JPH11138971A - オフセット印刷方法及びオフセット印刷用原板 - Google Patents

オフセット印刷方法及びオフセット印刷用原板

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JPH11138971A
JPH11138971A JP30882397A JP30882397A JPH11138971A JP H11138971 A JPH11138971 A JP H11138971A JP 30882397 A JP30882397 A JP 30882397A JP 30882397 A JP30882397 A JP 30882397A JP H11138971 A JPH11138971 A JP H11138971A
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JP30882397A
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English (en)
Inventor
Takao Nakayama
隆雄 中山
Koji Kamiyama
宏二 神山
Takashi Yamada
隆 山田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】アルカリ現像液を必要とせず、画像部と非画像
部の識別性が高く、優れた画質の印刷画面を作りうるオ
フセット印刷方法を提供する。 【解決手段】表面が活性光の照射によって親水性に変化
する性質を有する特定の構造の金属酸化物の薄層を有す
る印刷用原版に活性光を用いて像様露光を行い、画像領
域がインクを受け入れた印刷面を形成させて印刷を行う
ことを特徴とする印刷方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般軽印刷分野、
とりわけオフセット印刷、特に簡易に印刷版を製作でき
る新規なオフセット印刷方法及び印刷版に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】オフセット印刷法は、数多くの印刷方法
の中でも印刷版の製作工程が簡単であるために、とくに
一般的に用いられてきており、現在の主要な印刷手段と
なっている。この印刷技術は、油と水の不混和性に基づ
いており、画像領域には油性材料つまりインクが、非画
像領域には湿し水が選択的に保持される。したがって印
刷される面と直接あるいはブランケットと称する中間体
を介して間接的に接触させると画像部のインクが転写さ
れて印刷が行われる。
【０００３】オフセット印刷の主な方法は、アルミニウ
ム基板を支持体としてその上にジアゾ感光層を塗設した
ＰＳ板である。ＰＳ板においては、アルミニウム基板を
支持体としてその表面を砂目立て、陽極酸化、その他の
諸工程を施してインク受容能と非画像部のインク反発性
を強め、耐刷力を向上させ、印刷面の精彩化を図るなど
を行い、その表面に印刷用画像を形成させる。したがっ
てオフセット印刷は、簡易性に加えて耐刷力や印刷面の
高精彩性などの特性も備わってきている。しかしなが
ら、印刷物の普及に伴って、オフセット印刷法の一層の
簡易化が要望され、数多くの簡易印刷方法が提案されて
いる。
【０００４】その代表例がAgfa-Gevaert社から市販され
たCopyrapid オフセット印刷版をはじめ、米国特許３５
１１６５６号、特開平７−５６３５１号などでも開示さ
れている銀塩拡散転写法による印刷版作製に基づく印刷
方法であって、この方法は、１工程で転写画像を作るこ
とができて、かつその画像が親油性であるために、その
まま印刷版とすることができるので、簡易な印刷方法と
して実用されている。しかしながら、簡易とはいいなが
らこの方法もアルカリ現像液による拡散転写現像工程を
必要としている。現像液による現像工程を必要としない
さらに簡易な印刷方法が要望されている。
【０００５】画像露光を行ったのちのアルカリ現像液に
よる現像工程を省略した簡易印刷版の製作方法の開発は
上記の背景から行われてきた。現像工程を省略できるこ
とから無処理刷版とも呼ばれるこの簡易印刷版の技術分
野では、これまでに主として 像様露光による画像記録面上の照射部の熱破壊による
像形成、像様露光による照射部の親油性化（ヒートモ
ード硬化）による画像形成、同じく照射部の親油性化
であるが、光モード硬化によるもの、ジアゾ化合物の
光分解による表面性質の変化、画像部のヒートモード
溶融熱転写などの諸原理に基づく手段が提案されてい
る。
【０００６】上記の簡易オフセット印刷方法として開示
されている技術には、米国特許第３，５０６，７７９
号、同第３，５４９，７３３号、同第３，５７４，６５
７号、同第３，７３９，０３３号、同第３，８３２，９
４８号、同第３，９４５，３１８号、同第３，９６２，
５１３号、同第３，９６４，３８９号、同第４，０３
４，１８３号、同第４，０８１，５７２号、同第４，６
９３，９５８号、同第７３１，３１７号、同第５，２３
８，７７８号、同第５，３５３，７０５号、同第５，３
８５，０９２号、同第５，３９５，７２９号等の米国特
許及び欧州特許第１０６８号などがある。
【０００７】これらは、製版に際して現像液を必要とし
ないように考案されているが、親油性領域と親水性領域
との差異が不十分であること、したがって印刷画像の画
質が劣ること、解像力が劣り、先鋭度の優れた印刷画面
が得にくいこと、画像面の機械的強度が不十分で傷がつ
きやすいこと、そのために保護膜を設けるなどによって
却って簡易性が損なわれること、長時間の印刷に耐える
耐久性が不十分なことなどのいずれか一つ以上の欠点を
伴っていて、単にアルカリ現像工程を無くすだけでは実
用性は伴わないことを示している。印刷上必要とされる
諸特性を具備し、かつ簡易に印刷版を製作できる印刷版
作成方法への強い要望は、いまだに満たされていない。
【０００８】上記した無処理型印刷版作成方法の一つに
ジルコニアセラミックが光照射によって親水性化するこ
とを利用した印刷版作製方法が特開平９−１６９０９８
号で開示されている。しかし、ジルコニアの光感度は不
十分であり、かつ疎水性から親水性への光変換効果が不
十分のため画像部と非画像部の識別性が不足している。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
している第１の課題は、アルカリ性現像液を必要としな
い簡易性と実用レベルの十分の画質を有し、かつ上記し
た従来開示された技術に見られる使用上の制約や欠点を
伴わないオフセット印刷方法を提供することである。具
体的には、第１にアルカリ現像液を必要とせず、第２に
画像部と非画像部の識別性が高い画質の印刷画面を作る
ことができるオフセット印刷方法とそのための印刷原板
を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者たちは、上記の
目的を達成するために、鋭意検討の結果、特定の金属酸
化物が光照射によって表面の親水性が変化する現象と変
化した親水性が熱処理によってもとに戻る性質を有する
ことを発見し、この現象を印刷方法の簡易化と印刷版の
再利用化に応用して上記の課題を解決できる可能性に着
目し、これに基づいて本発明を完成するに至った。すな
わち、本発明は、下記の通りである。
【００１１】１．ＲＴｉＯ3 （Ｒはアルカリ土類金属原
子）、ＡＢ2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ10（Ａは水素原子又は
アルカリ金属原子、Ｂはアルカリ土類金属原子又は鉛原
子、Ｃは希土類原子、Ｄは周期律表の５Ａ族元素に属す
る金属原子、Ｅは同じく４Ａ族元素に属する金属原子、
ｘは０〜２の任意の数値を表す）、ＳｎＯ2 ，Ｂｉ2 Ｏ
3 及びＦｅ2 Ｏ3 の少なくとも一つからなる薄層を有す
る印刷用原版に該化合物を励起させる活性光を用いて像
様露光を行い、露光面を印刷用インクに接触させて、画
像領域がインクを受け入れた印刷面を形成させ、該印刷
面を印刷される面と接触させてインクを転写することに
よって印刷を行うことを特徴とするオフセット印刷方
法。
【００１２】２．オフセット印刷機の版胴の印刷面側の
表面に請求項１に記載の薄層を設けたことを特徴とする
上記１に記載のオフセット印刷方法。
【００１３】３．印刷面側の表面に上記１に記載の薄層
を有し、上記１又は２に記載のオフセット印刷方法に用
いることを特徴とするオフセット印刷用原板。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明は、特定の金属酸化物の薄層
が活性光の照射を受けてその表面が親水性へと性質を変
える特性を有することと、熱によってその変化した表面
の性質がもとの性質に戻ることとを発見し、それらの現
象をインクの受容性と反撥性の識別へ応用して、それを
オフセット印刷方法とその印刷版の作製に応用する技術
を確立したことを特徴点としている。
【００１５】以下の説明では、本発明に使用する上記の
特定の金属酸化物を「光触媒型金属酸化物」と呼ぶ。そ
の詳細を述べる前に、蛇足ながら、本明細書で用いてい
る用語について触れておくと、活性光とは、光触媒型金
属酸化物が吸収すると励起されて、その表面を親水性に
変化させる光を指しており、その光源や波長などの詳細
は後述する。また、「像様露光」は、受光面照度が画像
状に分布するように変調された画像を版面上に形成する
ための露光である。以下の説明では「薄膜」と「薄層」
を同義に用いている。
【００１６】本発明に使用する光触媒型金属酸化物につ
いて説明する。ＲＴｉＯ3 のＲはマグネシウム、カルシ
ウム、ストロンチウム、バリウム、ベリリウムなどの周
期律表のアルカリ土類元素に属する金属原子であり、と
くにストロンチウムとバリウムが好ましい。また、２種
以上のアルカリ土類金属原子をその合計が上記の式に化
学量論的に整合する限り共存することができる。
【００１７】一般式ＡＢ2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ10で表さ
れる化合物において、Ａは水素原子及びナトリウム、カ
リウム、ルビジューム、セシウム、リチウムなどのアル
カリ金属原子から選ばれる１価原子で、その合計が上記
の式に化学量論的に整合する限りそれらの２種以上を共
存してもよい。Ｂは、上記のＲと同義のアルカリ土類金
属原子又は鉛原子であり、上記同様に化学量論的に整合
する限り２種以上の原子が共存してもよい。Ｃは希土類
原子であり、好ましくは、スカンジウム及びイットリウ
ム並びにランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオジ
ウム、ホルミウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テル
ビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウムなどの
ランタノイド系元素に属する原子であり、また、その合
計が上記の式に化学量論的に整合する限りそれらの２種
以上を共存してもよい。Ｄは周期律表の５Ａ族元素から
選ばれた一種以上で、窒素、リン、ヒ素、アンチモン、
ビスマスが挙げられる。また、化学量論関係を満たす限
り、２種以上の５Ａ族元素の金属原子が共存してもよ
い。Ｅは同じくシリコン、ゲルマニウム、錫、鉛などの
４Ａ族元素に属する金属原子であり、また、２種以上の
４Ａ族の金属原子が共存してもよい。ｘは０〜２の任意
の数値を表す。
【００１８】本発明においては、以上のＲＴｉＯ3 、Ａ
Ｂ2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ10、ＳｎＯ 2 ，Ｂｉ2 Ｏ3 及び
Ｆｅ2 Ｏ3 の少なくとも一つを単独あるいは２種以上を
組み合わせからなる薄層を感光層として印刷用原版表面
に設ける。この薄層は、本来は疎水性（つまり親水性）
であるが、活性光の照射によって表面が親水性になる性
質を有する。この特性を利用して、活性光を用いて像様
露光を行って露光面に像様の親水性部分を生成させたの
ち、その面を印刷用インクに接触させて、画像領域がイ
ンクを受け入れた印刷面を形成させて印刷を行う方法で
あり、感脂性を高めるための付加的な操作を施す必要の
ない簡易な印刷を行えるのが本発明のオフセット印刷方
法の特徴である。
【００１９】上記の金属酸化物が光触媒反応によってそ
の表面が親水性化する現象は、特開平９−７０５４１
号、同９−７７５３５号などで公知であるが、活性光に
よるこの表面の性質変化を新たな方式のオフセット印刷
に応用するという着想は、新しい技術思想である。
【００２０】本発明に使用する上記の光触媒型金属酸化
物を原版の表面に設けるには、たとえば、上記酸化物
微粒子の分散物を印刷版の原版上に塗設する方法、塗
設したのち焼成してバインダーを減量或いは除去する方
法、印刷版の原版上に上記酸化物を各種の真空薄膜法
で膜形成する方法、例えば金属元素のアルコレートの
ような有機化合物を原版上に塗布したのち、加水分解さ
せ、さらに焼成酸化を施して適当な厚みの金属薄膜とす
る方法、上記金属を含む塩酸塩、硝酸塩などの水溶液
を加熱スプレーする方法など、既知の任意の方法を用い
ることができる。本発明においては、真空蒸着による酸
化チタン層が特に好ましい。
【００２１】上記又はのチタン酸バリウム微粒子を
塗設する方法には、チタン酸バリウムとシリコンの混合
分散物を塗布して表面層を形成させる方法、チタン酸バ
リウムとオルガノポリシロキサンまたはそのモノマ−と
の混合物を塗布する方法などがある。また、酸化物層の
中に酸化物と共存するできるポリマーバインダーに分散
して塗布することもできる。酸化物微粒子のバインダ−
には、チタン酸バリウム微粒子に対して分散性を有する
ポリマーを広く用いることができる。好ましいバインダ
ーポリマーの例としては、ポリエチレンなどのポリアル
キレンポリマー、ポリブタジエン、ポリアクリル酸エス
テル、ポリメタクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポ
リ蟻酸ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリビニルアルコール、部分鹸化ポ
リビニルアルコール、ポリスチレンなどの疎水性バイン
ダーが好ましく、それらの樹脂を混合して使用してもよ
い。この方法の場合にはチタン酸バリウム以外にチタン
酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロ
ンチウム又はそれらの分子間化合物、混合物も同様に薄
膜形成可能である。
【００２２】同様にして、の塗設方法でＣｓＬａ2
ＮｂＴｉ2 Ｏ10微粒子を塗設することも可能である。Ｃ
ｓＬａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10微粒子は、その化学量論に対応
するＣｓ2 ＣＯ3,Ｌａ2 Ｏ3,ＮｂＯ5,ＴｉＯ2 を乳鉢で
微粉砕して、白金るつぼに入れ、１３０°C で５時間焼
成し、それを冷却してから乳鉢に入れて数ミクロン以下
の微粒子に粉砕する。このＣｓＬａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10微
粒子を前記のチタン酸バリウムと同様にバインダーの中
に分散し、塗布して薄膜を形成した。この方法は、Ｃｓ
Ｌａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10型微粒子に限らず、ＨＣａ1.5 Ｌ
ａ0.5 Ｎｂ2.5Ｔｉ0.5 Ｏ10，ＬａＮｂＴｉ2 Ｏ10など
前述のＡＢ2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ10、（０≦ｘ≦２）に
適用される。
【００２３】上記の真空薄膜形成法を用いた光触媒型
金属酸化物層の形成方法としては、一般的にはスパッタ
リング法あるいは真空薄膜形成法が用いられる。スパッ
タリング法では、あらかじめ単体もしくは２元の酸化物
ターゲットを準備する。例えば、チタン酸バリウムター
ゲットを用いて蒸着膜用の支持体の温度を４５０°Ｃ以
上に保ち、アルゴン／酸素混合雰囲気中でＲＦスパッタ
リングを行うことによりチタン酸バリウム決勝薄膜が得
られる。結晶性の制御には必要に応じてポストアニーリ
ングを３００〜９００°Ｃで行えばよい。本方法は前述
のＲＴｉＯ3 （Ｒはアルカリ土類金属原子）をはじめ他
の前記光触媒型金属酸化物にも、結晶制御に最適な基板
温度を調整すれば同様の考え方で薄膜形成が可能であ
る。例えば酸化錫薄膜を設ける場合には基板温度１２０
°Ｃ、アルゴン／酸素混合雰囲気中でＲＦスパッタリン
グを行うことによりチタン酸バリウム結晶薄膜が得比５
０／５０、ＲＦパワー２００Ｗで本目的に沿う薄膜が得
られる。
【００２４】上記の金属アルコレートを用いる方法
も、バインダーを使用しないで目的の薄膜形成が可能な
方法である。チタン酸バリウムの薄膜を形成するにはバ
リウムエトキシドとチタニウムブトキシドの混合アルコ
ール溶液を表面にＳｉＯ2 を有するシリコン基板上に塗
布し、その表面を加水分解したのち、２００°Ｃ以上に
加熱してチタン酸バリウムの薄膜を形成することが可能
である。本方式は前述した他のＲＴｉＯ3 （Ｒはアルカ
リ土類金属原子）、ＡＢ2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ10（Ａ，
Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞれ前記の定義の内容を表す）、
ＳｎＯ2 ，Ｂｉ2Ｏ3 及びＦｅ2 Ｏ3 の薄膜形成に適用
することができる。
【００２５】上記の光触媒性機能を発現する金属酸化
物薄膜を形成する方法も、バインダーを含まない系の薄
膜の形成が可能である。ＳｎＯ2 の薄膜を形成するには
ＳｎＣｌ4 の塩酸水溶液を２００°Ｃ以上に加熱した石
英又は結晶性ガラス表面に吹きつけて薄膜を生成するこ
とができる。本方式は、ＳｎＯ2 薄膜のほか，前述した
ＲＴｉＯ3 （Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ2-x Ｃ
x Ｄ3-x Ｅx Ｏ10（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞれ前記
の定義の内容を表す）、Ｂｉ2 Ｏ3 及びＦｅ2Ｏ3 のい
ずれの薄膜形成にも適用することができる。
【００２６】金属酸化物薄膜の厚みは、上記のいずれの
場合も１〜１０００００オングストロ−ムがよく、好ま
しくは１０〜１００００オングストロ−ムである。さら
に好ましくは３０００オングストロ−ム以下として光干
渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作用を十分に
発現させるには厚みが５０オングストローム以上あるこ
とが好都合である。
【００２７】バインダーを使用した場合の上記光触媒型
金属酸化物の薄層において、金属酸化物の体積率は５０
〜１００％であり、好ましくは９０％以上を酸化物が占
めるのがよく、さらに好ましくは酸化物の連続層つまり
実質的に１００％であるのがよい。また、光照射によっ
て表面の親水性が変化する性質を増進させるためにある
種の金属をドーピングすることは有効な場合があり、こ
の目的にはイオン化傾向が小さい金属のドーピングが適
しており、Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｆ
ｅ，Ｃｏをドーピングするのが好ましい。また、これら
の好ましい金属を複数ドーピングしてもよい。
【００２８】本発明に係わる印刷版は、いろいろの形態
と材料を用いることができる。例えば、印刷機の版胴の
表面に光触媒型金属酸化物を蒸着、浸漬あるいは塗布す
るなど上記した方法で直接酸化物層を設ける方法、金属
板の表面に光触媒型金属酸化物層を設けてそれを版胴に
巻き付けて印刷版とする方法、その金属板としては、ア
ルミニウム板、ステンレス鋼、ニッケル、銅板が好まし
く、また可撓性（フレキシブル）な金属板を用いること
が出来る。また、ポリエステル類やセルローズエステル
などのフレキシブルなプラスチック支持体も用いること
が出来る。防水加工紙、ポリエチレン積層紙、含浸紙な
どの支持体上に酸化物層を設けてもよく、それを印刷版
として使用してもよい。
【００２９】本発明において、光触媒型金属酸化物の層
を支持体上に設ける場合、使用される支持体としては、
寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチッ
ク（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アル
ミニウム、亜鉛、銅、ステンレス等）、プラスチックフ
ィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上
記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、
もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。
【００３０】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、アルミニウム、又は印刷版上で腐食しにくいＳＵＳ
板であり、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価で
あるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウ
ム板は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成分
とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニ
ウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィ
ルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素に
は、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合
金中の異元素の含有量は高々１０重量％以下である。本
発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウ
ムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製
造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでも
よい。このように本発明に適用されるアルミニウム板
は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知
公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することがで
きる。本発明で用いられる支持体の厚みはおよそ０．０
５mm〜０．６mm程度、好ましくは０．１mm〜０．４mm、
特に好ましくは０．１５mm〜０．３mmである。
【００３１】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示さ
れているように両者を組み合わせた方法も利用すること
ができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必
要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理され
た後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるため
に陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化
処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形
成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、
塩酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。
【００３２】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ/dm2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０
秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量
は１．０g/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、
平板印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に
傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ
易くなる。
【００３３】光触媒型金属酸化物の表面層を有する印刷
原版は、本来親油性であり、インクを受容するが、像様
露光を行うと光の照射を受けた部分は、親水性となり、
インクを受け付けなくなる。したがってこのようにして
描画した印刷原版にオフセット印刷用インクに接触させ
て非画像領域が湿し水を保持し、画像領域がインクを受
け入れた印刷面を形成させ、該印刷面を印刷される面と
接触させてインクを転写することによって印刷が行われ
る。
【００３４】本発明の基本となっている「光の照射によ
る親油性と親水性の間の変化」はきわめて顕著である。
画像部と非画像部の親水性と親油性の差が大きいほど識
別効果が顕著であり、印刷面が鮮明となり、同時に耐刷
性も大きくなる。親水性と親油性の相違度は、水滴に対
する接触角によって表すことができる。親水性が大きい
ほど水滴は広がりをみせて接触角が小さくなり、逆に水
滴を反発する（はっ水性つまり親油性）場合は接触角が
大きくなる。つまり、本発明の光触媒型金属酸化物表面
層を有する原版は、本来水に対して高い接触角を有して
いるが、活性光の照射を受けるとその接触角が急激に低
下し、親油性のインクをはじく性質に変化するので、版
面上に画像状にインク保持部と水保持部ができて紙など
の受像シートと接触することによってその被印刷面にイ
ンクが転写される。
【００３５】光触媒型金属酸化物を主成分とする薄層を
励起させる活性光は、４００ｎｍ以下に感光域を有する
ので、水銀灯、タングステンハロゲンランプ、その他の
メタルハライドランプ、キセノン灯、その他紫外線光を
発する放電管などを用いることが出来る。また、励起光
としては、発振波長を３２５ｎｍに有するヘリウムカド
ミウムレーザーや発振波長を３５１．１〜３６３．８ｎ
ｍに有する水冷アルゴンレーザーも用いることができ
る。さらに近紫外レーザー発振が確認されている窒化ガ
リウムレーザー系では、発振波長を３６０〜４４０ｎｍ
に有するInGaＮ系量子井戸半導体レーザー、及び３６０
〜４３０ｎｍに発振波長を有する導波路 MgO-LiNbO3 反
転ドメイン波長変換デバイス型のレーザーも適用でき
る。
【００３６】照射光量に応じて、表面層の光触媒型金属
酸化物を光吸収励起によって親水性に変化して行き、表
面層を構成する光触媒型金属酸化物がすべて活性化する
とそれ以上の光照射によってさらに親水性の程度が変化
することはない。好ましい照射光の強さは、光触媒型金
属酸化物の画像形成層の性質によって異なり、また活性
光の波長や分光分布によっても異なるが、通常は印刷用
画像で変調する前の面露光強度が０．０５〜１００ｊｏ
ｕｌｅ／ｃｍ2 ，好ましくは０．０５〜１０ｊｏｕｌｅ
／ｃｍ2 ，より好ましくは０．０５〜５ｊｏｕｌｅ／ｃ
ｍ 2 である。また、光照射には相反則がほぼ成立してお
り、例えば１０ｍＷ／ｃｍ2 で１００秒の露光を行って
も、１Ｗ／ｃｍ2 で１秒の露光を行っても、同じ効果が
得られるので活性光を発光する限り光源の選択には制約
はない。この照射光量は、レーザーによるスキャニング
方式あるいはな発散型光源を用いる面露光方式でもとく
に支障がないレベルの光量である。
【００３７】上記の疎水性から親水性への光による変化
をもたらす感光性は、性質及び機構共に従来開示されて
いるジルコニアセラミック（特開平９−１６９０９８）
の感光性とは異なるものである。たとえば、感度につい
ては、ジルコニアセラミックに対しては７Ｗ／μｍ2 の
レーザー光と記されており、レーザー光のパルス持続時
間を１００ナノ秒として７０joule ／ｃｍ2 であって光
触媒型金属酸化物層の感度より約１桁低い。機構的に
も、十分解明されてはいないが、親油性有機付着物の光
剥離反応と考えられており、ジルコニアの光変化機構と
は異なっている。
【００３８】親油性の光触媒型金属酸化物の表面層へ画
像焼き付け露光を行ったのち、印刷原版は現像処理する
ことなく、そのままオフセット印刷工程に送ることがで
きる。従って通常の公知の平版印刷法に比較して簡易性
を中心に多くの利点を有する。すなわち上記したように
アルカリ現像液による化学処理が不要であり、それに伴
うワイピング、ブラッシングの操作も不要であり、さら
に現像廃液の排出による環境負荷も伴わない。
【００３９】以上のようにして得られた平版印刷版の全
面露光部は十分に親水性化しているが、所望により、水
洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガム
や澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明
の画像記録材料を印刷用版材として使用する場合の後処
理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いるこ
とができる。その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。ま
た、塗布した後でスキージー、あるいは、スキージーロ
ーラーで、その塗布量を均一にすることは、より好まし
い結果を与える。整面液の塗布量は一般に０．０３〜
０．８g/m2（乾燥重量）が適当である。この様な処理に
よって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけ
られ、多数枚の印刷に用いられる。
【００４０】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに説明する
が、本発明はこれに限定されない。 実施例１ ９９．５重量％アルミニウムに、銅を０．０１重量％、
チタンを０．０３重量％、鉄を０．３重量％、ケイ素を
０．１重量％含有するＪＩＳ Ａ１０５０アルミニウム
材の厚み０．３０mm圧延板を、４００メッシュのパミス
トン（共立窯業製）の２０重量％水性懸濁液と、回転ナ
イロンブラシ（６，１０−ナイロン）とを用いてその表
面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを１５重
量％水酸化ナトリウム水溶液（アルミニウム４．５重量
％含有）に浸漬してアルミニウムの溶解量が５g/m2にな
るようにエッチングした後、流水で水洗した。更に、１
重量％硝酸で中和し、次に０．７重量％硝酸水溶液（ア
ルミニウム０．５重量％含有）中で、陽極時電圧１０．
５ボルト、陰極時電圧９．３ボルトの矩形波交番波形電
圧（電流比ｒ＝０．９０、特公昭５８−５７９６号公報
実施例に記載されている電流波形）を用いて１６０クロ
ーン／dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
水洗後、３５℃の１０重量％水酸化ナトリウム水溶液中
に浸漬して、アルミニウム溶解量が１g/m2になるように
エッチングした後、水洗した。次に、５０℃、３０重量
％の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、水洗し
た。
【００４１】さらに、３５℃の硫酸２０重量％水溶液
（アルミニウム０．８重量％含有）中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密
度１３A/dm2で電解を行い、電解時間の調節により陽極
酸化皮膜重量２．７g/m2とした。この支持体を水洗後、
７０℃のケイ酸ナトリウムの３重量％水溶液に３０秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られた
アルミニウム支持体は、マクベスＲＤ９２０反射濃度計
で測定した反射濃度は０．３０で、中心線平均粗さは
０．５８μｍであった。
【００４２】次いでこのアルミニウム支持体をスパッタ
リング装置内にセットし、５．０ｘ１０-7Torrまで真空
排気する。支持体を５００°Ｃに加熱し、Ａｒ／Ｏ2 が
６０／４０（モル比）となるようにガス圧を５ｘ１０-3
Torrに調製した。６インチφのチタン酸バリウムの焼結
ターゲットにＲＦパワー２００Ｗを投入して膜圧１００
０Åのチタン酸バリウム薄膜を形成した。Ｘ線解析法に
よれば、この薄膜は多結晶体であった。サイズを５１０
×４００mmにカットしてサンプルとした。この表面に４
００線／インチのポジの画像を有するリスフィルム原稿
を置き、上から石英ガラス板で機械的に密着させた。こ
れにウシオ電気社製USIO焼き付け用光源装置ユニレック
ＵＲＭ−６００形式ＧＨ−６０２０１Ｘを用いて、光強
度２５mW/cm2のもとで２分間露光を行った。協和界面科
学株式会社製CONTACT-ANGLE METERCA-Dを用いて空中水
滴法で表面の接触角を測定したところ水に対する（空中
水滴）接触角は露光部７度、非露光部５４〜５６度を得
た。
【００４３】このチタン酸バリウム薄膜表面を有する印
刷版を、サクライ社製オリバー５２片面印刷機にセット
し、湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製
Newchampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オフセ
ット印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物
が得られ、印刷版の損傷もみとめられなかった。
【００４４】実施例２ 厚さ２００ミクロンのポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）支持体をスパッタリング装置内にセットし、５ｘ
１０-7Torrまで真空排気を行った。支持体を120 °Ｃに
加熱してアルゴン／酸素混合ガス（５０／５０モル比）
のガス圧を５ｘ１０-3 Torr になるように調節した。６
インチφＳｎＯ2 焼結ターゲットにＲＦパワー１５０Ｗ
を投入し、膜圧１０００オングストロームの酸化錫の薄
膜を形成した。この原板のサイズを５１０×４００mmに
カットしてサンプルとした。
【００４５】この表面にポジの画像を有するリスフィル
ム原稿を置き、上から石英ガラス板で機械的に密着させ
た。これにウシオ電気社製USIO焼き付け用光源装置ユニ
レックＵＲＭ−６００形式ＧＨ−６０２０１Ｘを用い
て、光強度２５mW/cm2のもとで１０分間露光を行った。
協和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER CA-Dを用
いて空中水滴法で表面の接触角を測定したところ露光部
５度、非露光部５１度を得た。
【００４６】この版を、サクライ社製オリバー５２片面
印刷機にセットし、湿し水を純水、インキを大日本イン
キ化学工業社製New ChampionＦグロス８５墨を用いて１
０００枚オフセット印刷を行った。スタートから終了ま
で非画像部に汚れのない鮮明な印刷物が得られ、印刷版
の損傷も認められなかった。
【００４７】実施例３ 実施例１と同様にして陽極酸化処理したアルミニウム支
持体をＣｓＬａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10の化学量論比に相当す
るセシウムエトキシド、チタンブトキシド、ァンタンイ
ソブトキシド、ニオブエトキシドを含む２０％のエタノ
ール溶液に浸漬して表面を加水分解したのち２００°Ｃ
以上に加熱してアルミニウム支持体表面にＣｓＬａ2 Ｎ
ｂＴｉ2 Ｏ10の厚み１０００オングストロームの薄膜を
形成させた。
【００４８】この複合金属酸化物薄膜付きアルミニウム
支持体をサイズは５１０×４００mmにカットしてサンプ
ルとした。この表面にポジの画像を有するリスフィルム
原稿を置き、上から石英ガラス板で機械的に密着させ
た。これにウシオ電気社製USIO焼き付け用光源装置ユニ
レックＵＲＭ−６００形式ＧＨ−６０２０１Ｘを用い
て、光強度２５mW/cm2のもとで５分間露光を行った。協
和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER CA-Dを用い
て空中水滴法で表面の接触角を測定したところ露光部１
０度、非露光部６０度を得た。
【００４９】この版を、サクライ社製オリバー５２片面
印刷機にセットし、湿し水を純水、インキを大日本イン
キ化学工業社製New Champion Ｆグロス８５墨を用いて
５００枚オフセット印刷を行った。スタートから終了ま
で非画像部に汚れのない鮮明な印刷物が得られ、印刷版
の損傷もみとめられなかった。
【００５０】実施例４ 実施例３における陽極酸化処理したアルミニウム支持体
を厚さ１００ミクロンのステンレス板支持体に代えた外
は、実施例３と同様にＣｓＬａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ 10の化学
量論比に相当するセシウムエトキシド、チタンブトキシ
ド、ランタンイソブトキシド、ニオブエトキシドを含む
２０％のエタノール溶液に浸漬して表面を加水分解した
のち２００°Ｃ以上に加熱してステンレス支持体表面に
ＣｓＬａ 2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10の厚み１０００オングストロ
ームの薄膜を形成させた。
【００５１】この複合金属酸化物薄膜付きアルミニウム
支持体をサイズは５１０×４００mmにカットしてサンプ
ルとした。この表面にポジの画像を有するリスフィルム
原稿を置き、上から石英ガラス板で機械的に密着させ
た。これにウシオ電気社製USIO焼き付け用光源装置ユニ
レックＵＲＭ−６００形式ＧＨ−６０２０１Ｘを用い
て、光強度２５mW/cm2のもとで５分間露光を行った。協
和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER CA-Dを用い
て空中水滴法で表面の接触角を測定したところ露光部１
０度、非露光部６０度を得た。
【００５２】この版を、サクライ社製オリバー５２片面
印刷機にセットし、湿し水を純水、インキを大日本イン
キ化学工業社製New Champion Ｆグロス８５墨を用いて
５００枚オフセット印刷を行った。スタートから終了ま
で非画像部に汚れのない鮮明な印刷物が得られ、印刷版
の損傷もみとめられなかった。 実施例５ 実施例１と同様にして作製した印刷用原板試料に、水冷
型アルゴンイオンレーザーの３６３．８ｎｍ光をビーム
幅３５ミクロン（１／ｅ2 値）に絞り、走査ピッチ２
２．５ミクロンでレーザー画像を露光した。協和界面科
学株式会社製CONTACT-ANGLE METER CA-Dを用いて空中水
滴法で表面の接触角を測定したところ露光部７度、非露
光部６２度を得た。
【００５３】この版を、サクライ社製オリバー５２片面
印刷機にセットし、湿し水を純水、インキを大日本イン
キ化学工業社製New Champion Ｆグロス８５墨を用いて
５００枚オフセット印刷を行った。スタートから終了ま
で非画像部に汚れのない鮮明な印刷物が得られ、印刷版
の損傷もみとめられなかった。
【発明の効果】表面に前記した光触媒型金属酸化物を主
成分とする薄層を有する本発明の印刷原板は、活性光に
よる印刷版への像様露光のみで印刷画面が形成され、未
露光部にインクを受容させて印刷を行うことによって、
現像液が不要で、かつ印刷面の鮮明性が保たれたオフセ
ット印刷が可能となる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ＲＴｉＯ3 （Ｒはアルカリ土類金属原
    子）、ＡＢ2-x Ｃx Ｄ 3-x Ｅx Ｏ10（Ａは水素原子又は
    アルカリ金属原子、Ｂはアルカリ土類金属原子又は鉛原
    子、Ｃは希土類原子、Ｄは周期律表の５Ａ族元素に属す
    る金属原子、Ｅは同じく４Ａ族元素に属する金属原子、
    ｘは０〜２の任意の数値を表す）、ＳｎＯ2 ，Ｂｉ2 Ｏ
    3 及びＦｅ2 Ｏ3 の少なくとも一つからなる薄層を有す
    る印刷用原版に該化合物を励起させる活性光を用いて像
    様露光を行い、露光面を印刷用インクに接触させて、画
    像領域がインクを受け入れた印刷面を形成させ、該印刷
    面を印刷される面と接触させてインクを転写することに
    よって印刷を行うことを特徴とするオフセット印刷方
    法。
  2. 【請求項２】 オフセット印刷機の版胴の印刷面側の表
    面に請求項１に記載の薄層を設けたことを特徴とする請
    求項１に記載のオフセット印刷方法。
  3. 【請求項３】 印刷面側の表面に請求項１に記載の薄層
    を有し、請求項１又は２に記載のオフセット印刷方法に
    用いることを特徴とするオフセット印刷用原板。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6450635B1 (en) 1998-12-09 2002-09-17 Dai Nippon Printing Co., Ltd Color filter and process for producing the same
US6815125B1 (en) 1999-06-30 2004-11-09 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Color filter and process for producing the same
US7032514B2 (en) 2000-06-26 2006-04-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing method, original printing plate and printing press

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