JPH11144020A - Icカード及びそれを用いて作成された認証識別カード - Google Patents
Icカード及びそれを用いて作成された認証識別カードInfo
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- JPH11144020A JPH11144020A JP9313421A JP31342197A JPH11144020A JP H11144020 A JPH11144020 A JP H11144020A JP 9313421 A JP9313421 A JP 9313421A JP 31342197 A JP31342197 A JP 31342197A JP H11144020 A JPH11144020 A JP H11144020A
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ICカードに、ICチップを含む部品が載置
された領域で昇華熱転写方式により顔画像を形成するに
当たり、凹凸の影響を受けて画像ムラが発生したり、薄
いカードにおける押圧による部品の損傷が発生するのを
抑える。 【解決手段】 対向する2つの基板間の所定の位置にI
Cチップを含む部品が載置され、樹脂が充填されてな
り、少なくとも一方の基板の外表面には昇華熱転写方式
により形成される画像を受容する受像層を有し、該受像
層とICチップを含む部品との間に、全体の厚みに対す
る厚みが前記昇華熱転写画像を形成する領域でその他の
領域よりも厚いクッション層を有するICカード。
された領域で昇華熱転写方式により顔画像を形成するに
当たり、凹凸の影響を受けて画像ムラが発生したり、薄
いカードにおける押圧による部品の損傷が発生するのを
抑える。 【解決手段】 対向する2つの基板間の所定の位置にI
Cチップを含む部品が載置され、樹脂が充填されてな
り、少なくとも一方の基板の外表面には昇華熱転写方式
により形成される画像を受容する受像層を有し、該受像
層とICチップを含む部品との間に、全体の厚みに対す
る厚みが前記昇華熱転写画像を形成する領域でその他の
領域よりも厚いクッション層を有するICカード。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は運転免許証、社員
証、会員証、外国人登録証、学生証等の認証識別カード
に用いるのに好適な非接触式のICカードに関する。
証、会員証、外国人登録証、学生証等の認証識別カード
に用いるのに好適な非接触式のICカードに関する。
【0002】
【従来の技術】非接触式のICカードは電気部品が表面
に露出していないために、表面に顔画像等の認証識別画
像を形成したり、印刷を行ったりすることも可能で、且
つICに本人確認情報等を記憶させることによって偽変
造を防止するのに有利で認証識別カード(以下、IDカ
ードとも言う。)としての用途に好適である。
に露出していないために、表面に顔画像等の認証識別画
像を形成したり、印刷を行ったりすることも可能で、且
つICに本人確認情報等を記憶させることによって偽変
造を防止するのに有利で認証識別カード(以下、IDカ
ードとも言う。)としての用途に好適である。
【0003】非接触式のICカードの構成の概略図を図
1に示す。
1に示す。
【0004】図1のICカードは、2枚の表面シート
1、2の間にICチップ3を搭載し、アンテナやコンデ
ンサがプリントされているIC搭載基板4がICチップ
を封止材5で保護して樹脂6中に封入されてなるもので
ある。アンテナ、コンデンサ等の部品がプリント基板と
してではなくコイルアンテナ等の別部品として封入され
るものもある。
1、2の間にICチップ3を搭載し、アンテナやコンデ
ンサがプリントされているIC搭載基板4がICチップ
を封止材5で保護して樹脂6中に封入されてなるもので
ある。アンテナ、コンデンサ等の部品がプリント基板と
してではなくコイルアンテナ等の別部品として封入され
るものもある。
【0005】ところでICカードは、ICチップが搭載
された部分とそれが無い部分とで、硬さの違い、熱伝導
性の違い、熱プレス後の熱収縮率の違い等により表面に
凹凸ができやすい。近年、認証識別用の顔画像を高階調
で解像度に優れる昇華熱転写方式で形成することがしば
しば行われるが、昇華熱転写方式での画像形成では特に
画像形成面の平滑性が要求されるため、この様な表面の
凹凸があるカードへの顔画像形成には昇華熱転写方式が
採用できないことになる。
された部分とそれが無い部分とで、硬さの違い、熱伝導
性の違い、熱プレス後の熱収縮率の違い等により表面に
凹凸ができやすい。近年、認証識別用の顔画像を高階調
で解像度に優れる昇華熱転写方式で形成することがしば
しば行われるが、昇華熱転写方式での画像形成では特に
画像形成面の平滑性が要求されるため、この様な表面の
凹凸があるカードへの顔画像形成には昇華熱転写方式が
採用できないことになる。
【0006】この問題を解決する目的で、特開平7−8
8974号には、画像を受容する受像層を有する側の表
面シートと樹脂の間にクッション層を設けることが記載
されている。
8974号には、画像を受容する受像層を有する側の表
面シートと樹脂の間にクッション層を設けることが記載
されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、クッシ
ョン層を設けてもICチップを含む部品が載置された領
域で昇華熱転写方式により顔画像を形成すると、凹凸の
影響を受けて画像ムラが発生し易く、クッション層を厚
いものにする必要がある。そこでクッション層の厚みを
厚くしてICカードの規格に合わせようとすると他の層
を薄くせざるを得ず、安価に、十分な強度が得られにく
かったり、IC部品を十分に保護できなくなる。
ョン層を設けてもICチップを含む部品が載置された領
域で昇華熱転写方式により顔画像を形成すると、凹凸の
影響を受けて画像ムラが発生し易く、クッション層を厚
いものにする必要がある。そこでクッション層の厚みを
厚くしてICカードの規格に合わせようとすると他の層
を薄くせざるを得ず、安価に、十分な強度が得られにく
かったり、IC部品を十分に保護できなくなる。
【0008】特に最近は、厚さ800μm以下の薄いI
Cカードへの要請が大きく、これに転写方式で画像を形
成しようとすると、表面性が画質に影響を与えると共
に、押圧が直接ICチップやアンテナ及びその接合部に
かかるため、これらの損傷が目立って来ている。
Cカードへの要請が大きく、これに転写方式で画像を形
成しようとすると、表面性が画質に影響を与えると共
に、押圧が直接ICチップやアンテナ及びその接合部に
かかるため、これらの損傷が目立って来ている。
【0009】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、ICカードに、ICチップを含む
部品が載置された領域で昇華熱転写方式により顔画像を
形成するに当たり、凹凸の影響を受けて画像ムラが発生
したり、薄いカードにおける押圧による部品の損傷が発
生するのを抑えることにある。
であり、その目的は、ICカードに、ICチップを含む
部品が載置された領域で昇華熱転写方式により顔画像を
形成するに当たり、凹凸の影響を受けて画像ムラが発生
したり、薄いカードにおける押圧による部品の損傷が発
生するのを抑えることにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、対
向する2つの基板間の所定の位置にICチップを含む部
品が載置され、樹脂が充填されてなり、少なくとも一方
の基板の外表面には昇華熱転写方式により形成される画
像を受容する受像層を有し、該受像層とICチップを含
む部品との間に、全体の厚みに対する厚みが前記昇華熱
転写画像を形成する領域でその他の領域よりも厚いクッ
ション層を有するICカード、前記昇華熱転写画像を形
成する領域におけるクッション層が突出する形態である
こと、平均の厚さが800μm以下であること、及び、
対向する2つの基板間の所定の位置にICチップを含む
部品が載置され、樹脂が充填されてなり、少なくとも一
方の基板の外表面に多階調画像が形成され、該画像を有
する領域でその他の領域よりも厚いクッション層を有す
る認証識別カード、によって達成される。
向する2つの基板間の所定の位置にICチップを含む部
品が載置され、樹脂が充填されてなり、少なくとも一方
の基板の外表面には昇華熱転写方式により形成される画
像を受容する受像層を有し、該受像層とICチップを含
む部品との間に、全体の厚みに対する厚みが前記昇華熱
転写画像を形成する領域でその他の領域よりも厚いクッ
ション層を有するICカード、前記昇華熱転写画像を形
成する領域におけるクッション層が突出する形態である
こと、平均の厚さが800μm以下であること、及び、
対向する2つの基板間の所定の位置にICチップを含む
部品が載置され、樹脂が充填されてなり、少なくとも一
方の基板の外表面に多階調画像が形成され、該画像を有
する領域でその他の領域よりも厚いクッション層を有す
る認証識別カード、によって達成される。
【0011】以下、本発明について説明する。
【0012】本発明でいうクッション層とは、ICチッ
プを含む部品と画像を受容する受像層の間に位置し、I
Cモジュール等の電子部品による凹凸の影響を緩和する
役割をはたす軟質の樹脂層を意味する。
プを含む部品と画像を受容する受像層の間に位置し、I
Cモジュール等の電子部品による凹凸の影響を緩和する
役割をはたす軟質の樹脂層を意味する。
【0013】ここでいう軟質とは同膜厚とした場合に、
基板より引張弾性率が低い事を意味する。クッション層
は引張弾性率(ASTM D790による)20〜20
0kgf/mm-2であることが好ましい。また基板は、
引張弾性率が210〜1020kgf/mm-2であるも
のが好ましい。
基板より引張弾性率が低い事を意味する。クッション層
は引張弾性率(ASTM D790による)20〜20
0kgf/mm-2であることが好ましい。また基板は、
引張弾性率が210〜1020kgf/mm-2であるも
のが好ましい。
【0014】クッション層は、基板と実質的に同質の別
シートを支持体とし、片面もしくは両面上に樹脂を塗設
或いは貼合して、形成してもよい。
シートを支持体とし、片面もしくは両面上に樹脂を塗設
或いは貼合して、形成してもよい。
【0015】本発明のクッション層を形成する材料とし
ては、ポリオレフィンが好ましい。例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、
エチレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプ
レン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン
−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−
水素添加イソプレン−スチレンブロック共重合体、ポリ
ブタジエンの様な柔軟性を有し、熱伝導性の低いものが
適するが、これらに限られない。
ては、ポリオレフィンが好ましい。例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、
エチレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプ
レン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン
−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−
水素添加イソプレン−スチレンブロック共重合体、ポリ
ブタジエンの様な柔軟性を有し、熱伝導性の低いものが
適するが、これらに限られない。
【0016】クッション層の軟化点は基板より低いこと
が好ましい。基板は耐熱強度の点から軟化点(ビカット
軟化点)が高い方が好ましいが、クッション層はクッシ
ョン性の点から、その軟化点は基板より10℃以上低い
ほうが好ましい。又、クッション層はカード全面に渡っ
て形成されるのが好ましいが、ICチップ及び電気的に
連結された素子の一部を被覆する様に形成されても良
い。クッション層の厚みはICカードの厚さにもよる
が、750μmのカードでは2〜300μmが好まし
く、更に好ましくは5〜100μmである。あまり薄い
とクッション或いは断熱層としての効果を発揮せず、あ
まり厚いとカード全体の厚さを厚くしてしまい、或いは
カードにカールを発現する。クッション層は、受像層/
クッション層/基板或いは受像層/基板/クッション層
の順に位置させることができるが、特に、受像層/クッ
ション層/基体/クッション層/ICチップを含む部品
/もう一方の基板の様に、基板の両側に設けるのが好ま
しい。
が好ましい。基板は耐熱強度の点から軟化点(ビカット
軟化点)が高い方が好ましいが、クッション層はクッシ
ョン性の点から、その軟化点は基板より10℃以上低い
ほうが好ましい。又、クッション層はカード全面に渡っ
て形成されるのが好ましいが、ICチップ及び電気的に
連結された素子の一部を被覆する様に形成されても良
い。クッション層の厚みはICカードの厚さにもよる
が、750μmのカードでは2〜300μmが好まし
く、更に好ましくは5〜100μmである。あまり薄い
とクッション或いは断熱層としての効果を発揮せず、あ
まり厚いとカード全体の厚さを厚くしてしまい、或いは
カードにカールを発現する。クッション層は、受像層/
クッション層/基板或いは受像層/基板/クッション層
の順に位置させることができるが、特に、受像層/クッ
ション層/基体/クッション層/ICチップを含む部品
/もう一方の基板の様に、基板の両側に設けるのが好ま
しい。
【0017】画像を受容しうる層(受像層)を形成する
材料としては、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール
樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂のような高分子材料
が用いられる。
材料としては、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール
樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂のような高分子材料
が用いられる。
【0018】画像を形成する方法は熱転写が好ましく、
熱転写画像を形成する方法としては、サーマルヘッドに
より書き込む方法、或いは、既に書き込んだ画像シート
から熱転写により画像を転写する方法、熱現像により得
られた写真画像等いずれであってもよい。
熱転写画像を形成する方法としては、サーマルヘッドに
より書き込む方法、或いは、既に書き込んだ画像シート
から熱転写により画像を転写する方法、熱現像により得
られた写真画像等いずれであってもよい。
【0019】熱転写により形成される画像は、写真画像
の様な階調画像であることが好ましく、特に昇華型熱転
写色素により形成された階調画像であることが好まし
い。これら昇華型熱転写色素は、受像層においてキレー
トを形成しうるポストキレート型色素であることが好ま
しい。
の様な階調画像であることが好ましく、特に昇華型熱転
写色素により形成された階調画像であることが好まし
い。これら昇華型熱転写色素は、受像層においてキレー
トを形成しうるポストキレート型色素であることが好ま
しい。
【0020】ポストキレート型色素としては、例えば特
開昭59−78893号、同59−109349号、特
願平2−213303号、同2−214719号、同2
−203742号に記載されている、少なくとも2座の
キレートを形成することができるシアン色素、マゼンタ
色素及びイエロー色素を挙げることができる。
開昭59−78893号、同59−109349号、特
願平2−213303号、同2−214719号、同2
−203742号に記載されている、少なくとも2座の
キレートを形成することができるシアン色素、マゼンタ
色素及びイエロー色素を挙げることができる。
【0021】好ましいポストキレート型色素は、下記一
般式で表すことができる。
般式で表すことができる。
【0022】一般式 X1−N=N−X2−G 式中X1は、少なくとも一つの環が5〜7個の原子から
構成される芳香族の炭素環、又は複素環を完成するのに
必要な原子群を表し、アゾ結合に結合する炭素原子の隣
接位の少なくとも一つが、窒素原子又はキレート化基で
置換された炭素原子である。X2は、少なくとも一つの
環が5〜7個の原子から構成される芳香族複素環又は、
芳香族炭素環を表す。Gはキレート化基を表す。
構成される芳香族の炭素環、又は複素環を完成するのに
必要な原子群を表し、アゾ結合に結合する炭素原子の隣
接位の少なくとも一つが、窒素原子又はキレート化基で
置換された炭素原子である。X2は、少なくとも一つの
環が5〜7個の原子から構成される芳香族複素環又は、
芳香族炭素環を表す。Gはキレート化基を表す。
【0023】受像層中には、熱転写されたポストキレー
ト型色素とキレート化することが可能な金属化合物(メ
タルソースとも言う。)が含有されていることが好まし
い。キレート化可能な金属化合物としては、金属イオン
の無機又は有機の塩及び金属錯体が挙げられ、中でも有
機酸の塩及び錯体が好ましい。金属としては、周期律表
の第I〜第VIII族に属する1価及び多価の金属が挙げら
れるが、中でもAl、Co、Cr、Cu、Fe、Mg、
Mn、Mo、Ni、Sn、Ti及びZnが好ましく、特
にNi、Cu、Cr、Co及びZnが好ましい。メタル
ソースの具体例としては、Ni2+、Cu2+、Cr2+、C
o2+及びZn2+と酢酸やステアリン酸等の脂肪族の塩、
或いは安息香酸、サルチル酸等の芳香族カルボン酸の塩
等が挙げられる。
ト型色素とキレート化することが可能な金属化合物(メ
タルソースとも言う。)が含有されていることが好まし
い。キレート化可能な金属化合物としては、金属イオン
の無機又は有機の塩及び金属錯体が挙げられ、中でも有
機酸の塩及び錯体が好ましい。金属としては、周期律表
の第I〜第VIII族に属する1価及び多価の金属が挙げら
れるが、中でもAl、Co、Cr、Cu、Fe、Mg、
Mn、Mo、Ni、Sn、Ti及びZnが好ましく、特
にNi、Cu、Cr、Co及びZnが好ましい。メタル
ソースの具体例としては、Ni2+、Cu2+、Cr2+、C
o2+及びZn2+と酢酸やステアリン酸等の脂肪族の塩、
或いは安息香酸、サルチル酸等の芳香族カルボン酸の塩
等が挙げられる。
【0024】とりわけ下記一般式で表される錯体が受像
層中に安定に添加でき且つ実質的に無色であることから
特に好ましく用いられる。
層中に安定に添加でき且つ実質的に無色であることから
特に好ましく用いられる。
【0025】 一般式 [M(Q1)x(Q2)y(Q3)z]P+・(L-)P 式中、Mは金属イオン、好ましくはNi2+、Cu2+、C
r2+、Co2+、Zn2+を表す。Q1、Q2、Q3は各々M
で表される金属イオンと配位結合可能な配位化合物を表
し、互いに同じであっても異なっていても良い。これら
の配位化合物としては、例えばキレート科学(5)(南
江堂)に記載されている配位化合物から選択することが
できる。L-は有機アニオン基を表し、具体的にはテト
ラフェニルホウ素アニオンやアルキルベンゼンスルホン
酸アニオン等を挙げることができる。xは1、2又は3
の整数を表し、yは1、2又は0を表し、zは1又は0
を表すが、これらは前記一般式で表される錯体が4座配
位か、6座配位かによって決定されるか、或いはQ1、
Q2、Q3の配位子の数によって決定される。pは1又は
2を表す。この種のメタルソースの具体例は米国特許第
4,987,049号明細書に例示されたものを挙げる
ことができる。
r2+、Co2+、Zn2+を表す。Q1、Q2、Q3は各々M
で表される金属イオンと配位結合可能な配位化合物を表
し、互いに同じであっても異なっていても良い。これら
の配位化合物としては、例えばキレート科学(5)(南
江堂)に記載されている配位化合物から選択することが
できる。L-は有機アニオン基を表し、具体的にはテト
ラフェニルホウ素アニオンやアルキルベンゼンスルホン
酸アニオン等を挙げることができる。xは1、2又は3
の整数を表し、yは1、2又は0を表し、zは1又は0
を表すが、これらは前記一般式で表される錯体が4座配
位か、6座配位かによって決定されるか、或いはQ1、
Q2、Q3の配位子の数によって決定される。pは1又は
2を表す。この種のメタルソースの具体例は米国特許第
4,987,049号明細書に例示されたものを挙げる
ことができる。
【0026】ポストキレート型色素は、画像形成時には
少量の熱量でインク層から受像層へ容易に昇華転写し、
受像層においては金属化合物と反応してキレート色素と
なり、不動性で耐候性の優れた強固な色素となるもので
ある。
少量の熱量でインク層から受像層へ容易に昇華転写し、
受像層においては金属化合物と反応してキレート色素と
なり、不動性で耐候性の優れた強固な色素となるもので
ある。
【0027】IDカードとして用いる場合は、通常、一
方の表面にはカードのタイトル、顔画像、書誌事項等が
搭載され、他方は追加記載等を目的とした筆記性表面と
されることが多い。この様な筆記性層は、例えば炭酸カ
ルシウム、タルク、ケイソウ土、酸化チタン、硫酸バリ
ウム等の無機微細粉末を熱可塑性樹脂(ポリエチレン等
のポリオレフィン類や、各種共重合体等)のフィルムに
含有せしめて形成する。
方の表面にはカードのタイトル、顔画像、書誌事項等が
搭載され、他方は追加記載等を目的とした筆記性表面と
されることが多い。この様な筆記性層は、例えば炭酸カ
ルシウム、タルク、ケイソウ土、酸化チタン、硫酸バリ
ウム等の無機微細粉末を熱可塑性樹脂(ポリエチレン等
のポリオレフィン類や、各種共重合体等)のフィルムに
含有せしめて形成する。
【0028】基板の材質としては、ポリエチレンテレフ
タレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PE
N)、ABS樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート
樹脂等を用いることができる。
タレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PE
N)、ABS樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート
樹脂等を用いることができる。
【0029】ICチップを搭載するプリント基板として
は、ポリエステル等の熱可塑性のフィルムが用いられ、
更に耐熱性が要求される場合はポリイミドが有利であ
る。この場合、ICチップとアンテナパターンとの接合
は銀ペースト、銅ペースト、カーボンペースト等の導電
性接着剤(日立化成工業のEN−4000シリーズ、東
芝ケミカルのXAPシリーズ等)や、異方性導電フィル
ム(日立化成工業製アニソルム等)を用いて行う。
は、ポリエステル等の熱可塑性のフィルムが用いられ、
更に耐熱性が要求される場合はポリイミドが有利であ
る。この場合、ICチップとアンテナパターンとの接合
は銀ペースト、銅ペースト、カーボンペースト等の導電
性接着剤(日立化成工業のEN−4000シリーズ、東
芝ケミカルのXAPシリーズ等)や、異方性導電フィル
ム(日立化成工業製アニソルム等)を用いて行う。
【0030】ICチップを含む部品を封入する樹脂とし
ては、熱硬化型樹脂、ホットメルト型樹脂及び紫外線硬
化型樹脂が挙げられる。熱硬化型樹脂としては、エポキ
シ系、フェノール系、ウレタン系、不飽和ポリエステル
系のいずれも採用することができる。ホットメルト型樹
脂は、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)系、ポ
リエステル系、ポリアミド系、熱可塑性エラストマー
系、ポリオレフィン系等のものが挙げられる。紫外線硬
化型樹脂としては。紫外線の照射により硬化するもので
あればよく、エポキシ系、アクリル系のものが挙げられ
る。
ては、熱硬化型樹脂、ホットメルト型樹脂及び紫外線硬
化型樹脂が挙げられる。熱硬化型樹脂としては、エポキ
シ系、フェノール系、ウレタン系、不飽和ポリエステル
系のいずれも採用することができる。ホットメルト型樹
脂は、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)系、ポ
リエステル系、ポリアミド系、熱可塑性エラストマー
系、ポリオレフィン系等のものが挙げられる。紫外線硬
化型樹脂としては。紫外線の照射により硬化するもので
あればよく、エポキシ系、アクリル系のものが挙げられ
る。
【0031】
【発明の実施形態】以下、実施形態の例をカードの長辺
方向の断面の構成を示す図2〜図4で説明するが、本発
明の態様はこれに限定されない。
方向の断面の構成を示す図2〜図4で説明するが、本発
明の態様はこれに限定されない。
【0032】図2(a)のカードは基板1上に形成され
た受像層7と該基板1との間に、階調画像形成領域への
ICチップ3による凹凸の影響を緩和する、局部的に厚
い部分10(肉厚部とも言う。)を有するクッション層
8を設けたものである。このカードの受像層とは反対側
の表面には筆記性層9が設けられている。図2(b)
は、クッション層8は階調画像形成領域に掛かる位置か
らICチップ方向に向かってゆるやかな勾配をもって徐
々に厚くなり、ICチップ3を覆って最大肉厚部10を
構成するものである。図2(c)では、階調画像形成領
域全体より広域でクッション層8の肉厚部10を50μ
m厚く形成している。クッション層の厚さは、少なくと
も階調画像形成領域とICチップに挟まれた領域におい
ては、他のICチップも階調画像も存在しない領域の平
均の厚さに対して、1.3倍以上6倍以内に設定するの
が好ましい。
た受像層7と該基板1との間に、階調画像形成領域への
ICチップ3による凹凸の影響を緩和する、局部的に厚
い部分10(肉厚部とも言う。)を有するクッション層
8を設けたものである。このカードの受像層とは反対側
の表面には筆記性層9が設けられている。図2(b)
は、クッション層8は階調画像形成領域に掛かる位置か
らICチップ方向に向かってゆるやかな勾配をもって徐
々に厚くなり、ICチップ3を覆って最大肉厚部10を
構成するものである。図2(c)では、階調画像形成領
域全体より広域でクッション層8の肉厚部10を50μ
m厚く形成している。クッション層の厚さは、少なくと
も階調画像形成領域とICチップに挟まれた領域におい
ては、他のICチップも階調画像も存在しない領域の平
均の厚さに対して、1.3倍以上6倍以内に設定するの
が好ましい。
【0033】図3(a)のカードはクッション層8の肉
厚部に相当する部分10′をICチップを含む部品に予
め形成(図3(b)参照)してから対向する基板1、2
間に樹脂6で封入したものである。
厚部に相当する部分10′をICチップを含む部品に予
め形成(図3(b)参照)してから対向する基板1、2
間に樹脂6で封入したものである。
【0034】図4(a)は全体としての厚さは780μ
mのカードで、ICチップ3及びコイル状アンテナ11
全体を覆うクッション層8の肉厚部10を受像層側に突
出させ、これにより階調画像形成領域を凸部とするもの
である。肉厚部は80〜300μm程度、肉厚部でない
クッション層の厚さは5〜100μm程度とすればよい
が、最大肉厚部の厚さaと肉厚部でないクッション層の
厚さb(図4(a)参照)は、1.3b<a<6bなる
関係を満たす範囲に設定するのが好ましい。このカード
においては、肉厚部でないクッション層部分も厚く形成
されている。これによれば、ICチップを含む部品及び
階調画像形成領域が共に肉厚部にかかるため、押圧、熱
転写による応力も分散でき、良好な画像が得られる。こ
の場合、もちろん図4(b)に示す様にクッション層8
の肉厚部10は基板1側に突出させて、カード表面は平
滑にしてもよい。これにより図4(a)のカードと同様
な効果が得られると共に、全体の厚さが均一でICカー
ド読み取り装置との関係で取り扱い易い。
mのカードで、ICチップ3及びコイル状アンテナ11
全体を覆うクッション層8の肉厚部10を受像層側に突
出させ、これにより階調画像形成領域を凸部とするもの
である。肉厚部は80〜300μm程度、肉厚部でない
クッション層の厚さは5〜100μm程度とすればよい
が、最大肉厚部の厚さaと肉厚部でないクッション層の
厚さb(図4(a)参照)は、1.3b<a<6bなる
関係を満たす範囲に設定するのが好ましい。このカード
においては、肉厚部でないクッション層部分も厚く形成
されている。これによれば、ICチップを含む部品及び
階調画像形成領域が共に肉厚部にかかるため、押圧、熱
転写による応力も分散でき、良好な画像が得られる。こ
の場合、もちろん図4(b)に示す様にクッション層8
の肉厚部10は基板1側に突出させて、カード表面は平
滑にしてもよい。これにより図4(a)のカードと同様
な効果が得られると共に、全体の厚さが均一でICカー
ド読み取り装置との関係で取り扱い易い。
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、ICカードに、ICチ
ップを含む部品が載置された領域で熱転写画像を形成し
ても、凹凸の影響を受けて画像ムラが発生するのを抑え
ることができる。
ップを含む部品が載置された領域で熱転写画像を形成し
ても、凹凸の影響を受けて画像ムラが発生するのを抑え
ることができる。
【図1】非接触式のICカードの構成の概略図。
【図2】本発明に係るICカードの構成例を示す図。
【図3】本発明に係るICカードの他の構成例を示す
図。
図。
【図4】本発明に係るICカードの更に他の構成例を示
す図。
す図。
1、2 表面シート 3 ICチップ 4 IC搭載基板 5 封止材 6 樹脂 7 受像層 8 クッション層 9 筆記性層 10 クッション層肉厚部 11 コイル状アンテナ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡邉 洋 東京都日野市さくら町1番地コニカ株式会 社内
Claims (4)
- 【請求項1】 対向する2つの基板間の所定の位置にI
Cチップを含む部品が載置され、樹脂が充填されてな
り、少なくとも一方の基板の外表面には昇華熱転写方式
により形成される画像を受容する受像層を有し、該受像
層とICチップを含む部品との間に、全体の厚みに対す
る厚みが前記昇華熱転写画像を形成する領域でその他の
領域よりも厚いクッション層を有することを特徴とする
ICカード。 - 【請求項2】 前記昇華熱転写画像を形成する領域にお
けるクッション層が突出する形態であることを特徴とす
る請求項1に記載のICカード。 - 【請求項3】 平均の厚さが800μm以下であること
を特徴とする請求項1又は2に記載のICカード。 - 【請求項4】 対向する2つの基板間の所定の位置にI
Cチップを含む部品が載置され、樹脂が充填されてな
り、少なくとも一方の基板の外表面に多階調画像が形成
され、該画像を有する領域でその他の領域よりも厚いク
ッション層を有することを特徴とする認証識別カード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9313421A JPH11144020A (ja) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Icカード及びそれを用いて作成された認証識別カード |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9313421A JPH11144020A (ja) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Icカード及びそれを用いて作成された認証識別カード |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11144020A true JPH11144020A (ja) | 1999-05-28 |
Family
ID=18041101
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9313421A Pending JPH11144020A (ja) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Icカード及びそれを用いて作成された認証識別カード |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11144020A (ja) |
-
1997
- 1997-11-14 JP JP9313421A patent/JPH11144020A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050425 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050524 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051004 |