JPH11133616A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム - Google Patents

感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム

Info

Publication number
JPH11133616A
JPH11133616A JP29415597A JP29415597A JPH11133616A JP H11133616 A JPH11133616 A JP H11133616A JP 29415597 A JP29415597 A JP 29415597A JP 29415597 A JP29415597 A JP 29415597A JP H11133616 A JPH11133616 A JP H11133616A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
weight
photosensitive resin
parts
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29415597A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Ishikawa
力 石川
Jinko Kimura
仁子 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP29415597A priority Critical patent/JPH11133616A/ja
Publication of JPH11133616A publication Critical patent/JPH11133616A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 リードフレームやメタルマスクの基材等に用
いられる42アロイやSUS等の鉄系合金との密着性に
優れ、現像後の加熱工程の必要がなく、ICチップ搭載
用リードフレーム(以下、単にリードフレームという)
製造、メタルマスク製造等の精密金属加工に好適に用い
ることができる感光性樹脂組成物及び取扱性及び作業性
に優れる感光性フィルムを提供する。 【解決手段】 (A)バインダーポリマー、(B)光重
合開始剤(C)次の一般式(I) 【化1】 (式中、R1及びR2は各々独立に水素原子又はメチル基
を示し、nは1〜25の整数を示す)で表されるエチレ
ン性不飽和化合物及び(D)次の一般式(II) 【化2】 (式中、R3及びR4は各々独立に水素、炭素数1〜20
のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、フ
ェニル基、炭素数7〜20のアルキルフェニル基、アミ
ノ基又はメルカプト基を示す)で表される化合物を含有
してなる感光性樹脂組成物並びにこの感光性樹脂組成物
の層及び支持体を有してなる感光性フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成物
及びこれを用いた感光性フィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】リードフレーム、メタルマスク等の金属
精密加工の方法として、金型を用いて打ち抜くスタンピ
ング法と、感光性樹脂を用いて写真法で像を形成した後
エッチング加工するエッチング法の2つに大別される。
近年の半導体素子の軽薄短小化、少量他品種化の傾向下
においては、スタンピング法では、小型化に伴う狭小品
の製造ができない。少量他品種化に伴う金型代の高騰が
あり、軽薄短小化、少量他品種化には狭小品の製造が可
能であり、金型の不要なエッチング法が有利である。こ
のようなエッチング法において感光性樹脂は水溶性液状
感光性樹脂、溶剤含有型液状感光性樹脂、感光性フィル
ム等の種々の形態で用いられる。
【0003】液状感光性樹脂を用いる場合、塗工装置に
莫大な投資が必要であり、また塗工にかなり手間がかか
る。感光性樹脂そのもの及び感光性樹脂を塗工した後の
可使期間が短い、感度が低いといった共通欠点がある。
さらに、個別の欠点として、水溶性液状感光性樹脂はカ
ゼインやPVA(ポリビニルアルコール)をクロム酸塩
を用いて硬化させるため、有害な重金属塩を使用後に処
理する廃液処理工程が煩雑である。溶剤含有型液状感光
性樹脂では、有機溶剤を塗工中に排出するため環境に悪
影響を与える恐れがある。一方、感光性フィルム法は、
感光性フィルムを下地金属上に加熱圧着した後、像を形
成して用いるため、液状感光性樹脂に比べ設備投資が少
なく、感度も高く、可使期間が長い等の特長があり、金
属精密加工に好適な方法として注目されている。
【0004】しかしながら、従来の感光性フィルムは、
42アロイ(Fe/Ni=58/42)やSUS等に対
して密着性が悪く、エッチング時にレジストと金属界面
にエッチング液がしみこみやすく、金属表層部が侵され
やすい(エッチングもぐりと称する)という問題があ
る。このようなエッチングもぐりを解消するための方法
として、現像後に加熱処理を行い、レジストと金属との
界面の密着性を高める方法が用いられている。また、特
開平7−278254号公報及び特開平3−50549
号公報には、アクリル系重合体からなる結合剤、各種の
ビニルモノマー、架橋剤としてのブロックポリイソシア
ネート及び光重合開始剤からなる感光性樹脂組成物が記
載されており、ソルダーレジストとして用いられること
が記載されている。これらの感光性樹脂組成物は、現像
後の加熱によりブロックポリイソシアネートが開環して
架橋し、基材に対する密着性及び耐溶剤、耐薬品性に優
れたソルダーレジストを形成することが記載されてい
る。しかし、これらの感光性樹脂組成物は、42アロイ
やSUS等の鉄系合金に対して十分な密着性を得ること
ができなかったり、現像後の加熱工程が必須であるので
工程が増える等の問題がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】請求項1及び2記載の
発明は、リードフレームやメタルマスクの基材等に用い
られる42アロイやSUS等の鉄系合金との密着性に優
れ、現像後の加熱工程の必要がなく、ICチップ搭載用
リードフレーム(以下、単にリードフレームという)製
造、メタルマスク製造等の精密金属加工に好適に用いる
ことができる感光性樹脂組成物を提供するものである。
また、請求項3記載の発明は、リードフレームやメタル
マスクの基材等に用いられる42アロイやSUS等の鉄
系合金との密着性に優れ、現像後の加熱工程の必要がな
く、ICチップ搭載用リードフレーム(以下、単にリー
ドフレームという)製造、メタルマスク製造等の精密金
属加工に好適に用いいることができ、かつ取扱性及び作
業性に優れる感光性フィルムを提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)バイン
ダーポリマー、(B)光重合開始剤(C)次の一般式
(I)
【化3】 (式中、R1及びR2は各々独立に水素原子又はメチル基
を示し、nは1〜25の整数を示す)で表されるエチレ
ン性不飽和化合物及び(D)次の一般式(II)
【化4】 (式中のR3及びR5は各々独立に水素、炭素数1〜20
のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、フ
ェニル基、炭素数7〜20のアルキルフェニル基、アミ
ノ基又はメルカプト基を示す)で表される化合物を含有
してなる感光性樹脂組成物に関する。
【0007】また、本発明は、(A)成分、(B)成
分、(C)成分及び(D)成分の使用割合が、(A)成
分、(C)成分及び(D)成分の総量100重量部に対
し、(A)成分が40〜80重量部、(B)成分が0.
1〜20重量部、(C)成分が15.0〜59.5重量
部及び(D)成分が0.5〜5.0重量部である前記感
光性樹脂組成物に関する。また、本発明は、前記感光性
樹脂組成物の層及び支持体を有してなる感光性フィルム
に関する。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明における(A)成分のバイ
ンダーポリマーは、フィルム形成性を有するポリマーで
あれば特に制限なく、公知の高分子化合物を使用しうる
が、環境性、安全性に優れた炭酸ナトリウム水溶液等の
アルカリ現像液で現像可能である点で、カルボキシル基
を有するポリマーであることが好ましい。このようなカ
ルボキシル基を有するポリマーは、アクリル酸又はメタ
クリル酸とアクリル酸アルキルエステル又はメタクリル
酸アルキルエステルと他のビニル単量体とを共重合させ
て得られるビニル共重合体が好適である。カルボキシル
基を有するポリマーの酸価はアルカリ現像性の点から、
30〜250であることが好ましい。これらのバインダ
ーポリマーは、単独で又は2種類以上を組み合わせて使
用される。
【0009】上記アクリル酸アルキルエステルとして
は、例えば、アクリル酸メチルエステル、アクリル酸エ
チルエステル、アクリル酸ブチルエステル、アクリル酸
2−エチルヘキシルエステル等が挙げられ、メタクリル
酸アルキルエステルとしては、前記したものに対応する
ものが挙げられる。また、上記他のビニル単量体として
は、例えば、アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステ
ル、アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、アクリ
ル酸ジエチルアミノエチルエステル、アクリル酸グリシ
ジルエステル、これらに対応するメタクリル酸エステ
ル、2−ヒドロキシエチルアクリレート、3−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアク
リレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレー
ト、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレ
ート、これらに対応するメタクリレート、アクリルアミ
ド、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビニルトル
エン等が挙げられる。
【0010】(A)成分であるバインダーポリマーの分
子量は、塗工性及び塗膜強度、現像性の点から、重量平
均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを
用いて測定し、標準ポリスチレン換算した値)が10,
000〜200,000であることが好ましく、30,
000〜150,000であることがより好ましい。ま
た、(A)成分であるバインダーポリマーのTgは、特
に制限はないが、解像度、感光性フィルムとしたときの
エッジフュージョンの点から、50〜120℃であるこ
とが好ましい。本発明における(A)成分の配合量は、
(A)成分、(C)成分及び(D)成分の総量100重
量部に対し、40〜80重量部とすることが好ましく、
50〜70重量部とすることがより好ましく、55〜6
5重量部とすることが特に好ましい。この配合量が40
重量部未満では、光硬化物が脆くなり、感光性フィルム
として用いた場合に塗膜性が劣る傾向があり、80重量
部を超えると充分な感度が得られない傾向がある。
【0011】本発明に用いられる(B)光重合開始剤と
しては、例えば、芳香族ケトン(ベンゾフェノン、4,
4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(ミヒラ
ーケトン)、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾ
フェノン等)、チオキサントン(エチルチオキサント
ン、ジエチルチオキサントン等)、アントラキノン(2
−エチルアントラキノン、フェナントラキノン等)、ベ
ンゾインエーテル(ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル
等)、ベンゾイン(メチルベンゾイン、エチルベンゾイ
ン等)、ベンジル誘導体(ベンジルジメチルケタール
等)、ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル(ジ
メチルルアミノ安息香酸エチル、ジエチルルアミノ安息
香酸プロピル等)2,4,5−トリアリールイミダゾー
ル二量体(2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフ
ェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニ
ル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾー
ル二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェ
ニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−
(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−
5−フェニルイミダゾール二量体、2−(2,4−ジメ
トキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二
量体、2−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5
−ジフェニルイミダゾール二量体等)、アクリジン誘導
体(9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9′
−アクリジニル)ヘプタン等)などが挙げられる。これ
らは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
【0012】本発明における(B)成分の配合量は、
(A)成分、(C)成分及び(D)成分の総量100重
量部に対し、0.10〜20重量部とすることが好まし
く、0.15〜15重量部とすることがより好ましく、
0.20〜10重量部とすることが特に好ましい。この
配合量が0.10重量部未満では、光硬化性が劣り充分
な感度が得られない傾向があり、20重量部を超えると
高感度となり、解像度が劣る傾向がある。
【0013】本発明に(C)成分として用いられる一般
式(I)で示されるエチレン性不飽和化合物としては、
例えば、多価アルコールにα,β−不飽和カルボン酸を
反応させて得られる化合物(ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト等)が挙げられる。エトキシ基の繰り返し単位の数の
総計(n)は1〜25個であり、好ましくは3〜14個
である。この数が25を超えるとレジストの硬化密度が
低下することと、耐薬品性が低下するためにエッチング
もぐりが発生する。
【0014】本発明における(C)成分の配合量は、
(A)成分、(C)成分及び(D)成分の総量100重
量部に対し、15.0〜59.5重量部とすることが好
ましく、15〜50重量部とすることがより好ましく、
20〜40重量部とすることが特に好ましい。この配合
量が10重量部未満では、充分な感度が得られず、また
レジストの硬化密度が低くエッチングもぐりが発生する
傾向がある。59.5重量部を超えると感光性樹脂組成
物が柔らかくなるため感光性フィルムの端部から感光性
樹脂組成物がはみ出す傾向がある。
【0015】また、本発明の感光性樹脂組成物には、上
記の(C)成分の一般式(I)で表される化合物以外
に、例えば、3価以上のアルコールにα,β−不飽和カ
ルボン酸を反応させて得られる化合物(トリメチロール
プロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、これらに対応するメタ
アクリレート等)、グリシジル基含有化合物にα,β−
不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物(トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレー
ト、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリレー
ト、これらに対応するメタアクリレート等)、ビスフェ
ノールAポリオキシエチレンジアクリレート(ビスフェ
ノールAジオキシエチレンジアクリレート、ビスフェノ
ールAトリオキシエチレンジアクリレート、ビスフェノ
ールAデカオキシエチレンジアクリレート、これらに対
応するメタアクリレート等)、アクリル酸のアルキルエ
ステル(アクリル酸メチルエステル、アクリル酸エチル
エステル、アクリル酸ブチルエステル、アクリル酸2−
エチルヘキシルエステル等)、メタクリル酸のアルキル
エステル(メタクリル酸メチルエステル、メタクリル酸
エチルエステル、メタクリル酸ブチルエステル、メタク
リル酸2−エチルヘキシルエステル等)、o−フタル酸
のヒドロキシアルキルアクリレートのモノエステルの誘
導体(β−ヒドロキシプロピル−β′−アクリロイルオ
キシエチル−o−フタレート、これに対応するメタアク
リレート等)などのエチレン性不飽和化合物を(C)成
分100重量部に対して、50〜200重量部使用する
ことができる。
【0016】本発明の感光性樹脂組成物は、前記各成分
を溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセトン、メチル
エチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロホルム、塩
化メチレン、メチルアルコール、エチルアルコール等を
含んでいてもよい。溶剤を含む場合は、溶剤の配合量
は、感光性樹脂組成物の固型分が20〜80重量%とな
るような量とすることが取り扱い性、膜形成性等の点か
ら好ましい。
【0017】本発明に(D)成分として用いられる一般
式(II)で示される化合物としては、例えば、
【化5】 等が挙げられる。
【0018】本発明における(D)成分の配合量は、
0.5〜5.0重量部とすることが好ましく、1.0〜
3.0重量部とすることがより好ましく、1.0〜2.
0重量部とすることが特に好ましい。この配合量が0.
5重量部未満ではエッチングもぐりが発生する傾向があ
り、5.0重量部を超えると解像度の低下、エッチング
後にレジストを基材からはく離するのが困難になる。
【0019】本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じ
て、可塑剤、熱重合禁止剤、染料、顔料、充填剤、密着
性付与剤、香料、イメージング剤等を配合しても良い。
【0020】本発明の感光性樹脂組成物は、基板に、液
状レジストとして塗布して乾燥して用いるか、感光性フ
ィルムの形態で用いられる。この基板としては、金属
板、ガラスエポキシ基板等の非金属基板の表面に金属を
積層した基板などが挙げられ、前記金属としては、例え
ば、銅、ニッケル、クロム、鉄、ステンレス、42アロ
イ等が挙げられる。
【0021】感光性フィルムは感光性樹脂組成物を支持
体上に塗布、乾燥し製造できる。この感光性フィルムの
支持体上に形成された感光性樹脂組成物の層(感光層)
の厚さは通常、10〜100μmである。この支持体と
しては、重合体フィルム、例えば、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリプロピレン、ポリエチレン等からなるフ
ィルムが用いられ、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムが好ましい。これらの重合体フィルムの厚さは、5〜
100μmとすることが好ましく、10〜30μmとす
ることがより好ましい。また、これらの重合体フィルム
の一つは感光層の支持フィルムとして、他の一つは感光
層の保護フィルムとして感光層の両面に積層してもよ
い。
【0022】本発明の感光性フィルムを用いてフォトレ
ジスト画像を製造するに際しては、前記の保護フィルム
が存在している場合には、保護フィルムを除去後、感光
層を加熱しながら基板に圧着させることにより積層す
る。感光層の加熱温度は、90〜130℃とすることが
好ましく、圧着圧力は、3〜10kgf/cm2とすることが
好ましいが、これらの条件には特に制限はない。また、
感光層を前記のように加熱すれば、予め基板を予熱処理
することは必要ではないが、積層性をさらに向上させる
ために、基板の予熱処理を行うこともできる。
【0023】このようにして積層が完了した感光層は、
次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて、活性
光に画像的に露光される。この際、感光層上に存在する
重合体フィルムが透明の場合には、そのまま露光しても
よく、また、不透明の場合には、当然除去する必要があ
る。感光層の保護という点からは、重合体フィルムは透
明で、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通
して露光することが好ましい。活性光は、公知の活性光
源、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノ
ンアーク、写真用フラッド電球、太陽ランプ等から発生
する光が用いられる。
【0024】次いで、露光後、感光層上に重合体フィル
ム等が存在している場合には、これを除去した後、アル
カリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブ
ラッシング、スクラッピング等の公知方法により未露光
部を除去して現像する。アルカリ性水溶液の塩基として
は、水酸化アルカリ(リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの水酸化物等)、炭酸アルカリ(リチウム、ナトリウ
ム若しくはカリウムの炭酸塩又は重炭酸塩等)、アルカ
リ金属リン酸塩(リン酸カリウム、リン酸ナトリウム
等)、アルカリ金属ピロリン酸塩(ピロリン酸ナトリウ
ム、ピロリン酸カリウム等)などが用いられ、炭酸ナト
リウムの水溶液が好ましい。現像に用いるアルカリ水溶
液のpHは、9〜11の範囲とすることが好ましく、その
温度は、感光層の現像性に合わせて調節される。また、
アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促
進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
【0025】基板を加工して、リードフレームやメタル
マスクを製造するに際しては、現像されたフォトレジス
ト画像をマスクとして露光している基板の表面を、エッ
チング、めっき等の公知方法で処理する。次いで、フォ
トレジスト画像は、通常、現像に用いたアルカリ水溶液
よりさらに強アルカリ性の水溶液で剥離される。この強
アルカリ性の水溶液としては、例えば、1〜5重量%の
水酸化ナトリウム水溶液等が用いられる。
【0026】
【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 実施例1〜3及び比較例1〜3 表1に示す材料を配合し、溶液を得た。
【0027】
【表1】
【0028】この溶液に、表2に示す(C)成分及び
(D)成分を溶解させて感光性樹脂組成物の溶液を得
た。
【0029】
【表2】
【0030】次いで、この感光性樹脂組成物の溶液を2
0μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均
一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾
燥して感光性フィルムを得た。感光性樹脂組成物層の乾
燥後の膜厚は、15μmであった。一方、厚さ0.15
mmの42アロイ基材を3重量%NaOH溶液に50℃で
2分浸漬しその後水洗乾燥し、その42アロイ基材上に
前記感光性フィルムを110℃に加熱しながらラミネー
トした。次いで、光透過量が段階的に少なくなるように
作られた感度評価用のネガフィルム(光学密度0.05
を1段目とし、1段ごとに光学密度0.15ずつ増加す
るステップタブレット)を用いて種々の露光量で露光を
行った。次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルム
を除去し、30℃で1重量%炭酸ナトリウム水溶液を4
0秒間スプレーすることにより現像し、未露光部分を除
去し、42アロイ基材上に形成された光硬化膜のステッ
プタブレットの段数を測定した。そこで、ステップタブ
レットの21段中7段目が現像で除去されずに残存する
のに必要な露光量を感度とし表3に示した。
【0031】前記と同様に感光性フィルムをラミネート
した42アロイ基材上にパターン形成用のネガフィルム
を使用し、3kW高圧水銀灯(オーク製作所社製、HM
W−590)で先に感度として示した露光量で露光を行
った。次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルムを
除去し、30℃で1重量%炭酸ナトリウム水溶液を40
秒間スプレーすることにより、未露光部分を除去した。
次いで、45ボーメ塩化第2鉄溶液(ボーメは溶液の比
重を表わす。数値が大きい程比重が大きい)で50℃、
圧力0.3MPaで8分間スプレーしてエッチングを終
了し、3重量%NaOH溶液(50℃)に浸漬し、レジ
ストをはく離し水洗乾燥してエッチングされた42アロ
イ基材を得た。得られた42アロイ基材を観察しエッチ
ングもぐりを調べ、その結果を表3に示した。なおここ
で、ライン際の変色幅(μm)をエッチングもぐりとし
た。
【0032】
【表3】
【0033】表3から、(C)成分と(D)成分として
一般式(II)に相当する化合物を含む実施例1〜3の感
光性樹脂組成物を用いた場合には、各比較例に比べてエ
ッチングもぐりが小さくかつ感度の向上していることが
確認できた。
【0034】
【発明の効果】請求項1及び2記載の感光性樹脂組成物
は、リードフレームやメタルマスクの基材等に用いられ
る42アロイやSUS等の鉄系合金との密着性に優れ、
現像後の加熱工程の必要がなく、ICチップ搭載用リー
ドフレーム(以下、単にリードフレームという)製造、
メタルマスク製造等の精密金属加工に好適に用いること
ができるものである。請求項3記載の感光性フィルム
は、リードフレームやメタルマスクの基材等に用いられ
る42アロイやSUS等の鉄系合金との密着性に優れ、
現像後の加熱工程の必要がなく、ICチップ搭載用リー
ドフレーム(以下、単にリードフレームという)製造、
メタルマスク製造等の精密金属加工に好適に用いいるこ
とができ、かつ取扱性及び作業性に優れるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/033 G03F 7/033 H01L 21/027 H01L 21/30 502R

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)バインダーポリマー、(B)光重
    合開始剤(C)次の一般式(I) 【化1】 (式中、R1及びR2は各々独立に水素原子又はメチル基
    を示し、nは1〜25の整数を示す)で表されるエチレ
    ン性不飽和化合物及び(D)次の一般式(II) 【化2】 (式中、R3及びR4は各々独立に水素、炭素数1〜20
    のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、フ
    ェニル基、炭素数7〜20のアルキルフェニル基、アミ
    ノ基又はメルカプト基を示す)で表される化合物を含有
    してなる感光性樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 (A)成分、(B)成分、(C)成分及
    び(D)成分の使用割合が、(A)成分、(C)成分及
    び(D)成分の総量100重量部に対し、(A)成分が
    40〜80重量部、(B)成分が0.1〜20重量部、
    (C)成分が15.0〜59.5重量部及び(D)成分
    が0.5〜5.0重量部である請求項1記載の感光性樹
    脂組成物。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の感光性樹脂組成物
    の層及び支持体を有してなる感光性フィルム。
JP29415597A 1997-10-27 1997-10-27 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム Pending JPH11133616A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29415597A JPH11133616A (ja) 1997-10-27 1997-10-27 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29415597A JPH11133616A (ja) 1997-10-27 1997-10-27 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11133616A true JPH11133616A (ja) 1999-05-21

Family

ID=17804033

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29415597A Pending JPH11133616A (ja) 1997-10-27 1997-10-27 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11133616A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0738927B1 (en) Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
JP3372903B2 (ja) フォトレジスト剥離剤
JPH11133617A (ja) ケミカルミーリング用感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
JP3199600B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH11133616A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
JP3859934B2 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
JP3281307B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性樹脂組成物の層の積層方法、感光性樹脂組成物層積層基板及び感光性樹脂組成物の層の硬化方法
JPH10186657A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP2004294553A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP3724608B2 (ja) 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性フィルム
JP2002207292A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH10246961A (ja) ケミカルミーリング用感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
JPH10246962A (ja) ケミカルミーリング用感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JP3634216B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
JP2002328469A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH10148938A (ja) 金属精密加工用感光性フィルム及びこれを用いたパターン製造方法
JPH11310605A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
JP4529289B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
JP3238527B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH11218910A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
JPH1020505A (ja) リードフレーム製造用感光性樹脂組成物、これを用いたリードフレーム製造用感光性エレメント及びリードフレームの製造法
JP2001117224A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
JPH11160868A (ja) 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント
JPH05257278A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH1195427A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント