JPH11169768A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JPH11169768A JPH11169768A JP34820597A JP34820597A JPH11169768A JP H11169768 A JPH11169768 A JP H11169768A JP 34820597 A JP34820597 A JP 34820597A JP 34820597 A JP34820597 A JP 34820597A JP H11169768 A JPH11169768 A JP H11169768A
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- lip
- support
- coating
- coating apparatus
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 厚膜の支持体を用いた場合でも、塗りむらを
発生させることなく安定的に塗布することが可能とされ
た塗布装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明に係る塗布装置は、少なくとも３
以上のリップを有し、上記リップの先端部で支持体を抱
き込み、連続的に走行する該支持体上に塗布液を塗布す
る塗布装置であって、少なくとも上記支持体を抱き込む
先端部が同一円弧上にあることを特徴とするものであ
る。
発生させることなく安定的に塗布することが可能とされ
た塗布装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明に係る塗布装置は、少なくとも３
以上のリップを有し、上記リップの先端部で支持体を抱
き込み、連続的に走行する該支持体上に塗布液を塗布す
る塗布装置であって、少なくとも上記支持体を抱き込む
先端部が同一円弧上にあることを特徴とするものであ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続的に走行する
支持体上に塗料を塗布する塗布装置に関し、特に、複数
のリップを有する塗布装置に関する。
支持体上に塗料を塗布する塗布装置に関し、特に、複数
のリップを有する塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、テープ状の支持体に対して磁
性塗料等を塗布する際に、いわゆる、エクストルージョ
ン型の塗布装置が用いられている。このエクストルージ
ョン型の塗布装置は、塗料が供給される塗料溜りを有
し、先端に該塗料を押し出す幅広のスリットが形成され
たダイを備え、連続的に走行する支持体上に該スリット
より塗料を押し出して塗布を行うようになされている。
この塗布装置においては、先端部にてスリットを構成す
るリップのうち、支持体走行方向上流側のリップ（以
下、上リップと称す。）がフロントブレードとして機能
して支持体上に押し出される塗料の量を規制する。一
方、支持体走行方向下流側のリップ（以下、したリップ
と称す。）は、支持体に当接し、該支持体を抱き込む如
く配設され、ドクターエッジ（スムージングブレード）
として機能して支持体上に供給された塗料の表面を平坦
化する。
性塗料等を塗布する際に、いわゆる、エクストルージョ
ン型の塗布装置が用いられている。このエクストルージ
ョン型の塗布装置は、塗料が供給される塗料溜りを有
し、先端に該塗料を押し出す幅広のスリットが形成され
たダイを備え、連続的に走行する支持体上に該スリット
より塗料を押し出して塗布を行うようになされている。
この塗布装置においては、先端部にてスリットを構成す
るリップのうち、支持体走行方向上流側のリップ（以
下、上リップと称す。）がフロントブレードとして機能
して支持体上に押し出される塗料の量を規制する。一
方、支持体走行方向下流側のリップ（以下、したリップ
と称す。）は、支持体に当接し、該支持体を抱き込む如
く配設され、ドクターエッジ（スムージングブレード）
として機能して支持体上に供給された塗料の表面を平坦
化する。
【０００３】このようなエクストルージョン型の塗布装
置は、均一な膜厚を有する塗膜を容易に形成することが
できるとともに、従来のグラビアロールの如く、大径を
有するロールを用いないために装置の小型化の点で有利
である。また、エクストルージョン型の塗布装置は、ダ
イ内に供給された塗料が全て塗布されるので該ダイ廻り
での塗料の循環を行う必要がない。さらに、エクストル
ージョン型の塗布装置は、複数の塗料溜りと複数のスリ
ットを同一のダイに設ければ、複数層の塗膜を同時に形
成することが可能となるという利点も有する。
置は、均一な膜厚を有する塗膜を容易に形成することが
できるとともに、従来のグラビアロールの如く、大径を
有するロールを用いないために装置の小型化の点で有利
である。また、エクストルージョン型の塗布装置は、ダ
イ内に供給された塗料が全て塗布されるので該ダイ廻り
での塗料の循環を行う必要がない。さらに、エクストル
ージョン型の塗布装置は、複数の塗料溜りと複数のスリ
ットを同一のダイに設ければ、複数層の塗膜を同時に形
成することが可能となるという利点も有する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うなエクストルージョン型の塗布装置を用いて、厚さ５
０μｍ以上の支持体に対して塗布を行うような場合、塗
布方向に対して垂直な方向にシワ状の塗りむらが発生す
ることがある。例えば、支持体として非磁性支持体を用
い、塗料として磁性塗料を用いて塗布型の磁気記録媒体
を製造するような場合には、このような塗りむらが発生
することにより、磁気記録媒体の出力変動の原因とな
り、品質の安定化を損なうことになってしまう。
うなエクストルージョン型の塗布装置を用いて、厚さ５
０μｍ以上の支持体に対して塗布を行うような場合、塗
布方向に対して垂直な方向にシワ状の塗りむらが発生す
ることがある。例えば、支持体として非磁性支持体を用
い、塗料として磁性塗料を用いて塗布型の磁気記録媒体
を製造するような場合には、このような塗りむらが発生
することにより、磁気記録媒体の出力変動の原因とな
り、品質の安定化を損なうことになってしまう。
【０００５】そこで、本発明は、上述した従来の塗布装
置の問題点を解決し、厚膜の支持体を用いた場合でも、
塗りむらを発生させることなく安定的に塗布することが
可能とされた塗布装置を提供することを目的とする。
置の問題点を解決し、厚膜の支持体を用いた場合でも、
塗りむらを発生させることなく安定的に塗布することが
可能とされた塗布装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために本発明者が鋭意検討した結果、以下のような結論
を得るに至った。
ために本発明者が鋭意検討した結果、以下のような結論
を得るに至った。
【０００７】すなわち、図３に示すように、中リップ１
００と下リップ１０１とを有する塗布装置を用いて支持
体１０２上に塗料を２層塗布する際、塗布装置の各リッ
プ１００，１０１と支持体１０２との位置関係が、図４
に示すようなものとなっていた。この状態で支持体１０
４の変形挙動をシュミレートすると、図５に示すよう
に、大きな折れ曲がりが発生しており、最大の曲率が
０．８５μｍに達する部分が観測された。このような場
合、支持体１０４上には幅方向にシワ状の塗りむらが発
生してしまう。
００と下リップ１０１とを有する塗布装置を用いて支持
体１０２上に塗料を２層塗布する際、塗布装置の各リッ
プ１００，１０１と支持体１０２との位置関係が、図４
に示すようなものとなっていた。この状態で支持体１０
４の変形挙動をシュミレートすると、図５に示すよう
に、大きな折れ曲がりが発生しており、最大の曲率が
０．８５μｍに達する部分が観測された。このような場
合、支持体１０４上には幅方向にシワ状の塗りむらが発
生してしまう。
【０００８】これに対して、図３に示した塗布装置にお
いて、図６に示すように１層塗布を行う場合には、図７
に示すように、支持体に大きな折れ曲がりが発生するよ
うなことがなく、最大の曲率が０．２μｍとなってい
る。このような場合、支持体状には、シワ状の塗りむら
等が発生するようなことがなく、良好に塗布することが
できる。
いて、図６に示すように１層塗布を行う場合には、図７
に示すように、支持体に大きな折れ曲がりが発生するよ
うなことがなく、最大の曲率が０．２μｍとなってい
る。このような場合、支持体状には、シワ状の塗りむら
等が発生するようなことがなく、良好に塗布することが
できる。
【０００９】以上のような知見から完成された本発明に
係る塗布装置は、複数のリップを備え、これらリップ間
に配される複数のスリットより塗料を供給することによ
り、これら各リップと接して走行する支持体上に塗料を
塗布する塗布装置において、上記各スリットの支持体走
行方向下流側に位置するリップがそれぞれ同一円の円弧
と略一致する曲面部分を有することを特徴とするもので
ある。
係る塗布装置は、複数のリップを備え、これらリップ間
に配される複数のスリットより塗料を供給することによ
り、これら各リップと接して走行する支持体上に塗料を
塗布する塗布装置において、上記各スリットの支持体走
行方向下流側に位置するリップがそれぞれ同一円の円弧
と略一致する曲面部分を有することを特徴とするもので
ある。
【００１０】以上のように構成された本発明に係る塗布
装置は、各リップにより支持体を走行方向に均一に抱き
込むことができる。言い換えると、この塗布装置は、支
持体を、塗料を塗布する部分で、同一円の円弧と略一致
した状態で抱き込むことができる。このため、この塗布
装置は、支持体に無理な力をかけることなく塗料を塗布
することとなる。
装置は、各リップにより支持体を走行方向に均一に抱き
込むことができる。言い換えると、この塗布装置は、支
持体を、塗料を塗布する部分で、同一円の円弧と略一致
した状態で抱き込むことができる。このため、この塗布
装置は、支持体に無理な力をかけることなく塗料を塗布
することとなる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る塗布装置の実
施の形態を図面を参照にしながら詳細に説明する。
施の形態を図面を参照にしながら詳細に説明する。
【００１２】本実施の形態の塗布装置は、いわゆるエク
ストルージョン型であって、２層の塗膜を同時に形成す
ることができる塗布装置である。この塗布装置は、塗布
型の磁気記録媒体を作製するものであり、非磁性支持体
上に下層非磁性層を塗布し、湿潤状態の下層非磁性層上
に磁性層を塗布するものである。
ストルージョン型であって、２層の塗膜を同時に形成す
ることができる塗布装置である。この塗布装置は、塗布
型の磁気記録媒体を作製するものであり、非磁性支持体
上に下層非磁性層を塗布し、湿潤状態の下層非磁性層上
に磁性層を塗布するものである。
【００１３】この塗布装置は、図１に示すように、第１
のスリット１及び第２のスリット２を有する。そして、
この塗布装置は、非磁性塗料が第１のスリット１から図
１中矢印Ａで示す方向に走行する非磁性支持体上に供給
され、下層非磁性層を形成する。次いで、塗布装置は、
磁性塗料が第２のスリット２から湿潤状態の下層非磁性
層上に供給され、磁性層を形成する。
のスリット１及び第２のスリット２を有する。そして、
この塗布装置は、非磁性塗料が第１のスリット１から図
１中矢印Ａで示す方向に走行する非磁性支持体上に供給
され、下層非磁性層を形成する。次いで、塗布装置は、
磁性塗料が第２のスリット２から湿潤状態の下層非磁性
層上に供給され、磁性層を形成する。
【００１４】この塗布装置において、第１のスリット１
は、非磁性支持体走行方向Ａの下流に位置する下リップ
３とこの下リップ３より上流に位置する中リップ４とが
所定の間隔で対向することにより構成される。また、こ
の第１のスリット１は、非磁性支持体の幅方向のほぼ全
域を覆う程度の幅を有する。
は、非磁性支持体走行方向Ａの下流に位置する下リップ
３とこの下リップ３より上流に位置する中リップ４とが
所定の間隔で対向することにより構成される。また、こ
の第１のスリット１は、非磁性支持体の幅方向のほぼ全
域を覆う程度の幅を有する。
【００１５】また、第２のスリット２は、上述した中リ
ップ４と非磁性支持体走行方向Ａの上流に位置する上リ
ップ５とが所定の間隔で対向することにより構成され
る。また、この第２のスリット２も、非磁性支持体の幅
方向のほぼ全域を覆う程度の幅を有する。
ップ４と非磁性支持体走行方向Ａの上流に位置する上リ
ップ５とが所定の間隔で対向することにより構成され
る。また、この第２のスリット２も、非磁性支持体の幅
方向のほぼ全域を覆う程度の幅を有する。
【００１６】なお、これら第１のスリット１及び第２の
スリット２は、その上方に配された塗料溜り（図示せ
ず。）とそれぞれ連結されている。そして、これら塗料
溜りに非磁性塗料又は磁性塗料が供給される。
スリット２は、その上方に配された塗料溜り（図示せ
ず。）とそれぞれ連結されている。そして、これら塗料
溜りに非磁性塗料又は磁性塗料が供給される。
【００１７】そして、この塗布装置において、非磁性支
持体は、下リップ３、中リップ４及び上リップ５の先端
部に所定のテンションで掛け合わされるため、下リップ
３及び中リップ４の先端部を抱き込むようなかたちで走
行する。
持体は、下リップ３、中リップ４及び上リップ５の先端
部に所定のテンションで掛け合わされるため、下リップ
３及び中リップ４の先端部を抱き込むようなかたちで走
行する。
【００１８】この塗布装置では、下リップ３及び中リッ
プ４の先端部において、非磁性支持体で抱き込まれる部
分が同一円弧とされる。すなわち、この塗布装置では、
図１中点Ｂから点Ｃで示す部分が非磁性支持体により抱
き込まれた部分となり、図１中点Ｂから点Ｃで示す部分
を図１中破線ｒで示すような円弧として表すことができ
る。そして、この円弧ｒでは、その曲率半径がＲ１とな
っている。
プ４の先端部において、非磁性支持体で抱き込まれる部
分が同一円弧とされる。すなわち、この塗布装置では、
図１中点Ｂから点Ｃで示す部分が非磁性支持体により抱
き込まれた部分となり、図１中点Ｂから点Ｃで示す部分
を図１中破線ｒで示すような円弧として表すことができ
る。そして、この円弧ｒでは、その曲率半径がＲ１とな
っている。
【００１９】この塗布装置において、曲率半径Ｒ１は、
５≦Ｒ１≦５０［ｍｍ］であることが好ましい。曲率半
径Ｒ１がこの範囲内に規制されると、比較的に厚い膜厚
を有する非磁性支持体に対しても良好に塗布することが
できる。具体的に、曲率半径Ｒ１が５［ｍｍ］未満であ
るような場合には、塗布そのものが行えないことがあ
り、また、曲率半径Ｒ１が５０［ｍｍ］より大であるよ
うな場合には、塗布は行えるが、非磁性支持体の幅方向
に強いシワ状の塗りむらが生じることがある。
５≦Ｒ１≦５０［ｍｍ］であることが好ましい。曲率半
径Ｒ１がこの範囲内に規制されると、比較的に厚い膜厚
を有する非磁性支持体に対しても良好に塗布することが
できる。具体的に、曲率半径Ｒ１が５［ｍｍ］未満であ
るような場合には、塗布そのものが行えないことがあ
り、また、曲率半径Ｒ１が５０［ｍｍ］より大であるよ
うな場合には、塗布は行えるが、非磁性支持体の幅方向
に強いシワ状の塗りむらが生じることがある。
【００２０】また、この塗布装置では、非磁性支持体と
して、その膜厚が５０μｍ以上であるものが好ましく用
いられる。従来の塗布装置では、膜厚が５０μｍ以上の
ような厚膜の非磁性支持体に対しては良好に塗布が行え
なかったが、上述したような塗布装置では、非磁性支持
体により抱き込まれる部分が同一円弧上にあるため、膜
厚が５０μｍ以上であるような非磁性支持体に対しても
良好に塗布することができる。すなわち、上述した塗布
装置では、厚膜の非磁性支持体も良好に抱き込ませるこ
とができるため、非磁性支持体の幅方向にシワ状の塗り
むらを生ずるようなことがない。
して、その膜厚が５０μｍ以上であるものが好ましく用
いられる。従来の塗布装置では、膜厚が５０μｍ以上の
ような厚膜の非磁性支持体に対しては良好に塗布が行え
なかったが、上述したような塗布装置では、非磁性支持
体により抱き込まれる部分が同一円弧上にあるため、膜
厚が５０μｍ以上であるような非磁性支持体に対しても
良好に塗布することができる。すなわち、上述した塗布
装置では、厚膜の非磁性支持体も良好に抱き込ませるこ
とができるため、非磁性支持体の幅方向にシワ状の塗り
むらを生ずるようなことがない。
【００２１】また、この塗布装置では、第１のスリット
１の下流側に第１の液溜り６が形成されている。この第
１の液溜り６は、下リップ３の中リップ４と対向する側
の先端部を切り欠くことにより形成されている。また、
この塗布装置では、第２のスリットの下流側に第２の液
溜り７が形成されている。この第２の液溜り７は、中リ
ップ４の上リップ５と対向する側の先端部を切り欠くこ
とにより形成されている。これら第１の液溜り６及び第
２の液溜り７には、それぞれ第１のスリット１及び第２
のスリットを通って供給された塗料が溜められる。
１の下流側に第１の液溜り６が形成されている。この第
１の液溜り６は、下リップ３の中リップ４と対向する側
の先端部を切り欠くことにより形成されている。また、
この塗布装置では、第２のスリットの下流側に第２の液
溜り７が形成されている。この第２の液溜り７は、中リ
ップ４の上リップ５と対向する側の先端部を切り欠くこ
とにより形成されている。これら第１の液溜り６及び第
２の液溜り７には、それぞれ第１のスリット１及び第２
のスリットを通って供給された塗料が溜められる。
【００２２】このとき、第２の液溜り７は図１中Ｒ２で
示すような曲率半径を有するように形成されるととも
に、第１の液溜り６は図１中Ｒ３で示すような曲率半径
を有するように形成れる。これら曲率半径Ｒ２及び曲率
半径Ｒ３は、１≦Ｒ２≦２［ｍｍ］であり、０．５≦Ｒ
３≦１［ｍｍ］であることが好ましい。
示すような曲率半径を有するように形成されるととも
に、第１の液溜り６は図１中Ｒ３で示すような曲率半径
を有するように形成れる。これら曲率半径Ｒ２及び曲率
半径Ｒ３は、１≦Ｒ２≦２［ｍｍ］であり、０．５≦Ｒ
３≦１［ｍｍ］であることが好ましい。
【００２３】曲率半径Ｒ２及び曲率半径Ｒ３をこのよう
な範囲とすることによって、さらに良好に塗布を行うこ
とができる。
な範囲とすることによって、さらに良好に塗布を行うこ
とができる。
【００２４】以上のように構成された塗布装置では、非
磁性支持体により抱き込まれる部分が同一円弧であるた
め、掛け合わされる非磁性支持体に折れ曲がりが発生す
るようなことがない。すなわち、非磁性支持体は、下リ
ップ３、中リップ４及び上リップ５の先端部に、一定の
曲率半径Ｒ１をもって掛け合わされることになる。
磁性支持体により抱き込まれる部分が同一円弧であるた
め、掛け合わされる非磁性支持体に折れ曲がりが発生す
るようなことがない。すなわち、非磁性支持体は、下リ
ップ３、中リップ４及び上リップ５の先端部に、一定の
曲率半径Ｒ１をもって掛け合わされることになる。
【００２５】このため、この塗布装置では、一定の曲率
半径をもって非磁性支持体が走行することとなり、非磁
性支持体の幅方向にシワ状の塗りむらが生ずるようなこ
とが防止される。したがって、この塗布装置では、走行
する非磁性支持体上に下層非磁性塗料及び磁性塗料を安
定的に塗布することができる。これにより、この塗布装
置によれば、常に、電磁変換特性に優れた磁気記録媒体
を製造することができる。
半径をもって非磁性支持体が走行することとなり、非磁
性支持体の幅方向にシワ状の塗りむらが生ずるようなこ
とが防止される。したがって、この塗布装置では、走行
する非磁性支持体上に下層非磁性塗料及び磁性塗料を安
定的に塗布することができる。これにより、この塗布装
置によれば、常に、電磁変換特性に優れた磁気記録媒体
を製造することができる。
【００２６】このとき、この塗布装置は、非磁性支持体
が下リップ３、中リップ４及び上リップ５の先端部に掛
け合わされた状態で、曲率を０．２［ｍｍ-1］以下とす
ることができる。非磁性支持体の曲率が０．２［ｍ
ｍ-1］以下であるということは、非磁性支持体がこの塗
布装置に掛け合わされても、折れ曲がりが発生していな
いことを意味する。言い換えると、この塗布装置は、非
磁性支持体に折れ曲がりを発生させることなく、非磁性
支持体を掛け合わせることができる。
が下リップ３、中リップ４及び上リップ５の先端部に掛
け合わされた状態で、曲率を０．２［ｍｍ-1］以下とす
ることができる。非磁性支持体の曲率が０．２［ｍ
ｍ-1］以下であるということは、非磁性支持体がこの塗
布装置に掛け合わされても、折れ曲がりが発生していな
いことを意味する。言い換えると、この塗布装置は、非
磁性支持体に折れ曲がりを発生させることなく、非磁性
支持体を掛け合わせることができる。
【００２７】
【実施例】上述したような本発明に係る塗布装置におい
て、曲率半径Ｒ１又は曲率半径Ｒ２及び曲率半径Ｒ３を
変化させて実施例又は比較例の塗布装置を作製し、これ
らを用いて実際に、下層非磁性層及び磁性層を有する磁
気記録媒体を製造した。そして、作製された磁気記録媒
体の下層非磁性層及び磁性層の塗布状況等を観察するこ
とにより効果を確認した。
て、曲率半径Ｒ１又は曲率半径Ｒ２及び曲率半径Ｒ３を
変化させて実施例又は比較例の塗布装置を作製し、これ
らを用いて実際に、下層非磁性層及び磁性層を有する磁
気記録媒体を製造した。そして、作製された磁気記録媒
体の下層非磁性層及び磁性層の塗布状況等を観察するこ
とにより効果を確認した。
【００２８】実施例に係る塗布装置及び比較例に係る塗
布装置、表１に示すような寸法で下リップ及び中リップ
を形成することにより作製された。
布装置、表１に示すような寸法で下リップ及び中リップ
を形成することにより作製された。
【００２９】
【表１】
【００３０】すなわち、比較例に係る塗布装置とは、非
磁性支持体により抱き込まれる部分の曲率半径Ｒ１が下
リップと中リップとで異なる値を取るものである。この
ように作製された実施例及び比較例を用いて、以下の条
件で磁性層を塗布して磁気記録媒体を作製した。
磁性支持体により抱き込まれる部分の曲率半径Ｒ１が下
リップと中リップとで異なる値を取るものである。この
ように作製された実施例及び比較例を用いて、以下の条
件で磁性層を塗布して磁気記録媒体を作製した。
【００３１】 塗布速度：１５０〜２５０ｍ／ｍｉｎ ベース張力：７０〜８０ｋｇ／ｃｍ2 磁性層厚み：０．２μｍ 下層非磁性層：１．５μｍ 上記条件で作製された磁気録媒体に関して、塗布状況及
び塗りむらを観測した。このとき、表２に示すような観
測基準で評価を行った。
び塗りむらを観測した。このとき、表２に示すような観
測基準で評価を行った。
【００３２】
【表２】
【００３３】その結果を表３に示す。
【００３４】
【表３】
【００３５】この表３に示した結果より、比較例１乃至
比較例４では、下層非磁性層の塗布状況は良好である
が、磁性層の塗布状況が不安定なものとなり、更に非磁
性支持体の幅方向にシワ状の塗りむらを生じてしまう。
これは、非磁性支持体により抱き込まれる部分の先端部
が同一円弧上にないため、非磁性支持体が良好に走行で
きないことに起因する。これに対して、実施例では、非
磁性支持体により抱き込まれる部分の先端部が同一円弧
上にあるため、非磁性支持体が良好に走行することがで
きる。このため、これら実施例によれば、非磁性支持体
上に、下層非磁性層及び磁性層を安定的に塗布すること
ができるとともに、非磁性支持体の幅方向にシワ状の塗
りむらを生じるようなことがない。
比較例４では、下層非磁性層の塗布状況は良好である
が、磁性層の塗布状況が不安定なものとなり、更に非磁
性支持体の幅方向にシワ状の塗りむらを生じてしまう。
これは、非磁性支持体により抱き込まれる部分の先端部
が同一円弧上にないため、非磁性支持体が良好に走行で
きないことに起因する。これに対して、実施例では、非
磁性支持体により抱き込まれる部分の先端部が同一円弧
上にあるため、非磁性支持体が良好に走行することがで
きる。このため、これら実施例によれば、非磁性支持体
上に、下層非磁性層及び磁性層を安定的に塗布すること
ができるとともに、非磁性支持体の幅方向にシワ状の塗
りむらを生じるようなことがない。
【００３６】例えば、実施例７に示した塗布装置は、図
２（ａ）に示すような、中リップ及び下リップと非磁性
支持体との位置関係となっている。この状態において、
非磁性支持体は、殆ど折れ曲がるようなことがなく、図
２（ｂ）に示すように、最大の曲率も０．２μｍ以下と
なっている。したがって、これら実施例では、非磁性支
持体が折れ曲がるようなことがなく、下層非磁性層及び
磁性層を形成することができることがわかる。
２（ａ）に示すような、中リップ及び下リップと非磁性
支持体との位置関係となっている。この状態において、
非磁性支持体は、殆ど折れ曲がるようなことがなく、図
２（ｂ）に示すように、最大の曲率も０．２μｍ以下と
なっている。したがって、これら実施例では、非磁性支
持体が折れ曲がるようなことがなく、下層非磁性層及び
磁性層を形成することができることがわかる。
【００３７】なお、上述した実施の形態では、３つのリ
ップを有する塗布装置について説明したが、本発明は、
これに限定されるものではない。すなわち、本発明に係
る塗布装置は、４つのリップを有するような構成であっ
ても良い。
ップを有する塗布装置について説明したが、本発明は、
これに限定されるものではない。すなわち、本発明に係
る塗布装置は、４つのリップを有するような構成であっ
ても良い。
【００３８】この場合も、塗布装置は、非磁性支持体に
より抱き込まれる部分が同一円弧上にあることによっ
て、３層の塗膜を良好に塗布することができる。
より抱き込まれる部分が同一円弧上にあることによっ
て、３層の塗膜を良好に塗布することができる。
【００３９】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係る塗布装置では、連続的に走行する支持体上に塗布液
を塗布する際に、少なくとも支持体を抱き込む先端部が
同一円弧上にある。このため、この塗布装置では、リッ
プの先端部で支持体を走行方向に均一に抱き込むことが
できる。言い換えると、この塗布装置は、リップの先端
部の同一円弧に沿って支持体を抱き込むことができる。
このため、この塗布装置は、支持体に無理な力をかける
ことなく塗布することとなる。したがって、この塗布装
置は、厚膜の支持体を用いた場合でも、塗りむらを発生
させることなく安定的に塗布することができる。
係る塗布装置では、連続的に走行する支持体上に塗布液
を塗布する際に、少なくとも支持体を抱き込む先端部が
同一円弧上にある。このため、この塗布装置では、リッ
プの先端部で支持体を走行方向に均一に抱き込むことが
できる。言い換えると、この塗布装置は、リップの先端
部の同一円弧に沿って支持体を抱き込むことができる。
このため、この塗布装置は、支持体に無理な力をかける
ことなく塗布することとなる。したがって、この塗布装
置は、厚膜の支持体を用いた場合でも、塗りむらを発生
させることなく安定的に塗布することができる。
【図１】本発明に係る塗布装置の要部断面図である。
【図２】（ａ）は、実施例に示した塗布装置におけるリ
ップと非磁性支持体との位置関係を示す特性図であり、
（ｂ）は、このときの非磁性支持体の曲率を示す特性図
である。
ップと非磁性支持体との位置関係を示す特性図であり、
（ｂ）は、このときの非磁性支持体の曲率を示す特性図
である。
【図３】従来の塗布装置の模式図である。
【図４】図３に示す塗布装置におけるリップと非磁性支
持体との位置関係を示す特性図である。
持体との位置関係を示す特性図である。
【図５】図４に示した支持体の曲率を示す特性図であ
る。
る。
【図６】図３に示す塗布装置において、１層の塗膜を形
成する場合におけるリップと支持体との位置関係をしめ
す特性図である。
成する場合におけるリップと支持体との位置関係をしめ
す特性図である。
【図７】図６に示した支持体の曲率を示す特性図であ
る。
る。
１ 第１のスリット、２ 第２のスリット、３ 下リッ
プ、４ 中リップ、５上リップ、６ 第１の塗料溜り、
７ 第２の塗料溜り
プ、４ 中リップ、５上リップ、６ 第１の塗料溜り、
７ 第２の塗料溜り
Claims (6)
- 【請求項１】 複数のリップを備え、これらリップ間に
配される複数のスリットより塗料を供給することによ
り、これら各リップと接して走行する支持体上に塗料を
塗布する塗布装置において、 上記各スリットの支持体走行方向下流側に位置するリッ
プがそれぞれ同一円の円弧と略一致する曲面部分を有す
ることを特徴とする塗布装置。 - 【請求項２】 ３つのリップと、これらリップの間に配
される２つのスリットとを備え、 上記各スリットの支持体走行方向下流側に位置する上記
リップの上記曲面部分の曲率半径をＲ１としたとき、Ｒ
１が ５≦Ｒ１≦５０［ｍｍ］ であることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。 - 【請求項３】 上記支持体走行方向上流側から順に配さ
れた第１のリップ、第２のリップ及び第３のリップを備
え、 上記第１のリップと対向する上記第２のリップの角部に
円弧面が形成されるとともに、上記第２のリップと対向
する上記第３のリップの角部に円弧面が形成されたこと
を特徴とする請求項１記載の塗布装置。 - 【請求項４】 上記第１のリップと対向する上記第２の
リップの角部に形成された円弧面の曲率半径をＲ２と
し、上記第２のリップと対向する上記第３のリップの角
部に形成された円弧面の曲率半径をＲ３としたときに、 これらＲ２及びＲ３が １≦Ｒ２≦２［ｍｍ］ ０．５≦Ｒ３≦１［ｍｍ］ なる関係を満たすことを特徴とする請求項１記載の塗布
装置。 - 【請求項５】 上記支持体は、５０μｍ以上の膜厚であ
ることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。 - 【請求項６】 上記支持体は、上記各リップ上を走行す
る状態で曲率が０．２［ｍｍ-1］以下となっていること
を特徴とする請求項１記載の塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34820597A JPH11169768A (ja) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34820597A JPH11169768A (ja) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11169768A true JPH11169768A (ja) | 1999-06-29 |
Family
ID=18395465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34820597A Pending JPH11169768A (ja) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11169768A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002233805A (ja) * | 2001-02-07 | 2002-08-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置 |
| JP2006181438A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Dainippon Printing Co Ltd | ダイヘッド |
| WO2024185089A1 (ja) * | 2023-03-08 | 2024-09-12 | 株式会社 東芝 | 塗布ヘッド、塗布装置および塗布方法 |
-
1997
- 1997-12-17 JP JP34820597A patent/JPH11169768A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002233805A (ja) * | 2001-02-07 | 2002-08-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置 |
| JP2006181438A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Dainippon Printing Co Ltd | ダイヘッド |
| WO2024185089A1 (ja) * | 2023-03-08 | 2024-09-12 | 株式会社 東芝 | 塗布ヘッド、塗布装置および塗布方法 |
| JPWO2024185089A1 (ja) * | 2023-03-08 | 2024-09-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060314 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060515 |
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Effective date: 20060711 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060905 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20060919 |
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| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Effective date: 20061110 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071203 |