JPH11120632A - 相変化型光ディスクの製造方法 - Google Patents
相変化型光ディスクの製造方法Info
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- JPH11120632A JPH11120632A JP28513797A JP28513797A JPH11120632A JP H11120632 A JPH11120632 A JP H11120632A JP 28513797 A JP28513797 A JP 28513797A JP 28513797 A JP28513797 A JP 28513797A JP H11120632 A JPH11120632 A JP H11120632A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 66
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 230000007704 transition Effects 0.000 title abstract 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 36
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 30
- 238000001723 curing Methods 0.000 abstract description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 6
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 abstract description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 abstract description 4
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 abstract 2
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009940 knitting Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】貼り合わせ工程と初期化工程が必要な相変化型
光ディスクの製造方法において、高温高湿の環境下での
耐久性、作業性、コスト面、記録・再生特性のいずれの
点においても優れた相変化型光ディスクを得る。 【解決手段】２枚の相変化型光ディスクを貼り合わせて
貼り合わせディスクを得る際に、先ず、各相変化型光デ
ィスクに対して初期化工程を行った後に、カチオン重合
系紫外線硬化型接着剤を用いて貼り合わせる。これによ
り、貼り合わせ工程後に初期化を行った場合よりも再生
光に含まれるジッタ量が少なくなる。
光ディスクの製造方法において、高温高湿の環境下での
耐久性、作業性、コスト面、記録・再生特性のいずれの
点においても優れた相変化型光ディスクを得る。 【解決手段】２枚の相変化型光ディスクを貼り合わせて
貼り合わせディスクを得る際に、先ず、各相変化型光デ
ィスクに対して初期化工程を行った後に、カチオン重合
系紫外線硬化型接着剤を用いて貼り合わせる。これによ
り、貼り合わせ工程後に初期化を行った場合よりも再生
光に含まれるジッタ量が少なくなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、貼り合わせ工程と
初期化工程が必要な相変化型光ディスクの製造方法に関
する。
初期化工程が必要な相変化型光ディスクの製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】光情報記録媒体は、高密度で大容量であ
ることから注目され、これまでにも様々な用途で使用さ
れている。例えば、再生専用の光ディスクとしては、コ
ンパクトディスクやデータ再生専用のＣＤ−ＲＯＭ等が
あり、音楽分野、コンピュータ分野、ゲーム分野等にお
いて広く使用されている。また、一回だけ記録可能な追
記型光ディスクは、文書ファイリングシステム、データ
ファイリングシステム等で特にデータのセキュリティが
重要視される分野で利用されている。
ることから注目され、これまでにも様々な用途で使用さ
れている。例えば、再生専用の光ディスクとしては、コ
ンパクトディスクやデータ再生専用のＣＤ−ＲＯＭ等が
あり、音楽分野、コンピュータ分野、ゲーム分野等にお
いて広く使用されている。また、一回だけ記録可能な追
記型光ディスクは、文書ファイリングシステム、データ
ファイリングシステム等で特にデータのセキュリティが
重要視される分野で利用されている。
【０００３】さらに、記録された情報の消去と再記録が
できる書換え可能型光ディスクは、データの修復や更新
が可能であるとともに、書換えによって繰り返し使用で
きるため、光ディスクの用途拡大に貢献するものとして
期待される。このような書換え可能型光ディスクとして
は、これまでに光磁気ディスクや相変化型光ディスクが
実用化されており、データファイル等に使用されてい
る。
できる書換え可能型光ディスクは、データの修復や更新
が可能であるとともに、書換えによって繰り返し使用で
きるため、光ディスクの用途拡大に貢献するものとして
期待される。このような書換え可能型光ディスクとして
は、これまでに光磁気ディスクや相変化型光ディスクが
実用化されており、データファイル等に使用されてい
る。
【０００４】光ディスクをさらに大容量化するには、高
密度化を図る必要がある。そして、高密度化を図るには
レーザのスポット径を小さくすることが有効な手法であ
る。スポット径はレーザ波長に比例し、対物レンズの開
口数（ＮＡ）に反比例する。そのため、高ＮＡ化はスポ
ット径を小さくするうえで有効な手段であるが、ＮＡが
大きくなるとディスクの傾きに対して収差が増大しやす
くなり、ディスクの傾き角（Ｔｉｌｔ）による影響が大
きくなる。
密度化を図る必要がある。そして、高密度化を図るには
レーザのスポット径を小さくすることが有効な手法であ
る。スポット径はレーザ波長に比例し、対物レンズの開
口数（ＮＡ）に反比例する。そのため、高ＮＡ化はスポ
ット径を小さくするうえで有効な手段であるが、ＮＡが
大きくなるとディスクの傾きに対して収差が増大しやす
くなり、ディスクの傾き角（Ｔｉｌｔ）による影響が大
きくなる。
【０００５】この収差はディスク基板の厚さと（ＮＡ）
3 に比例するため、ＮＡを大きくする場合には、基板を
薄くすることによって収差を小さくすることができる。
例えば、従来のＣＤなどで使われている１．２ｍｍの基
板においては、ＮＡを０．６以上とするとディスクの傾
き角が４ｍｒａｄ程度しか許容できず、実際の使用環境
あるいは生産性等を考慮すると現実的ではない。これに
対して、例えば０．６ｍｍの基板を用いた場合には、Ｎ
Ａが０．６でも、ディスクの傾き角が８ｍｒａｄ程度ま
で許容できるようになり、十分実用的に使用可能な範囲
となることが分かっている（「Ｔ．Ｓｕｇａｙａ ｅｔ
ａｌ．：Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．３２（１
９９３）５４０２．」および「Ｔ．Ｏｈｔａ ｅｔ ａ
ｌ．：Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．３２（１９９
３）５２１４．」等を参照）。
3 に比例するため、ＮＡを大きくする場合には、基板を
薄くすることによって収差を小さくすることができる。
例えば、従来のＣＤなどで使われている１．２ｍｍの基
板においては、ＮＡを０．６以上とするとディスクの傾
き角が４ｍｒａｄ程度しか許容できず、実際の使用環境
あるいは生産性等を考慮すると現実的ではない。これに
対して、例えば０．６ｍｍの基板を用いた場合には、Ｎ
Ａが０．６でも、ディスクの傾き角が８ｍｒａｄ程度ま
で許容できるようになり、十分実用的に使用可能な範囲
となることが分かっている（「Ｔ．Ｓｕｇａｙａ ｅｔ
ａｌ．：Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．３２（１
９９３）５４０２．」および「Ｔ．Ｏｈｔａ ｅｔ ａ
ｌ．：Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．３２（１９９
３）５２１４．」等を参照）。
【０００６】このように、Ｔｉｌｔによる影響を低減す
るためには、基板の厚さを薄くする方法が有効であり、
０．６ｍｍという厚さは、今後、高密度な次世代光ディ
スク基板の厚さとして本流になりつつある。
るためには、基板の厚さを薄くする方法が有効であり、
０．６ｍｍという厚さは、今後、高密度な次世代光ディ
スク基板の厚さとして本流になりつつある。
【０００７】このような０．６ｍｍの基板を用いた光デ
ィスクは、記録容量をより大きくするためや機械的強度
を増すために、通常、２枚の光ディスクの記録層面側同
士を対向させて貼り合わせて使用される。そして、レー
ザーディスクや１３０ｍｍ光磁気ディスクの場合には、
ホットメルト接着剤を用いて貼り合わせるのが一般的で
ある。すなわち、ホットメルト接着剤をロールコータで
塗布し、２枚の光ディスクのホットメルト接着剤を塗布
した面を重ねてプレスする。
ィスクは、記録容量をより大きくするためや機械的強度
を増すために、通常、２枚の光ディスクの記録層面側同
士を対向させて貼り合わせて使用される。そして、レー
ザーディスクや１３０ｍｍ光磁気ディスクの場合には、
ホットメルト接着剤を用いて貼り合わせるのが一般的で
ある。すなわち、ホットメルト接着剤をロールコータで
塗布し、２枚の光ディスクのホットメルト接着剤を塗布
した面を重ねてプレスする。
【０００８】しかしながら、光デイスクの貼り合わせを
ホットメルト接着剤を用いて行うと、得られた貼り合わ
せディスクは高温高湿の環境下での使用には適さないも
のとなる。すなわち、高温高湿の環境下では、熱可塑性
接着剤であるホットメルト接着剤が軟化して、ディスク
の反り角が大きく悪化するという問題がある。特に、現
在話題となっているディジタルビデオディスク（ＤＶ
Ｄ）は、車載用等の高温高湿の環境下での用途にも対応
する必要があるため、使用する接着剤にも高い耐熱性が
要求される。
ホットメルト接着剤を用いて行うと、得られた貼り合わ
せディスクは高温高湿の環境下での使用には適さないも
のとなる。すなわち、高温高湿の環境下では、熱可塑性
接着剤であるホットメルト接着剤が軟化して、ディスク
の反り角が大きく悪化するという問題がある。特に、現
在話題となっているディジタルビデオディスク（ＤＶ
Ｄ）は、車載用等の高温高湿の環境下での用途にも対応
する必要があるため、使用する接着剤にも高い耐熱性が
要求される。
【０００９】耐熱性の高い接着剤の種類としては、カチ
オン重合系紫外線硬化接着剤、ラジカル重合系紫外線硬
化接着剤、およびアクリル系粘着シートが挙げられる。
このうち、カチオン重合系紫外線硬化接着剤は、ラジカ
ル重合系紫外線硬化接着剤とは異なり、被接着面に塗布
された接着剤に紫外線を照射して重合を開始させた後、
被接着面同士を重ねて加圧することにより接着を行うこ
とができる。また、カチオン重合系紫外線硬化接着剤
は、アクリル系粘着シートよりコストが低い。
オン重合系紫外線硬化接着剤、ラジカル重合系紫外線硬
化接着剤、およびアクリル系粘着シートが挙げられる。
このうち、カチオン重合系紫外線硬化接着剤は、ラジカ
ル重合系紫外線硬化接着剤とは異なり、被接着面に塗布
された接着剤に紫外線を照射して重合を開始させた後、
被接着面同士を重ねて加圧することにより接着を行うこ
とができる。また、カチオン重合系紫外線硬化接着剤
は、アクリル系粘着シートよりコストが低い。
【００１０】このようにカチオン重合系紫外線硬化接着
剤は、高温高湿の環境下での耐久性、作業性、およびコ
スト面のいずれにおいても優れたものであり、基板厚さ
が０．６ｍｍである光ディスクの貼り合わせ用接着剤と
して好適なものである。
剤は、高温高湿の環境下での耐久性、作業性、およびコ
スト面のいずれにおいても優れたものであり、基板厚さ
が０．６ｍｍである光ディスクの貼り合わせ用接着剤と
して好適なものである。
【００１１】一方、相変化型光ディスクは、成膜直後の
記録層が非晶質状態にあるため、レーザビームを照射し
て記録層の全面を熱により結晶化した後に出荷される。
この工程は一般に初期化工程と称される。
記録層が非晶質状態にあるため、レーザビームを照射し
て記録層の全面を熱により結晶化した後に出荷される。
この工程は一般に初期化工程と称される。
【００１２】そして、相変化型光ディスクの製造方法に
おける貼り合わせ工程と初期化工程との関係について
は、例えば特開平７−９３８２６号公報に、貼り合わせ
工程の後に初期化工程を行うことが、貼り合わせディス
クの機械的強度を高くするために好ましいことが記載さ
れている。
おける貼り合わせ工程と初期化工程との関係について
は、例えば特開平７−９３８２６号公報に、貼り合わせ
工程の後に初期化工程を行うことが、貼り合わせディス
クの機械的強度を高くするために好ましいことが記載さ
れている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、貼り合
わせ用接着剤としてカチオン重合系紫外線硬化接着剤を
用いた場合には、貼り合わせ工程の後に初期化工程を行
うと記録・再生特性が劣化するという問題点がある。
わせ用接着剤としてカチオン重合系紫外線硬化接着剤を
用いた場合には、貼り合わせ工程の後に初期化工程を行
うと記録・再生特性が劣化するという問題点がある。
【００１４】本発明は、このような従来技術の問題点に
着目してなされたものであり、貼り合わせ工程と初期化
工程が必要な相変化型光ディスクの製造方法において、
高温高湿の環境下での耐久性、作業性、コスト面、記録
・再生特性のいずれの点においても優れた相変化型光デ
ィスクを得ることを課題とする。
着目してなされたものであり、貼り合わせ工程と初期化
工程が必要な相変化型光ディスクの製造方法において、
高温高湿の環境下での耐久性、作業性、コスト面、記録
・再生特性のいずれの点においても優れた相変化型光デ
ィスクを得ることを課題とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、基板の一方の面に、照射光の強度に応じ
て結晶−非晶質間の相変化が可逆的になされる記録層を
少なくとも含む薄膜層が形成されている相変化型光ディ
スクを少なくとも１枚含む２枚の板状体を、相変化型光
ディスクの薄膜層側の面を内側にして接着剤により貼り
合わせる貼り合わせ工程と、相変化型光ディスクの記録
層全面を熱により結晶化させる初期化工程とを備えた相
変化型光ディスクの製造方法において、相変化型光ディ
スクに対する初期化工程を行った後に、いずれか一方ま
たは両方の板状体の貼り合わせ面上にカチオン重合系紫
外線硬化型接着剤を塗布して所定照度の紫外線を照射
し、その後、相変化型光ディスクの薄膜層側の面を内側
にして重ねて所定の面圧で加圧することにより貼り合わ
せ工程を行うことを特徴とする相変化型光ディスクの製
造方法を提供する。
に、本発明は、基板の一方の面に、照射光の強度に応じ
て結晶−非晶質間の相変化が可逆的になされる記録層を
少なくとも含む薄膜層が形成されている相変化型光ディ
スクを少なくとも１枚含む２枚の板状体を、相変化型光
ディスクの薄膜層側の面を内側にして接着剤により貼り
合わせる貼り合わせ工程と、相変化型光ディスクの記録
層全面を熱により結晶化させる初期化工程とを備えた相
変化型光ディスクの製造方法において、相変化型光ディ
スクに対する初期化工程を行った後に、いずれか一方ま
たは両方の板状体の貼り合わせ面上にカチオン重合系紫
外線硬化型接着剤を塗布して所定照度の紫外線を照射
し、その後、相変化型光ディスクの薄膜層側の面を内側
にして重ねて所定の面圧で加圧することにより貼り合わ
せ工程を行うことを特徴とする相変化型光ディスクの製
造方法を提供する。
【００１６】すなわち、本発明は、相変化型光ディスク
同士の接着だけではなく、相変化型光ディスクと相変化
型光ディスク以外の板状体との接着に関するものであ
り、いずれの場合も、カチオン重合系紫外線硬化型接着
剤による貼り合わせ工程の前に相変化型光ディスクの初
期化工程を行う。相変化型光ディスク同士の接着の場合
には両方の相変化型光ディスクに対して初期化工程を行
った後に貼り合わせ工程を行う。相変化型光ディスク以
外の板状体としては、相変化型光ディスクの基板に使用
されるようなガラス板やポリカーボネート板等の透明な
板材が挙げられるが、不透明な板材や相変化型光ディス
ク以外の光ディスク等であってもよい。
同士の接着だけではなく、相変化型光ディスクと相変化
型光ディスク以外の板状体との接着に関するものであ
り、いずれの場合も、カチオン重合系紫外線硬化型接着
剤による貼り合わせ工程の前に相変化型光ディスクの初
期化工程を行う。相変化型光ディスク同士の接着の場合
には両方の相変化型光ディスクに対して初期化工程を行
った後に貼り合わせ工程を行う。相変化型光ディスク以
外の板状体としては、相変化型光ディスクの基板に使用
されるようなガラス板やポリカーボネート板等の透明な
板材が挙げられるが、不透明な板材や相変化型光ディス
ク以外の光ディスク等であってもよい。
【００１７】カチオン重合系紫外線硬化接着剤とは、カ
チオン重合により接着剤の硬化が行われる紫外線硬化接
着剤であり、本発明で使用可能なものとしては、例え
ば、エポキシ樹脂を主成分とし、酸化アンチモン複合物
および硬化剤等を含むものが挙げられる。
チオン重合により接着剤の硬化が行われる紫外線硬化接
着剤であり、本発明で使用可能なものとしては、例え
ば、エポキシ樹脂を主成分とし、酸化アンチモン複合物
および硬化剤等を含むものが挙げられる。
【００１８】カチオン重合系紫外線硬化接着剤の塗布方
法は特に制限されないが、この接着剤は一般的に粘度が
高いため、スクリーン印刷方式で塗布することにより面
内における厚さが均一になるように塗布することが好ま
しい。
法は特に制限されないが、この接着剤は一般的に粘度が
高いため、スクリーン印刷方式で塗布することにより面
内における厚さが均一になるように塗布することが好ま
しい。
【００１９】初期化の方法は特に制限されないが、レー
ザビーム照射法が好ましく、例えば、回転する光ディス
クに対して、高出力の半導体レーザを５０〜１００μｍ
程度のビーム径で照射し、照射位置を半径方向に移動さ
せて光ディスクの全面を初期化する方法が採用できる。
ザビーム照射法が好ましく、例えば、回転する光ディス
クに対して、高出力の半導体レーザを５０〜１００μｍ
程度のビーム径で照射し、照射位置を半径方向に移動さ
せて光ディスクの全面を初期化する方法が採用できる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。 ［実施例］図１は、本発明の一実施形態に相当する相変
化型光ディスクの製造方法を工程順に説明する工程図で
ある。
説明する。 ［実施例］図１は、本発明の一実施形態に相当する相変
化型光ディスクの製造方法を工程順に説明する工程図で
ある。
【００２１】先ず、以下のようにして、図１（ａ）に示
す層構造の相変化型光ディスクを作製する。すなわち、
先ず、中心穴とアドレス情報に応じたエンボスピットと
を有する、外径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの基板１
を、ポリカーボネートの射出成形により形成した。次
に、この基板１のエンボスピット側の面上に、ＺｎＳ−
ＳｉＯ2からなる厚さ１００ｎｍの第１の誘電体層２、
Ｇｅ−Ｔｅ−Ｓｂからなる厚さ２５ｎｍの記録層３、Ｚ
ｎＳ−ＳｉＯ2 からなる厚さ２０ｎｍの第２の誘電体層
４、Ａｌ合金からなる厚さ１００ｎｍの反射層５を、順
次スッパッタリング法により形成した。次に、この反射
層５の上に、ＵＶ硬化樹脂をスピンコート法により塗布
して硬化させることにより、樹脂層６を積層した。
す層構造の相変化型光ディスクを作製する。すなわち、
先ず、中心穴とアドレス情報に応じたエンボスピットと
を有する、外径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの基板１
を、ポリカーボネートの射出成形により形成した。次
に、この基板１のエンボスピット側の面上に、ＺｎＳ−
ＳｉＯ2からなる厚さ１００ｎｍの第１の誘電体層２、
Ｇｅ−Ｔｅ−Ｓｂからなる厚さ２５ｎｍの記録層３、Ｚ
ｎＳ−ＳｉＯ2 からなる厚さ２０ｎｍの第２の誘電体層
４、Ａｌ合金からなる厚さ１００ｎｍの反射層５を、順
次スッパッタリング法により形成した。次に、この反射
層５の上に、ＵＶ硬化樹脂をスピンコート法により塗布
して硬化させることにより、樹脂層６を積層した。
【００２２】次に、図１（ｂ）に示すように、得られた
相変化型光ディスク１０の記録層３に基板１側からレー
ザビーム７を照射することにより、初期化工程を行う。
ここでは、回転するディスク面に向けてレーザビームを
照射し、ディスク１回転毎にレーザビームを半径方向に
走査する装置（日立コンピュータ機器（株）の相変化型
光ディスク初期化装置）７０を用い、ディスクの線速度
を６．０ｍ／ｓとし、レーザパワーを７００ｍＷとして
行った。
相変化型光ディスク１０の記録層３に基板１側からレー
ザビーム７を照射することにより、初期化工程を行う。
ここでは、回転するディスク面に向けてレーザビームを
照射し、ディスク１回転毎にレーザビームを半径方向に
走査する装置（日立コンピュータ機器（株）の相変化型
光ディスク初期化装置）７０を用い、ディスクの線速度
を６．０ｍ／ｓとし、レーザパワーを７００ｍＷとして
行った。
【００２３】次に、２枚の相変化型光ディスク１０の樹
脂層６の面上（薄膜層側の面上）に、それぞれカチオン
重合系紫外線硬化型接着剤８を塗布する。ここでは、カ
チオン重合系紫外線硬化型接着剤としてソニーケミカル
（株）製のＳＫ−７０００（含有成分：エポキシ樹脂８
０％、酸化アンチモン複合物１０〜１５％、硬化剤５〜
１０％）を用いた。この接着剤は、スクリーン印刷法で
塗布するのに適した粘性の液状接着剤であり、遅効性の
光硬化型接着剤である。
脂層６の面上（薄膜層側の面上）に、それぞれカチオン
重合系紫外線硬化型接着剤８を塗布する。ここでは、カ
チオン重合系紫外線硬化型接着剤としてソニーケミカル
（株）製のＳＫ−７０００（含有成分：エポキシ樹脂８
０％、酸化アンチモン複合物１０〜１５％、硬化剤５〜
１０％）を用いた。この接着剤は、スクリーン印刷法で
塗布するのに適した粘性の液状接着剤であり、遅効性の
光硬化型接着剤である。
【００２４】接着剤の塗布は、図２に示すような、基板
１の形状に対応させた円板状のメッシュ部分９１を有す
るスクリーン版９を用い、スクリーン印刷方式で行っ
た。メッシュ部分９１の拡大図を図３に示す。スクリー
ン版のメッシュは、所定太さの糸９１ａを格子状に編み
込んだものであり、隣り合う糸同士が全てほぼ同じ所定
間隔（オープニング）９１ｂとなるようにしてある。こ
こでは、糸９１ａの本数が３１０本／ｉｎｃｈであり、
オープニング９１ｂが５２μｍであるメッシュサイズの
スクリーン版９を用い、塗布厚が４０μｍとなるように
した。
１の形状に対応させた円板状のメッシュ部分９１を有す
るスクリーン版９を用い、スクリーン印刷方式で行っ
た。メッシュ部分９１の拡大図を図３に示す。スクリー
ン版のメッシュは、所定太さの糸９１ａを格子状に編み
込んだものであり、隣り合う糸同士が全てほぼ同じ所定
間隔（オープニング）９１ｂとなるようにしてある。こ
こでは、糸９１ａの本数が３１０本／ｉｎｃｈであり、
オープニング９１ｂが５２μｍであるメッシュサイズの
スクリーン版９を用い、塗布厚が４０μｍとなるように
した。
【００２５】次に、メタルハライドランプを用いて、塗
布された接着剤８の表面に積算光量８００ｍＪ／ｃｍ2
（ウシオ電機の積算光量計ＵＩＴ１５０で測定）の紫外
線を照射して硬化を開始させた。その後、この状態の２
枚の相変化型光ディスク１０を、図１（ｃ）に示すよう
に、接着剤８の塗布面を内側にして重ねてプレス装置に
入れ、両相変化型光ディスク１０の基板１面から３ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 の面圧を２０秒間かけた。
布された接着剤８の表面に積算光量８００ｍＪ／ｃｍ2
（ウシオ電機の積算光量計ＵＩＴ１５０で測定）の紫外
線を照射して硬化を開始させた。その後、この状態の２
枚の相変化型光ディスク１０を、図１（ｃ）に示すよう
に、接着剤８の塗布面を内側にして重ねてプレス装置に
入れ、両相変化型光ディスク１０の基板１面から３ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 の面圧を２０秒間かけた。
【００２６】このようにして貼り合わせ工程を行うこと
により、２枚の相変化型光ディスク１０が貼り合わされ
た貼り合わせディスクを得た。得られた貼り合わせディ
スクを線速度６ｍ／ｓで回転させながら、このディスク
に対して、ピークパワー１１ｍＷとバイアスパワー５ｍ
Ｗとの間で変調させた波長６４０ｎｍのレーザ光を、Ｎ
Ａ０．６の対物レンズで集光して照射することにより、
ウィンドウ幅が３４．２ｎｓである８−１６変調のラン
ダム信号を記録した。その後、この記録信号を再生し、
その再生信号中のジッタ量の割合を測定した。ジッタ量
の測定は、パルステック（株）製の評価機を用い、中心
から半径２６．０ｍｍの位置にあるＩＤ部（アドレス
部：エンボスピット部分）とデータ部（信号記録部分）
について別々に行った。 ［比較例１］前記実施例と同様にして作製した２枚の相
変化型光ディスク１０を、前記実施例と同じカチオン重
合紫外線硬化接着剤を用いて同じ条件で貼り合わせた後
に、各相変化型光ディスク１０の基板１側から前記実施
例と同じ条件でレーザ光を照射することにより、貼り合
わせディスクに対する初期化工程を行った。このように
して得られた貼り合わせディスクについて、前記実施例
と同じ条件でジッタ量の測定を行った。 ［比較例２］前記実施例と同様にして作製した相変化型
光ディスク１０を前記実施例と同じ条件で初期化し、そ
の後に貼り合わせ工程を行わないものについて、前記実
施例と同じ条件でジッタ量の測定を行った。
により、２枚の相変化型光ディスク１０が貼り合わされ
た貼り合わせディスクを得た。得られた貼り合わせディ
スクを線速度６ｍ／ｓで回転させながら、このディスク
に対して、ピークパワー１１ｍＷとバイアスパワー５ｍ
Ｗとの間で変調させた波長６４０ｎｍのレーザ光を、Ｎ
Ａ０．６の対物レンズで集光して照射することにより、
ウィンドウ幅が３４．２ｎｓである８−１６変調のラン
ダム信号を記録した。その後、この記録信号を再生し、
その再生信号中のジッタ量の割合を測定した。ジッタ量
の測定は、パルステック（株）製の評価機を用い、中心
から半径２６．０ｍｍの位置にあるＩＤ部（アドレス
部：エンボスピット部分）とデータ部（信号記録部分）
について別々に行った。 ［比較例１］前記実施例と同様にして作製した２枚の相
変化型光ディスク１０を、前記実施例と同じカチオン重
合紫外線硬化接着剤を用いて同じ条件で貼り合わせた後
に、各相変化型光ディスク１０の基板１側から前記実施
例と同じ条件でレーザ光を照射することにより、貼り合
わせディスクに対する初期化工程を行った。このように
して得られた貼り合わせディスクについて、前記実施例
と同じ条件でジッタ量の測定を行った。 ［比較例２］前記実施例と同様にして作製した相変化型
光ディスク１０を前記実施例と同じ条件で初期化し、そ
の後に貼り合わせ工程を行わないものについて、前記実
施例と同じ条件でジッタ量の測定を行った。
【００２７】これらの測定結果を下記の表１に示す。
【００２８】
【表１】
【００２９】この結果から、初期化後に貼り合わせを行
った貼り合わせディスク（実施例）は、初期化はされて
いるが貼り合わせがなされていない光ディスク（比較例
２）と比較して、ＩＤ部およびデータ部ともにジッタ量
の増加はなく、記録・再生特性が良好であることが分か
る。これに対して、貼り合わせ後に初期化を行った貼り
合わせディスク（比較例１）は、初期化はされているが
貼り合わせがなされていない光ディスク（比較例２）と
比較して、ＩＤ部およびデータ部ともにジッタ量が増加
している。特に、ＩＤ部でジッタ量が大きく増加する。
った貼り合わせディスク（実施例）は、初期化はされて
いるが貼り合わせがなされていない光ディスク（比較例
２）と比較して、ＩＤ部およびデータ部ともにジッタ量
の増加はなく、記録・再生特性が良好であることが分か
る。これに対して、貼り合わせ後に初期化を行った貼り
合わせディスク（比較例１）は、初期化はされているが
貼り合わせがなされていない光ディスク（比較例２）と
比較して、ＩＤ部およびデータ部ともにジッタ量が増加
している。特に、ＩＤ部でジッタ量が大きく増加する。
【００３０】この原因として考えられることは、貼り合
わせ後に初期化を行う場合には、初期化時のディスクに
接着剤層が存在しているため、例えばこの接着剤層の厚
さの面内における不均一性が、記録層の結晶化に悪影響
を及ぼしているのではないかということである。特に、
カチオン重合系紫外線硬化型接着剤はスクリーン印刷方
式で均一になるように塗布しても、厚さが面内で不均一
になることは避けられない。したがって、接着剤層の存
在していない状態で初期化を行うことにより、このよう
な問題は生じなくなる。
わせ後に初期化を行う場合には、初期化時のディスクに
接着剤層が存在しているため、例えばこの接着剤層の厚
さの面内における不均一性が、記録層の結晶化に悪影響
を及ぼしているのではないかということである。特に、
カチオン重合系紫外線硬化型接着剤はスクリーン印刷方
式で均一になるように塗布しても、厚さが面内で不均一
になることは避けられない。したがって、接着剤層の存
在していない状態で初期化を行うことにより、このよう
な問題は生じなくなる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
貼り合わせ工程と初期化工程が必要な相変化型光ディス
クの製造方法において、高温高湿の環境下での耐久性、
作業性、コスト面、記録・再生特性のいずれの点におい
ても優れた相変化型光ディスクが得られる。
貼り合わせ工程と初期化工程が必要な相変化型光ディス
クの製造方法において、高温高湿の環境下での耐久性、
作業性、コスト面、記録・再生特性のいずれの点におい
ても優れた相変化型光ディスクが得られる。
【図１】本発明の一実施形態に相当する相変化型光ディ
スクの製造方法を工程順に説明する工程図であって、
（ａ）は相変化型光ディスクの作製工程を、（ｂ）は初
期化工程を、（ｃ）は貼り合わせ工程をそれぞれ示す。
スクの製造方法を工程順に説明する工程図であって、
（ａ）は相変化型光ディスクの作製工程を、（ｂ）は初
期化工程を、（ｃ）は貼り合わせ工程をそれぞれ示す。
【図２】実施形態で接着剤の塗布に使用したスクリーン
版を示す概略正面図である。
版を示す概略正面図である。
【図３】図２のスクリーン版のメッシュ部分を示す拡大
図である。
図である。
１ 基板 ２ 第１の誘電体層 ３ 記録層 ４ 第２の誘電体層 ５ 反射層 ６ 樹脂層 ７ レーザビーム ７０ 初期化装置 ８ 接着剤層 ９ スクリーン版 ９１ メッシュ部分 ９１ａ 糸 ９１ｂ オープニング １０ 相変化型光ディスク（板状体）
Claims (1)
- 【請求項１】 基板の一方の面に、照射光の強度に応じ
て結晶−非晶質間の相変化が可逆的になされる記録層を
少なくとも含む薄膜層が形成されている相変化型光ディ
スクを少なくとも１枚含む２枚の板状体を、相変化型光
ディスクの薄膜層側の面を内側にして接着剤により貼り
合わせる貼り合わせ工程と、相変化型光ディスクの記録
層全面を熱により結晶化させる初期化工程とを備えた相
変化型光ディスクの製造方法において、 相変化型光ディスクに対する初期化工程を行った後に、
いずれか一方または両方の板状体の貼り合わせ面上にカ
チオン重合系紫外線硬化型接着剤を塗布して所定照度の
紫外線を照射し、その後、相変化型光ディスクの薄膜層
側の面を内側にして重ねて所定の面圧で加圧することに
より貼り合わせ工程を行うことを特徴とする相変化型光
ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28513797A JPH11120632A (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 相変化型光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28513797A JPH11120632A (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 相変化型光ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11120632A true JPH11120632A (ja) | 1999-04-30 |
Family
ID=17687590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28513797A Withdrawn JPH11120632A (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 相変化型光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11120632A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002035539A1 (fr) * | 2000-10-27 | 2002-05-02 | Sony Corporation | Procede de production de disques optiques |
| WO2003025925A1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-03-27 | Tdk Corporation | Optical recording medium manufacturing method, and optical recording medium |
| EP0957477A3 (en) * | 1998-05-15 | 2003-11-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information recording medium, recording and reproducing method therefor and optical information recording and reproduction apparatus |
-
1997
- 1997-10-17 JP JP28513797A patent/JPH11120632A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0957477A3 (en) * | 1998-05-15 | 2003-11-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information recording medium, recording and reproducing method therefor and optical information recording and reproduction apparatus |
| WO2002035539A1 (fr) * | 2000-10-27 | 2002-05-02 | Sony Corporation | Procede de production de disques optiques |
| WO2003025925A1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-03-27 | Tdk Corporation | Optical recording medium manufacturing method, and optical recording medium |
| US7193960B2 (en) | 2001-09-13 | 2007-03-20 | Tdk Corporation | Method of manufacturing optical recording medium and optical recording medium |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050104 |