JPH11140089A - ケイ素化合物およびその製法 - Google Patents
ケイ素化合物およびその製法Info
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- JPH11140089A JPH11140089A JP9310135A JP31013597A JPH11140089A JP H11140089 A JPH11140089 A JP H11140089A JP 9310135 A JP9310135 A JP 9310135A JP 31013597 A JP31013597 A JP 31013597A JP H11140089 A JPH11140089 A JP H11140089A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ジクロルシランを用い、白金化合物又はロジウ
ム化合物を触媒として、アセチレン結合を有する化合物
をヒドロシリル化させることを特徴とするジビニルシラ
ン誘導体の合成方法において、アセチレンに対し選択的
にヒドロシリル化を行い、種々の有機ケイ素化合物の中
間体、ケイ素系高分子のモノマー成分を合成する。 【解決手段】ジクロルシランを用い、白金化合物又はロ
ジウム化合物を触媒として、アセチレン結合を有する化
合物をヒドロシリル化させ、ジビニルシランを１段階で
合成する。
ム化合物を触媒として、アセチレン結合を有する化合物
をヒドロシリル化させることを特徴とするジビニルシラ
ン誘導体の合成方法において、アセチレンに対し選択的
にヒドロシリル化を行い、種々の有機ケイ素化合物の中
間体、ケイ素系高分子のモノマー成分を合成する。 【解決手段】ジクロルシランを用い、白金化合物又はロ
ジウム化合物を触媒として、アセチレン結合を有する化
合物をヒドロシリル化させ、ジビニルシランを１段階で
合成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は種々の有機ケイ素化合物
の合成中間体やケイ素系高分子のモノマー成分となりう
るジビニルシラン誘導体およびその製法に関する。
の合成中間体やケイ素系高分子のモノマー成分となりう
るジビニルシラン誘導体およびその製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ケイ素樹脂工業が発展するととも
に、特殊な性質を有するケイ素樹脂が必要となり、それ
に伴って従来にないケイ素系高分子のモノマーが望まれ
るようになってきた。特にケイ素上にアルケニル基をも
つものは、さらに官能基付与が可能であるため、非常に
有用であると考えられる。ケイ素上にアルケニル基を複
数個もつようなケイ素系高分子のモノマーはあまり知ら
れていない。
に、特殊な性質を有するケイ素樹脂が必要となり、それ
に伴って従来にないケイ素系高分子のモノマーが望まれ
るようになってきた。特にケイ素上にアルケニル基をも
つものは、さらに官能基付与が可能であるため、非常に
有用であると考えられる。ケイ素上にアルケニル基を複
数個もつようなケイ素系高分子のモノマーはあまり知ら
れていない。
【０００３】本発明者は、工業的に入手可能なジクロロ
シランからジビニルシラン誘導体を選択的に合成する方
法を見出した。従来トリクロロシラン（ＨＳｉＣｌ3）
の利用については、数多く検討がおこなわれているが、
ジクロロシランの利用はあまり多くない。ジクロロシラ
ンとオレフィン類とのヒドロシリル化については、文献
Chemical Abstract 53：21747（1959）、や55：14310
（1961）に記載されている。またジクロロシランとオレ
フィン類とのヒドロシリル化で一付加体を合成している
例が、特開昭５３ー１１９８２８、特開昭５３ー１１９
８２９に報告されている。しかしアセチレン類との反応
やその条件についてはなんら知見がなかった。またケイ
素上に２つ以上のビニル置換基を有する化合物として
は、ジクロロジビニルシラン、１、１、４、４ーテトラ
クロロー１、４ージシラシクロヘキサー２、５ージエン
などが知られてるにすぎない。（出典 Organometalic C
ompounds of Silicon）
シランからジビニルシラン誘導体を選択的に合成する方
法を見出した。従来トリクロロシラン（ＨＳｉＣｌ3）
の利用については、数多く検討がおこなわれているが、
ジクロロシランの利用はあまり多くない。ジクロロシラ
ンとオレフィン類とのヒドロシリル化については、文献
Chemical Abstract 53：21747（1959）、や55：14310
（1961）に記載されている。またジクロロシランとオレ
フィン類とのヒドロシリル化で一付加体を合成している
例が、特開昭５３ー１１９８２８、特開昭５３ー１１９
８２９に報告されている。しかしアセチレン類との反応
やその条件についてはなんら知見がなかった。またケイ
素上に２つ以上のビニル置換基を有する化合物として
は、ジクロロジビニルシラン、１、１、４、４ーテトラ
クロロー１、４ージシラシクロヘキサー２、５ージエン
などが知られてるにすぎない。（出典 Organometalic C
ompounds of Silicon）
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、ジビニルシラ
ン誘導体およびその製法を提供するものである。まずビ
ニルシラン誘導体について説明する。上記ジビニルシラ
ン誘導体は、一般式
ン誘導体およびその製法を提供するものである。まずビ
ニルシラン誘導体について説明する。上記ジビニルシラ
ン誘導体は、一般式
【０００５】
【化３】
【０００６】で示される化合物である。ただしＲ1、Ｒ2
は炭素数１〜１０までの置換もしくは非置換のアルキル
基または置換もしくは非置換の芳香族基である（例えば
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチ
ル、フェニル、ナフチル、ベンジル、、フェニルエチ
ル、クロロメチル、クロロフェニル基等である）。また
Ｒ 1、Ｒ2はそれぞれ同種または異種であってよい。
は炭素数１〜１０までの置換もしくは非置換のアルキル
基または置換もしくは非置換の芳香族基である（例えば
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチ
ル、フェニル、ナフチル、ベンジル、、フェニルエチ
ル、クロロメチル、クロロフェニル基等である）。また
Ｒ 1、Ｒ2はそれぞれ同種または異種であってよい。
【０００７】ケイ素系高分子のモノマーとしては、取扱
いが容易なことから、Ｒ1、Ｒ2はプロピル、ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、フェ
ニル基から選ばれる（Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同種または異
種であってよい。）が好ましい。さらに原料の入手が容
易なことから、Ｒ1＝ブチル基かつＲ2＝ブチル基、Ｒ1
＝ブチル基かつＲ2＝ヘキシル基、Ｒ1＝ブチル基かつＲ
2＝オクチル基、Ｒ1＝ブチル基かつＲ2＝フェニル基、
Ｒ1＝ヘキシル基かつＲ2＝ブチル基、Ｒ1＝ヘキシル基
かつＲ2＝ヘキシル基、Ｒ1＝ヘキシル基かつＲ2＝オク
チル基、Ｒ1＝ヘキシル基かつＲ2＝フェニル基、Ｒ1＝
オクチル基かつＲ2＝ブチル基、Ｒ1＝オクチル基かつＲ
2＝ヘキシル基、Ｒ1＝オクチル基かつＲ2＝オクチル
基、Ｒ1＝オクチル基かつＲ2＝フェニル基、Ｒ1＝フェ
ニル基かつＲ2＝ブチル基、Ｒ1＝フェニル基かつＲ2＝
ヘキシル基、Ｒ1＝フェニル基かつＲ2＝オクチル基、ま
たはＲ1＝フェニル基かつＲ2＝フェニル基のいずれかか
ら選ばれる化合物がより好ましい。
いが容易なことから、Ｒ1、Ｒ2はプロピル、ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、フェ
ニル基から選ばれる（Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同種または異
種であってよい。）が好ましい。さらに原料の入手が容
易なことから、Ｒ1＝ブチル基かつＲ2＝ブチル基、Ｒ1
＝ブチル基かつＲ2＝ヘキシル基、Ｒ1＝ブチル基かつＲ
2＝オクチル基、Ｒ1＝ブチル基かつＲ2＝フェニル基、
Ｒ1＝ヘキシル基かつＲ2＝ブチル基、Ｒ1＝ヘキシル基
かつＲ2＝ヘキシル基、Ｒ1＝ヘキシル基かつＲ2＝オク
チル基、Ｒ1＝ヘキシル基かつＲ2＝フェニル基、Ｒ1＝
オクチル基かつＲ2＝ブチル基、Ｒ1＝オクチル基かつＲ
2＝ヘキシル基、Ｒ1＝オクチル基かつＲ2＝オクチル
基、Ｒ1＝オクチル基かつＲ2＝フェニル基、Ｒ1＝フェ
ニル基かつＲ2＝ブチル基、Ｒ1＝フェニル基かつＲ2＝
ヘキシル基、Ｒ1＝フェニル基かつＲ2＝オクチル基、ま
たはＲ1＝フェニル基かつＲ2＝フェニル基のいずれかか
ら選ばれる化合物がより好ましい。
【０００８】上記ジビニルシラン誘導体の製造方法は、
ジクロロシランおよび次式で示されるα位に三重結合を
有するアセチレン系化合物を、
ジクロロシランおよび次式で示されるα位に三重結合を
有するアセチレン系化合物を、
【０００９】
【化４】
【００１０】０℃〜２５０℃の範囲の温度で有効濃度の
金属錯体触媒と接触させることを特徴とする。ただしＸ
は水素および炭素原子数１〜１２のアルキル基およびフ
ェニル基から選ばれる。
金属錯体触媒と接触させることを特徴とする。ただしＸ
は水素および炭素原子数１〜１２のアルキル基およびフ
ェニル基から選ばれる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の方法を実施するにあたっ
ては、アセチレン系化合物、白金化合物触媒あるいはロ
ジウム化合物触媒、およびジクロロシランを適当な反応
容器中で接触させる。本発明においては反応容器の種類
は重要ではない。しかしながら副反応を触媒しうる金属
錯体の生成を防ぐため、非反応性材料で形成された反応
容器中でおこなうのが好ましい。
ては、アセチレン系化合物、白金化合物触媒あるいはロ
ジウム化合物触媒、およびジクロロシランを適当な反応
容器中で接触させる。本発明においては反応容器の種類
は重要ではない。しかしながら副反応を触媒しうる金属
錯体の生成を防ぐため、非反応性材料で形成された反応
容器中でおこなうのが好ましい。
【００１２】本発明方法は、バッチ法、セミバッチ法ま
たは連続式で実施しうる。この反応容器は、例えば連続
的攪拌タンク反応容器でありうる。白金化合物触媒ある
いはロジウム化合物触媒が不均一触媒であるときは、反
応容器は、例えば攪拌床、充填床、振動床または流動床
型反応容器でありうる。この方法はバッチ式あるいは連
続式でおこなうのが好ましい。
たは連続式で実施しうる。この反応容器は、例えば連続
的攪拌タンク反応容器でありうる。白金化合物触媒ある
いはロジウム化合物触媒が不均一触媒であるときは、反
応容器は、例えば攪拌床、充填床、振動床または流動床
型反応容器でありうる。この方法はバッチ式あるいは連
続式でおこなうのが好ましい。
【００１３】アセチレン系化合物およびジクロロシラン
を、白金化合物触媒あるいはロジウム化合物触媒と接触
させるが、その接触方法に特に制約はない。たとえばア
セチレン系化合物と白金化合物触媒あるいはロジウム化
合物触媒の混合物中にジクロロシランを供給する方法で
もよく、またジクロロシランとアセチレン系化合物の混
合物を白金化合物触媒あるいはロジウム化合物触媒に供
給する方法でも良い。本発明に有用なアセチレン系化合
物は、次式において、
を、白金化合物触媒あるいはロジウム化合物触媒と接触
させるが、その接触方法に特に制約はない。たとえばア
セチレン系化合物と白金化合物触媒あるいはロジウム化
合物触媒の混合物中にジクロロシランを供給する方法で
もよく、またジクロロシランとアセチレン系化合物の混
合物を白金化合物触媒あるいはロジウム化合物触媒に供
給する方法でも良い。本発明に有用なアセチレン系化合
物は、次式において、
【００１４】
【化５】
【００１５】Ｘは水素および炭素原子数１〜１２のアル
キル基およびフェニル基から選ばれる。この置換基Ｘ
は、例えば水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏー
プロピル、ブチル、ｉｓｏーブチル、ｔｅｒｔーブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルおよびフ
ェニル基でありうる。好ましいのは、置換基Ｘがブチル
基、へキシル基、フェニル基から選ばれるときである。
前記アセチレン系化合物は、例えば１ーヘキシン、１ー
オクチン、フェニルアセチレンでありうる。中でも、こ
のアセチレン系化合物が１ーヘキシンまたはフェニルア
セチレンであるときが好ましい。
キル基およびフェニル基から選ばれる。この置換基Ｘ
は、例えば水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏー
プロピル、ブチル、ｉｓｏーブチル、ｔｅｒｔーブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルおよびフ
ェニル基でありうる。好ましいのは、置換基Ｘがブチル
基、へキシル基、フェニル基から選ばれるときである。
前記アセチレン系化合物は、例えば１ーヘキシン、１ー
オクチン、フェニルアセチレンでありうる。中でも、こ
のアセチレン系化合物が１ーヘキシンまたはフェニルア
セチレンであるときが好ましい。
【００１６】前記ジクロロシランはアセチレン系化合物
に対して０．５：１〜１０：１の範囲のモル比で反応器
に供給される。より少ない量のジクロロシランを用いる
ことができるが、その場合には得られるジビニルシラン
誘導体の収率が減少することになる。用いるジクロロシ
ランのアセチレン系化合物に対する比は０．８：１〜
５：１の範囲内であることが好ましい。
に対して０．５：１〜１０：１の範囲のモル比で反応器
に供給される。より少ない量のジクロロシランを用いる
ことができるが、その場合には得られるジビニルシラン
誘導体の収率が減少することになる。用いるジクロロシ
ランのアセチレン系化合物に対する比は０．８：１〜
５：１の範囲内であることが好ましい。
【００１７】前記白金化合物触媒またはロジウム化合物
触媒とは、アセチレン系化合物のジクロロシランによる
ヒドロシリル化を触媒する白金化合物触媒またはロジウ
ム化合物をさすものである。本発明方法における触媒と
して有用な白金化合物の例として、白金ビニルシロキサ
ン、塩化白金酸、ＰｔＣｌ2（ＰＰｈ3）3およびＰｔＣ
ｌ2（ＣＯＤ）があげられる。また本発明方法における
触媒として有用なロジウム化合物触媒は少なくとも１つ
の第三ホスフィン配位子を有するロジウム化合物であ
る。その第三ホスフィン配位子を有するロジウム化合物
の例としてＲｈＣｌ（ＰＰＨ3）3があげられる。
触媒とは、アセチレン系化合物のジクロロシランによる
ヒドロシリル化を触媒する白金化合物触媒またはロジウ
ム化合物をさすものである。本発明方法における触媒と
して有用な白金化合物の例として、白金ビニルシロキサ
ン、塩化白金酸、ＰｔＣｌ2（ＰＰｈ3）3およびＰｔＣ
ｌ2（ＣＯＤ）があげられる。また本発明方法における
触媒として有用なロジウム化合物触媒は少なくとも１つ
の第三ホスフィン配位子を有するロジウム化合物であ
る。その第三ホスフィン配位子を有するロジウム化合物
の例としてＲｈＣｌ（ＰＰＨ3）3があげられる。
【００１８】本発明方法において、白金化合物触媒ある
いはロジウム化合物触媒は、触媒されていない方法と比
較して、ジビニルシラン誘導体の形成速度を増大させる
か、ジビニルシラン誘導体の収率を向上させるかのいず
れか、あるいは両方に対して効果があるものである。好
ましい白金化合物触媒の使用量は、アセチレン化合物に
対して０．０００００１〜０．１当量の範囲である。よ
り好ましい白金化合物触媒使用量は、０．０００００１
〜０．０１当量の範囲である。また好ましいロジウム化
合物触媒の使用量は、アセチレン化合物に対して０．０
０００１〜０．１当量の範囲である。より好ましいルテ
ニウム化合物触媒の使用量は、０．０００１〜０．０１
当量の範囲である。
いはロジウム化合物触媒は、触媒されていない方法と比
較して、ジビニルシラン誘導体の形成速度を増大させる
か、ジビニルシラン誘導体の収率を向上させるかのいず
れか、あるいは両方に対して効果があるものである。好
ましい白金化合物触媒の使用量は、アセチレン化合物に
対して０．０００００１〜０．１当量の範囲である。よ
り好ましい白金化合物触媒使用量は、０．０００００１
〜０．０１当量の範囲である。また好ましいロジウム化
合物触媒の使用量は、アセチレン化合物に対して０．０
０００１〜０．１当量の範囲である。より好ましいルテ
ニウム化合物触媒の使用量は、０．０００１〜０．０１
当量の範囲である。
【００１９】本発明の方法は、反応温度については特に
限定しない。本発明を実施する場合、反応温度は０℃〜
２５０℃が好ましく、１０℃〜１５０℃がさらに好まし
い。本発明の方法を行うにあたっての反応時間は、触媒
濃度、反応温度によって３分から５０時間の範囲で任意
に変えることができる。反応圧力は常圧または加圧のい
ずれでも実施することができる。
限定しない。本発明を実施する場合、反応温度は０℃〜
２５０℃が好ましく、１０℃〜１５０℃がさらに好まし
い。本発明の方法を行うにあたっての反応時間は、触媒
濃度、反応温度によって３分から５０時間の範囲で任意
に変えることができる。反応圧力は常圧または加圧のい
ずれでも実施することができる。
【００２０】
【実施例】次に本発明の実施例について具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。 （実施例１）ガラス内筒を備えたステンレス製オートク
レーブに、１ーヘキシン２．４６ｇおよび白金ビニルシ
ロキサンキシレン溶液５．６ｍｇ（５．４×１０ー4ｍｍ
ｏｌ）を秤取し、空気中でそのオートクレーブに、ジク
ロロシラン０．２５ｇを加え、９０℃に加熱して攪拌し
た。９時間後反応を終了し、反応混合物をクーゲルロー
ルを用いて蒸留した。その結果、沸点が１３０℃（０．
４５ Torr）でジビニルジクロロシラン誘導体３種類の
異性体が混合物として、合計０．４３ｇ（１．６ｍｍｏ
ｌ、収率５８％）得られた。またＧＣ−ＭＳによる分子
量測定ではいずれも親ピークが２６５に現れた。 （実施例２）ガラス内筒を備えたステンレス製オートク
レーブに、１ーヘキシン１．８８ｇおよび白金ビニルシ
ロキサンキシレン溶液８．０ｍｇ（７．８×１０ー4ｍｍ
ｏｌ）を秤取し、空気中でそのオートクレーブに、ジク
ロロシラン０．６４ｇを含むトルエン溶液２．０ｍｌを
加え、室温で攪拌した。１５時間後反応を終了した。得
られた反応混合物をクーゲルロールを用いて蒸留した。
その結果ジビニルジクロロシラン誘導体３種類の異性体
が混合物として、合計１．３５ｇ（４．７ｍｍｏｌ、収
率６９％）得られた。 （実施例３）ガラス内筒を備えたステンレス製オートク
レーブに、フェニルアセチレン２．４８ｇおよび白金ビ
ニルシロキサンキシレン溶液１１．４ｍｇ（１．１×１
０ー3ｍｍｏｌ）を秤取し、空気中でそのオートクレーブ
に、ジクロロシラン０．６４ｇを含むトルエン溶液２．
０ｍｌを加え１３０℃に加熱した。１５．５時間攪拌後
反応を終了した。得られた反応混合物をクーゲルロール
を用いて蒸留した。その結果ジビニルジクロロシラン誘
導体３種類の異性体が混合物として、合計０．９５ｇ
（３．１ｍｍｏｌ、収率４５％）得られた。
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。 （実施例１）ガラス内筒を備えたステンレス製オートク
レーブに、１ーヘキシン２．４６ｇおよび白金ビニルシ
ロキサンキシレン溶液５．６ｍｇ（５．４×１０ー4ｍｍ
ｏｌ）を秤取し、空気中でそのオートクレーブに、ジク
ロロシラン０．２５ｇを加え、９０℃に加熱して攪拌し
た。９時間後反応を終了し、反応混合物をクーゲルロー
ルを用いて蒸留した。その結果、沸点が１３０℃（０．
４５ Torr）でジビニルジクロロシラン誘導体３種類の
異性体が混合物として、合計０．４３ｇ（１．６ｍｍｏ
ｌ、収率５８％）得られた。またＧＣ−ＭＳによる分子
量測定ではいずれも親ピークが２６５に現れた。 （実施例２）ガラス内筒を備えたステンレス製オートク
レーブに、１ーヘキシン１．８８ｇおよび白金ビニルシ
ロキサンキシレン溶液８．０ｍｇ（７．８×１０ー4ｍｍ
ｏｌ）を秤取し、空気中でそのオートクレーブに、ジク
ロロシラン０．６４ｇを含むトルエン溶液２．０ｍｌを
加え、室温で攪拌した。１５時間後反応を終了した。得
られた反応混合物をクーゲルロールを用いて蒸留した。
その結果ジビニルジクロロシラン誘導体３種類の異性体
が混合物として、合計１．３５ｇ（４．７ｍｍｏｌ、収
率６９％）得られた。 （実施例３）ガラス内筒を備えたステンレス製オートク
レーブに、フェニルアセチレン２．４８ｇおよび白金ビ
ニルシロキサンキシレン溶液１１．４ｍｇ（１．１×１
０ー3ｍｍｏｌ）を秤取し、空気中でそのオートクレーブ
に、ジクロロシラン０．６４ｇを含むトルエン溶液２．
０ｍｌを加え１３０℃に加熱した。１５．５時間攪拌後
反応を終了した。得られた反応混合物をクーゲルロール
を用いて蒸留した。その結果ジビニルジクロロシラン誘
導体３種類の異性体が混合物として、合計０．９５ｇ
（３．１ｍｍｏｌ、収率４５％）得られた。
【００２１】
【発明の効果】アセチレンに対して選択的に１段ヒドロ
シリル化をおこない、種々の有機（ケイ素）化合物の合
成中間体、ケイ素系高分子のモノマー成分を提供する。
シリル化をおこない、種々の有機（ケイ素）化合物の合
成中間体、ケイ素系高分子のモノマー成分を提供する。
Claims (14)
- 【請求項１】ケイ素系高分子材料のモノマーとして有用
な一般式 【化１】 のいずれかで示されるジビニルシラン誘導体（Ｒ1、Ｒ2
は炭素数１〜１０までの置換もしくは非置換のアルキル
基、または置換もしくは非置換の芳香族基であり、
Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同種または異種であってもよい）。 - 【請求項２】Ｒ1、Ｒ2がプロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル基またはフェニ
ル基である（Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同種または異種であっ
てもよい）請求項１記載のジビニルシラン誘導体。 - 【請求項３】Ｒ1、Ｒ2がブチル、ヘキシル、オクチル基
またはフェニル基である（Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同種また
は異種であってもよい）請求項１記載のジビニルシラン
誘導体。 - 【請求項４】ジクロロシラン（Ｈ2ＳｉＣｌ2）および次
式で示されるα位に三重結合を有するアセチレン系化合
物を、 【化２】 ０℃〜２５０℃の範囲の温度で金属錯体触媒と接触させ
ることを特徴とする請求項１〜３に記載のジビニルシラ
ン誘導体の製造方法（Ｘは水素および炭素原子数１〜１
２の置換あるいは非置換のアルキル基および置換あるい
は非置換の芳香族基から選ばれる。）。 - 【請求項５】前記ジクロロシランを、アセチレン系化合
物に対して０．２５：１〜１０：１の範囲のモル比で、
反応器に仕込む請求項４の方法。 - 【請求項６】前記金属錯体触媒が白金化合物触媒または
ロジウム化合物から選ばれる請求項４または５の方法。 - 【請求項７】前記白金化合物触媒が白金ビニルシロキサ
ン、塩化白金酸、ＰｔＣｌ2（ＰＰｈ3）3およびＰｔＣ
ｌ2（ＣＯＤ）から選ばれる請求項６の方法。 - 【請求項８】白金化合物触媒を、アセチレン系化合物に
対して０．０００００１〜０．１当量の範囲で使用する
請求項４〜７のいずれかの方法。 - 【請求項９】前記ロジウム化合物触媒が少なくとも１つ
の第三ホスフィン配位子を有するロジウム化合物である
請求項６の方法。 - 【請求項１０】前記第三ホスフィン配位子を有するルテ
ニウム化合物がＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3である請求項９の
方法。 - 【請求項１１】ロジウム化合物触媒を、アセチレン系化
合物に対して０．００００１〜０．１当量の範囲で使用
する請求項４〜１０のいずれかの方法。 - 【請求項１２】前記アセチレン系化合物が１ーヘキシ
ン、フェニルアセチレンから選ばれる請求項４〜１１の
いずれかの方法。 - 【請求項１３】この方法が、反応温度０℃〜２５０℃の
範囲である請求項４〜１２のいずれかの方法。 - 【請求項１４】前記ジクロロシランが、アセチレン系化
合物に対して０．５：１〜１０：１の範囲のモル比で反
応器に供給され、前記金属錯体触媒が白金ビニルシロキ
サン、ＰｔＣｌ2（ＣＯＤ）、およびＲｈＣｌ（ＰＰ
ｈ3）3から選ばれ、この方法における金属錯体触媒濃度
が０．００１〜０．０１モル％の範囲にあり、温度が０
℃〜１５０℃の範囲にある請求項４〜１２のいずれかの
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9310135A JPH11140089A (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | ケイ素化合物およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9310135A JPH11140089A (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | ケイ素化合物およびその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11140089A true JPH11140089A (ja) | 1999-05-25 |
Family
ID=18001594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9310135A Pending JPH11140089A (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | ケイ素化合物およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11140089A (ja) |
-
1997
- 1997-11-12 JP JP9310135A patent/JPH11140089A/ja active Pending
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