JPH11119668A

JPH11119668A - 表示パネル

Info

Publication number: JPH11119668A
Application number: JP27877297A
Authority: JP
Inventors: Masahito Yoshikawa; 雅人吉川; Yasuhiro Morimura; 泰大森村
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 1997-10-13
Filing date: 1997-10-13
Publication date: 1999-04-30

Abstract

(57)【要約】【課題】ＰＤＰに電磁波シールド材を一体化させるこ
とにより表示パネル自体に電磁波シールド性等の機能を
付与し、表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減によ
る生産性の向上及びコストの低減を図る。電磁波シール
ド材として導電性メッシュを用いた場合のモアレ現像を
防止して、高光透過性、高電磁波シールド性で鮮明な画
像を得る。【解決手段】ＰＤＰ本体２０の前面に、接着面側にパ
ターンエッチングした金属膜３を形成した透明基板２
を、透明接着剤４Ａにより接着する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネル（以下「ＰＤＰ」と称す。）を用いたガス放電
型表示パネルに係り、特に、ＰＤＰに電磁波シールド材
を一体化させることにより表示パネル自体に電磁波シー
ルド性等の機能を付与し、表示パネルの軽量、薄肉化、
部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を可
能とした表示パネルに関する。

【０００２】

【従来の技術】放電現像を利用したＰＤＰ（ｐｌａｓｍ
ａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ）は、液晶ディスプレ
イ（ＬＣＤ）やブラウン管（ＣＲＴ）に比べて、次のよ
うな利点を有することから、近年、テレビやパソコン、
ワープロ等のＯＡ機器、交通機器、看板、その他の表示
板等の表示パネルとして研究開発及び実用化が進められ
ている。放電光利用であり自発光である。０．１〜０．３ｍｍの放電ギャップであるのでパネ
ル型にできる。螢光体を利用してカラー発光できる。大画面パネルが作り易い。

【０００３】ＰＤＰの基本的な表示機構は、２枚のガラ
ス板間に隔成した多数の放電セル内の螢光体を選択的に
放電発光させることで文字や図形を表示するものであ
り、例えば、図２に示すような構成とされている。図２
において、２１は前面板（フロントガラス）、２２は背
面板（リヤガラス）、２３は隔壁、２４は表示セル（放
電セル）、２５は補助セル、２６は陰極、２７は表示陽
極、２８は補助陽極であり、各表示セル２４の内壁に
は、赤色螢光体、緑色螢光体又は青色螢光体（図示せ
ず。）が膜状に設けられ、これらの螢光体が電極間に印
加された電圧による放電で発光する。

【０００４】ＰＤＰの前面からは、電圧印加、放電、発
光により、周波数：数ｋＨｚ〜数ＧＨｚ程度の電磁波が
発生するため、これを遮蔽する必要がある。また、表示
コントラスト向上のためには、前面における外部光の反
射を防止する必要がある。

【０００５】このため、従来においては、ＰＤＰからの
電磁波等を遮蔽するために、電磁波シールド性等の機能
を有する透明板をＰＤＰの前面に配置している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ＰＤＰと別体の透明板
をＰＤＰの前面に設けたものでは、次のような欠点があ
る。２つの板材を配置するため構造が複雑となる。ＰＤＰにも電磁波シールド性の透明板にも、ガラス
等の透明基板を必要とするため、ＰＤＰと電磁波シール
ド性の透明板とを設けることで厚肉となり、また、重量
が重くなる。部品点数、生産工程数が増え、コストアップを招
く。

【０００７】ところで、通常の電磁波シールド性光透過
窓材の電磁波シールド材としては、金網のような導電性
メッシュ材が用いられているが、導電性メッシュにより
十分な電磁波シールド性を得るためには、メッシュの編
み目を相当細かくする必要がある。その場合、ＯＡ機器
のＰＤＰの前面に格子状のものを置くことになることか
ら、画像がにじんで見えるなどの現象が起こり、鮮明な
画像が得られない。また、ＰＤＰのドット数と、メッシ
ュの格子とで干渉縞（いわゆるモアレ）が発生し、この
現象によっても画像は見難いものとなる。

【０００８】本発明は上記従来の問題点を解決し、ＰＤ
Ｐに電磁波シールド材を一体化させることにより表示パ
ネル自体に電磁波シールド性等の機能を付与し、表示パ
ネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上
及びコストの低減を可能とした表示パネルを提供するこ
とを目的とする。

【０００９】本発明はまた、電磁波シールド材として導
電性メッシュを用いる場合のモアレ現象を防止して、高
光透過性、高電磁波シールド性で、鮮明な画像を得るこ
とができる表示パネルを提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の表示パネルは、
プラズマディスプレイパネル本体と、該プラズマディス
プレイパネル本体の前面に透明接着剤により接着された
透明基板とを備えてなる表示パネルであって、該透明基
板の接着面側に、導電性の膜をパターンエッチングして
なる導電層が形成されていることを特徴とする。

【００１１】本発明の表示パネルは、ＰＤＰと電磁波シ
ールド材と導電層が形成された透明基板とが透明接着剤
で一体化されているため、表示パネルの軽量、薄肉化、
部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図
ることができる。

【００１２】また、パターンエッチングによれば、導電
性の膜を所望のパターン形状にエッチングすることがで
きることから、線径や間隔、網目形状の自由度は導電性
メッシュに比べて格段に大きい。

【００１３】このため、電磁波シールド性、光透過性が
共に良好でモアレ現象も起こることがないパターンエッ
チングした導電性の膜により良好な電磁波シールド性能
を実現することができる。

【００１４】また、ＰＤＰ本体と透明基板との接着一体
化に通常の接着剤を用いると、衝撃等で表示パネルが破
損した場合、破片が飛散し、安全性の面で問題となる
が、透明接着剤として透明弾性接着剤を用いることによ
り、衝撃等で表示パネルが破損した場合の破片の飛散を
防止することができ、安全性が高められる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。

【００１６】図１は本発明の表示パネルの実施の形態を
示す模式的な断面図、図３（ａ）〜（ｆ）はエッチング
パターンの実施例を示す平面図である。

【００１７】この表示パネル１は、接着面側に、パター
ンエッチングされた金属膜３が形成された透明基板２と
ＰＤＰ本体２０（このＰＤＰ本体としては図２に示す構
成、その他の一般的なＰＤＰ本体を適用できる。）の間
に、接着剤となる接着用中間膜４Ａ，４Ｂを用いて、熱
線カットフィルム５を積層させて接着一体化したもので
ある。

【００１８】本実施の形態においては、導電性粘着テー
プ７が、透明基板２，熱線カットフィルム５及びＰＤＰ
本体２０の積層体の全周において、端面の全体に付着す
ると共に、この積層体の表裏の角縁を回り込み、透明基
板２の板面の端縁部とＰＤＰ本体２０の背面板の板面の
端縁部の双方にも付着するように張り付けられている。

【００１９】導電性粘着テープ７は、例えば、金属箔７
Ａの一方の面に導電性の粘着層７Ｂを形成してなるもの
である。導電性粘着テープ７の金属箔７Ａとしては、厚
さ１〜１００μｍ程度の銅、銀、ニッケル、アルミニウ
ム、ステンレス等の箔を用いることができる。

【００２０】また、導電性の粘着層７Ｂは、導電性粒子
を分散させた接着剤をこのような金属箔７Ａの一方の面
に塗工して形成される。

【００２１】この接着剤としては、エポキシ系又はフェ
ノール系樹脂に硬化剤を配合したもの、或いは、アクリ
ル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコン系粘着剤などを用
いることができる。

【００２２】接着剤に分散させる導電性粒子としては、
電気的に良好な導体であれば良く、種々のものを使用す
ることができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉
体、酸化錫、インジウム錫酸化物、酸化亜鉛等の金属酸
化物粉体、このような金属又は金属酸化物で被覆された
樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。ま
た、その形状についても特に制限はなく、りん片状、樹
枝状、粒状、ペレット状、球状、星状、こんぺい糖状
（多数の突起を有する粒状）等の任意の形状をとること
ができる。

【００２３】この導電性粒子の配合量は、接着剤に対し
０．１〜１５容量％であることが好ましく、また、その
平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。

【００２４】粘着層７Ｂの厚さは、通常の場合、５〜１
００μｍ程度である。

【００２５】透明基板２の構成材料としては、ガラス、
ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタア
クリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカーボネー
ト（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、
ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−
メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙
げられる。

【００２６】透明基板２の厚さは得られる表示パネルの
用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等によっ
て適宜決定されるが、通常の場合、０．１〜１０ｍｍの
範囲とされる。

【００２７】この透明基板２の表面側の板面には反射防
止膜６が形成されている。この透明基板２の表面側に形
成される反射防止膜６としては、高屈折率透明膜と低屈
折率透明膜との積層膜、例えば、次のような積層構造の
積層膜が挙げられる。

【００２８】（ａ）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜
を１層ずつ合計２層に積層したもの（ｂ）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交
互に合計４層積層したもの（ｃ）中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透
明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの（ｄ）高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を
交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの高屈折率透明膜としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化
物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ₂、
ＳｎＯ₂、ＺｒＯ等の屈折率１．８以上の薄膜、好まし
くは透明導電性の薄膜を形成することができる。また、
低屈折率透明膜としてはＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、Ａｌ₂Ｏ
₃等の屈折率が１．６以下の低屈折率材料よりなる薄膜
を形成することができる。これらの膜厚は光の干渉で可
視光領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心
波長により異なってくるが４層構造の場合、透明基板側
の第１層（高屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第２層
（低屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第３層（高屈折率
透明膜）が５０〜１００ｎｍ、第４層（低屈折率透明
膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成される。

【００２９】また、このような反射防止膜６の上に更に
汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるように
しても良い。この場合、汚染防止膜としては、フッ素系
薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚１〜１０００ｎｍ
程度の薄膜が好ましい。

【００３０】透明基板２の表面側には、更に、シリコン
系材料等によるハードコート処理、或いはハードコート
層内に光散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を施
しても良い。

【００３１】透明基板１の接着面側に形成される金属膜
３の金属としては、銅、ステンレス、クロム、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ま
しくは銅、ステンレス、アルミニウム、クロムが用いら
れる。

【００３２】透明基板上に、このような金属膜３を形成
する方法としては、無電解めっき、真空蒸着、スパッタ
リング、化学気相蒸着法等の方法を採用することができ
る。

【００３３】金属膜３の厚さは、薄過ぎると電磁波シー
ルド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られ
る表示パネルの厚さに影響を及ぼしたり、エッチング工
程の所要時間が長くなることから、０．０１〜５０μｍ
程度とするのが好ましい。

【００３４】このような金属膜をパターンエッチングす
る方法は、一般に用いられているどのような方法でも構
わないが、レジストを用いるフォトエッチングが好まし
い。この場合、金属膜上にフォトレジストをコーティン
グした後、所望のマスクを用いるなどしてパターン露光
後、現像処理してレジストパターンを形成する。その
後、レジストのない部分の金属膜を塩化第一鉄液等のエ
ッチング液で除去すればよい。

【００３５】パターンエッチングによれば、パターンの
自由度が大きく、金属膜を任意の線径、間隔及び孔形状
にエッチングすることができ、従って、モアレ現象がな
く、所望の電磁波シールド性と光透過性を有する導電層
を容易に形成することができる。

【００３６】本発明において、金属膜のエッチングパタ
ーンの形状には特に制限はなく、例えば図３（ａ），
（ｂ）に示すような四角形の孔Ｍが形成された格子状の
金属膜３Ａ，３Ｂ、図３（ｃ），（ｄ），（ｅ），
（ｆ）に示すような円形、六角形、三角形又は楕円形の
孔Ｍが形成されたパンチングメタル状の金属膜３Ｃ，３
Ｄ，３Ｅ，３Ｆ等が挙げられる。また、このように孔Ｍ
が規則的に並んだものの他、ランダムパターンとしてモ
アレ現象を防止することもできる。

【００３７】電磁波シールド性と光透過性とを共に確保
するために、この金属膜の投影面における開口部分の面
積割合（以下「開口率」と称す。）は、２０〜９０％で
あることが好ましい。

【００３８】なお、光透過性の向上のために、この開口
率を大きくした場合、透明基板２又はＰＤＰ本体２０の
前面板、或いは熱線カットフィルム５に透明導電膜を形
成して金属箔３による電磁波シールド性の不足分を補う
ようにしても良い。

【００３９】熱線カットフィルム５としては、ベースフ
ィルム上に酸化亜鉛や銀薄膜等の熱線カットコートを施
したものを用いることができ、このベースフィルムとし
ては、好ましくは、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等よりなる
フィルムを用いることができる。このフィルムは、得ら
れる表示パネルの厚さを過度に厚くすることなく、取り
扱い性、耐久性を確保する上で１０μｍ〜２０ｍｍ程度
とするのが好ましい。またこのベースフィルム上に形成
される熱線カットコートの膜厚は、通常の場合、５００
〜５０００Å程度である。

【００４０】本発明において、パターンエッチングした
金属膜３を形成した透明基板２，熱線カットフィルム５
及びＰＤＰ本体２０を接着する接着樹脂としては、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチ
ル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、
エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架
橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン
−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−
無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メ
タ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙
げられる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又
はメタクリル」を示す。）。

【００４１】本発明においては、この接着樹脂として透
明で弾性のあるものを用いるのが好ましく、このような
透明接着剤樹脂としては、通常、合せガラス用接着剤と
して用いられているものが挙げられ、特に、性能面で最
もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニル
共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝撃性、耐貫通
性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用
いられているＰＶＢ樹脂も好適である。

【００４２】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。

【００４３】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、５重量部以下、好まし
くは０．５〜５．０重量部の割合で使用される。

【００４４】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。

【００４５】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。

【００４６】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００
重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５〜
５重量部用いられる。

【００４７】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て５重量部以下、好ましくは０．１〜３．０重量部使用
される。

【００４８】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。

【００４９】また、この場合、接着促進剤としてシラン
カップリング剤が併用される。このシランカップリング
剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。

【００５０】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。

【００５１】一方、ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセター
ル単位が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜
１５重量％で、平均重合度が２００〜３０００、好まし
くは３００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹
脂は可塑剤を含む樹脂組成物として使用される。

【００５２】ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。

【００５３】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オ
クチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−
ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。

【００５４】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。

【００５５】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。

【００５６】ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部
に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４
０重量部とする。

【００５７】本発明に係る接着用中間膜の樹脂組成物
は、更に劣化防止のために、安定剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助材、
着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によって
はカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等
の充填剤を少量含んでも良い。

【００５８】また、接着性改良の手段として、シート化
された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズ
マ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効であ
る。

【００５９】本発明に係る接着用中間膜は、例えば、Ｅ
ＶＡ又はＰＶＢと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロ
ール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押
出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシ
ート成形することにより製造される。成膜に際してはブ
ロッキング防止、透明基板又はＰＤＰ本体の前面板との
圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。

【００６０】図１に示す表示パネル１は、例えば、上記
の如くシート成形された接着用の中間膜４Ａ，４Ｂを用
い、この接着用中間膜４Ａ，４Ｂの間に熱線カットフィ
ルム５を挟んだものを、予め、接着面側にパターンエッ
チングして金属膜３を形成した透明基板２とＰＤＰ本体
２０との間に介在させ、減圧、加温下に脱気して予備圧
着した後、加熱又は光照射により接着層を硬化させて一
体化することにより容易に製造することができる。

【００６１】なお、接着用中間膜４Ａ，４Ｂは、接着層
の厚さが過度に厚くなることがないように１μｍ〜１ｍ
ｍ厚さに成形される。

【００６２】透明基板２，熱線カットフィルム５及びＰ
ＤＰ本体２０を一体化した後は、導電性粘着テープ７を
積層体の周囲に周回させて留め付け、用いた導電性粘着
テープ７の硬化方法等に従って加熱圧着するなどして接
着固定する。

【００６３】なお、導電性粘着テープ７と金属膜３との
導通を確保するために、金属膜３が形成された透明基板
２の周縁に、該周縁からはみ出るように導電性テープ等
を張り付け、この導電性テープを導電性粘着テープ７で
積層体の側部に張り付けるなどの方法で導通部を形成す
るのが好ましい。

【００６４】このようにして導電性粘着テープ７を取り
付けた表示パネル１は、筐体に単にはめ込むのみで極め
て簡便かつ容易に筐体に組み込むことができ、同時に、
導電性粘着テープ７を介してパターンエッチングした金
属膜３と筐体との良好な導通をその外周方向に均一にと
ることができる。このため、良好な電磁波シールド効果
が得られる。

【００６５】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の表示パネル
によれば、ＰＤＰに導電層が形成された透明基板を一体
化させることにより表示パネル自体に電磁波シールド性
等の機能を付与し、表示パネルの軽量、薄肉化、部品数
の低減による生産性の向上及びコストの低減を図ること
ができる。また、リモコンの誤作動を防止することがで
きる。

【００６６】しかも、本発明では、電磁波シールド効果
を得るために、パターンエッチングした導電性の膜を形
成した透明基板を用いるため、そのパターンエッチング
の形状を選択することにより、所望の電磁波シールド性
と光透過性を得ることができ、また、モアレ現象等を防
止して鮮明な画像を得ることができる。

【００６７】また、本発明の表示パネルは予め、パター
ンエッチングによる導電膜を形成した透明基板とＰＤＰ
本体とを接着一体化することにより、容易に製造でき
る。

【００６８】請求項２の表示パネルによれば、破損時の
破片の飛散を防止して、安全性を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の表示パネルの実施の形態を示す模式的
な断面図である。

【図２】一般的なＰＤＰの構成を示す一部切欠斜視図で
ある。

【図３】エッチングパターンの実施例を示す平面図であ
る。

【符号の説明】

１表示パネル２透明基板３，３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ，３Ｅ，３Ｆ金属膜４Ａ，４Ｂ中間膜５熱線カットフィルム６反射防止膜７導電性粘着テープ７Ａ金属箔７Ｂ粘着層２０ＰＤＰ本体２１前面板２２背面板２３隔壁２４表示セル２５補助セル２６陰極２７表示陽極２８補助陽極

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プラズマディスプレイパネル本体と、該
プラズマディスプレイパネル本体の前面に透明接着剤に
より接着された透明基板とを備えてなる表示パネルであ
って、該透明基板の接着面側に、導電性の膜をパターンエッチ
ングしてなる導電層が形成されていることを特徴とする
表示パネル。
【請求項２】請求項１において、該透明接着剤は透明
弾性接着剤であることを特徴とする表示パネル。