JPH111543A - エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物及び半導体装置

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JPH111543A
JPH111543A JP21032797A JP21032797A JPH111543A JP H111543 A JPH111543 A JP H111543A JP 21032797 A JP21032797 A JP 21032797A JP 21032797 A JP21032797 A JP 21032797A JP H111543 A JPH111543 A JP H111543A
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JP
Japan
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epoxy resin
general formula
resin composition
type epoxy
group
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JP21032797A
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Inventor
Hiromi Honda
博美 本田
Shinichi Iwasaki
慎一 岩崎
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 常温保存性、成形性に優れたエポキシ樹脂組
成物、及びこれを用いた耐パッケージクラック性に優れ
た半導体装置を提供すること。 【解決手段】 エポキシ樹脂A(4,4'-ビス(2,3-エポキ
シプロポキシ)-3,3',5,5'-テトラメチルスチルベン60
重量%と4,4'-ビス(2,3-エポキシプロポキシ)-5-ターシ
ャリブチル-2,3',5'-トリメチルスチルベン40重量%
との混合物を主成分とするエポキシ樹脂)、1分子内に
フェノール性水酸基を2個以上有するフェノール樹脂、
テトラフェニルホスホニウム・テトラナフトイルオキシ
ボレート、及び無機充填材からなり、全エポキシ樹脂の
エポキシ基と全フェノール樹脂のフェノール性水酸基の
当量比が0.5〜2であり、テトラフェニルホスホニウ
ム・テトラナフトイルオキシボレートの含有量が、全エ
ポキシ樹脂と全フェノール樹脂の合計量100重量部あ
たり0.4〜20重量部であり、無機充填材の含有量が
全エポキシ樹脂と全フェノール樹脂の合計量100重量
部あたり200〜2400重量部であるエポキシ樹脂組
成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、常温保存性、成形
性、耐パッケージクラック性に優れるエポキシ樹脂組成
物、及びこれを用いた半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体を機械的、化学的作用から保護す
るためにエポキシ樹脂組成物(以下、樹脂組成物とい
う)が開発、生産されてきた。この樹脂組成物に要求さ
れる項目は、半導体の種類、封止されるパッケージの種
類、使用される環境等によって変化しつつあるが、最近
ではパッケージを実装する際にクラックが生じるという
問題がある。これは実装時の半田浴に直接浸漬される
等、高温に曝されるため、樹脂組成物の硬化物が吸湿し
ていた水分が膨張した結果、クラックが生じるというも
のである。このため樹脂組成物の硬化物は低吸湿性であ
ることが求められており、この要求に対し種々検討した
結果、樹脂組成物中に無機充填材を多く含有させること
で耐パッケージクラック性はかなり改善された。この無
機充填材の高充填の手法としては、無機充填材の粒度分
布や形状の変更、エポキシ樹脂及びフェノール樹脂の粘
度の低減等があるが、これらの手法を併用する場合が殆
どである。
【0003】低粘度のエポキシ樹脂としては、ビフェニ
ル骨格を有するグリシジルエーテル型エポキシ樹脂が開
発され、実際に使用されている。ビフェニル骨格を有す
るグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を用いた樹脂組成
物は、低吸湿性で表面実装用封止材として優れるもの
の、耐熱性の観点からは十分ではなく、高温吸湿条件下
ではパッケージクラックが発生するという問題点があ
る。この問題点を改良するために、ビフェニル骨格より
更に剛直な骨格として、炭素−炭素二重結合に結合して
いる2個のアリール基が互いに同じであるスチルベン骨
格を有するエポキシ樹脂が開発されてきた。しかしなが
ら、上記のようなスチルベン骨格を有するエポキシ樹脂
の多くは、単独では高融点で、樹脂組成物の各成分との
混練が困難であり、作業性が悪い。
【0004】この作業性の悪さを改良する手法として、
特開平8−301981号公報にはスチルベン骨格の炭
素−炭素二重結合に結合しているアリール基が互いに異
なる、融点が150℃以下であるスチルベン型エポキシ
樹脂の一種もしくは二種以上、又はこれとスチルベン骨
格の炭素−炭素二重結合に結合しているアリール基が互
いに同じであるスチルベン型エポキシ樹脂の一種もしく
は二種以上との混合物、及びフェノール樹脂系硬化剤を
含む樹脂組成物が提案されており、作業性の点は改善さ
れている。したがってこの公報では、ビフェニル型エポ
キシ樹脂より耐熱性に優れ、高温吸湿条件下ではパッケ
ージクラックが発生しない樹脂組成物が提案されてい
る。しかし、この公報で開示されているスチルベン型エ
ポキシ樹脂もしくはスチルベン型エポキシ樹脂混合物
は、ビフェニル型エポキシ樹脂と同様に、分子量が小さ
く、その結果分子が動き易くなっており、反応の初期段
階では架橋反応が速やかに進む。つまり、各成分の混練
時に一部の架橋反応が進行し、樹脂組成物の所定の流動
性が発現せず、又、同じ理由から常温でも反応が進行し
易く、樹脂組成物の常温保存性が低下するという欠点を
有している。又、この公報には樹脂組成物を硬化させる
場合の硬化促進剤として、公知の硬化促進剤、即ちトリ
フェニルホスフィン、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)ウン
デセン-7、及びイミダゾール類が記載されている。しか
し、いずれの硬化促進剤も硬化時の高温域での硬化促進
作用には劣るが、低温域でも硬化促進作用を有するた
め、常温保存性の点からは問題である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、常温保存
性、成形性、耐パッケージクラック性に優れる樹脂組成
物、及びこれを用いた半導体装置を提供するものであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)一般式
(1)で示されるスチルベン型エポキシ樹脂、又は一般
式(1)で示されるスチルベン型エポキシ樹脂と一般式
(2)で示されるスチルベン型エポキシ樹脂との混合
物、(B)1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有
するフェノール樹脂、(C)一般式(3)で示される硬
化促進剤、及び(D)無機充填材を必須成分とし、全エ
ポキシ樹脂のエポキシ基と全フェノール樹脂のフェノー
ル性水酸基の当量比が0.5〜2であり、硬化促進剤
(C)の含有量が、全エポキシ樹脂と全フェノール樹脂
の合計量100重量部あたり0.4〜20重量部であ
り、無機充填材(D)の含有量が全エポキシ樹脂と全フ
ェノール樹脂の合計量100重量部あたり200〜24
00重量部であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物
である。
【化4】 (ここで、R1〜R8は、それぞれ独立に、炭素数1〜6
の鎖状、又は環状アルキル基、水素原子、又はハロゲン
原子を示す。炭素−炭素二重結合に結合している2個の
アリール基は互いに異なる。)
【0007】
【化5】 (ここで、R9〜R12は、それぞれ独立に、炭素数1〜
6の鎖状、又は環状アルキル基、水素原子、又はハロゲ
ン原子を示す。炭素−炭素二重結合に結合している2個
のアリール基は互いに同じである。)
【0008】
【化6】 (ここで、R13はフェニル基、又はナフチル基であ
る。)
【0009】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる一般式(1)
及び(2)で示されるスチルベン型エポキシ樹脂の置換
基R1〜R12としては、例えば、それぞれメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基
(各異性体を含む)、シクロヘキシル基、塩素原子、及
び臭素原子等が挙げられる。これらの中では、樹脂の溶
融粘度の低さから、メチル基、エチル基、プロピル基、
及びブチル基がより好ましい。本発明に用いられるエポ
キシ樹脂は、一般式(1)のスチルベン型エポキシ樹
脂、又は一般式(1)のスチルベン型エポキシ樹脂と一
般式(2)のスチルベン型エポキシ樹脂との混合物であ
る。一般式(1)のスチルベン型エポキシ樹脂、一般式
(2)のスチルベン型エポキシ樹脂は、共に置換基の種
類等により種々の構造のものがあり、一般式(1)及び
一般式(2)の各々のスチルベン型エポキシ樹脂は、一
種類の構造のものでも、二種類以上の構造のものの混合
物でもかまわない。一般式(1)のスチルベン型エポキ
シ樹脂と一般式(2)のスチルベン型エポキシ樹脂との
混合は、両方の樹脂を混合することにより融点が低くな
れば、混合方法については特に限定しない。例えば、ス
チルベン型エポキシ樹脂の原料であるスチルベン型フェ
ノール類をグリシジルエーテル化する前に混合しておい
たり、両方のスチルベン型エポキシ樹脂を溶融混合する
方法等がある。一般式(1)のスチルベン型エポキシ樹
脂、又は一般式(1)のスチルベン型エポキシ樹脂と一
般式(2)のスチルベン型エポキシ樹脂との混合物の融
点は、150℃以下が好ましい。150℃を越えると、
樹脂組成物を構成する他成分との混練等の作業性に問題
が生じるおそれがあるので好ましくない。本発明のスチ
ルベン型エポキシ樹脂の融点は、示差走査熱量計を用い
て、常温から昇温速度5℃/分で昇温した結晶融解の吸
熱ピークの頂点を示す。
【0010】本発明に用いられる一般式(1)のスチル
ベン型エポキシ樹脂は、原料である炭素−炭素二重結合
に結合している2個のアリール基が互いに異なったスチ
ルベン型フェノール類のグリシジルエーテル化によって
得られるが、入手のし易さ、性能、原料価格の点から、
5-ターシャリブチル-4,4'-ジヒドロキシ-2,3',5'-トリ
メチルスチルベン、3-ターシャリブチル-4,4'-ジヒドロ
キシ-3',5,5'-トリメチルスチルベンが特に好ましい。
【0011】一般式(2)のスチルベン型エポキシ樹脂
は、原料である炭素−炭素二重結合に結合している2個
のアリール基が互いに同じであるスチルベン型フェノー
ル類のグリシジルエーテル化によって得られるが、性
能、原料価格の点から、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-
テトラメチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジ
ターシャリブチル-6,6'-ジメチルスチルベン、4,4'-ジ
ヒドロキシ-3,3'-ジターシャリブチル-5,5'-ジメチルス
チルベンが特に好ましい。
【0012】又、上記のスチルベン型エポキシ樹脂は、
他のエポキシ樹脂と併用しても良い。併用するエポキシ
樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、含臭素エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ
樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビフェニル
型エポキシ樹脂、ジヒドロキシジフェニルメタン型エポ
キシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、、ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキ
シ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジ
ルアミン系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、3官
能型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型
エポキシ樹脂、及びジシクロペンタジエンとフェノール
類を付加反応により重合させたフェノール樹脂をグリシ
ジルエーテル化することによって得られるエポキシ樹脂
等が挙げられ、これらは単独でも混合して用いても良
い。本発明のエポキシ樹脂は、モノマー、オリゴマー、
及びポリマー全般を言う。
【0013】本発明に用いられる1分子内にフェノール
性水酸基を2個以上有するフェノール樹脂は、モノマ
ー、オリゴマー、及びポリマー全般を言い、例えば、フ
ェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、
パラキシリレン変性フェノール樹脂、メタキシリレン・
パラキシリレン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェ
ノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂
等が挙げられ、これらは単独でも混合して用いても良
い。これらのフェノール樹脂は、分子量、軟化点、水酸
基当量等に特に制限なく使用することができる。本発明
に用いられる全エポキシ樹脂のエポキシ基と全フェノー
ル樹脂のフェノール性水酸基の当量比は、好ましくは
0.5〜2であり、特に0.7〜1.5がより好まし
い。0.5〜2の範囲を外れると、耐湿性、硬化性等が
低下するので好ましくない。
【0014】本発明に用いられる一般式(3)で示され
る硬化促進剤は、潜伏性を有するものである。この硬化
促進剤は、比較的低温域においては触媒活性を示さない
ので樹脂組成物の硬化反応が進むことがない。即ち、各
成分の混練時に、一部の架橋反応が速やかに進むことが
なく所定の流動性を保持し、又、同じ理由から樹脂組成
物の常温保存性にも優れる。しかも成形時の高温域では
従来の硬化促進剤よりも強い触媒活性を示し、樹脂組成
物を高度に硬化させる。本発明に用いられる硬化促進剤
の配合量としては、全エポキシ樹脂と全フェノール樹脂
の合計量100重量部あたり0.4〜20重量部が好ま
しく、通常70〜150℃で混合することができる。配
合量が0.4重量部未満だと、加熱成形時に充分な硬化
性が得られないおそれがあり、一方、20重量部を越え
ると、硬化が速すぎて成形時に流動性の低下による充填
不良等を生じるおそれがあるので好ましくない。又、こ
の硬化促進剤の特徴を損なわない範囲で、トリフェニル
ホスフィン、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン-
7、イミダゾール等の他の硬化促進剤と併用しても何ら
問題はない。
【0015】本発明に用いられる無機充填材の種類につ
いては特に制限はなく、一般に封止材料に用いられてい
る無機充填材を使用することができる。例えば、溶融破
砕シリカ粉末、溶融球状シリカ粉末、結晶シリカ粉末、
2次凝集シリカ粉末、アルミナ、チタンホワイト、水酸
化アルミニウム、タルク、クレー、ガラス繊維等が挙げ
られ、特に溶融球状シリカ粉末が好ましい。形状は限り
なく真球状であることが好ましく、又、粒子の大きさの
異なるものを混合することにより充填量を多くすること
ができる。この無機充填材の配合量としては、全エポキ
シ樹脂と全フェノール樹脂の合計量100重量部あたり
200〜2400重量部が好ましい。200重量部未満
だと、無機充填材による補強効果が充分に発現しないお
それがあり、2400重量部を越えると、樹脂組成物の
流動性が低下し成形時に充填不良等が生じるおそれがあ
るので好ましくない。特に無機充填材の配合量が全エポ
キシ樹脂と全フェノール樹脂の合計量100重量部あた
り250〜1400重量部であれば、半導体封止用とし
て、樹脂組成物の硬化物の吸湿率が低く、パッケージク
ラックの発生を防止することができ、更に溶融時の樹脂
組成物の粘度が低くなるため、半導体パッケージ内部の
金線変形を引き起こすおそれがなく、より好ましい。本
発明に用いられる無機充填材は、予め充分混合しておく
ことが好ましい。又、必要に応じて無機充填材をカップ
リング剤や樹脂で予め処理して用いても良く、処理の方
法としては、溶剤を用いて混合した後に溶媒を除去する
方法や、直接無機充填材に添加し混合機を用いて処理す
る方法等がある。
【0016】本発明の樹脂組成物は、(A)〜(D)成
分の他、必要に応じてカーボンブラック等の着色剤、臭
素化エポキシ樹脂、酸化アンチモン、リン化合物等の難
燃剤、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等
のカップリング剤、シリコーンオイル、シリコーンゴム
等の低応力成分、天然ワックス、合成ワックス、高級脂
肪酸及びその金属塩類もしくはパラフィン等の離型剤、
酸化防止剤等の各種添加剤を配合することができる。本
発明の樹脂組成物は、(A)〜(D)成分、及びその他
の添加剤等をミキサーを用いて常温混合し、ロール、押
出機等の混練機で混練し、冷却後粉砕して得られる。本
発明の樹脂組成物を用いて、半導体等の電子部品を封止
し、半導体装置を製造するには、トランスファーモール
ド、コンプレッションモールド、インジェクションモー
ルド等の従来からの成形方法で硬化成形すればよい。
【0017】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。配合単位は重量部とす
る。実施例及び比較例において使用した硬化促進剤の略
号及び構造を、まとめて以下に示す。
【化7】 TPPK−NA
【0018】
【化8】 TPPK−BA
【0019】 実施例1 エポキシ樹脂A(4,4'-ビス(2,3-エポキシプロポキシ)-3,3',5,5'-テトラメチ ルスチルベン60重量%と4,4'-ビス(2,3-エポキシプロポキシ)-5-ターシャリブ チル-2,3',5'-トリメチルスチルベン40重量%との混合物を主成分とするエポ キシ樹脂。融点120℃、エポキシ当量209) 54.4重量部 式(4)のフェノール樹脂(軟化点73℃) 45.6重量部
【化9】
【0020】 TPPK−NA 5.0重量部 溶融球状シリカ(平均粒径15μm) 830重量部 カーボンブラック 2.0重量部 臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂 1.7重量部 カルナバワックス 2.8重量部 を常温でミキサーを用いて混合した後、100℃で二軸
ロールを用いて混練し、冷却後粉砕し、樹脂組成物を得
た。得られた樹脂組成物を以下の方法で評価した。結果
を表1に示す。
【0021】評価方法 作業性:各成分を混合する際の作業性を比較例3を基準
として評価した。○は比較例3と同等の作業性のもの、
×はまとまりが悪く、均一の材料を得ることが困難なも
のを示す。 スパイラルフロー:EMMI−I−66に準じたスパイ
ラルフロー測定用の金型を用い、金型温度175℃、注
入圧力70kg/cm2、硬化時間2分で測定した。ス
パイラルフローは流動性のパラメータであり、数値が大
きい方が流動性が良好である。単位cm。 硬化トルク:キュラストメータ((株)オリエンテック
・製、JSRキュラストメータIVPS型)を用い、1
75℃、90秒後のトルクを求めた。キュラストメータ
におけるトルクは硬化性のパラメータであり、数値の大
きい方が硬化性が良好である。単位kgf−cm。 30℃の保存性:樹脂組成物を30℃で1週間保存した
後、スパイラルフローを測定し、保存性試験に入る直前
のスパイラルフローに対する百分率として表した。数値
の大きい方が常温保存性が良好である。単位%。 耐パッケージクラック性:低圧トランスファー成形機を
用いて、175℃、圧力70kg/cm2、硬化時間2
分で80pQFP(厚さ1.5mm)を成形し、175
℃、8時間の後硬化を行い、8個のパッケージを得た。
85℃、相対湿度85%で168時間吸湿させた後、2
40℃のIRリフロー10秒を2回行い、パッケージク
ラック個数を目視で観察し、クラックの生じたパッケー
ジがn個であるとき、n/8と表示する。
【0022】実施例2〜5 表1の処方に従って配合し、実施例1と同様にして樹脂
組成物を得、実施例1と同様にして評価した。結果を表
1に示す。 比較例1〜3 表1の処方に従って配合し、実施例1と同様にして樹脂
組成物を得、実施例1と同様にして評価した。結果を表
1に示す。なお、実施例5に使用した式(5)のスチル
ベン型エポキシ樹脂(融点107℃)、比較例1で使用
した式(6)のエポキシ樹脂(融点159℃)、比較例
3で使用した式(7)のエポキシ樹脂(融点105℃)
を以下に示す。
【化10】
【0023】
【化11】
【0024】
【化12】
【0025】
【表1】
【0026】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、常温保存性、成
形性に優れ、これを用いて封止した半導体装置は、特に
耐パッケージクラック性に優れており、長期吸湿後でも
クラックは発生しない。又、従来の樹脂組成物の成形条
件で半導体を封止することができる。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)一般式(1)で示されるスチルベ
    ン型エポキシ樹脂、又は一般式(1)で示されるスチル
    ベン型エポキシ樹脂と一般式(2)で示されるスチルベ
    ン型エポキシ樹脂との混合物、(B)1分子内にフェノ
    ール性水酸基を2個以上有するフェノール樹脂、(C)
    一般式(3)で示される硬化促進剤、及び(D)無機充
    填材を必須成分とし、全エポキシ樹脂のエポキシ基と全
    フェノール樹脂のフェノール性水酸基の当量比が0.5
    〜2であり、硬化促進剤(C)の含有量が、全エポキシ
    樹脂と全フェノール樹脂の合計量100重量部あたり
    0.4〜20重量部であり、無機充填材(D)の含有量
    が全エポキシ樹脂と全フェノール樹脂の合計量100重
    量部あたり200〜2400重量部であることを特徴と
    するエポキシ樹脂組成物。 【化1】 (ここで、R1〜R8は、それぞれ独立に、炭素数1〜6
    の鎖状、又は環状アルキル基、水素原子、又はハロゲン
    原子を示す。炭素−炭素二重結合に結合している2個の
    アリール基は互いに異なる。) 【化2】 (ここで、R9〜R12は、それぞれ独立に、炭素数1〜
    6の鎖状、又は環状アルキル基、水素原子、又はハロゲ
    ン原子を示す。炭素−炭素二重結合に結合している2個
    のアリール基は互いに同じである。) 【化3】 (ここで、R13はフェニル基、又はナフチル基であ
    る。)
  2. 【請求項2】 一般式(1)で示されるスチルベン型エ
    ポキシ樹脂、又は一般式(1)で示されるスチルベン型
    エポキシ樹脂と一般式(2)で示されるスチルベン型エ
    ポキシ樹脂との混合物の融点が、150℃以下である請
    求項1記載のエポキシ樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 一般式(1)において、R1がターシャ
    リブチル基である請求項1、又は2記載のエポキシ樹脂
    組成物。
  4. 【請求項4】 一般式(1)において、R5〜R8が、タ
    ーシャリブチル基以外の炭素数1〜6の鎖状、又は環状
    アルキル基、水素原子、又はハロゲン原子である請求項
    1、又は2記載のエポキシ樹脂組成物。
  5. 【請求項5】 一般式(2)において、R9〜R12が、
    それぞれ独立にメチル基、又は水素原子であり、R9
    12の少なくとも2個以上がメチル基である請求項1、
    又は2記載のエポキシ樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 一般式(1)で示されるスチルベン型エ
    ポキシ樹脂が、5-ターシャリブチル-4,4'-ジヒドロキシ
    -2,3',5'-トリメチルスチルベン、又は3-ターシャリブ
    チル-4,4'-ジヒドロキシ-3',5,5'-トリメチルスチルベ
    ンのグリシジルエーテル化物で、一般式(2)で示され
    るスチルベン型エポキシ樹脂が、4,4'-ジヒドロキシ-3,
    3',5,5'-テトラメチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-
    3,3'-ジターシャリブチル-6,6'-ジメチルスチルベン、
    又は4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジターシャリブチル-5,5'
    -ジメチルスチルベンのグリシジルエーテル化物である
    請求項1、又は2記載のエポキシ樹脂組成物。
  7. 【請求項7】 請求項1、2、3、4、5、又は6記載
    のエポキシ樹脂組成物を用いて封止してなることを特徴
    とする半導体装置。
JP21032797A 1997-04-17 1997-08-05 エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 Pending JPH111543A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2000281875A (ja) * 1999-01-28 2000-10-10 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2000319355A (ja) * 1999-03-08 2000-11-21 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置

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