JPH11165268A - 研磨装置 - Google Patents

研磨装置

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Publication number
JPH11165268A
JPH11165268A JP33424297A JP33424297A JPH11165268A JP H11165268 A JPH11165268 A JP H11165268A JP 33424297 A JP33424297 A JP 33424297A JP 33424297 A JP33424297 A JP 33424297A JP H11165268 A JPH11165268 A JP H11165268A
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JP
Japan
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polishing
relative movement
abrasive
workpiece
dimensional
Prior art date
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Application number
JP33424297A
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English (en)
Inventor
Tokuji Umehara
徳次 梅原
Isao Shibata
勲 芝田
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Canon Finetech Nisca Inc
Original Assignee
Nisca Corp
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Publication date
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】比較的強い研磨力を発揮することができ、且
つ、加工面の形状に合わせてその形を立体的に自由に変
形でき、人間の手や固形砥石が入り込めないような狭く
閉鎖的な内面の研磨が可能である流体砥石による研磨装
置を提供する 【解決手段】被加工物の加工面の形状に合わせて固化若
しくはゲル化された研磨材を用い、該研磨材と被加工物
との間で相対運動を生じさせることにより、被加工物を
研磨するように構成した。前記研磨材と前記被加工物と
の間で、機械的振動を与えることによって行われる。磁
界によって砥粒の配列を制御可能な磁性流体の場合は、
交番磁界を与えることによって相対運動を起こさせる。
また、前記研磨材が、プラスまたはマイナスの電荷を帯
電する砥粒を含有する流体であって、電界を与えた状態
で固化若しくはゲル化された場合は、交番電界を与える
ことによって相対運動を行われる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、研磨材と被加工物
間に相対運動を生じさせることによって被加工物を研磨
する研磨装置に関する。
【0002】
【従来の技術】技術革新の急速な進展と共に工業製品及
びそれに用いられる部品等には、高精度及び高品質が求
められている。この要求に伴い、これら工業製品及び部
品等(以下、「加工物」という)の形状は複雑化し、微
細で精緻な寸法精度を要求される場合が多い。このた
め、これらの加工物の製造工程における最終段階におい
ては、研磨若しくは研削作業が必要となる。
【0003】このような微細な表面仕上げ又は精緻な寸
法精度を要求される加工物の研磨若しくは研削は、現在
においても手作業に依らなければならない場合が多い。
所定形状の固形砥石を用いた機械力による方法は、精度
的に研削若しくは粗研磨に限定されているのが実状であ
る。また、手作業による研磨作業であっても、熟練工を
もってしても、加工研磨面における鏡面研磨精度におい
て一定の限界がある。
【0004】従って、この最終仕上げ工程における手作
業による研磨作業を機械化又は省力化することができれ
ば、加工コストの低減化、作業工程時間の短縮化が図れ
ることとなる。
【0005】このような情況下において、加工物の高度
で精緻な鏡面研磨を実現する方法として、いわゆる軟質
ラッピング砥石の研究が行われてきた。これは、ポリビ
ニール・アセタール、アルギン酸ナトリウム等の高分子
ラップ剤をセーム皮の表面に溶かし込んでラッピングを
行うものである。このような軟質ラッピング研磨は、主
に集積回路の製造に用いられるシリコン・ウエハの表面
を鏡面研磨するのに用いられてきた。
【0006】一方、本願の発明者らは、磁界によって砥
粒の配列を制御可能な砥粒を含有する磁性流体を用い、
加工物を該磁性流体中に侵漬し、これに所定の強さの磁
界を与えた状態において加工物に対して磁性流体を振動
若しくは揺動等の相対運動を行うことによる加工物の研
磨方法若しくは装置を提案してきた。このような磁性流
体を利用した研磨方法若しくは研磨装置を開示する例と
しては、特開平1−135466号、特開平4−336
954号、特開平4−41173号等が挙げられる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このように、所定形状
の固形砥石を用いた機械力による研磨若しくは研削方法
は、寸法精度的に、研削若しくは粗研磨に限定されてい
るのが実状である。さらに、固形砥石を用いた機械装置
による研磨等は、固形砥石の形状的硬直性から、従来に
おいては、2次元的な平面加工に用いられるのみで、3
次元的な立体曲面加工に利用されることはほとんどなか
った。
【0008】また、砥粒を含む流体を加工物の加工面に
侵漬し、加工物との間に相対運動を与えることにより加
工物を研磨する手法は、研磨材が流動性の高い液体であ
ることから、加工面に対する砥粒の接触圧力が弱いため
に研磨力が極めて弱い。このため、加工物の研削及び研
磨工程における最終の加工面全体の一様な精密鏡面研磨
には利用できるものの、研削若しくは精密研磨前の粗研
磨には不向きである。また、磁性流体を用いて所定の強
さの磁界を与えることによって砥粒の配列を制御した状
態で研磨する従来技術の方法も、磁性流体の流体ゆえの
流動性の高さにより、立体的3次元の任意の方向におけ
る厳密な寸法精度が要求される研磨に利用するには難点
があったのである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、固形砥石を用
いた研磨若しくは研削の長所である比較的強い研磨力を
発揮することができ、且つ、加工面の形状に合わせてそ
の形を立体的に自由に変形でき、人間の手や固形砥石が
入り込めないような狭く閉鎖的な内面の研磨が可能であ
る流体砥石による研磨の長所を併せ持つ研磨装置を提供
するべく、被加工物の加工面の形状に合わせて固化若し
くはゲル化された研磨材を用い、該研磨材と被加工物と
の間で相対運動を生じさせることにより、被加工物を研
磨するように構成した。そして、前記相対運動は、前記
研磨材と前記被加工物との間で、機械的振動を与えるこ
とによって行われる。しかし、前記研磨材が、磁界によ
って砥粒の配列を制御可能な磁性流体の場合は、交番磁
界を与えることによって相対運動を起こさせることが可
能である。また、前記研磨材が、プラスまたはマイナス
の電荷を帯電する砥粒を含有する流体であって、電界を
与えた状態で固化若しくはゲル化された場合は、交番電
界を与えることによって相対運動を行わせることが可能
である。
【0010】これらの相対運動は、加工物の加工面が立
体的曲面形状である場合に鑑みて、1次元若しくは2次
元のみならず3次元の方向に行われるようにする。そし
て、各方向への前記相対運動は、各次元毎に時系列的に
行うか、複数方向が同時に行うようにしても良い。
【0011】さらに、本発明に係る研磨装置において
は、被加工物の加工面の形状に合わせて形成された研磨
材と当該被加工物との間で、相対運動を生じさせるため
の駆動手段と、前記相対運動によって生ずる前記研磨材
と前記被加工物間の圧力値を検出する圧力検出手段と、
前記圧力検出手段が検出した圧力値に応じて前記相対運
動のストローク幅を制御する制御手段と、を有し、前記
制御手段には前記圧力の所定値が入力され、前記制御手
段は、前記駆動手段が前記圧力値が前記所定値になるよ
うに前記相対運動を生じさせるように構成する。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明に係る研磨装置において
は、砥粒を含有する流体を加工物の研磨加工面に直接流
し込み、そのままの状態で流体を固化させることによっ
て得られる研磨材を、加工物との間で相対運動を生じさ
せることにより研磨するので、少量若しくは単品生産品
の研磨作業に適応可能である。
【0013】このため、本発明の研磨装置の利用分野と
しては、光学分野として、度付き眼鏡レンズ、特定形状
のプリズム、ミラー等のガラス材やプラスチック材の研
磨、また、各種工業製品のケーシング、宝飾品、時計部
品等、さらに、高度な寸法精度が要求されるゲージ類、
シリンダー、軸受け部品、カム、ベアリング球等の金属
材の研削及び研磨に適応できる。また、集積回路の基体
となるシリコン・ウエハの最終鏡面仕上げにも利用でき
る。特殊な例としては、入れ歯、人工骨のセラミック材
の研削及び研磨にも使用できる。
【0014】本発明の研磨装置の利用分野は上記のよう
に広範囲に及ぶため、ここで使用する砥粒及び砥粒を含
有させる流体の種類及び仕様は、研磨若しくは研削の対
象となる加工物の材質及び要求される研磨精度に応じて
定まることとなる。
【0015】使用する砥粒の材質としては、磁性砥粒の
場合は、具体例として酸化鉄(Fe3O4、Fe2O3等)、
非磁性砥粒としてはアルミナ(Al2O3)、シリカ(Si
O2)、ダイヤモンド等が挙げられる。粒径は、要求され
る研磨精度が高ければ高いほど小さな径のものを用い
る。例えば、加工品の形状精度0.01μm以下が要求
される場合は、粒径10nm以下の砥粒を用いることと
なる。
【0016】また、流体としては、水や各種(動物性、
植物性、鉱油)のオイル等である。磁性流体の場合は主
に水、荷電砥粒の場合はオイルを用いるとよい。流体中
における砥粒の凝結を防止するためには、界面活性剤を
加えるとよい。
【0017】固化若しくはゲル化させる方法としては、
例えば流体が水の場合は、温度を氷点以下に下げること
により行い、オイルの場合は、このような温度制御の他
に、化学反応を利用することが考えられる。
【0018】本発明の研磨装置においては、砥粒を含有
する流体を固化させ、それを加工物との間で相対運動さ
せることにより研磨を行うので、流体を固化させる際の
砥粒の流体中における配列分布を制御することが極めて
重要である。加工物の被加工面と接する砥粒の分布密度
が、研磨速度及び研磨精度に大きな影響を与えるからで
ある。砥粒の比重は、流体の比重と異なるので、流体に
砥粒を加えた後にこれを充分に撹拌したとしても、固化
若しくはゲル化するまでに砥粒は流体中において偏在し
てしまう。このため、固化若しくはゲル化させる前に砥
粒の配列分布若しくは分布密度を制御する必要がある。
【0019】固形化させる際において流体中における砥
粒の配列分布を制御する方法としては、磁性流体の場合
は磁界環境下において、荷電砥粒を用いる場合は電界環
境下において、それぞれ行う。
【0020】磁性流体と加工物を磁界環境下に置いた場
合、磁性砥粒は、磁力線に沿って配列することとなる。
また、単位面積当たりの磁力線の数は、磁界強度に比例
するので、磁界強度を制御することにより砥粒配列の密
度を制御することができるのである。このようにして、
流体中における磁性流体の分布密度を用途及び要求に応
じて制御することができる。
【0021】荷電砥粒を使用する場合は、砥粒はプラス
またはマイナスの一方の電荷に帯電させるので、両方の
極性(N極及びS極)を常時併せ持つ磁性流体の場合と
は異なり、荷電粒子相互間には反発力が生じている。従
って、荷電粒子自体が流体内において均一に分布しよう
とする力が働いているので、必ずしも固形化若しくはゲ
ル化させる際に電界環境下で行わなければならない必然
性はない。しかし、電界を加えることによって、流体内
における荷電砥粒の分布を電界強度分布に応じて制御す
ることができるので、例えば、加工物との接触面により
多くの砥粒を分布配置させたいときには、電界環境下に
おいて固化若しくはゲル化させる必要性がある。
【0022】このようにして、固化若しくはゲル化させ
た砥粒を含有する研磨材は、加工物の被加工面との間で
振動若しくは揺動等の相対運動を起こさせることによっ
て、研削若しくは研磨を行うこととなるが、固化の態様
によっては、本研磨材と被加工面との間が密着状態に接
合している場合がある。このような状態のまま、相互間
に相対運動をさせようとしても研磨効率が悪い。そこ
で、このような場合は、固化した本研磨材と被加工面と
の接触面を薄く溶かした状態にして相対運動を行うよう
にする。本研磨装置において使用する研磨材と被加工面
との接触面を溶かす方法としては、加工物の温度を流体
の氷点よりも高くする温度制御か、若しくは、加工物の
被加工面に予め流体よりも氷点の低い薬品等を塗布して
おく方法等がある。
【0023】本発明に係る研磨装置においては、研磨材
と加工物間で相対運動を生じさせる手段として、機械力
を用いて振動を生じさせるほかに、磁性流体の場合は交
番磁界による磁気力、荷電砥粒を用いる場合は交番電界
による電気力を用いる。
【0024】これら何れの力を用いる場合であっても、
相対運動の方向は、加工物の被加工面の形状に応じて、
平面であるならば1次元若しくは2次元、立体面である
ならば3次元方向とする。これら多次元の相対運動は1
次元づつ時系列に行っても良く、同時並行的に行っても
良い。
【0025】次に、本発明に係る研磨装置において用い
る砥粒を含有する流体を固化させる一例として、磁性流
体を加工物加工面に合わせて凍結固化させる方法につい
て、図に基づいて説明する。
【0026】図6(1)において、加工物4の被加工面
4’内に所定量の磁性砥粒を含有する磁性流体1を流し
込む。該流体内は、予め、磁性砥粒の凝結を防止すため
の界面活性剤を添加した状態で撹拌しておく。磁性流体
1は、加工面4’に流れ込み、加工面4’を埋めて密着
した状態となる。
【0027】図6(2)において、磁性流体1をその加
工面4’に充填した加工物4は、磁界発生手段5上に乗
せられる。磁界発生手段5は、所定の磁界強度を有する
永久磁石でも良いし、珪素鋼板積層体やフェライト材等
の磁性材に巻線を施した電磁石でも良い。電磁石の場合
は、磁界強度を任意値に調整することができる。磁性流
体1を磁界発生手段5によって発生する磁界環境下に置
くことによって、磁性砥粒の配列や分布密度を制御する
ことができる。
【0028】図6(3)において、磁界環境下に置かれ
た磁性流体1をその加工面に充填した加工物4は、低温
環境下に置くことによって、磁性流体を上記の状態のま
まで固化させる。水を流体の主成分とする磁性流体の氷
点は、水分の含有比によるが、通常摂氏マイナス数十度
なので、冷凍機を用いれば良い。流体の種類によって、
固化温度が摂氏マイナス百度以下の場合は、液体窒素を
利用する。
【0029】図6(4)において、加工物4と固化した
磁性流体1との接触面が密着結合状態の場合は、加工面
物4を磁性流体1の融点を少し上回る程度に加熱し、固
化した磁性流体の加工面4’との接触面を薄く融解させ
る。加熱方法としては、高周波加熱、ヒータ加熱等が一
般的である。これによって、固化した磁性流体と加工物
4との相対運動を容易にする。但し、融解させる程度が
大きすぎると寸法精度に悪影響をもたらすこととなる。
【0030】図6(5)において、固化させた磁性流体
の上部に機械的振動発生装置(図示せず)の一方の保持
手段7を打ち込む。そして、同装置の他方の固定装置は
加工物4と固定し、二つの保持手段間に相対運動を生じ
させ、研削若しくは研磨作業を行わせることとなる。
【0031】図6(6)において、このようにして形成
された研磨材を用いて、本発明の研磨装置により加工物
との間に相対運動を生じさせることにより加工物の研削
若しくは研磨を行うこととなるのである。
【0032】図1は、本発明に係る研磨装置に関し、機
械力を用いて、上記相対運動を3次元方向に発生させる
研磨装置の全体機構例を示す。上述したように、加工物
12の加工面の形状に合わせて形成された研磨材11
は、加工物12と共に研磨装置10上に載置される。こ
こで、本研磨装置10は、X軸方向に振動を生じさせる
ための機構ブロックX,Y軸方向に振動を生じさせるた
めの機構ブロックY、そしてZ軸方向に振動を生じさせ
るための機構ブロックZと、から構成される。本実施の
形態においては、加工物12及び研磨材11相互間に3
次元方向の相対運動を生じさせるため、加工物12を図
に示したX軸方向及びY軸方向に、研磨材11をZ軸方
向に振動させる。
【0033】本研磨装置のベース・フレーム19上に
は、該フレーム19に対してX軸方向に振動するX軸ス
ライド板21が、さらにX軸スライド板21上には、そ
の上をY軸方向に振動するY軸スライド板22が設けら
れ、Y軸スライド板22上に加工物12を固定するテー
ブル18が取り付けられる。テーブル18は、Y軸スラ
イド板22に対して、取付ブラケット16,17によっ
て固定される。後に詳しく説明するように、X軸スライ
ド板21は機構ブロックXによってX軸方向のみに振動
するように構成され、またY軸スライド板22は機構ブ
ロックYによってY軸方向のみに振動するように構成さ
れる。これによって、加工物12は、Z軸方向に対して
は固定された状態にて、研磨材11に対してXY軸方向
の運動が行われるように構成される。さらに、研磨材1
1は、チャック用のブラケット14,15によってチャ
ック板13に固定される。チャック板13は、Z軸振動
部材23に固定される。Z軸振動部材23は機構ブロッ
クZによってZ軸方向に振動するように構成される。こ
れによって、研磨材11は、XY軸方向に対して固定さ
れた状態にて、加工物12に対してZ軸方向の運動が行
われるように構成されるのである。
【0034】このように構成された研磨装置10上に載
置された加工物12と研磨材11は、研磨装置10の機
構ブロックX及びZにより、それぞれX、Y及びZ軸方
向に相対運動することになるが、研磨作業の高効率化及
び高精度化のためには、加工物12に対する研磨材11
の押圧力を制御する必要がある。このため、加工物12
と研磨材11間の各軸方向における夫々の押圧力を検知
するべく、ロード・セルからなる圧力センサ24(X軸
方向)、25(Y軸方向)及び26(Z軸方向)が設置
される。これにより、各軸方向への研磨押圧力を所定値
に維持した押圧力一定ストローク制御や、研削若しくは
粗研磨時と精密研磨において押圧力を経時的に変化させ
る押圧力変動ストローク制御が可能になる。
【0035】図2は、図1に示した研磨装置における一
方向(X軸)へ振動を生じさせる、機構ブロックXに図
示された振動発生機構を示す。
【0036】前記したX軸スライド板21は、図1に示
したY軸スライド板22を積載し、X軸振動ピン35に
よってX軸方向に振動する。圧力センサ24は、X軸ス
ライド板21のX軸方向の圧力を検出する。X軸スライ
ド板21にはX軸方向に所定長さのスリット31が2箇
所開けられており、該スリット31を本研磨装置のベー
ス・フレーム19に固定されたガイド軸33が貫通す
る。これによって、X軸スライド板21は、ベース・フ
レーム19に対してスリット31の長さと等しいストロ
ーク分だけ振動可能となる。X軸スライド板21には、
他のスリット34が設けられており、それを振動ピン3
5が係合する。図に示すとおり、スリット34は、Y軸
方向に長く切られており、これによりX軸振動ピンのY
軸方向の振動を逃がしてX軸スライド板21に伝わらな
いように考慮されている。振動ピン35は、X軸スライ
ド板21をX軸方向に振動させるものであって、振動板
36に固定される。
【0037】振動板36には、ストローク幅設定用の円
弧状スリット37と振動駆動力を受けるためのスリット
38が設けられている。また、振動板36には軸39が
固定され、該軸39の端は上方の案内板40に設けられ
たスリット41に係合する。振動板36に固定された軸
39が案内板40のスリット41に係合するが、スリッ
ト41は、Y軸方法は短くX軸方向に長く切られている
ので、振動板36のY軸方向の振動を規制する。さら
に、案内板40には軸42が固定され、該軸の端が振動
板36に設けられた他のスリット32に係合する。スリ
ット32は、案内板40上のスリット41と同様に、Y
軸方法は短くX軸方向に長く切られているので、振動板
36のY軸方向の振動を規制することとなる。案内板4
0は、複数の支軸43によってベース板50に固定され
る。
【0038】ベース板50には、振動駆動モータ52及
び振動ストローク制御モータ53が取り付けられ、複数
の支柱56によってベース・フレーム19に固定され
る。それぞれのモータ52、53は、回転数を所定の回
転数に減速するための減速ギヤ機構を内蔵するものが望
ましい。振動駆動モータ52の回転出力軸55は、案内
板40上に設けられた穴を貫通して振動板36に延び
る。そして、その先端部には偏芯軸44が取り付けられ
ており、該偏芯軸44は振動駆動モータ52の回転出力
軸55の回転に伴って回転揺動運動をすることとなる。
そして偏芯軸44は、振動板36に設けられたスリット
38に係合しているので、偏芯軸44の回転揺動運動は
振動板36を揺動させることとなるのである。
【0039】一方、振動ストローク制御モータ53の回
転出力軸54の先端にはギヤ49が取り付けられてお
り、該ギヤ49には扇型ギヤ46が噛合する。扇型ギヤ
46はそのカラー47において回転軸51が勘合し、回
転軸51はベース板50に支持される。扇形ギヤ46の
一辺から舌状に延びた先端部にはピン45が下方に伸延
した状態で取り付けられる。ピン45は振動板36の該
中央部に設けられた円弧状スリット37に係合する。振
動ストローク制御モータ53は、正逆方向の回転が可能
であり、且つ回転軸の回転角度を自由に制御できるDC
モータを用いる。これによって、振動板36の円弧状ス
リット内におけるピン45の位置を自由に設定できる。
そして、円弧状スリット37を挟んで、偏芯軸44に係
合するスリット38の反対側には、前述した振動ピン3
5が取り付けられているのである。
【0040】このように構成された振動機構において、
振動駆動モータ52が回転駆動されると、その回転軸5
5の先端部の偏芯軸44が回転揺動運動を行う。振動板
36は、そのスリット38内に偏芯軸44を受け入れて
いるので、偏芯軸44の回転揺動運動に伴って揺動する
こととなる。しかしながら、スリット38は、Y軸方向
に大きく切られていることから、Y軸方向の振動動作は
ここに吸収され、X軸方向の振動動作が振動板36に伝
達されることとなる。また、前述したように、振動板3
6に固定された軸39が案内板40のスリット41に係
合するが、スリット41は、Y軸方法が短くX軸方向に
長く切られているので、振動板36のY軸方向の振動は
吸収される。さらに、案内板40には軸42が固定さ
れ、該軸の端が振動板36に設けられた他のスリット3
2に係合し、スリット32は、案内板40上のスリット
41と同様に、Y軸方法は短くX軸方向に長く切られて
いるので、振動板36のY軸方向の振動は吸収されるの
である。
【0041】このようにして伝達された振動駆動モータ
52のX軸方向の振動力は、振動ピン35によって最終
的にX軸スライド板21をX軸方向に振動させることと
なるのである。
【0042】図3は、図2に示した振動機構における振
動ストローク幅の調整機構を示す。図3の(A)におい
て、前述したピン45の位置は、振動板36上の円弧状
スリット37の最も偏芯軸44寄りに設定されている。
振動板36は、ピン45の位置を支点に振動するので、
この場合には、偏芯軸44によって伝達されるX軸方向
の振動ストロークが拡大されるので、X軸スライド板2
1のX軸方向の振動ストロークが最大になる。また、図
3(B)において、ピン45の位置は円弧状スリット3
7の最も振動ピン35寄りに設定されている。この場合
には、偏芯軸44によって伝達されるX軸方向の振動ス
トロークが縮小されるので、X軸スライド板21のX軸
方向の振動ストロークが最小になる。
【0043】以上、X軸方向の振動機構について説明し
たが、Y軸方向及びZ軸方向についても、同様の機構ブ
ロックを設けることによって、加工物12と研磨材11
間に3次元方向の機械力による相対運動を生じさせるこ
とが可能である。そして、このような3次元方向の相対
運動は、各次元方向毎に経時的に行っても、同時に行っ
ても良い。
【0044】図4は、砥粒を含有する磁性流体を固化若
しくはゲル化させた研磨材を、交番磁界を与えることに
よって上記相対運動を生じさせる磁気力を用いた振動機
構の概要を示す。
【0045】X軸、Y軸及びZ軸の各6面方向には、磁
性体にコイルを巻き付けた電磁石が配置され、それぞれ
のコイルに所定周波数の交流電流を流すことによって、
加工物12と研磨材11間に3次元方向に相対運動を生
じさせることが可能である。固化若しくはゲル化した磁
性流体の慣性モーメントに鑑みて、各軸方向の電磁石に
流す交流電流の周波数値及び磁束密度を調整することに
より、相対運動のストローク幅及び研磨圧力を調整する
ことが可能である。
【0046】図5は、荷電砥粒を含有する流体を固化若
しくはゲル化させた研磨材を、交番電界を与えることに
よって上記相対運動を生じさせる電気力を用いた振動機
構の概要を示す。
【0047】X軸、Y軸及びZ軸の各6面方向には、電
極板が配置され、それぞれの電極板に所定周波数の交流
電圧を印加することによって、加工物12と研磨材11
間に3次元方向に相対運動を生じさせることが可能であ
る。固化若しくはゲル化した荷電砥粒を含有する研磨材
の慣性モーメントに鑑みて、各軸方向の電極板に印加す
る交流電圧の周波数値及び電圧値を調整することによ
り、相対運動のストローク幅及び研磨圧力を調整するこ
とが可能である。
【0048】このようにして発生された、加工物と加工
物の加工面に合わせて固化若しくはゲル化された研磨材
相互間の相対運動のストロークは、目的とする加工に応
じて調整する。単位時間に大きな研削を行いたい場合
は、粒径の大きな砥粒を高密度に含有する本研磨材を、
加工物との間で大きなストロークの相対運動を生じさせ
ることにより行い、精緻な寸法精度が要求される鏡面加
工の場合は、粒径の小さな砥粒を含有する固化若しくは
ゲル化した本研磨材を、加工物との間で小さなストロー
クの相対運動とすることによって行う。これらのストロ
ークの設定は、最初の研削段階で大きく、最終の研磨段
階で徐々に小さくする調整対応も可能である。そして、
研磨後の加工物の最終目的寸法を、本発明に係る研磨を
行うための研磨装置の制御装置に予めデータ入力してお
き、加工物の寸法及び加工面における研磨応力圧を検出
しつつ、自動制御により研削及び研磨することも可能で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る、機械力を用いた研磨装置の全体
機構例を示す。
【図2】図1の研磨装置における一方向(X軸)への振
動機構を示す。
【図3】図2の振動機構における振動ストローク幅の調
整機構を示す。
【図4】磁気力を用いた振動機構の概要を示す。
【図5】電気力を用いた振動機構の概要を示す。
【図6】砥粒を含有する流体を加工物の加工面に合わせ
て固化させる場合の例を示す。
【符号の説明】
10: 研磨装置 11: 研磨材 12: 加工物 21: X軸スライド板 22: Y軸スライド板 23: Z軸振動部材 36: 振動板(X軸) 52: 振動駆動モータ 53: 振動ストローク制御モータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // B24B 13/01 B24B 13/01

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被加工物の加工面の形状に合わせて形成さ
    れた研磨材を用い、該研磨材と被加工物との間で相対運
    動を生じさせることにより、被加工物を研磨するように
    構成した研磨装置。
  2. 【請求項2】前記研磨材は、砥粒を含有する流体を固化
    若しくはゲル化したものである、請求項1に記載の研磨
    装置。
  3. 【請求項3】前記相対運動は、前記研磨材と前記被加工
    物との間で、機械的振動を与えることによって行われ
    る、請求項1乃至2に記載の研磨装置
  4. 【請求項4】前記研磨材は、磁界によって砥粒の配列を
    制御可能な磁性流体であって、磁界を与えた状態で固化
    若しくはゲル化させ、前記相対運動は、交番磁界を与え
    ることによって行われる、請求項2に記載の研磨装置。
  5. 【請求項5】前記研磨材は、プラスまたはマイナスの電
    荷を帯電する砥粒を含有する流体を電界を与えた状態で
    固化若しくはゲル化させ、前記相対運動は、交番電界を
    与えることによって行われる、請求項2に記載の研磨装
    置。
  6. 【請求項6】前記相対運動は、1次元、2次元若しくは
    3次元の方向に行われる請求項3乃至5に記載の研磨装
    置。
  7. 【請求項7】前記1次元、2次元若しくは3次元の各方
    向への前記相対運動は、各次元毎に時系列的に行われる
    請求項6に記載の研磨装置。
  8. 【請求項8】前記1次元、2次元若しくは3次元の各方
    向への前記相対運動は、複数方向が同時に行われる請求
    項6に記載の研磨装置。
  9. 【請求項9】被加工物の加工面の形状に合わせて形成さ
    れた研磨材と当該被加工物との間で、相対運動を生じさ
    せるための駆動手段と、 前記相対運動によって生ずる前記研磨材と前記被加工物
    間の圧力値を検出する圧力検出手段と、 前記圧力検出手段が検出した圧力値に応じて前記相対運
    動のストローク幅を制御する制御手段と、から成る研磨
    装置。
  10. 【請求項10】前記制御手段には前記圧力の所定値が入
    力され、前記制御手段は、前記圧力値が前記所定値にな
    るように前記相対運動を生じさせるように構成された請
    求項9に記載の研磨装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030001236A (ko) * 2001-06-27 2003-01-06 문병준 지석의 제조방법 및 연마방법
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JP2017164828A (ja) * 2016-03-14 2017-09-21 スターテクノ株式会社 ワーク加工ロボットの加工ヘッド
CN108436745A (zh) * 2018-05-21 2018-08-24 浙江工业大学 一种磁场电场同时变化的叶片液态金属抛光装置
CN110614543A (zh) * 2019-10-16 2019-12-27 浙江工业大学 一种利用液态金属进行导电工件盲孔抛光的装置及其方法

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