JPH11147301A - ポリカーボネート積層板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】耐候性が良好で光線透過率に優れ、かつ遮蔽性
にも優れたポリカーボネート積層板を提供する。 【解決手段】このポリカーボネート積層板は、ポリカー
ボネート樹脂層の一方の面に耐候性樹脂層を設け、他方
の面にエンボス加工を施したものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は耐候性が良好で採光
性と目隠し性を持たせたポリカーボネート積層板（ここ
で積層板とは板状のほかシート状のものも含む）に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ポリカーボネート積層板は、目隠し材と
しての利用や、すりガラスに似た外観が高級感を与える
ことなどから、その片面または両面にエンボス加工が施
される。また耐候性を持たせるために、アクリル樹脂や
紫外線吸収剤を含んだポリカーボネート樹脂によるフィ
ルムを太陽照射面側に積層している。

【０００３】しかし、屋根材としてエンボス面を太陽照
射面に施工すると、エンボス上に埃や粉塵などが堆積し
易くなり、光線透過を妨げるなどの影響を及ぼす。エン
ボス面に耐候性のある樹脂フィルムを積層する場合は、
積層時のロール圧によりエンボスが潰されるため、フィ
ルム積層前に比べてエンボス効果が薄れ、目隠し性に必
要な拡散光線透過率が低下する。エンボスを施すポリカ
ーボネート樹脂層と耐候性樹脂層とを共押出しにより積
層する場合、このポリカーボネート樹脂層で目隠し効果
を得るためには、シボ深さを30〜70μm にしなければな
らないが、その加工時に耐候性樹脂層に凹みを生ずるた
め、耐候性の効果が薄れる。耐候性の低下を防ぐために
耐候性樹脂層の厚さを増すのは不経済である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明は
耐候性が良好で光線透過率に優れ、かつ遮蔽性にも優れ
たポリカーボネート積層板の提供を課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明のポリカーボネー
ト積層板はポリカーボネート樹脂層の一方の面に耐候性
樹脂層を設け、他方の面にエンボス加工を施したことを
特徴とする。

【０００６】このポリカーボネート積層板では、耐候性
樹脂層の側を太陽照射面として施工すると、耐候性が良
好に保持され、エンボス加工面に塵埃が堆積して光線の
透過を妨げたり、ポリカーボネート積層板の成形加工中
にエンボス加工面のシボ深さが損なわれることがないの
で、光線透過率に優れていながら遮蔽性にも優れたもの
となる。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明のポリカーボネート積層板
は厚さ 0.1〜10mmの板状またはシート状をしたもので、
ここで基材層として用いられるポリカーボネート樹脂
は、種々のジヒドロキシジアリール化合物とホスゲンと
を反応させるホスゲン法、またはジヒドロキシジアリー
ル化合物とジフェニルカーボネートなどの炭酸エステル
とを反応させるエステル交換法によって得られる重合体
であり、代表的なものとしては２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）から製
造することができる。

【０００８】上記ジヒドロキシジアリール化合物として
は、ビスフェノールＡのほかに、ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニ
ルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル−３
−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシ−３−第三ブチルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモ
フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−
３，５−ジクロロフェニル）プロパンのようなビス（ヒ
ドロキシアリール）アルカン類；１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンのようなビス
（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類；４，４’−
ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロ
キシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルのような
ジヒドロキシジアリールエーテル類；４，４’−ジヒド
ロキシジフェニルスルフィドのようなジヒドロキシジア
リールスルフィド類；４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−
ジメチルジフェニルスルホキシドのようなジヒドロキシ
ジアリールスルホキシド類；４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’
−ジメチルジフェニルスルホンのようなジヒドロキシジ
アリールスルホン類などが挙げられ、これらは単独また
は２種類以上を組み合わせて使用される。

【０００９】これらの他に、ピペラジン、ジピペリジル
ハイドロキノン、レゾルシン、４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニルなどを混合して使用してもよい。さらに、上
記ジヒドロキシジアリール化合物は下記に示す３価以上
のフェノール化合物を混合使用してもよい。すなわち、
これにはフロログルシン、４，６−ジメチル−２，４，
６−トリ（４−ヒドロシキフェニル）ヘプテン、２，
４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロシキ
フェニル）ヘプタン、１，３，５−トリ（４−ヒドロシ
キフェニル）ベンゾール、１，１，１−トリ（４−ヒド
ロシキフェニル）エタン及び２，２−ビス［４，４−
（４，４’−ジヒドロキシジフェニル）シクロヘキシ
ル］プロパンなどが挙げられる。

【００１０】このポリカーボネート樹脂には、さらに必
要に応じて、帯電防止剤、加工助剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、着色剤、充填剤などを添加・配合し、適宜の
手段で攪拌・混合した後、押出機で厚さ 0.1〜10mmの板
状またはシート状に押出成形することにより、基材層と
してのポリカーボネート樹脂層を形成することができ
る。

【００１１】ポリカーボネート樹脂層の一方の面に設け
られる耐候性樹脂層は、アクリル系樹脂や高濃度の紫外
線吸収剤を含むポリカーボネート樹脂を、フィルム状に
してポリカーボネート樹脂層に積層したり、基材として
のポリカーボネート樹脂と共押出しすることで形成され
る。

【００１２】ポリカーボネート樹脂層の他方の面に施さ
れるエンボス加工は、押出機より押出成形されたシート
状のポリカーボネート樹脂層を、シボロールとフラット
ロールで組まれた一対のロールの間に、耐候性樹脂層が
フラットロール側になるように通して行う。良好な採光
性を得るには、エンボス加工におけるシボの深さを30〜
70μm の範囲とするのが好ましい。これが30μm より浅
いと、JIS K 7105の方法による拡散光線透過率が40％よ
り小さくなって目隠し効果が薄れ、反対に70μm より深
いと、同じ方法による全光線透過率が85％を下回って採
光性を損うようになる。

【００１３】

【実施例】（実施例１）ポリカーボネート樹脂：カリバ
ー302E-4（住友ダウ社製商品名）を、押出機より金型温
度 280℃で、厚さ0.65mm、幅 900mmのシート状に押出
し、シボロール（シボ深さ：50μm ）とフラットロール
で組まれた１対のロール間に通し、フラットロール側の
平滑面に0.05mmのアクリル系樹脂フィルムを積層した。
得られた本発明のポリカーボネート積層板を、光線透過
率測定装置：C680（スガ試験機社製商品名）を用いてJI
S K 7105により光学特性を測定したところ、全光線透過
率が91％、拡散透過率が69％であった。

【００１４】（実施例２）ポリカーボネート樹脂：カリ
バー302E-4（前出） 100重量部に紫外線吸収剤：チヌビ
ン1577（チバガイギー社製商品名）10重量部を添加した
ものと、ポリカーボネート樹脂：カリバー302E-4（前
出）とを、多流ノズルを有する押出ダイにて２層に共押
出ししたところ、耐候性樹脂層が50μm 、基材層が0.65
mmの積層シートが得られた。この積層シートを実施例１
と同様のロール間に通してポリカーボネート樹脂層側に
エンボス加工を行い、本発明のポリカーボネート積層板
を得た。この光学特性を測定したところ、全光線透過率
が90％、拡散透過率が65％であった。

【００１５】

【発明の効果】本発明のポリカーボネート積層板は耐候
性が良好で採光性と遮蔽性に優れたものである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポリカーボネート樹脂層の一方の面に耐候
   性樹脂層を設け、他方の面にエンボス加工を施したこと
   を特徴とするポリカーボネート積層板。