液化し
た（液化程度０.２５）。引き続き蒸発した液体塩化水
素はメタンなお２.４２容量ｐｐｍのみを含有し、残留
する気体の塩化水素はメタン６５.９容量ｐｐｍを含有
した。
３℃の温度で、メタン５０容量ｐｐｍを有する塩化水素
毎時５ｋモルから塩化水素毎時１.２５ｋモルを液化し
た（液化程度０.２５）。引き続き蒸発した液体塩化水
素はメタンなお２.４２容量ｐｐｍのみを含有し、残留
する気体の塩化水素はメタン６５.９容量ｐｐｍを含有
した。
【００２０】例３ 例１と同様に実施したが、メタン含量８０容量ｐｐｍを
有する塩化水素毎時５ｋモルを１１.５バール過圧にし
て、−２５℃に冷却した。毎時０.７５ｋモルの成分を
凝縮した（液化程度０.１５）。凝縮した成分を熱交換
器中で蒸発し、メタン成分３.９容量ｐｐｍを測定し
た。部分的凝縮の際に残留する気体の塩化水素成分はメ
タン９３.４容量ｐｐｍを含有した。
有する塩化水素毎時５ｋモルを１１.５バール過圧にし
て、−２５℃に冷却した。毎時０.７５ｋモルの成分を
凝縮した（液化程度０.１５）。凝縮した成分を熱交換
器中で蒸発し、メタン成分３.９容量ｐｐｍを測定し
た。部分的凝縮の際に残留する気体の塩化水素成分はメ
タン９３.４容量ｐｐｍを含有した。
【００２１】例４ １，２−ジクロロエタン熱分解から、塩化ビニル毎時３
０ｔおよび塩化水素毎時４８２ｋモルの分解ガス混合物
が得られた。−３３℃および８.５バール過圧で分解ガ
ス混合物から塩化水素を分離した。カラムから放出され
る気体の塩化水素はメタン６０容量ｐｐｍ、エタン２.
５容量ｐｐｍ、エチレン３６２容量ｐｐｍ、アセチレン
２５６０容量ｐｐｍ、塩化ビニル１.２容量ｐｐｍおよ
び塩化エチル２.１容量ｐｐｍで汚染されていた。
０ｔおよび塩化水素毎時４８２ｋモルの分解ガス混合物
が得られた。−３３℃および８.５バール過圧で分解ガ
ス混合物から塩化水素を分離した。カラムから放出され
る気体の塩化水素はメタン６０容量ｐｐｍ、エタン２.
５容量ｐｐｍ、エチレン３６２容量ｐｐｍ、アセチレン
２５６０容量ｐｐｍ、塩化ビニル１.２容量ｐｐｍおよ
び塩化エチル２.１容量ｐｐｍで汚染されていた。
【００２２】前記の圧力および温度水準で、汚染された
塩化水素毎時１１０ｋモルを液化し（液化程度０.２
３）、引き続き液体のＨＣｌポンプを介して圧力を上昇
後、１３バール過圧で蒸発した。蒸発した液体の塩化水
素はなおメタン３.４容量ｐｐｍ、エタン０.７容量ｐｐ
ｍ、エチレン２２０.９容量ｐｐｍ、アセチレン３８６
６.６容量ｐｐｍ、塩化ビニル１.１容量ｐｐｍおよび塩
化エチル６.２容量ｐｐｍを含有した。
塩化水素毎時１１０ｋモルを液化し（液化程度０.２
３）、引き続き液体のＨＣｌポンプを介して圧力を上昇
後、１３バール過圧で蒸発した。蒸発した液体の塩化水
素はなおメタン３.４容量ｐｐｍ、エタン０.７容量ｐｐ
ｍ、エチレン２２０.９容量ｐｐｍ、アセチレン３８６
６.６容量ｐｐｍ、塩化ビニル１.１容量ｐｐｍおよび塩
化エチル６.２容量ｐｐｍを含有した。
【００２３】この混合物を１５０℃に予熱し、相当する
圧力の塩素ガス毎時２２.５ｍ3を添加後、ＣｕＣｌ2お
よびＭｎＣｌ2それぞれ１６重量％をドープした活性炭
からなる触媒０.８ｍ3が充填されている第１の反応器に
導入した。断熱的反応の実施の際にエチレン、アセチレ
ンおよび塩化ビニルを塩素と反応させ、１,１,２,２−
テトラクロロエタン、１,２−ジクロロエタンおよび１,
１,２−トリクロロエタンを生じた。反応混合物は約１
０００容量ｐｐｍの過剰の塩素を有して第１の反応器を
離れた。エチレンおよびアセチレンの濃度は１容量ｐｐ
ｍ未満の値であった。
圧力の塩素ガス毎時２２.５ｍ3を添加後、ＣｕＣｌ2お
よびＭｎＣｌ2それぞれ１６重量％をドープした活性炭
からなる触媒０.８ｍ3が充填されている第１の反応器に
導入した。断熱的反応の実施の際にエチレン、アセチレ
ンおよび塩化ビニルを塩素と反応させ、１,１,２,２−
テトラクロロエタン、１,２−ジクロロエタンおよび１,
１,２−トリクロロエタンを生じた。反応混合物は約１
０００容量ｐｐｍの過剰の塩素を有して第１の反応器を
離れた。エチレンおよびアセチレンの濃度は１容量ｐｐ
ｍ未満の値であった。
【００２４】相当する圧力の気体の塩化ビニル毎時５ｍ
3を混合し、約１２５℃に中間冷却した後、遊離塩素を
塩化ビニルと反応させ、１,１,２−トリクロロエタンを
生じるために、反応混合物を、第１の反応器と同じ触媒
０.５ｍ3が充填されている第２の反応器に導入した。反
応混合物は、塩素不含で、塩化ビニル約１０００容量ｐ
ｐｍの含量を有して第２の反応器を離れた。
3を混合し、約１２５℃に中間冷却した後、遊離塩素を
塩化ビニルと反応させ、１,１,２−トリクロロエタンを
生じるために、反応混合物を、第１の反応器と同じ触媒
０.５ｍ3が充填されている第２の反応器に導入した。反
応混合物は、塩素不含で、塩化ビニル約１０００容量ｐ
ｐｍの含量を有して第２の反応器を離れた。
【００２５】冷却し、形成された塩素化生成物を部分的
に凝縮した後、蒸留カラム中で、１２.５バール過圧お
よび塔頂温度−２３℃で、カラムへの還流として液体の
塩化水素毎時１.５ｔを還流して、ガス流を分留した。
一定の蒸留状態および約７５℃の一定の蒸留温度を維持
するために、蒸留器に塩化ビニル毎時約２０ｋｇを液体
で供給した。カラムの底部に生じる生成物は塩化ビニル
および塩化エチルのほかに塩素化生成物、１,２−ジク
ロロエタン、１,１,２−トリクロロエタンおよび１,１,
２,２−テトラクロロエタンを含有した。カラムの塔頂
に生じる塩化水素は以下の純度を有してトリクロロシラ
ンを製造するために使用した。 メタン ３.４容量ｐｐｍ エタン ０.７容量ｐｐｍ エチレン ０.１容量ｐｐｍ アセチレン ０.４容量ｐｐｍ 塩化ビニル ０.３容量ｐｐｍ 塩化エチル ９.１容量ｐｐｍ
に凝縮した後、蒸留カラム中で、１２.５バール過圧お
よび塔頂温度−２３℃で、カラムへの還流として液体の
塩化水素毎時１.５ｔを還流して、ガス流を分留した。
一定の蒸留状態および約７５℃の一定の蒸留温度を維持
するために、蒸留器に塩化ビニル毎時約２０ｋｇを液体
で供給した。カラムの底部に生じる生成物は塩化ビニル
および塩化エチルのほかに塩素化生成物、１,２−ジク
ロロエタン、１,１,２−トリクロロエタンおよび１,１,
２,２−テトラクロロエタンを含有した。カラムの塔頂
に生じる塩化水素は以下の純度を有してトリクロロシラ
ンを製造するために使用した。 メタン ３.４容量ｐｐｍ エタン ０.７容量ｐｐｍ エチレン ０.１容量ｐｐｍ アセチレン ０.４容量ｐｐｍ 塩化ビニル ０.３容量ｐｐｍ 塩化エチル ９.１容量ｐｐｍ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クラウス ハーゼルヴァルター ドイツ連邦共和国 エマーティング デー ブルシュトラーセ ３ (72)発明者 ヘルマン クラウス ドイツ連邦共和国 マルクトゥル アーダ ルベルト−シュティフター−シュトラーセ １アー (72)発明者 アルビン フランク ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン シュ ピタールガッセ 208
Claims (5)
- 【請求項１】 気体の、メタン含有塩化水素を浄化する
方法において、８〜１３バールの過圧および−２２℃〜
−３６℃の温度で気体の塩化水素を部分的に凝縮し、気
体成分を分離し、液化した塩化水素を蒸発後に単離する
ことを特徴とする、気体の、メタン含有塩化水素を浄化
する方法。 - 【請求項２】 液化程度０.１〜０.３での部分的凝縮を
行う請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 部分的凝縮後に液体で存在する塩化水素
成分を、 ａ）５〜２０バール絶対の圧力で蒸発させ、１２０〜２
２０℃の温度に加熱し、かつ断熱的に作動する反応器中
で、遷移金属塩化物が含浸されている活性炭触媒の存在
で、反応器から放出する際に塩化水素中になお塩素１０
０〜２０００容量ｐｐｍが含有されている量の塩素ガス
と反応させ、 ｂ）第２の断熱的に作動する反応器中で、第１反応器と
同じ触媒の存在で、８０〜１８０℃の温度で、反応混合
物を、大気圧で気体であり、かつ大気圧で−５０℃〜＋
１０℃の温度範囲で沸騰するオレフィンまたはクロロオ
レフィンと反応させ、その際このオレフィンまたはクロ
ロオレフィンの量は、反応器から放出される塩化水素中
にこのオレフィンまたはクロロオレフィンがなお１００
〜１５００容量ｐｐｍ含有されている量であり、かつ ｃ）これらの工程で得られる反応混合物を低温圧縮精留
により分離し、純粋の塩化水素を９〜１４バール絶対の
圧力および−２０℃〜−４０℃の温度で凝縮により単離
する、請求項１または２記載の方法。 - 【請求項４】 半導体材料の製造の際の請求項１から３
までのいずれか１項記載の方法により得られる塩化水素
の使用。 - 【請求項５】 トリクロロシラン合成のために塩化水素
を使用する請求項４記載の使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19724965.5 | 1997-06-12 | ||
| DE19724965A DE19724965A1 (de) | 1997-06-12 | 1997-06-12 | Verfahren zur Herstellung von hochreinem Chlorwasserstoff |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1111905A true JPH1111905A (ja) | 1999-01-19 |
| JP2948210B2 JP2948210B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=7832341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10160689A Expired - Lifetime JP2948210B2 (ja) | 1997-06-12 | 1998-06-09 | 気体の、メタン含有塩化水素を浄化する方法および該塩化水素の使用 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2948210B2 (ja) |
| KR (1) | KR100255969B1 (ja) |
| CN (1) | CN1202454A (ja) |
| DE (1) | DE19724965A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010117123A (ja) * | 2008-10-15 | 2010-05-27 | Bayer Materialscience Ag | 粗ＨＣｌガスから一酸化炭素を除去する方法、およびそれによって得られる精製ＨＣｌガスを用いたＨＣｌ酸化方法 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6719957B2 (en) * | 2002-04-17 | 2004-04-13 | Bayer Corporation | Process for purification of anhydrous hydrogen chloride gas |
| CN101993041B (zh) * | 2009-08-27 | 2013-06-26 | 林大昌 | 氨基葡萄糖盐酸盐的废酸液中回收循环使用盐酸的方法 |
| CN102153051A (zh) * | 2011-05-19 | 2011-08-17 | 河北邢矿硅业科技有限公司 | 一种脱除氯化氢气体中水分的方法 |
| DE102015210762A1 (de) * | 2015-06-12 | 2016-12-15 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Aufarbeitung von mit Kohlenstoffverbindungen verunreinigten Chlorsilanen oder Chlorsilangemischen |
| CN107804827B (zh) * | 2017-11-02 | 2020-03-31 | 成都蜀菱科技发展有限公司 | 一种氯化氢回收方法及氯化氢回收系统 |
| CN109110732A (zh) * | 2018-09-11 | 2019-01-01 | 安徽东至广信农化有限公司 | 氯化苯生产工艺中用于降低副产物盐酸中有害物质的方法 |
-
1997
- 1997-06-12 DE DE19724965A patent/DE19724965A1/de not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-05-29 KR KR1019980019752A patent/KR100255969B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1998-05-29 CN CN98102302A patent/CN1202454A/zh active Pending
- 1998-06-09 JP JP10160689A patent/JP2948210B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010117123A (ja) * | 2008-10-15 | 2010-05-27 | Bayer Materialscience Ag | 粗ＨＣｌガスから一酸化炭素を除去する方法、およびそれによって得られる精製ＨＣｌガスを用いたＨＣｌ酸化方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19724965A1 (de) | 1998-12-24 |
| CN1202454A (zh) | 1998-12-23 |
| KR19990006517A (ko) | 1999-01-25 |
| KR100255969B1 (ko) | 2000-05-01 |
| JP2948210B2 (ja) | 1999-09-13 |
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