JPH11167890A - チャンバーのクリーニング方法及び装置 - Google Patents
チャンバーのクリーニング方法及び装置Info
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- JPH11167890A JPH11167890A JP9333166A JP33316697A JPH11167890A JP H11167890 A JPH11167890 A JP H11167890A JP 9333166 A JP9333166 A JP 9333166A JP 33316697 A JP33316697 A JP 33316697A JP H11167890 A JPH11167890 A JP H11167890A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＩＣパターンが形成される材料上へのゴミの
付着を防止したチャンバーのクリーニング方法及び装置
を提供する。 【解決手段】 ゲートバルブ１７と材料搬入搬送１８が
閉じている時に、パーティクルカウンタ１５のカウント
値が許容値を越すと、制御装置１４はクリーニングモー
ドに入り、バルブ駆動機構１２，１３に指令を送り、ベ
ントバルブ１０，排気バルブ８が所定時間毎に交互に同
期して開閉，閉開を繰り返す様に動作させる。この交互
の開閉，閉開により、急速ベントと急速排気が繰り返さ
れる。そうしている間に、パーティクルカウンタ１５の
検出値が許容値内に入ると、制御装置１４はクリーニン
グモードを停止し、予備チャンバーのクリーニングが終
了することになる。
付着を防止したチャンバーのクリーニング方法及び装置
を提供する。 【解決手段】 ゲートバルブ１７と材料搬入搬送１８が
閉じている時に、パーティクルカウンタ１５のカウント
値が許容値を越すと、制御装置１４はクリーニングモー
ドに入り、バルブ駆動機構１２，１３に指令を送り、ベ
ントバルブ１０，排気バルブ８が所定時間毎に交互に同
期して開閉，閉開を繰り返す様に動作させる。この交互
の開閉，閉開により、急速ベントと急速排気が繰り返さ
れる。そうしている間に、パーティクルカウンタ１５の
検出値が許容値内に入ると、制御装置１４はクリーニン
グモードを停止し、予備チャンバーのクリーニングが終
了することになる。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、ＩＣパターンが形成さ
れる材料上へのゴミの付着を防止するチャンバーのクリ
ーニング方法及び装置に関する。
れる材料上へのゴミの付着を防止するチャンバーのクリ
ーニング方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】描画装置においては、例えば、ウエハの
如き材料上にＩＣパターンを描画している。又、観察，
検査，分析，測定装置等においては、ＩＣパターンが描
かれた材料について、それぞれパターンの観察，パター
ン欠陥等の検査，材料上に付着しているごみ等の分析，
パターンの測長等を行っている。
如き材料上にＩＣパターンを描画している。又、観察，
検査，分析，測定装置等においては、ＩＣパターンが描
かれた材料について、それぞれパターンの観察，パター
ン欠陥等の検査，材料上に付着しているごみ等の分析，
パターンの測長等を行っている。
【０００３】通常、前記描画，観察，検査，分析，測定
等の処理を行う処理チャンバーの隣に、ゲートバルブを
介して予備チャンバーが設けられており、ウエハの如き
材料は予備チャンバーを介して外部から処理チャンバー
へ入れたり、処理チャンバーから外部へ出したりしてい
る。さて、最近、ＩＣの高集積化がますます進み、前記
各装置における材料へのゴミの付着が大きな問題になっ
てきている。特に、前記予備チャンバーにおいては、外
部（大気側）との間で材料を出し入れするので、その出
し入れの際に、予備チャンバー内にゴミが持ち込まれる
ことが多い。例えば、予備チャンバーに材料を入れる時
に材料自身にゴミが付着していることから、予備チャン
バー内にゴミが持ち込まれたり、予備チャンバーと外部
との間で材料を出し入れする材料搬送機構からチャンバ
ー内にゴミが持ち込まれる。そして、予備チャンバー内
の排気時及びベント時に、予備チャンバー内に存在する
ゴミが舞い上がって材料上に付着する。
等の処理を行う処理チャンバーの隣に、ゲートバルブを
介して予備チャンバーが設けられており、ウエハの如き
材料は予備チャンバーを介して外部から処理チャンバー
へ入れたり、処理チャンバーから外部へ出したりしてい
る。さて、最近、ＩＣの高集積化がますます進み、前記
各装置における材料へのゴミの付着が大きな問題になっ
てきている。特に、前記予備チャンバーにおいては、外
部（大気側）との間で材料を出し入れするので、その出
し入れの際に、予備チャンバー内にゴミが持ち込まれる
ことが多い。例えば、予備チャンバーに材料を入れる時
に材料自身にゴミが付着していることから、予備チャン
バー内にゴミが持ち込まれたり、予備チャンバーと外部
との間で材料を出し入れする材料搬送機構からチャンバ
ー内にゴミが持ち込まれる。そして、予備チャンバー内
の排気時及びベント時に、予備チャンバー内に存在する
ゴミが舞い上がって材料上に付着する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、オペレーター
は、所定時間毎に、予備チャンバーの、例えば、材料搬
入搬出口を開き、窒素ガスの如きベントガスボンベに繋
がったガス吹き付け口を持って来て、該チャンバー内に
吹き入れることにより、チャンバー内に対流を起こさ
せ、該対流により材料搬入搬出口から出てきたゴミを、
予備チャンバーの周囲に発生させた空気の流れに載せ
て、該チャンバーから離れたところに移動させ、予備チ
ャンバー内をクリーニングしている。
は、所定時間毎に、予備チャンバーの、例えば、材料搬
入搬出口を開き、窒素ガスの如きベントガスボンベに繋
がったガス吹き付け口を持って来て、該チャンバー内に
吹き入れることにより、チャンバー内に対流を起こさ
せ、該対流により材料搬入搬出口から出てきたゴミを、
予備チャンバーの周囲に発生させた空気の流れに載せ
て、該チャンバーから離れたところに移動させ、予備チ
ャンバー内をクリーニングしている。
【０００５】しかし、この様なクリーニング方法では、
予備チャンバー内のゴミを十分に排出するには多くの時
間が掛かる。又、オペレータが予備チャンバーの材料搬
入搬出を開き、ベントガスの吹き付け口を該材料搬入搬
出口の近傍に持ってきて、クリーニングを行っており、
操作が極めて厄介である。又、所定時間毎のクリーニン
グ時にオペレータが予備チャンバーの側に必ず居なけれ
ばならない。又、次のクリーニングが行われる間におい
て、許容出来ない程度のゴミが材料に付着する場合も起
こる。本発明は、この様な問題を解決するもので、新規
なチャンバークリーニング方法及び装置を提供するもの
である。
予備チャンバー内のゴミを十分に排出するには多くの時
間が掛かる。又、オペレータが予備チャンバーの材料搬
入搬出を開き、ベントガスの吹き付け口を該材料搬入搬
出口の近傍に持ってきて、クリーニングを行っており、
操作が極めて厄介である。又、所定時間毎のクリーニン
グ時にオペレータが予備チャンバーの側に必ず居なけれ
ばならない。又、次のクリーニングが行われる間におい
て、許容出来ない程度のゴミが材料に付着する場合も起
こる。本発明は、この様な問題を解決するもので、新規
なチャンバークリーニング方法及び装置を提供するもの
である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】 本発明のチャンバーク
リーニング方法は、ＩＣ用材料が置かれるチャンバー内
に於いて、ガスベントと排気を交互に繰り返して該チャ
ンバー内をクリーニングすると共に、チャンバー内のゴ
ミの量を検出し、該検出値が許容値内に入ったら、前記
クリーニングを停止するようにしたことを特徴としてい
る。
リーニング方法は、ＩＣ用材料が置かれるチャンバー内
に於いて、ガスベントと排気を交互に繰り返して該チャ
ンバー内をクリーニングすると共に、チャンバー内のゴ
ミの量を検出し、該検出値が許容値内に入ったら、前記
クリーニングを停止するようにしたことを特徴としてい
る。
【０００７】又、本発明のチャンバークリーニング装置
は、ＩＣ用材料が置かれるチャンバー、ベントガス導入
手段、ベントバルブ、排気ポンプ、排気バルブ、ＩＣ用
材料の搬入搬出口、前記ベントバルブの開閉駆動手段、
前記排気バルブの開閉駆動手段、及びチャンバー内のゴ
ミの量を検出するゴミ検出手段を備え、前記材料搬入搬
出口が閉じている時に、前記ゴミ検出手段が検出したゴ
ミの量に基づいて前記ベントバルブの開閉と前記排気バ
ルブの閉開が同期して繰り返される様に成したことを特
徴としている。
は、ＩＣ用材料が置かれるチャンバー、ベントガス導入
手段、ベントバルブ、排気ポンプ、排気バルブ、ＩＣ用
材料の搬入搬出口、前記ベントバルブの開閉駆動手段、
前記排気バルブの開閉駆動手段、及びチャンバー内のゴ
ミの量を検出するゴミ検出手段を備え、前記材料搬入搬
出口が閉じている時に、前記ゴミ検出手段が検出したゴ
ミの量に基づいて前記ベントバルブの開閉と前記排気バ
ルブの閉開が同期して繰り返される様に成したことを特
徴としている。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【０００９】図１は本発明に基づくチャンバークリーニ
ング方法を実施するためのチャンバークリーニング機構
を備えた真空装置の一例を示している。
ング方法を実施するためのチャンバークリーニング機構
を備えた真空装置の一例を示している。
【００１０】図中１は処理チャンバーで、内部に被処理
材料を載置するためのステージ２が設けられている。３
は排気バルブ、４は排気ポンプである。５は予備チャン
バーで、内部に被処理材料６を載置するための載置台７
が設けられている。８は排気バルブ、９は排気ポンプ、
１０はベントバルブ、１１はベントガスボンベである。
１２，１３はそれぞれ、制御装置１４の指令に従って、
前記排気バルブ８，ベントバルブ１０の開閉を駆動する
バルブ駆動装置である。１５は前記予備チャンバー５内
のゴミの量を検出するパーティクルカウンターで、該チ
ャンバー内のゴミの量をより正確に検出できる排気口１
６近傍に設けられている。１７，１８はそれぞれゲート
バルブ，材料搬入搬出口、１９，２０は前記ゲートバル
ブ１７，材料搬入搬出口１８の開閉を駆動するゲートバ
ルブ駆動機構，材料搬入搬出口駆動機構である。前記バ
ルブ駆動機構１２，１３、ゲートバルブ駆動機構１９，
材料搬入搬出口駆動機構２０は、前記制御装置１４の指
令に基づいて作動する。
材料を載置するためのステージ２が設けられている。３
は排気バルブ、４は排気ポンプである。５は予備チャン
バーで、内部に被処理材料６を載置するための載置台７
が設けられている。８は排気バルブ、９は排気ポンプ、
１０はベントバルブ、１１はベントガスボンベである。
１２，１３はそれぞれ、制御装置１４の指令に従って、
前記排気バルブ８，ベントバルブ１０の開閉を駆動する
バルブ駆動装置である。１５は前記予備チャンバー５内
のゴミの量を検出するパーティクルカウンターで、該チ
ャンバー内のゴミの量をより正確に検出できる排気口１
６近傍に設けられている。１７，１８はそれぞれゲート
バルブ，材料搬入搬出口、１９，２０は前記ゲートバル
ブ１７，材料搬入搬出口１８の開閉を駆動するゲートバ
ルブ駆動機構，材料搬入搬出口駆動機構である。前記バ
ルブ駆動機構１２，１３、ゲートバルブ駆動機構１９，
材料搬入搬出口駆動機構２０は、前記制御装置１４の指
令に基づいて作動する。
【００１１】この様な構成における動作を次に説明す
る。
る。
【００１２】処理チャンバー１内で材料にパターン描画
等の処理をする場合には、ゲートバルブ１７は閉じ、排
気バルブ３は開いており、処理チャンバー１内は排気ポ
ンプ４により排気され高真空状態に保たれている。この
処理の際には、次に処理すべき材料が予備チャンバー５
の載置台７に載置されている。即ち、前記ゲートバルブ
１７が閉じており、しかも、予備チャンバー５内が大気
圧に近い状態において、材料搬入搬出口１８が開かれ、
材料搬送機構（図示せず）によって、そのアーム（図示
せず）に保持された材料６が前記載置台７上に置かれ
る。該アームが予備チャンバーの外に移動した後、材料
搬入搬出口１８が閉じ、排気バルブ８が開き、排気ポン
プ９により予備チャンバー５内が排気される。前記処理
チャンバー１内の材料を新しいものと交換する場合に
は、ゲードバルブ１７を開け、前記予備チャンバー５内
に設けられている材料交換機構（図示せず）によって処
理チャンバー１のステージ２上に載っている材料を材料
交換機構（図示せず）のアーム（図示せず）に保持さ
せ、予備チャンバー５内の前記載置台７の近傍に設けら
れた別の処理済み材料載置台（図示せず）の上に置くよ
うにする。それから、前記材料交換機構（図示せず）に
より、そのアーム（図示せず）は、前記載置台７に載置
されている材料６を保持し、前記処理チャンバー１内の
ステージ２上に置き、予備チャンバー５内に戻る。そし
て、ゲートバルブ１７は閉じ、処理チャンバー１内が所
定の真空度に達した後に材料の処理が始まる。前記、予
備チャンバー５と外部とで材料を出し入れする場合に
は、ゲードバルブ１７が閉じており、排気バルブ８が閉
じている状態で、ベントバルブ１０を開き、ベントガス
を予備チャンバー５内に入れることにより、該予備チャ
ンバー内を大気圧に近い状態にしてから、材料搬入搬出
口１８を開く。そして、材料搬送機構（図示せず）によ
ってアーム（図示せず）が予備チャンバー５内の処理済
み材料載置台上の材料を保持して、外部に持って来る。
そして、新しい材料を保持し直し、該保持した材料６を
予備チャンバー５内の前記載置台７上に置く。該アーム
が予備チャンバー外に移動した後、材料搬入搬出口１８
が閉じ、排気バルブ８が開き、排気ポンプ９により予備
チャンバー５内が排気される。
等の処理をする場合には、ゲートバルブ１７は閉じ、排
気バルブ３は開いており、処理チャンバー１内は排気ポ
ンプ４により排気され高真空状態に保たれている。この
処理の際には、次に処理すべき材料が予備チャンバー５
の載置台７に載置されている。即ち、前記ゲートバルブ
１７が閉じており、しかも、予備チャンバー５内が大気
圧に近い状態において、材料搬入搬出口１８が開かれ、
材料搬送機構（図示せず）によって、そのアーム（図示
せず）に保持された材料６が前記載置台７上に置かれ
る。該アームが予備チャンバーの外に移動した後、材料
搬入搬出口１８が閉じ、排気バルブ８が開き、排気ポン
プ９により予備チャンバー５内が排気される。前記処理
チャンバー１内の材料を新しいものと交換する場合に
は、ゲードバルブ１７を開け、前記予備チャンバー５内
に設けられている材料交換機構（図示せず）によって処
理チャンバー１のステージ２上に載っている材料を材料
交換機構（図示せず）のアーム（図示せず）に保持さ
せ、予備チャンバー５内の前記載置台７の近傍に設けら
れた別の処理済み材料載置台（図示せず）の上に置くよ
うにする。それから、前記材料交換機構（図示せず）に
より、そのアーム（図示せず）は、前記載置台７に載置
されている材料６を保持し、前記処理チャンバー１内の
ステージ２上に置き、予備チャンバー５内に戻る。そし
て、ゲートバルブ１７は閉じ、処理チャンバー１内が所
定の真空度に達した後に材料の処理が始まる。前記、予
備チャンバー５と外部とで材料を出し入れする場合に
は、ゲードバルブ１７が閉じており、排気バルブ８が閉
じている状態で、ベントバルブ１０を開き、ベントガス
を予備チャンバー５内に入れることにより、該予備チャ
ンバー内を大気圧に近い状態にしてから、材料搬入搬出
口１８を開く。そして、材料搬送機構（図示せず）によ
ってアーム（図示せず）が予備チャンバー５内の処理済
み材料載置台上の材料を保持して、外部に持って来る。
そして、新しい材料を保持し直し、該保持した材料６を
予備チャンバー５内の前記載置台７上に置く。該アーム
が予備チャンバー外に移動した後、材料搬入搬出口１８
が閉じ、排気バルブ８が開き、排気ポンプ９により予備
チャンバー５内が排気される。
【００１３】さて、パーティクルカウンター１５は、常
に予備チャンバー５内のゴミの存在状況を監視してお
り、このゴミの量が許容値を越した場合、制御装置１４
の指令に基づいて予備チャンバー５内のクリーニングが
行われる。但し、前記ゲートバルブ１７が開いている場
合と、前記材料搬入搬送１８が開いている場合には、前
記制御装置１４は前記パーティクルカウンタ１５からの
カウント値を０と見なすので、クリーニングモードに入
らず、予備チャンバー５内のクリーニングは行われな
い。
に予備チャンバー５内のゴミの存在状況を監視してお
り、このゴミの量が許容値を越した場合、制御装置１４
の指令に基づいて予備チャンバー５内のクリーニングが
行われる。但し、前記ゲートバルブ１７が開いている場
合と、前記材料搬入搬送１８が開いている場合には、前
記制御装置１４は前記パーティクルカウンタ１５からの
カウント値を０と見なすので、クリーニングモードに入
らず、予備チャンバー５内のクリーニングは行われな
い。
【００１４】前記ゲートバルブ１７と前記材料搬入搬送
１８が閉じている時に、パーティクルカウンタ１５のカ
ウント値が許容値を越すと、制御装置１４はクリーニン
グモードに入り、前記バルブ駆動機構１２，１３に指令
を送り、ベントバルブ１０，排気バルブ８が所定時間毎
に交互に同期して開閉，閉開を繰り返す様に動作させ
る。この交互の開閉，閉開により、急速ベントと急速排
気が繰り返される。そうしている間に、パーティクルカ
ウンタ１５の検出値が許容値内に入ると、制御装置１４
はクリーニングモードを停止し、予備チャンバーのクリ
ーニングが終了することになる。
１８が閉じている時に、パーティクルカウンタ１５のカ
ウント値が許容値を越すと、制御装置１４はクリーニン
グモードに入り、前記バルブ駆動機構１２，１３に指令
を送り、ベントバルブ１０，排気バルブ８が所定時間毎
に交互に同期して開閉，閉開を繰り返す様に動作させ
る。この交互の開閉，閉開により、急速ベントと急速排
気が繰り返される。そうしている間に、パーティクルカ
ウンタ１５の検出値が許容値内に入ると、制御装置１４
はクリーニングモードを停止し、予備チャンバーのクリ
ーニングが終了することになる。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、チャンバー内に存在す
るゴミが許容値に達する迄、チャンバー内のベントと排
気を繰り返すので、能率良くチャンバー内のゴミを十分
に排出することが出来る。又、チャンバーのクリーニン
グが全自動でなされるので、クリーニング操作が極めて
簡単化され、少なくとも、予備チャンバーのクリーニン
グのためにオペレーターが予備チャンバーの側に居る必
要がなくなる。又、次のクリーニングが行われる間にお
いて、許容出来ない程度のゴミが材料に付着する場合も
起こらない。
るゴミが許容値に達する迄、チャンバー内のベントと排
気を繰り返すので、能率良くチャンバー内のゴミを十分
に排出することが出来る。又、チャンバーのクリーニン
グが全自動でなされるので、クリーニング操作が極めて
簡単化され、少なくとも、予備チャンバーのクリーニン
グのためにオペレーターが予備チャンバーの側に居る必
要がなくなる。又、次のクリーニングが行われる間にお
いて、許容出来ない程度のゴミが材料に付着する場合も
起こらない。
【図１】 本発明に基づくチャンバークリーニング方法
を実施するための真空装置の一例を示してる。
を実施するための真空装置の一例を示してる。
１…処理チャンバー、２…ステージ、３…排気バルブ、
４…真空ポンプ、５…予備チャンバー、６…被処理材
料、７載置台、８…排気バルブ、９…真空ポンプ、１０
…ベントバルブ、１１…ベントガスボンベ、１２，１３
…バルブ駆動装置、１４…制御装置、１５…パーティク
ルカウンター、１６…排気口、１７…ゲートバルブ、１
８…材料搬入搬出口、１９…ゲートバルブ駆動機構、２
０…材料出入れ口駆動機構
４…真空ポンプ、５…予備チャンバー、６…被処理材
料、７載置台、８…排気バルブ、９…真空ポンプ、１０
…ベントバルブ、１１…ベントガスボンベ、１２，１３
…バルブ駆動装置、１４…制御装置、１５…パーティク
ルカウンター、１６…排気口、１７…ゲートバルブ、１
８…材料搬入搬出口、１９…ゲートバルブ駆動機構、２
０…材料出入れ口駆動機構
Claims (2)
- 【請求項１】 ＩＣ用材料が置かれるチャンバー内に於
いて、ガスベントと排気を交互に繰り返して該チャンバ
ー内をクリーニングすると共に、チャンバー内のゴミの
量を検出し、該検出値が許容値内に入ったら、前記クリ
ーニングを停止するようにしたチャンバーのクリーニン
グ方法。 - 【請求項２】 ＩＣ用材料が置かれるチャンバー、ベ
ントガス導入手段、ベントバルブ、排気ポンプ、排気バ
ルブ、ＩＣ用材料の搬入搬出口、前記ベントバルブの開
閉駆動手段、前記排気バルブの開閉駆動手段、及びチャ
ンバー内のゴミの量を検出するゴミ検出手段を備え、前
記材料搬入搬出口が閉じている時に、前記ゴミ検出手段
が検出したゴミの量に基づいて前記ベントバルブの開閉
と前記排気バルブの閉開が同期して繰り返される様に成
したクリーニング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9333166A JPH11167890A (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | チャンバーのクリーニング方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9333166A JPH11167890A (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | チャンバーのクリーニング方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11167890A true JPH11167890A (ja) | 1999-06-22 |
Family
ID=18263042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9333166A Withdrawn JPH11167890A (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | チャンバーのクリーニング方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11167890A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7145653B1 (en) * | 2000-06-09 | 2006-12-05 | Advanced Micro Devices, Inc. | In situ particle monitoring for defect reduction |
-
1997
- 1997-12-03 JP JP9333166A patent/JPH11167890A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7145653B1 (en) * | 2000-06-09 | 2006-12-05 | Advanced Micro Devices, Inc. | In situ particle monitoring for defect reduction |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050301 |