JPH11144416A - 磁気ヘッドスライダーとその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドスライダーとその製造方法Info
- Publication number
- JPH11144416A JPH11144416A JP30579997A JP30579997A JPH11144416A JP H11144416 A JPH11144416 A JP H11144416A JP 30579997 A JP30579997 A JP 30579997A JP 30579997 A JP30579997 A JP 30579997A JP H11144416 A JPH11144416 A JP H11144416A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- porous film
- slider
- head slider
- film
- Prior art date
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- Pending
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ヘッドスライダーのトレーリング端子面
に付着する液状付着物が、装置停止後にヘッドディスク
間に浸入してスピンドル起動障害に至ることを防止す
る。 【解決手段】 エアベアリングサーフェス（ＡＢＳ面と
いう）で媒体面を摺動する磁気ヘッドスライダーにおい
て、スライダー母材の空気流出側のトレーリング端子面
に形成された多孔質膜とを備える。液状付着物が付着し
ても多孔質膜の中に吸い込まれるため、ヘッドディスク
間に浸入することがない。
に付着する液状付着物が、装置停止後にヘッドディスク
間に浸入してスピンドル起動障害に至ることを防止す
る。 【解決手段】 エアベアリングサーフェス（ＡＢＳ面と
いう）で媒体面を摺動する磁気ヘッドスライダーにおい
て、スライダー母材の空気流出側のトレーリング端子面
に形成された多孔質膜とを備える。液状付着物が付着し
ても多孔質膜の中に吸い込まれるため、ヘッドディスク
間に浸入することがない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
に使用される磁気ヘッドスライダーに係わり、特に磁気
ヘッドと磁気ディスク間の吸着特性改善に寄与する機能
を有する磁気ヘッドスライダーとその製造方法に関す
る。
に使用される磁気ヘッドスライダーに係わり、特に磁気
ヘッドと磁気ディスク間の吸着特性改善に寄与する機能
を有する磁気ヘッドスライダーとその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に固定磁気ディスク装置では装置の
起動・停止時に磁気ディスク媒体上を磁気ヘッドが接触
して走行する。これをコンタクト・スタート・ストップ
（以下、ＣＳＳという）という。そのため、磁気ディス
ク媒体は磁気ヘッドとの走行が繰り返されるとその表面
に摩耗が発生する。更に、摩耗が進行するとヘッドクラ
ッシュといわれる磁気ディスク媒体の損傷が発生し、デ
ータ破壊を引き起こす。そこで、従来から磁気ディスク
媒体表面上には摩耗防止のために潤滑剤が塗布されてい
る。この磁気ディスク媒体上の潤滑層は、一般に固着層
と流動層に分けられることと、潤滑層の総膜厚と固着層
／流動層膜厚比率がＣＳＳ耐久性と耐吸着特性に影響を
与えることが良く知られている。
起動・停止時に磁気ディスク媒体上を磁気ヘッドが接触
して走行する。これをコンタクト・スタート・ストップ
（以下、ＣＳＳという）という。そのため、磁気ディス
ク媒体は磁気ヘッドとの走行が繰り返されるとその表面
に摩耗が発生する。更に、摩耗が進行するとヘッドクラ
ッシュといわれる磁気ディスク媒体の損傷が発生し、デ
ータ破壊を引き起こす。そこで、従来から磁気ディスク
媒体表面上には摩耗防止のために潤滑剤が塗布されてい
る。この磁気ディスク媒体上の潤滑層は、一般に固着層
と流動層に分けられることと、潤滑層の総膜厚と固着層
／流動層膜厚比率がＣＳＳ耐久性と耐吸着特性に影響を
与えることが良く知られている。
【０００３】特にＣＳＳ耐久性（摺動耐久性）に対して
は潤滑層を厚くすることが有効で、流動層の比率を大き
くすることが特に有効である。但し、この流動層厚は厚
くすると放置摩擦係数（以下、放置μという）が上昇す
る。よって、磁気ディスク媒体の潤滑層はＣＳＳ耐久性
と耐吸着特性でトレードオフの関係にあるため、双方を
考慮した潤滑層の膜厚が選択されている。
は潤滑層を厚くすることが有効で、流動層の比率を大き
くすることが特に有効である。但し、この流動層厚は厚
くすると放置摩擦係数（以下、放置μという）が上昇す
る。よって、磁気ディスク媒体の潤滑層はＣＳＳ耐久性
と耐吸着特性でトレードオフの関係にあるため、双方を
考慮した潤滑層の膜厚が選択されている。
【０００４】さて、磁気ヘッドスライダーのエアベアリ
ングサーフェス（以下、ＡＢＳ面という）上に磁気ディ
スク媒体の潤滑層がＣＳＳによって転写され、これを主
要因として放置μの上昇、吸着障害発生となる場合があ
ることが知られている。この改善策としては、特開平４
−１９８４号公報は多孔膜スライダーを開示している。
これは磁気ヘッドスライダー製造時に潤滑剤をスライダ
ー母材に予め含浸することが特徴であり、常に一定量の
潤滑剤がスライダーの媒体対抗面を覆うことにより、余
分な潤滑剤を媒体対抗面に発生させないことを意図して
いる。
ングサーフェス（以下、ＡＢＳ面という）上に磁気ディ
スク媒体の潤滑層がＣＳＳによって転写され、これを主
要因として放置μの上昇、吸着障害発生となる場合があ
ることが知られている。この改善策としては、特開平４
−１９８４号公報は多孔膜スライダーを開示している。
これは磁気ヘッドスライダー製造時に潤滑剤をスライダ
ー母材に予め含浸することが特徴であり、常に一定量の
潤滑剤がスライダーの媒体対抗面を覆うことにより、余
分な潤滑剤を媒体対抗面に発生させないことを意図して
いる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】第１の問題点は、従来
の技術においては、特開平４−１９８４号公報の発明の
場合も含めて、スライダーのトレーリング端子面に付着
し局所的にたまっていく潤滑剤を主体とする液滴（以
下、液滴という）がヘッドと媒体の接触面に浸入した際
に放置μが上昇することである。
の技術においては、特開平４−１９８４号公報の発明の
場合も含めて、スライダーのトレーリング端子面に付着
し局所的にたまっていく潤滑剤を主体とする液滴（以
下、液滴という）がヘッドと媒体の接触面に浸入した際
に放置μが上昇することである。
【０００６】その理由は、従来の多孔質スライダーは、
ＡＢＳ面の摺動による磁気ディスク媒体から磁気ヘッド
スライダーへの潤滑剤の転写に対しては有効であるが、
スライダー端子面に局所的にたまった液滴のトレーリン
グ端子面からのヘッド媒体間への浸入に対しては放置μ
の上昇を抑止できないからである。
ＡＢＳ面の摺動による磁気ディスク媒体から磁気ヘッド
スライダーへの潤滑剤の転写に対しては有効であるが、
スライダー端子面に局所的にたまった液滴のトレーリン
グ端子面からのヘッド媒体間への浸入に対しては放置μ
の上昇を抑止できないからである。
【０００７】本発明の目的は、磁気ヘッドスライダート
レーリング端子面に多孔質膜を有することにより、液滴
が発生しても多孔質膜に吸収しヘッド媒体間への液滴の
浸入を抑止できる耐吸着特性に優れた高信頼性の磁気ヘ
ッドスライダーを提供することにある。
レーリング端子面に多孔質膜を有することにより、液滴
が発生しても多孔質膜に吸収しヘッド媒体間への液滴の
浸入を抑止できる耐吸着特性に優れた高信頼性の磁気ヘ
ッドスライダーを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドスラ
イダーは、エアベアリングサーフェス（以下、ＡＢＳ面
という）で媒体面を摺動する磁気ヘッドスライダーであ
り、前記ＡＢＳ面をもつスライダー母材と、前記スライ
ダー母材の空気流出側のトレーリング端子面に形成され
た多孔質膜とを備えることを特徴とする。
イダーは、エアベアリングサーフェス（以下、ＡＢＳ面
という）で媒体面を摺動する磁気ヘッドスライダーであ
り、前記ＡＢＳ面をもつスライダー母材と、前記スライ
ダー母材の空気流出側のトレーリング端子面に形成され
た多孔質膜とを備えることを特徴とする。
【０００９】また本発明の磁気ヘッドスライダーは、ト
レーリング端子面と前記多孔質膜との間に密着力強化膜
をさらに備えることを特徴とする。
レーリング端子面と前記多孔質膜との間に密着力強化膜
をさらに備えることを特徴とする。
【００１０】本発明の磁気ヘッドスライダーは、前記多
孔質膜は酸化アルミニウムにより形成され、密着力強化
膜はアルミニウムにより形成されたことを特徴とする。
孔質膜は酸化アルミニウムにより形成され、密着力強化
膜はアルミニウムにより形成されたことを特徴とする。
【００１１】本発明の磁気ヘッドスライダーの製造方法
は、ＡＢＳ面をもつスライダー母材と、前記スライダー
母材の空気流出側のトレーリング端子面に順次形成され
た密着力強化膜と多孔質膜とを備える磁気ヘッドスライ
ダーの製造方法であり、前記スライダー母材のトレーリ
ング端子面にアルゴンガスと窒素ガスをアルミニウムを
ターゲットとし、アルゴンと窒素のガス流量比は６５：
２０（ｓｃｃｍ）程度とし、初期ガス圧が２乃至６ｍＴ
ｏｒｒで反応性スパッタリングを行うことにより、密着
力強化層を形成し、前記密着力強化層の上に、アルゴン
ガスと酸素ガスを導入し、アルミニウムをターゲットと
し、アルゴンと酸素のガス流量比は６５：１８（ｓｃｃ
ｍ）程度とし、ガス圧が１５乃至２５ｍＴｏｒｒで反応
性スパッタリングを行うことにより、多孔質膜を形成す
ることを特徴とする。
は、ＡＢＳ面をもつスライダー母材と、前記スライダー
母材の空気流出側のトレーリング端子面に順次形成され
た密着力強化膜と多孔質膜とを備える磁気ヘッドスライ
ダーの製造方法であり、前記スライダー母材のトレーリ
ング端子面にアルゴンガスと窒素ガスをアルミニウムを
ターゲットとし、アルゴンと窒素のガス流量比は６５：
２０（ｓｃｃｍ）程度とし、初期ガス圧が２乃至６ｍＴ
ｏｒｒで反応性スパッタリングを行うことにより、密着
力強化層を形成し、前記密着力強化層の上に、アルゴン
ガスと酸素ガスを導入し、アルミニウムをターゲットと
し、アルゴンと酸素のガス流量比は６５：１８（ｓｃｃ
ｍ）程度とし、ガス圧が１５乃至２５ｍＴｏｒｒで反応
性スパッタリングを行うことにより、多孔質膜を形成す
ることを特徴とする。
【００１２】本発明の磁気ヘッドスライダーは、固定磁
気ディスク装置の動作状態（磁気ディスクが回転してい
てエアベアリングがありヘッドが浮上している状態）
で、磁気ヘッドスライダートレーリング端子面に液滴が
付着した際に多孔質膜に液滴が吸収されて、多孔質膜表
面上における液滴の成長を抑止できる。よって、固定磁
気ディスク装置停止時に液滴がヘッド媒体界面へ浸入す
ることもないため放置μの上昇も無く吸着特性は良好と
なる。
気ディスク装置の動作状態（磁気ディスクが回転してい
てエアベアリングがありヘッドが浮上している状態）
で、磁気ヘッドスライダートレーリング端子面に液滴が
付着した際に多孔質膜に液滴が吸収されて、多孔質膜表
面上における液滴の成長を抑止できる。よって、固定磁
気ディスク装置停止時に液滴がヘッド媒体界面へ浸入す
ることもないため放置μの上昇も無く吸着特性は良好と
なる。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
て図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】図１を参照すると、本発明の実施の形態は
スライダー母材１と多孔質膜２で形成される。
スライダー母材１と多孔質膜２で形成される。
【００１５】スライダー母材１の材料としては、Ａｌ２
Ｏ３−ＴｉＣやＴｉＣａＯ３が挙げられる。最適な材料
はＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣであり、理由としては高硬度であ
ることから変形しにくく、剥離しにくい等、多孔質膜の
薄膜形成をする基板として優れるからである。
Ｏ３−ＴｉＣやＴｉＣａＯ３が挙げられる。最適な材料
はＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣであり、理由としては高硬度であ
ることから変形しにくく、剥離しにくい等、多孔質膜の
薄膜形成をする基板として優れるからである。
【００１６】多孔質膜２の材料としては、アルミニウム
多孔質酸化皮膜が挙げられる。 次に、本発明の実施の
形態の動作について、図２を参照して詳細に説明する。
図２の磁気ヘッドスライダー４はスライダー母材１、
多孔質膜２により構成される。
多孔質酸化皮膜が挙げられる。 次に、本発明の実施の
形態の動作について、図２を参照して詳細に説明する。
図２の磁気ヘッドスライダー４はスライダー母材１、
多孔質膜２により構成される。
【００１７】図２において、磁気ディスク媒体２１は回
転しており磁気ヘッドスライダー４は磁気ディスク媒体
上を浮上している。この磁気ヘッドスライダー４の浮上
を支えているのは、エアベアリング（空気ばね）であ
り、磁気ヘッドスライダー４の前方のチャンファー部８
から進入し圧縮され、磁気ヘッド浮上量が一般的に最小
浮上量となるＡＢＳのトレーリングエッジ５（後端部）
から一気に断熱膨張する。この時に、液滴２２が生成さ
れる。この液滴２２の主成分は媒体潤滑剤の遊離成分で
あり、また極微量のアウトガス成分、例えば、有機Ｓｉ
（シロキサン）などを含むこともある。
転しており磁気ヘッドスライダー４は磁気ディスク媒体
上を浮上している。この磁気ヘッドスライダー４の浮上
を支えているのは、エアベアリング（空気ばね）であ
り、磁気ヘッドスライダー４の前方のチャンファー部８
から進入し圧縮され、磁気ヘッド浮上量が一般的に最小
浮上量となるＡＢＳのトレーリングエッジ５（後端部）
から一気に断熱膨張する。この時に、液滴２２が生成さ
れる。この液滴２２の主成分は媒体潤滑剤の遊離成分で
あり、また極微量のアウトガス成分、例えば、有機Ｓｉ
（シロキサン）などを含むこともある。
【００１８】一方、エアベアリングは圧縮される段階で
は層流となっているがトレーリングエッジ７を通過後断
熱膨張する時点で乱流となる。よって、断熱膨張によっ
て生成された液滴２２は、このエアベアリングの乱流に
のってその一部がヘッドトレーリング端子面５の上の多
孔質膜２上に付着する。付着した後、液滴２２は毛細管
現象によって多孔質膜２の中に吸収される。よって、固
定磁気ディスク回転停止後液滴２２のヘッド媒体間への
浸入がないため、放置μの上昇も無く良好な耐吸着特性
が得られることになる。
は層流となっているがトレーリングエッジ７を通過後断
熱膨張する時点で乱流となる。よって、断熱膨張によっ
て生成された液滴２２は、このエアベアリングの乱流に
のってその一部がヘッドトレーリング端子面５の上の多
孔質膜２上に付着する。付着した後、液滴２２は毛細管
現象によって多孔質膜２の中に吸収される。よって、固
定磁気ディスク回転停止後液滴２２のヘッド媒体間への
浸入がないため、放置μの上昇も無く良好な耐吸着特性
が得られることになる。
【００１９】
【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００２０】図１は本発明の一実施例を説明するための
概略図である。
概略図である。
【００２１】図１に示す磁気ヘッドスライダー４はスラ
イダー母材１と多孔質膜２よりなる。エアベアリングの
ＡＢＳ面３のトレーリングエッジ７における断熱膨張に
よって生成した液滴がトレーリング端子面の多孔質膜２
に付着しても、多孔質膜２中に毛細管現象で吸収され
る。よって、液滴が成長していくことも無いので、固定
磁気ディスク装置停止時にも液滴のヘッド媒体間への浸
入がないので放置μの上昇も無く耐吸着特性は良好であ
る。
イダー母材１と多孔質膜２よりなる。エアベアリングの
ＡＢＳ面３のトレーリングエッジ７における断熱膨張に
よって生成した液滴がトレーリング端子面の多孔質膜２
に付着しても、多孔質膜２中に毛細管現象で吸収され
る。よって、液滴が成長していくことも無いので、固定
磁気ディスク装置停止時にも液滴のヘッド媒体間への浸
入がないので放置μの上昇も無く耐吸着特性は良好であ
る。
【００２２】以下、本発明の実施例を図５を用いて具体
的に説明する。
的に説明する。
【００２３】磁気ヘッドスライダー４の加工プロセス
で、ローの状態でスパッタ装置に装着し、３×１０-7Ｔ
ｏｒｒ以下に真空排気する。この際に、成膜を行う面は
スライダー形態になったときのトレーリング端子面であ
る。
で、ローの状態でスパッタ装置に装着し、３×１０-7Ｔ
ｏｒｒ以下に真空排気する。この際に、成膜を行う面は
スライダー形態になったときのトレーリング端子面であ
る。
【００２４】その後、アルゴンガスと窒素ガスを導入
し、アルミニウムをターゲットとして反応性スパッタリ
ングを行う。この時に、スパッタガス圧を低真空にする
か、或いは窒素分圧を高くするとより多孔質なすなわち
ポーラスな膜を得ることができる。しかし膜自体のスラ
イダー母材１との密着力は低下するので、多孔質膜の成
膜の初期のフェーズでは、ある程度ガス圧を高真空まで
達するようにし、ポーラスな多孔質膜との密着力を確保
した緻密な密着力強化膜６を成膜する必要がある。ここ
では、アルゴンと窒素のガス流量比が６５：２０（ｓｃ
ｃｍ）程度において、望ましい初期ガス圧を検討した結
果、初期ガス圧は２〜６ｍＴｏｒｒが良くとりわけ４ｍ
Ｔｏｒｒが適切であることを見出した。
し、アルミニウムをターゲットとして反応性スパッタリ
ングを行う。この時に、スパッタガス圧を低真空にする
か、或いは窒素分圧を高くするとより多孔質なすなわち
ポーラスな膜を得ることができる。しかし膜自体のスラ
イダー母材１との密着力は低下するので、多孔質膜の成
膜の初期のフェーズでは、ある程度ガス圧を高真空まで
達するようにし、ポーラスな多孔質膜との密着力を確保
した緻密な密着力強化膜６を成膜する必要がある。ここ
では、アルゴンと窒素のガス流量比が６５：２０（ｓｃ
ｃｍ）程度において、望ましい初期ガス圧を検討した結
果、初期ガス圧は２〜６ｍＴｏｒｒが良くとりわけ４ｍ
Ｔｏｒｒが適切であることを見出した。
【００２５】この密着力強化膜６のアルミニウムと窒素
の成分としては、前記の密着力を確保するため化学量論
組成から窒素を若干欠損させた割合で成膜すると良い。
の成分としては、前記の密着力を確保するため化学量論
組成から窒素を若干欠損させた割合で成膜すると良い。
【００２６】このガス圧では膜の付着力はある程度強
く、コランダムな構造を併せ持った多孔質膜２を得るこ
とができる。
く、コランダムな構造を併せ持った多孔質膜２を得るこ
とができる。
【００２７】このようにして、窒化アルミニウム（Ａｌ
Ｎ）膜を３０ｎｍ厚まで付けた後、次に酸素ガスを導入
し、アルゴン、酸素の２元素で反応性スパッタリングを
行って多孔質膜２としての酸化アルミニウム膜を形成す
る。
Ｎ）膜を３０ｎｍ厚まで付けた後、次に酸素ガスを導入
し、アルゴン、酸素の２元素で反応性スパッタリングを
行って多孔質膜２としての酸化アルミニウム膜を形成す
る。
【００２８】この際に、酸素分圧を上げることと、全体
のスパッタガス圧を真空度のより低いガス圧にする（す
なわちスパッタガス圧力としては高くする）ことが多孔
質膜２を成膜する上で重要である。ここではアルゴン、
酸素のガス流量比を６５：１８（ｓｃｃｍ）とした。そ
して、全体のガス圧を１５〜２５ｍＴｏｒｒが良くとり
わけ２０ｍＴｏｒｒが適当である。
のスパッタガス圧を真空度のより低いガス圧にする（す
なわちスパッタガス圧力としては高くする）ことが多孔
質膜２を成膜する上で重要である。ここではアルゴン、
酸素のガス流量比を６５：１８（ｓｃｃｍ）とした。そ
して、全体のガス圧を１５〜２５ｍＴｏｒｒが良くとり
わけ２０ｍＴｏｒｒが適当である。
【００２９】全体の膜厚としては、１μｍとなるように
成膜を行った。
成膜を行った。
【００３０】さて、このような多孔質膜を付与した磁気
ヘッドスライダーを使用した固定磁気ディスク装置につ
き、ランダムシークモード、試験環境５０℃８０％で２
週間、４週間、８週間、１２週間の連続ランニングを行
い、装置停止後の放置μを測定し経時変化をしらべた。
放置条件は常温常湿環境下での１週間放置である。結果
を図３に示す。図３を見て分かるように、大きな放置μ
の上昇は見られない。
ヘッドスライダーを使用した固定磁気ディスク装置につ
き、ランダムシークモード、試験環境５０℃８０％で２
週間、４週間、８週間、１２週間の連続ランニングを行
い、装置停止後の放置μを測定し経時変化をしらべた。
放置条件は常温常湿環境下での１週間放置である。結果
を図３に示す。図３を見て分かるように、大きな放置μ
の上昇は見られない。
【００３１】尚、比較例として投入した多孔質膜付与の
ない装置では、１２週間の連続ランイング後の放置μ
が、μ＝３．２まで上昇し、装置のもつ起動補助モード
に入ったことを確認した。
ない装置では、１２週間の連続ランイング後の放置μ
が、μ＝３．２まで上昇し、装置のもつ起動補助モード
に入ったことを確認した。
【００３２】
【発明の効果】第１の効果は、磁気ヘッドスライダート
レーリング端子面に、多孔質膜を付与することにより生
成した液滴を吸収でき、磁気ヘッドスライダーの吸着障
害を抑止できる。
レーリング端子面に、多孔質膜を付与することにより生
成した液滴を吸収でき、磁気ヘッドスライダーの吸着障
害を抑止できる。
【００３３】その理由は、多孔質膜が毛細管現象により
生成した液滴を吸収し、これによりヘッド媒体界面に液
滴が浸入しないからである。
生成した液滴を吸収し、これによりヘッド媒体界面に液
滴が浸入しないからである。
【図１】本発明の一実施形態の構成図。
【図２】液滴生成付着の説明図。
【図３】長期連続ランニングでの放置μの経時変化を示
す図。
す図。
【図４】従来例の構成を示す断面図。
【図５】本発明の一実施例の構成図。
１ スライダー母材 ２ 多孔質膜 ３ ＡＢＳ面 ２１ 磁気ディスク媒体 ２２ 液滴
Claims (6)
- 【請求項１】 エアベアリングサーフェス（以下、ＡＢ
Ｓ面という）で媒体面を摺動する磁気ヘッドスライダー
において、 前記ＡＢＳ面をもつスライダー母材と、 前記スライダー母材の空気流出側のトレーリング端子面
に形成された多孔質膜とを備えることを特徴とする磁気
ヘッドスライダー。 - 【請求項２】 前記多孔質膜は酸化アルミニウムにより
形成されたことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド
スライダー。 - 【請求項３】 前記トレーリング端子面と前記多孔質膜
との間に密着力強化膜をさらに備えることを特徴とする
請求項１または２記載の磁気ヘッドスライダー。 - 【請求項４】 前記密着力強化膜は窒化アルミニウムに
より形成されたことを特徴とする請求項３記載の磁気ヘ
ッドスライダー。 - 【請求項５】 前記密着力強化膜は、アルゴンガスと窒
素ガスを導入し、アルミニウムをターゲットとし、初期
ガス圧が２乃至６ｍＴｏｒｒで反応性スパッタリングを
行うことにより、形成されたものであり、 前記多孔質膜は、アルゴンガスと酸素ガスを導入し、ア
ルミニウムをターゲットとし、ガス圧が１５乃至２５ｍ
Ｔｏｒｒで反応性スパッタリングを行うことにより形成
されたものであることを特徴とする請求項４記載の磁気
ヘッドスライダー。 - 【請求項６】 ＡＢＳ面をもつスライダー母材と、前記
スライダー母材の空気流出側のトレーリング端子面に順
次形成された密着力強化膜と多孔質膜とを備える磁気ヘ
ッドスライダーの製造方法において、 前記スライダー母材のトレーリング端子面にアルゴンガ
スと窒素ガスをアルミニウムをターゲットとし、アルゴ
ンと窒素のガス流量比は６５：２０（ｓｃｃｍ）程度と
し、初期ガス圧が２乃至６ｍＴｏｒｒで反応性スパッタ
リングを行うことにより、密着力強化層を形成し、 前記密着力強化層の上に、アルゴンガスと酸素ガスを導
入し、アルミニウムをターゲットとし、アルゴンと酸素
のガス流量比は６５：１８（ｓｃｃｍ）程度とし、 ガス圧が１５乃至２５ｍＴｏｒｒで反応性スパッタリン
グを行うことにより、多孔質膜を形成することを特徴と
する磁気ヘッドスライダーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30579997A JPH11144416A (ja) | 1997-11-07 | 1997-11-07 | 磁気ヘッドスライダーとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30579997A JPH11144416A (ja) | 1997-11-07 | 1997-11-07 | 磁気ヘッドスライダーとその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11144416A true JPH11144416A (ja) | 1999-05-28 |
Family
ID=17949509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30579997A Pending JPH11144416A (ja) | 1997-11-07 | 1997-11-07 | 磁気ヘッドスライダーとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11144416A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002041318A1 (en) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | Fujitsu Limited | Head slider, disk device comprising the same, and method of water repellent finishing of the head slider |
| US6445542B1 (en) | 2000-03-06 | 2002-09-03 | Read-Rite Corporation | Air bearing slider |
| US7477486B1 (en) | 2005-12-07 | 2009-01-13 | Western Digital (Fremont), Llc | Air bearing slider with a side pad having a shallow recess depth |
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