JPH11149659A - 光ピックアップ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、情報記録用光源の出射パワーを安定
して制御できる光ピックアップを提供する。 【解決手段】記録用光源である半導体レーザ１および再
生用光源である半導体レーザ２の２光源を有し、これら
半導体レーザ１、２からの光ビームをプリズム部材７に
入射するとともに、このプリズム部材７の半導体レーザ
１からのレーザ光が傾斜して入射する入射面１１ｅで反
射される半導体レーザ１からのレーザ光を前方モニタ３
３に入射させて半導体レーザ１の出射パワーをモニタす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光カードや光ディ
スク等の記録媒体に対し情報の記録再生を行うための光
ピックアップに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、光カードや光ディスク等の記録媒
体に情報を記録したり、この記録された情報を再生する
ために光ピックアップが用いられるが、このような光ピ
ックアップのうち、記録用および再生用の独立した２つ
の半導体レーザと共通の対物レンズとを用い、これら記
録および再生用のどちらか一方の半導体レーザの光ビー
ムから検出したトラッキングエラー信号を用いて記録用
および再生用の両ビームを制御する２光源ピックアップ
として特開昭６３−７１９４５号公報に開示されるもの
が知られている。

【０００３】図１０は、２光源ピックアップの光学系を
示すもので、情報記録用光源として半導体レーザ８１を
用い、情報再生用光源として発光ダイオード８５を用い
ている。そして、半導体レーザ８１から出射される記録
光９１をコリメータレンズ８２により平行光に変換し、
この平行光を偏光ビームスプリッタ８３を通過させた
後、対物レンズ８４により記録媒体９０上に照射し、ま
た、発光ダイオード８５から出射される再生光９２をコ
リメータレンズ８６により平行光に変換し、この平行光
を非偏光ビームスプリッタ８７を通過させた後、偏光ビ
ームスプリッタ８３に導き、この偏光ビームスプリッタ
８３内で記録光９１と同一光路上に合成させ、反射し対
物レンズ８４により記録媒体９０上に照射する。そし
て、再生光９２による記録媒体９０での反射光９３を対
物レンズ８４を経て偏光ビームスプリッタ８３及び非偏
光ビームスプリッタ８７で順次反射させて集光レンズ８
８へ導き、フォトダイオード８９で受光するようにして
いる。

【０００４】また、このような２光源ピックアップの光
学系において、半導体レーザ８１から出射される記録光
９１の光強度をモニタするには、図１１に示すように、
半導体レーザ８１から出射される記録光９１の一部を偏
光ビームスプリッタ８３内で反射させて光束９４を得、
この光束９４の光路上に光検出器９５を配置すること
で、半導体レーザ８１から出射される記録光９１の光強
度をモニタ可能にしている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
情報記録用光源である半導体レーザ８１の出射パワーを
モニタするため光検出器９５を配置した構成のもので
は、情報再生用光源である発光ダイオード８５から出射
される再生光９２が偏光ビームスプリッタ８３内で完全
に反射せずに一部の光束が透過すると、これが迷光とな
り、記録光９１の一部が反射した光束９４と同一光路上
で光検出器９５の受光面に進入することがある。また、
再生光９２の一部が偏光ビームスプリッタ８３内で多重
反射して透過したり、偏光ビームスプリッタ８３の表面
で反射して、一連の光学部品を収める筐体の内部で反射
散乱して迷光になると、これも光検出器９５の受光面に
進入することがある。

【０００６】このようにして、情報記録用光源の出射パ
ワーのみをモニタする光検出器９５の受光面に、情報再
生用光源である発光ダイオード８５から出射される光束
による迷光が進入すると、情報記録用光源の出射パワー
と光検出器９５の出力値の比例関係にオフセットがのっ
てしまい、さらには、情報再生用光源である発光ダイオ
ード８５の出射パワーのばらつきにより迷光の光量もば
らつくので、オフセット量も変動してしまう。

【０００７】このことは、モニター用の光検出器９５か
らは、情報記録用光源である半導体レーザ８１の出射パ
ワーに応じた出力値が正確に得られないことであり、こ
れが原因して情報記録用光源である半導体レーザ８１の
出射パワーを安定して制御できないという問題点があっ
た。本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、情報
記録用光源の出射パワーを安定して制御できる光ピック
アップを提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
記録用光源の第１の半導体レーザおよび再生用光源の第
２の半導体レーザの２光源を有し、これら第１および第
２の半導体レーザからのレーザ光を記録媒体上に照射す
ることにより、情報の記録および再生を行う光ピックア
ップにおいて、前記第１および第２の半導体レーザから
のそれぞれのレーザ光をほぼ同一の光路上にあるように
合成する合成面を有するとともに、前記第１の半導体レ
ーザからのレーザ光が傾斜して入射する入射面を有する
光学手段と、この光学手段の入射面で反射される前記第
１の半導体レーザからのレーザ光を受光し、第１の半導
体レーザの出力をモニタする光検出手段とにより構成し
ている。

【０００９】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、さらに、前記光検出手段を覆うように設け
られ、前記第２の半導体レーザからのレーザ光による迷
光を遮光する遮光手段を設けている。

【００１０】請求項３記載の発明は、請求項２記載の発
明において、前記光学手段および光検出手段は、これら
光学手段および光検出手段を収容する筐体に保持固定さ
れ、前記遮光手段は、前記筐体または該筐体に設けられ
るカバー部材に一体形成している。

【００１１】この結果、請求項１記載の発明によれば、
第２の半導体レーザからの光ビームが光学手段を透過し
て生じる迷光の光検出手段への進入を防止できる。請求
項２記載の発明によれば、遮光手段により光検出手段を
覆うことにより、各所で反射散乱した迷光の侵入を防止
できるとともに、他の迷光の遮光手段の斜めから進入も
防止できる。請求項３記載の発明によれば、遮光手段を
筐体または筐体に設けられるカバー部材に一体形成する
ことで、部品点数の増加も最小限にできる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従い説明する。 （第１の実施の形態）図１および図２は、本発明が適用
される光ピックアップの概略構成で、図１は平面図、図
２は図１の部分側面図を示している。

【００１３】なお、この第１の実施の形態での光ピック
アップは、筐体全体をシーク方向に移動可能とした一体
型のもので、記録用光源である半導体レーザおよび再生
用光源である半導体レーザの２光源を有し、これら半導
体レーザからの光ビームを共通の対物レンズにより光カ
ードに照射するとともに、一方の半導体レーザからの光
ビームによりトラッキング制御およびフォーカシング制
御を行いながら情報の記録および再生を行う２光源ピッ
クアップを示している。

【００１４】図において、１は記録用光源である半導体
レーザで、この半導体レーザ１からの光ビーム５０ａ
（図１において紙面に平行な直線偏光）は、コリメータ
レンズ５で平行光束として回折格子６に入射し、ここで
回折させて０次光（記録用ビーム）および±１次回折光
（トラッキング用ビーム）の３本のビームを得、これら
の光ビームをプリズム部材７に入射するようにしてい
る。

【００１５】一方、２は再生用光源である半導体レーザ
で、この半導体レーザ２からの光ビーム５１ａ（図１に
おいて紙面に平行な直線偏光）は、コリメータレンズ８
で平行光束した後、１／２波長板９で偏光面を９０°回
転させて回折光学部材１０に入射するようにしている。

【００１６】回折光学部材１０は、例えば、ガラス基板
の入射側および出射側の両表面にそれぞれ異なる回折格
子１０ａおよび１０ｂを有するもので、入射側の回折格
子１０ａで±１次回折光の２本の光ビームを得るととも
に、これら２本のビームを出射側の回折格子１０ｂでそ
れぞれ回折させて、それぞれ０次光および±１次回折光
の３本の光ビーム、したがって合計６本の光ビームを得
るようにしており、これらの光ビームをプリズム部材７
に入射させるようになっている。

【００１７】プリズム部材７は、半導体レーザ１からの
光ビーム５０ａと半導体レーザ２からの光ビーム５１ａ
を合成する機能および後述する光カード４からの戻り光
を往路と分離する機能を有するもので、半導体レーザ１
からの光ビーム５０ａが入射する入射面１１ｃを有する
第１のプリズム７ａと、半導体レーザ２からの光ビーム
５１ａが入射する入射面１１ｅを有する第２のプリズム
７ｂと、これら第１、第２のプリズム７ａ，７ｂの接合
面に設けたビーム合成用の第１の偏光膜１１ａと、第２
のプリズム７ｂの他の面に設けた往復路分離用の第２の
偏光膜１１ｂとを有している。なお、ここでの第１の偏
光膜１１ａは、例えば、Ｐ偏光透過率Ｔｐを１００％、
Ｓ偏光反射率Ｒｓを１００％とし、第２の偏光膜１１ｂ
は、例えば、Ｔｐ＝７０％、Ｒｓ＝６０％としている。

【００１８】回折格子６を経た半導体レーザ１からの光
ビーム５０ａは、第１のプリズム７ａを経て第１の偏光
膜１１ａにＰ偏光で入射し、当該第１の偏光膜１１ａを
透過し、また、回折光学部材１０を経た半導体レーザ２
からの光ビーム５１ａは、第２のプリズム７ｂを経て第
１の偏光膜１１ａにＳ偏光で入射し、当該第１の偏光膜
１１ａで反射するようにしている。これにより、半導体
レーザ１からの光ビーム５０ａと半導体レーザ２からの
光ビーム５１ａは、第１の偏光膜１１ａで、ほぼ同一光
路となるように合成され、第２の偏光膜１１ｂから出射
するようになる。

【００１９】プリズム部材７の第２の偏光膜１１ｂから
出射される光ビームを立ち上げミラー１２により、図１
において紙面垂直方向に反射させ、図２に示すように対
物レンズ３により光カード４上に照射するようにしてい
る。

【００２０】そして、光カード４で反射される戻り光
は、対物レンズ３及び立ち上げミラー１２を経てプリズ
ム部材７の第２の偏光膜１１ｂに入射させ、ここで往路
と分離される戻り光を集光レンズ１３を経て、光軸に対
して４５°、トラック方向に対しても４５°傾けて配置
した平行平板１４に収束光として入射させて、平行平板
１４を屈折透過させ、これによりフォーカスエラー検出
のための非点収差を発生させて、凹レンズ１５を経て光
検出器１６に入射するようにしている。

【００２１】図３は、このような構成において、光カー
ド４上に形成される半導体レーザ１からの光ビームによ
るスポットと、半導体レーザ２からの光ビームによるス
ポットとトラックとの相対的位置関係を示すものであ
る。

【００２２】この場合、光カード４の光記録領域に多数
のガイドトラック４ｂを平行に配置し、これらガイドト
ラック４ｂの間をトラック４ａに形成している。４０ａ
〜４０ｃは、半導体レーザ１からの光ビームによるスポ
ットを示し、このうちのスポット４０ａは、回折格子６
の０次光によるスポットを示し、スポット４０ｂ、４０
ｃは、回折格子６の±１次回折光によるスポットをそれ
ぞれ示している。

【００２３】また、スポット４１ａ〜４１ｆは、半導体
レーザ２からの光ビームによるスポットを示し、このう
ちのスポット４１ａ〜４１ｃは、回折格子１０ａの、例
えば±１次回折光を、回折格子１０ｂで０次光と±１次
回折光とに分離したそれぞれの光ビームによるスポット
で、スポット４１ａは、０次光によるスポットを、スポ
ット４１ｂ、４１ｃは、±１次回折光によるスポットを
それぞれ示し、同様に、スポット４１ｄ〜４１ｆは、回
折格子１０ａの−１次回折光を、回折格子１０ｂで０次
光と±１次回折光とに分離したそれぞれの光ビームによ
るスポットで、スポット４１ｄは、０次光によるスポッ
トを、スポット４１ｅ、４１ｆは、±１次回折光による
スポットをそれぞれ示している。

【００２４】そして、半導体レーザ１からの光ビームに
よるスポット４０ａ〜４０ｃは、トラッキング制御によ
りスポット４０ａが、光カード４の所望のトラック４ａ
上に位置している状態で、スポット４０ｂ、４０ｃが、
所望のトラック４ａから前後に数トラック離れたガイド
トラック４ｂの一方の側のエッジおよび他方の側のエッ
ジにそれぞれ位置するようにする。

【００２５】また、半導体レーザ２からの光ビームによ
るスポット４１ａ〜４１ｃは、スポット４０ａが位置す
る所望のトラック４ａを含む一方の側の順次の３つのト
ラック上に位置するようにし、スポット４１ｄ〜４１ｆ
は、スポット４０ａが位置する所望のトラック４ａを含
む他方の側の順次の３つのトラック上に位置するように
する。

【００２６】また、半導体レーザ２からの光ビームによ
るスポット４１ａ〜４１ｃは、スポット４０ａが位置す
る所望のトラック４ａを含む一方の順次の３つのトラッ
ク上に位置するようにし、スポット４１ｄ〜４１ｆは、
スポット４０ａが位置する所望のトラック４ａを含む他
方の側の順次の３つのトラック上に位置するようにす
る。

【００２７】これにより、情報の記録モードでは、半導
体レーザ１から、記録すべき情報に応じて所定の再生パ
ワーから記録パワーに変化する光ビームを放射し、半導
体レーザ２からは所定の再生パワーの光ビームを放射
し、スポット４０ｂ、４０ｃからの戻り光に基づいてト
ラッキング制御を行うと共に、光カード４の移動方向に
応じて、例えば、先行スポット４１ｃまたは４１ｅで、
記録すべきトラックのブランクチェックや、欠陥検出を
行いながら、スポット４０ａで所望ののトラック４ａに
情報を記録し、その記録した情報を後方スポット４１ｅ
または４１ｃからの戻り光に戻り光に基づいてベリファ
イする。

【００２８】また、情報の再生モードでは、半導体レー
ザ１および２からそれぞれ所定の再生パワーの光ビーム
を放射し、スポット４１ｂ、４１ｃからの戻り光に基づ
いてトラッキング制御を行いながら、スポット４１ａ〜
４１ｃおよびスポット４１ｄ〜４１ｆからの戻り光に基
づいて、５本のトラックを同時に再生するマルチトラッ
クリードを行う。なお、スポット４１ｃおよび４１ｅ
は、同時トラック４ａ上に位置するので、当該トラック
４ａは、いずれか一方のスポットからの戻り光に基づい
て再生するようになる。

【００２９】次に、図１に戻って、さらに図４の部分側
面図を加えて、第１の実施形態の各光学部品を収容する
筐体３４への保持手段について説明する。この場合、プ
リズム部材７は、第１、第２のプリズム７ａ、７ｂの接
合面に直交する面を、筐体３４に形成したｘ−ｙ平面に
平行な図示しない平坦面に接着することで保持してい
る。また、立ち上げミラー１２は、光ビームの反斜面と
反対側の面を、筐体３４に形成したｘ−ｙ平面に対して
４５°の角度で傾斜する図示しない平坦面に接着するこ
とで保持している。

【００３０】半導体レーザ１は、プレート１７のほぼ中
央に開けられた穴に圧入され、筐体３４の外周の側面に
設けた当て付け面に取り付けている。同様に、半導体レ
ーザ２も、プレート２１のほぼ中央に開けられた穴２１
ａに圧入され、筐体３４の外周の側面に設けた当て付け
面に取り付けている。

【００３１】コリメータレンズ５は、外周部に平坦面を
有する円筒状のレンズ枠１８の内部に接着固定し、ま
た、レンズ枠１８のプリズム部材７側の端面に回折格子
６を接着固定し、一つのレンズ枠に複数の光学部品を接
着することで部品点数の削減を図っている。

【００３２】この場合、レンズ枠１８を取り付ける筐体
３４は、図４に示すようにコリメータレンズ５の光軸方
向と平行な方向に延在し、ｚ方向に立設する当て付け面
とｘ−ｙ平面と平行な当て付け面を有し、これら当て付
け面の間でレンズ枠１８をコリメータレンズ５の光軸方
向には移動可能で、光軸と直交する方向に移動を規制す
るように、板バネ１９により弾性的に押圧保持してい
る。

【００３３】なお、板バネ１９は、その一端部を筐体３
４へネジ２０により固定し、他端部には光軸方向の中央
近傍でレンズ枠１８を押圧するように、１つの突起部１
９１を形成している。

【００３４】同様に、コリメータレンズ８も、外周部に
平坦面を有する円筒状のレンズ枠２２の内部に接着固定
している。また、レンズ枠２２を取り付ける筐体３４
は、コリメータレンズ８の光軸方向と平行な方向に延在
し、ｚ方向に立設する当て付け面とｘ−ｙ平面と平行な
当て付け面を形成し、これら当て付け面の間でレンズ枠
２２をコリメータレンズ８の光軸方向には移動可能で、
光軸と直交する方向には移動を規制するように、板バネ
２３により弾性的に押圧保持している。

【００３５】なお、板バネ２３も、板バネ１９と同様
に、その一端部を筐体３４に係合してネジ２４により固
定し、他端部には光軸方向の中央近傍でレンズ枠２２を
押圧するように、１つの突起部２３１を形成している。

【００３６】１／２波長板９および回折光学部材１０
は、外周部に平坦部を有する中空円筒状の枠２５の両端
面にそれぞれ接着固定している。また、この枠２５を取
り付ける筐体３４には、コリメータレンズ８の光軸方向
と平行な方向に延在し、ｚ方向に立設する当て付け面と
ｘ−ｙ平面と平行な当て付け面を形成し、これら当て付
け面の間で板バネ２６により弾性的に押圧保持してい
る。

【００３７】なお、板バネ２６は、両端に付勢部を備
え、これら付勢部の一方で枠２５を押圧するように１つ
の突起部２６１を形成し、他方では後述するレンズ枠２
８も押圧するように１つの突起部２６２を形成してい
る。そして、このような板バネ２６は、ネジ２７により
筐体３４に固定し、単一の付勢部材で複数のレンズ枠を
押圧することで部品点数の削減を図っている。

【００３８】集光レンズ１３は、円筒状のレンズ枠２８
の内部に接着固定している。このレンズ枠２８は、筐体
３４に形成したｚ方向に立設する当て付け面とｘ−ｙ平
面と平行な当て付け面に、前述した板バネ２６により、
弾性的に押圧保持している。

【００３９】平行平板１４および凹レンズ１５は、共通
の枠２９に一体に保持するとともに、これら平行平板１
４および凹レンズ１５を集光レンズ１３に対して光軸方
向の位置を調整可能にしている。この枠２９は、筐体３
４に形成したｚ方向に立設する当て付け面とｘ−ｙ平面
と平行な当て付け面に対し、筐体３４にネジ３１で固定
した板バネ３０により、弾性的に押圧保持している。

【００４０】なお、枠２９に保持される凹レンズ１５
は、平行平板１４によるコマ収差を補正するために、そ
の光軸を集光レンズ１３の光軸に対して傾けている。ま
た、板バネ３０も、前述した板バネと同様に、端部には
枠２９を押圧するように１つの突起部３０１を形成して
いる。

【００４１】光検出器１６は、硬質基板３２の表面に実
装している。この硬質基板３２は、筐体３４の外周の側
面に設けられた当て付け面に取り付けている。ところ
で、情報の記録モードと再生モードの切換えで半導体レ
ーザの出射パワーを制御する際に、半導体レーザからの
光ビームの一部を記録媒体上へ導くための光路と分離す
ることで、半導体レーザの出射パワーを検出する光検出
器（以後、前方モニタと記す）を用いることがある。

【００４２】ところが、上述したように記録用および再
生用として独立した２つの半導体レーザ１、２を用いた
２光源ピックアップにおいては、記録用の半導体レーザ
１の出射パワーを制御するために、後述する前方モニタ
３３を安易に配置すると、再生用の半導体レーザ２から
の光ビームによる不要な迷光が前方モニタの受光面に進
入し、これにより、記録用の半導体レーザ１の出射パワ
ーと前方モニタの出力値の比例関係にオフセットが乗
り、更に再生用の半導体レーザ２自体の出射パワーのば
らつきによりオフセット量が変動してしまう。つまり、
再生用の半導体レーザ２からの光ビームによる迷光によ
って記録用の半導体レーザ１の出射パワーに応じた前方
モニタの出力値が得られず、記録用の半導体レーザ１の
出射パワーを安定して制御できないことがある。

【００４３】従って、このような構成のものにおいて、
前方モニタ３３が、記録用の半導体レーザ１からの光ビ
ーム５０ａの一部のみを受光するには、再生用の半導体
レーザ２からの光ビーム５１ａと合成する以前の光路に
おいて、光ビーム５０ａの一部を光カード４上へ導く光
路と分離し、この分離した光路上に前方モニタ３３を配
置する必要がある。

【００４４】そして、その具体例として、図５（ａ）に
示すように、半導体レーザ１からの光ビーム５０ａは、
プリズム部材７の入射面１１ｃ、第１の偏光膜１１ａお
よび第２の偏光膜１１ｂを透過して光カード４上へ導か
れるので、第１の偏光膜１１ａにおいて光ビーム５０ａ
の一部を反射させ、反射光５０ｃを得、この反射光５０
ｃをプリズム部材７の透過面１１ｄより透過させるよう
にして、この反射光５０ｃの光路上に前方モニタ３３を
配置すれば、別の光学部材を設けずに容易に前方モニタ
３３を構成できることになる。

【００４５】ところが、半導体レーザ２からの光ビーム
５１ａの光カード４へ導かれる光路は、図５（ｂ）に示
すように、半導体レーザ２からの光ビーム５１ａは、プ
リズム部材７の入射面１１ｅを透過し、第１の偏光膜１
１ａで反射し、第２の偏光膜１１ｂを透過して光カード
４上へ導かれるが、この時の光ビーム５１ａは、第１の
偏光膜１１ａで完全に反射しきれず、光ビーム５１ａの
一部が第１の偏光膜１１ａおよび透過面１１ｄを透過し
て、迷光５１ｂとなる。この迷光５１ｂの経路は、光ビ
ーム５０ａの一部を第１の偏光膜１１ａで反射させた反
射光５０ｃの経路と同一であり、迷光５１ｂは反射光５
０ｃと共に前方モニタ３３の受光面へ直接進入すること
になる。

【００４６】このような迷光５１ｂが前方モニタ３３の
受光面へ直接進入してしまう問題は、ビーム合成用の第
１の偏光膜１１ａを利用して、前方モニタ３３が受光す
る反射光５０ｃを得たことに起因している。また、半導
体レーザ２からの光ビーム５１ａがプリズム部材７内部
で多重反射することにより、迷光５１ｃ、５１ｄが生
じ、これらの迷光がアルミダイカストなどで成形される
筐体３４の内部で反射散乱し、前方モニタ３３の受光面
へ進入する。

【００４７】そこで、この第１の実施の形態では、プリ
ズム部材７でのビーム合成用の第１の偏光膜１１ａを使
用せずに、プリズム部材７の入射面１１ｃでの表面反射
を用いて、半導体レーザ１からの光ビーム５０ａの一部
を前方モニタ３３の受光面へ導くとともに、前方モニタ
３３の受光面以外を覆うような遮光カバーを備える構成
としている。

【００４８】図６および図７に基づいて、前方モニタ３
３の配置構成について説明する。この場合、図６に示す
ように、半導体レーザ１からの光ビーム５０ａの一部を
プリズム部材７の入射面１１ｃで表面反射して、反射光
５０ｂを得、この反射光５０ｂの光路上に前方モニタ３
３を配置している。

【００４９】また、この時、反射光５０ｂが、前方モニ
タ３３の受光面およびパッケージ表面で反射し、再度プ
リズム部材７の入射面１１ｃに入射しないように、前方
モニタ３３を反射光５０ｂの光軸に対してｘ−ｙ平面内
で傾斜している。

【００５０】これにより、半導体レーザ２からの光ビー
ム５１ａの一部で第１の偏光膜１１ａを透過して生じた
迷光５１ｂが、前方モニタ３３の受光面に直接進入する
のを防止できるので、特別に光学部材を設けることな
く、簡単に前方モニタ３３が配置可能となる。また、前
方モニタ３３を反射光５０ｂの光軸に対して傾斜してい
るので、光検出器１６に対する迷光が生じないようにも
できる。

【００５１】一方、図７に示すように、前方モニタ３３
は、その受光面の中心と反射光５０ｂの光軸が一致する
ｚ方向の位置になるように、硬質基板３５上に実装して
いる。そして、硬質基板３５に実装した状態で、前方モ
ニタ３３を筐体３４の裏側より組付ける。

【００５２】筐体３４には、前方モニタ３３の外周を覆
う遮光カバー部３４ａを一体に形成している。この遮光
カバー部３４ａは、アルミダイカストなどで筐体３４と
一体成形され、且つ筐体３４内部の補強用リブ３４ｆの
一部を形成するもので、筐体３４裏面に貫通穴３４ｂを
有し、この貫通穴３４ｂに前方モニタ３３を嵌合するこ
とで、筐体３４に対し前方モニタ３３を位置決めできる
ようにしている。この場合、前方モニタ３３を貫通穴３
４ｂに挿入する際に、前方モニタ３３の受光部に相当す
るパッケージ表面が貫通穴３４ｂの口元のバリや内周面
の凹凸で傷付かないように、開口部３４ｃの内側に凹部
３４ｄ（図６参照）を設けて、前方モニタ３３の表面に
接触しないようにしている。

【００５３】また、遮光カバー部３４ａには、反射光５
０ｂの光路に沿って、且つｚ方向にも開口する開口部３
４ｃを形成している。さらに、プリズム部材７の透過面
１１ｄと対向し、ｚ方向に立設する補強用リブ３４ｆの
側面３４ｅは、その表面を階段状に形成し、プリズム部
材７の透過面１１ｄより透過する迷光５１ｂ、５１ｃが
照射されても、側面３４ｅ表面で反射散乱し、プリズム
部材７へ再度入射する迷光の光量を減衰させるようにな
っている。

【００５４】また、遮光カバー部３４ａにより前方モニ
タ３３の外周に覆うようにしているので、筐体３４内部
で反射散乱した迷光５１ｃが侵入するのを防止できると
ともに、迷光５１ｄが前方モニタ３３の斜めから進入す
ることも防止でき、これら迷光が、前方モニタ３３に進
入することで生じる前方モニタ３３の出力値のオフセッ
トを有効に低減させることができる。

【００５５】さらに、遮光カバー部３４ａを筐体３４と
一体成形することで部品点数の増加も最小限にできる。
従って、このようにすれば、記録用光源である半導体レ
ーザ１および再生用光源である半導体レーザ２の２光源
を有し、これら半導体レーザ１、２からの光ビームをプ
リズム部材７に入射するとともに、このプリズム部材７
の半導体レーザ１からのレーザ光が傾斜して入射する入
射面１１ｅで反射される半導体レーザ１からのレーザ光
を前方モニタ３３に入射させて半導体レーザ１の出射パ
ワーをモニタするようにしたので、半導体レーザ２から
の光ビームがプリズム部材７を透過して生じる迷光の前
方モニタ３３への進入を防止でき、半導体レーザ１の出
射パワーに応じた正確な前方モニタ３３の出力値が得
ら、情報記録用の半導体レーザ１の出射パワーを安定し
て制御できることになる。 （第２の実施の形態）図８は、本発明の第２の実施形態
の前方モニタに関連する部分のみを抜き出した斜視図を
示すもので、図示以外の構成は、第１の実施の形態に準
じるものとする。

【００５６】この場合、前方モニタ３３は、硬質基板３
５上に実装され、筐体３６に設けた貫通穴３６ａに嵌合
する。筐体３６に組付けられた状態では、前方モニタ３
３は、その受光面が貫通穴３６ａより突出している。

【００５７】一方、筐体３６の上側開口部を覆う光学部
品の保護用または防塵用のカバー３７の裏側には、前方
モニタ３３の受光面に進入する迷光を遮断する遮光カバ
ー部３７ａを設けている。この遮光カバー部３７ａは、
樹脂材料によってカバー３７と一体成形されている。ま
た、半導体レーザ１からの光ビーム５０ａの一部が前方
モニタ３３の受光面に照射可能なように、遮光カバー部
３７ａの側面には円形の開口部３７ｂを設けている。カ
バー３７の樹脂材料は、反射防止のため、例えば黒色の
樹脂を使用する。

【００５８】このようにすれば、第１の実施の形態で述
べたと同様にして、再生用の半導体レーザ２からの光ビ
ームによる不要な迷光が前方モニタ３３の受光面に進入
するのを減少させることができる。また、カバー部３７
を黒色などの樹脂材料で成形できるので、前方モニタ３
３を覆う遮光カバー部３６ａ表面での反射を低減するこ
ともできる。 （第３の実施の形態）図９は、本発明の第３の実施形態
の前方モニタに関連する部分のみを抜き出した斜視図を
示すもので、図示以外の構成は、第１の実施の形態に準
じるものとする。

【００５９】この場合、前方モニタ３３は、その受光面
の中心が半導体レーザ１からの光ビーム５０ａの一部の
光軸と同一位置になるようにｚ方向の寸法が決められた
スペーサ３９を介して、硬質基板３５上に実装され、筐
体３８に設けた貫通穴３８ａに嵌合している。

【００６０】スペーサ３９には、前方モニタ３３の受光
面に進入する迷光を遮断する遮光カバー部３９ａを設け
ている。この遮光カバー部３９ａは、樹脂材料によって
スペーサ３９と一体成形している。また、半導体レーザ
１からの光ビーム５０ａの一部が前方モニタ３３の受光
面に照射可能なように、遮光カバー部３９ａの側面には
円形の開口部３９ｂを設けている。スペーサ３９の樹脂
材料は、反射防止のため、例えば黒色の樹脂を使用して
いる。

【００６１】このようにすれば、第２の実施の形態で述
べたと同様にして、再生用の半導体レーザ２からの光ビ
ームによる不要な迷光が前方モニタ３３の受光面に進入
するのを減少させることができ、また、スペーサ３９を
黒色などの樹脂材料で成形できるので、前方モニタ３３
を覆うスペーサ３９表面での迷光の反射を低減すること
もできる。更には、遮光カバー部３９ａが前方モニタ３
３の受光面の中心と光ビームの光軸を合わせるスペーサ
を兼ねているので、前方モニタ３３の実装において作業
性を向上できる。

【００６２】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、第
２の半導体レーザからの光ビームが光学手段を透過して
生じる迷光の光検出手段への進入を防止できるので、第
１の半導体レーザの出射パワーに応じた正確な出力値が
得ら、情報記録用の半導体レーザの出射パワーを安定し
て制御できる。

【００６３】また、遮光手段により光検出手段を覆うこ
とにより、各所で反射散乱した迷光の侵入を防止できる
とともに、他の迷光の遮光手段の斜めから進入も防止で
きるので、これら迷光が光検出手段に進入することで生
じる出力値のオフセットを有効に低減させることがで
き、さらに半導体レーザの出射パワーを安定して制御で
きる。さらに、遮光手段を筐体または筐体に設けられる
カバー部材に一体形成することにより、部品点数の増加
も最小限にできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態の概略構成を示す平
面図。

【図２】第１の実施の形態の概略構成を示す部分側面
図。

【図３】第１の実施の形態の光ビームによるスポットと
トラックとの相対的位置関係を示す図。

【図４】第１の実施の形態の概略構成を示す部分側面
図。

【図５】第１の実施の形態の動作を説明するための図。

【図６】第１の実施の形態の前方モニタの配置構成を示
す図。

【図７】第１の実施の形態の前方モニタの配置構成を示
す図。

【図８】本発明の第２の実施の形態の前方モニタに関連
する部分のみを抜き出して示す斜視図。

【図９】本発明の第３の実施の形態の前方モニタに関連
する部分のみを抜き出して示す斜視図。

【図１０】従来の光ピックアップの光学系の概略構成を
示す図。

【図１１】従来の光ピックアップの記録光の光強度のモ
ニタ光学系の概略構成を示す図。

【符号の説明】

１、２…半導体レーザ、 ３…対物レンズ、 ４…光カード、 ４ａ…トラック、 ４ｂ…ガイドトラック、 ４０ａ〜４０ｃ、４１ａ〜４１ｆ…スポット、 ５…コリメータレンズ、 ６…回折格子、 ７…プリズム部材、 ７ａ、７ｂ…プリズム、 ８…コリメータレンズ、 ９…１／２波長板、 １０…回折光学部材、 １０ａ、１０ｂ…回折格子、 １１ａ〜１１ｅ…偏光膜、 １２…ミラー、 １３…集光レンズ、 １４…平行平板、 １５…凹レンズ、 １６…光検出器、 １７…プレート、 １８…レンズ枠、 １９…板バネ、 ２０…ネジ、 ２１…プレート、 ２２…レンズ枠、 ２３…板バネ、 ２４…ネジ、 ２５…枠、 ２６…板バネ、 ２７…ネジ、 ２８…レンズ枠、 ２９…枠、 ３０…板バネ、 ３１…ネジ、 ３２…硬質基板、 ３３…前方モニタ、 ３４…筐体、 ３４ａ…遮光カバー部、 ３４ｂ…貫通穴、 ３４ｃ…開口部、 ３４ｄ…凹部、 ３４ｅ…側面、 ３４ｆ…補強用リブ、 ３５…硬質基板、 ３６…筐体、 ３７…防塵用カバー、 ３７ａ…遮光カバー部、 ３７ｂ…開口部、 ３８…筐体、 ３８ａ…貫通穴、 ３９…スペーサ、 ３９ａ…遮光カバー部、 ３９ｂ…開口部、 ５０ａ、５１ａ…光ビーム、 ５０ｃ…反射光、 ５１ｂ、５１ｃ、５１ｄ…迷光。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録用光源の第１の半導体レーザおよび
   再生用光源の第２の半導体レーザの２光源を有し、これ
   ら第１および第２の半導体レーザからのレーザ光を記録
   媒体上に照射することにより、情報の記録および再生を
   行う光ピックアップにおいて、 前記第１および第２の半導体レーザからのそれぞれのレ
   ーザ光をほぼ同一の光路上にあるように合成する合成面
   を有するとともに、前記第１の半導体レーザからのレー
   ザ光が傾斜して入射する入射面を有する光学手段と、 この光学手段の入射面で反射される前記第１の半導体レ
   ーザからのレーザ光を受光し、第１の半導体レーザの出
   力をモニタする光検出手段とを具備したことを特徴とす
   る光ピックアップ。
2. 【請求項２】 さらに、前記光検出手段を覆うように設
   けられ、前記第２の半導体レーザからのレーザ光による
   迷光を遮光する遮光手段を設けたことを特徴とする請求
   項１記載の光ピックアップ。
3. 【請求項３】 前記光学手段および光検出手段は、これ
   ら光学手段および光検出手段を収容する筐体に保持固定
   され、前記遮光手段は、前記筐体または該筐体に設けら
   れるカバー部材に一体形成されることを特徴とする請求
   項２記載の光ピックアップ。