JPH091027A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JPH091027A JPH091027A JP15196295A JP15196295A JPH091027A JP H091027 A JPH091027 A JP H091027A JP 15196295 A JP15196295 A JP 15196295A JP 15196295 A JP15196295 A JP 15196295A JP H091027 A JPH091027 A JP H091027A
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- slit
- lip
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 エクストルージョン型の塗布装置において、
上流側リップ5のスリット側先端部を切り欠いてテーパ
ー面5aを形成するとともに、テーパー面5aとスリッ
ト面5bのなす角θを0°<θ≦45°と比較的小さい
角度範囲に規制する。 【効果】 塗布速度を高速化した場合でも、良好な塗布
面を有した塗膜が均一は膜厚で形成できる。したがっ
て、本発明の塗布装置によって、例えば塗布型の磁気記
録媒体の磁性層を形成すると、出力変動やドロップアウ
トが抑えられた特性の良好な磁気記録媒体が得られる。
上流側リップ5のスリット側先端部を切り欠いてテーパ
ー面5aを形成するとともに、テーパー面5aとスリッ
ト面5bのなす角θを0°<θ≦45°と比較的小さい
角度範囲に規制する。 【効果】 塗布速度を高速化した場合でも、良好な塗布
面を有した塗膜が均一は膜厚で形成できる。したがっ
て、本発明の塗布装置によって、例えば塗布型の磁気記
録媒体の磁性層を形成すると、出力変動やドロップアウ
トが抑えられた特性の良好な磁気記録媒体が得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、いわゆるエクトルージ
ョン型の塗布装置に関する。
ョン型の塗布装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、オーディオテープやビデオテー
プは、ポリエステルフィルム等の非磁性支持体上に強磁
性粉末や結合剤,分散剤,潤滑剤等を有機溶媒に分散混
練してなる磁性塗料を塗布することにより磁性層が形成
されている。
プは、ポリエステルフィルム等の非磁性支持体上に強磁
性粉末や結合剤,分散剤,潤滑剤等を有機溶媒に分散混
練してなる磁性塗料を塗布することにより磁性層が形成
されている。
【0003】このようにして磁性塗料を、支持体上に塗
布する方法としては、グラビアロール方式やリバースロ
ール方式等に代表されるように、ロールを用いるロール
塗布方式が主流となっている。しかしながら、これらロ
ール塗布方式においては、ロールから支持体への塗料転
写不良、塗料飛沫、余剰供給塗料が混合工程に戻される
ことによる塗料品質の劣化等の問題があり、これら問題
がしばしば磁性塗膜の特性を損なう原因になっている。
例えば、磁性塗膜に塗布厚ムラが生じていると、これが
出力変動の原因になる。また、磁性塗膜上に塗料が飛散
していると、これによってドロップアウトが誘発され
る。このような塗布厚ムラ等の問題は、特に塗布速度を
高速化するにしたがって顕著になる傾向があり、そのた
め塗布速度が制限されるといった不都合がある。
布する方法としては、グラビアロール方式やリバースロ
ール方式等に代表されるように、ロールを用いるロール
塗布方式が主流となっている。しかしながら、これらロ
ール塗布方式においては、ロールから支持体への塗料転
写不良、塗料飛沫、余剰供給塗料が混合工程に戻される
ことによる塗料品質の劣化等の問題があり、これら問題
がしばしば磁性塗膜の特性を損なう原因になっている。
例えば、磁性塗膜に塗布厚ムラが生じていると、これが
出力変動の原因になる。また、磁性塗膜上に塗料が飛散
していると、これによってドロップアウトが誘発され
る。このような塗布厚ムラ等の問題は、特に塗布速度を
高速化するにしたがって顕著になる傾向があり、そのた
め塗布速度が制限されるといった不都合がある。
【0004】そこで、近年、これらの問題を解決し得る
新しい塗布方式として、エクストルージョン(ダイ)方
式が注目され、既に一部実用化されている。エクストル
ージョン方式の塗布装置は、図3に示すように、先端部
が上流側リップ25と下流側リップ26とからなり、そ
の上流側リップ25と下流側リップ26の間に幅広のス
リット24を有するダイ28を有して構成され、スリッ
ト24から連続的に押し出された塗料を、上流側リップ
25と下流側リップ26の先端面に沿って走行する支持
体27表面に均一な厚さをもって塗布するものである。
新しい塗布方式として、エクストルージョン(ダイ)方
式が注目され、既に一部実用化されている。エクストル
ージョン方式の塗布装置は、図3に示すように、先端部
が上流側リップ25と下流側リップ26とからなり、そ
の上流側リップ25と下流側リップ26の間に幅広のス
リット24を有するダイ28を有して構成され、スリッ
ト24から連続的に押し出された塗料を、上流側リップ
25と下流側リップ26の先端面に沿って走行する支持
体27表面に均一な厚さをもって塗布するものである。
【0005】ここで、このようなダイ28においては、
上流側リップ25と下流側リップ26の先端面の形状
が、支持体27との当たりや塗料流れ等に大きく影響を
与える。従来、この先端面の形状は、上流側リップ25
では、上流側リップ25から下流側リップ26に引いた
接線に対して傾斜する傾斜面となされており、下流側リ
ップ26では、所定の曲率を有する曲面となされてい
る。このような先端面形状のダイでは、スリット24か
ら押し出された塗料は、支持体27と下流側リップ26
の曲面との間に形成された略くさび形の空間で塗料だま
りとなり、支持体27に付着することになる。
上流側リップ25と下流側リップ26の先端面の形状
が、支持体27との当たりや塗料流れ等に大きく影響を
与える。従来、この先端面の形状は、上流側リップ25
では、上流側リップ25から下流側リップ26に引いた
接線に対して傾斜する傾斜面となされており、下流側リ
ップ26では、所定の曲率を有する曲面となされてい
る。このような先端面形状のダイでは、スリット24か
ら押し出された塗料は、支持体27と下流側リップ26
の曲面との間に形成された略くさび形の空間で塗料だま
りとなり、支持体27に付着することになる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな先端面形状を有するダイ28では、上流側リップ2
5のスリット側先端部25aが塗布面に接触する可能性
が高く、このスリット側先端部25aが接触することに
より塗布面にキズ線が入るといったことがしばしば見受
けられる。
うな先端面形状を有するダイ28では、上流側リップ2
5のスリット側先端部25aが塗布面に接触する可能性
が高く、このスリット側先端部25aが接触することに
より塗布面にキズ線が入るといったことがしばしば見受
けられる。
【0007】このようなキズ線の発生を防止する手法と
しては、図4に示すように、上流側リップ25全体を支
持体27に対して後退させ、上流側リップ25の先端部
25aを塗布面から離すことも考えられる。しかし、上
流側リップ25を支持体27に対して後退させると、下
流側リップ26の先端面と上流側リップ25の先端面に
段差が生じ、下流側リップ26と支持体27の間の塗料
が、下流側リップ25と支持体27間の加圧によって上
流側へオーバフローし易くなる。特に、このようなオー
バーフローは、塗布速度が高速化する程顕著になり、塗
布速度の高速化の妨げになる。
しては、図4に示すように、上流側リップ25全体を支
持体27に対して後退させ、上流側リップ25の先端部
25aを塗布面から離すことも考えられる。しかし、上
流側リップ25を支持体27に対して後退させると、下
流側リップ26の先端面と上流側リップ25の先端面に
段差が生じ、下流側リップ26と支持体27の間の塗料
が、下流側リップ25と支持体27間の加圧によって上
流側へオーバフローし易くなる。特に、このようなオー
バーフローは、塗布速度が高速化する程顕著になり、塗
布速度の高速化の妨げになる。
【0008】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、塗布速度を高速化した場
合でも、キズ線のない塗膜が均一な厚さで形成できる塗
布装置を提供することを目的とする。
鑑みて提案されたものであり、塗布速度を高速化した場
合でも、キズ線のない塗膜が均一な厚さで形成できる塗
布装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、ダイ先端の上流側リップと下流側リッ
プの先端面に沿って連続的に走行する可撓性支持体上
に、この上流側リップと下流側リップの間に設けられた
スリットより塗料を押し出しながら塗布するエクストル
ージョン型の塗布装置において、上記上流側リップのス
リット側先端にテーパー面が形成され、この上流側リッ
プのテーパ面とスリット側の面のなす角θが、0°<θ
≦45°なる条件を満たすことを特徴とするものであ
る。
めに、本発明は、ダイ先端の上流側リップと下流側リッ
プの先端面に沿って連続的に走行する可撓性支持体上
に、この上流側リップと下流側リップの間に設けられた
スリットより塗料を押し出しながら塗布するエクストル
ージョン型の塗布装置において、上記上流側リップのス
リット側先端にテーパー面が形成され、この上流側リッ
プのテーパ面とスリット側の面のなす角θが、0°<θ
≦45°なる条件を満たすことを特徴とするものであ
る。
【0010】なお、この塗布装置は、各種分野で使用で
き、例えば磁気記録媒体の磁性塗膜の形成に用いると、
出力変動やドロップアウトが抑えられた特性の良好な磁
気記録媒体が得られる。
き、例えば磁気記録媒体の磁性塗膜の形成に用いると、
出力変動やドロップアウトが抑えられた特性の良好な磁
気記録媒体が得られる。
【0011】
【作用】ダイ先端の上流側リップと下流側リップの先端
面に沿って連続的に走行する可撓性支持体上に、この上
流側リップと下流側リップの間に設けられたスリットよ
り塗料を押し出しながら塗布するエクストルージョン型
の塗布装置において、上記上流側リップのスリット側先
端部がテーパー面となされていると、スリットから押し
出された塗料は、上流側リップのテーパー面と支持体の
間の空間で塗料だまりを形成する。このような場合、こ
の塗料だまりによって支持体が上流側リップの先端面か
ら浮上させられる。したがって、上流側リップの先端面
が塗布面に接触することによるキズ線の発生やリップか
らの異物の付着が防止される。
面に沿って連続的に走行する可撓性支持体上に、この上
流側リップと下流側リップの間に設けられたスリットよ
り塗料を押し出しながら塗布するエクストルージョン型
の塗布装置において、上記上流側リップのスリット側先
端部がテーパー面となされていると、スリットから押し
出された塗料は、上流側リップのテーパー面と支持体の
間の空間で塗料だまりを形成する。このような場合、こ
の塗料だまりによって支持体が上流側リップの先端面か
ら浮上させられる。したがって、上流側リップの先端面
が塗布面に接触することによるキズ線の発生やリップか
らの異物の付着が防止される。
【0012】また、このような塗料だまりは、上流側リ
ップと下流側リップそして非磁性支持体の3点間で安定
に保持され、上流側にオーバフローするといったことが
ない。したがって、塗布速度を500m/分以上に高速
化しても、良好な塗布面の磁性塗膜が均一な膜厚で形成
されることになる。
ップと下流側リップそして非磁性支持体の3点間で安定
に保持され、上流側にオーバフローするといったことが
ない。したがって、塗布速度を500m/分以上に高速
化しても、良好な塗布面の磁性塗膜が均一な膜厚で形成
されることになる。
【0013】なお、均一な厚さの塗膜を形成するために
は、上流側リップのテーパー面とスリット面のなす角θ
が0°<θ≦45°、より好ましくは5°≦θ≦35°
であることが必要である。θが45°を越える場合に
は、上流側リップのテーパー面と非磁性支持体の間の空
間が大きくなり過ぎることから、この空間で空気の流入
が起き易く、塗膜がスジ状に欠ける。また、上流側リッ
プのテーパー面とスリット面のなす角θが45°を越え
るということは、つまりテーパー面と非磁性支持体のな
す角θ´は45°>θ´>0°の範囲になる。このよう
にθ´が小さい角度であると、上流側の空気と塗料の界
面が変動し易く、塗布ムラが生じることになる。
は、上流側リップのテーパー面とスリット面のなす角θ
が0°<θ≦45°、より好ましくは5°≦θ≦35°
であることが必要である。θが45°を越える場合に
は、上流側リップのテーパー面と非磁性支持体の間の空
間が大きくなり過ぎることから、この空間で空気の流入
が起き易く、塗膜がスジ状に欠ける。また、上流側リッ
プのテーパー面とスリット面のなす角θが45°を越え
るということは、つまりテーパー面と非磁性支持体のな
す角θ´は45°>θ´>0°の範囲になる。このよう
にθ´が小さい角度であると、上流側の空気と塗料の界
面が変動し易く、塗布ムラが生じることになる。
【0014】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、図面を参照しながら説明する。
いて、図面を参照しながら説明する。
【0015】本実施例に係る塗布装置において非磁性支
持体上に塗布するのは磁性塗料である。すなわち、非磁
性支持体上に、磁性粉、結合剤、溶媒等よりなる液状の
磁性塗料を塗布することで磁性塗膜を形成する。なお、
磁性塗料に使用する磁性粉、結合剤、溶媒としては、通
常、塗布型磁気記録媒体において磁性塗料の材料として
使用されているものであればいずれを使用しても差し支
えなく、たとえば磁性粉としてγ−Fe2 O3 等の酸化
物磁性粉末やFe,Co等の金属系磁性粉末、結合剤と
してはポリ塩化ビニル系共重合体、ポリウレタン系樹脂
等、溶媒としてはメチルエチルケトン,トルエン,シク
ロヘキサノン等が挙げられる。また、上記磁性塗料に
は、滑剤,研磨剤,分散剤等が添加されていてもよい。
持体上に塗布するのは磁性塗料である。すなわち、非磁
性支持体上に、磁性粉、結合剤、溶媒等よりなる液状の
磁性塗料を塗布することで磁性塗膜を形成する。なお、
磁性塗料に使用する磁性粉、結合剤、溶媒としては、通
常、塗布型磁気記録媒体において磁性塗料の材料として
使用されているものであればいずれを使用しても差し支
えなく、たとえば磁性粉としてγ−Fe2 O3 等の酸化
物磁性粉末やFe,Co等の金属系磁性粉末、結合剤と
してはポリ塩化ビニル系共重合体、ポリウレタン系樹脂
等、溶媒としてはメチルエチルケトン,トルエン,シク
ロヘキサノン等が挙げられる。また、上記磁性塗料に
は、滑剤,研磨剤,分散剤等が添加されていてもよい。
【0016】このような磁性塗料を塗布するための塗布
装置を図1に示す。
装置を図1に示す。
【0017】すなわち、この塗布装置は、図1に示すよ
うに、ダイ(エクストルーダ)1のポケット(塗料溜ま
り)3内に塗料10を供給してスリット4から押し出
し、ガイドロール8,9等を介して走行される支持体7
上に塗布するものである。
うに、ダイ(エクストルーダ)1のポケット(塗料溜ま
り)3内に塗料10を供給してスリット4から押し出
し、ガイドロール8,9等を介して走行される支持体7
上に塗布するものである。
【0018】上記ダイ1は、所定の幅を持った略々直方
体形状を有する金属ブロックであり、その先端部が上流
側リップ5と下流側リップ6とに分断され、この上流側
リップ5と下流側リップ6の間にスリット4が形成され
ている。
体形状を有する金属ブロックであり、その先端部が上流
側リップ5と下流側リップ6とに分断され、この上流側
リップ5と下流側リップ6の間にスリット4が形成され
ている。
【0019】このスリット4は、塗料が押し出される隙
間となるものであって、ダイ1の先端面に臨むように塗
布幅に応じた幅で形成されている。なお、スリット4
は、通常100〜400μm程度の非常に狭い隙間とさ
れる。
間となるものであって、ダイ1の先端面に臨むように塗
布幅に応じた幅で形成されている。なお、スリット4
は、通常100〜400μm程度の非常に狭い隙間とさ
れる。
【0020】前記スリット4の背面側には、このスリッ
ト4と通ずるポケット3がスリット4の幅と略等しい長
さをもって円柱状の空間として形成されている。そし
て、このポケット3の両端部には、ポケット3の内径よ
りも小さい内径を有する塗料供給口がダイの両側面に開
口する如く設けられており、ここから塗料10がポケッ
ト3内へ供給されるようになされている。したがって、
前記ポケット3は、塗料供給装置2から圧送された塗料
10を受ける空間となりアキュムレータの機能を持つこ
とになる。
ト4と通ずるポケット3がスリット4の幅と略等しい長
さをもって円柱状の空間として形成されている。そし
て、このポケット3の両端部には、ポケット3の内径よ
りも小さい内径を有する塗料供給口がダイの両側面に開
口する如く設けられており、ここから塗料10がポケッ
ト3内へ供給されるようになされている。したがって、
前記ポケット3は、塗料供給装置2から圧送された塗料
10を受ける空間となりアキュムレータの機能を持つこ
とになる。
【0021】一方、上記ダイ1の先端面は、上流側リッ
プ5では、上流側リップ5から下流側リップ6に引いた
接線に対して傾斜した傾斜面となされ、下流側リップ6
では、所定の曲率を有する曲面とされている。そして、
特に、この塗布装置では、上記上流側リップ5のスリッ
ト側先端部が切り欠かれることで、テーパー面5aが形
成され、さらにこのテーパー面5aのスリット面5bに
対する角度θが規制されている。
プ5では、上流側リップ5から下流側リップ6に引いた
接線に対して傾斜した傾斜面となされ、下流側リップ6
では、所定の曲率を有する曲面とされている。そして、
特に、この塗布装置では、上記上流側リップ5のスリッ
ト側先端部が切り欠かれることで、テーパー面5aが形
成され、さらにこのテーパー面5aのスリット面5bに
対する角度θが規制されている。
【0022】すなわち、この角度θとは、図2に拡大し
て示すように、上流側リップ5のスリット面5b上に引
いた線を線L、上流側リップ5のテーパー面5a上に引
いた線を線Nとしたときに、線Lと線Nのなす角として
規定されるものであり、このθが、0°<θ≦45°の
範囲となされている。
て示すように、上流側リップ5のスリット面5b上に引
いた線を線L、上流側リップ5のテーパー面5a上に引
いた線を線Nとしたときに、線Lと線Nのなす角として
規定されるものであり、このθが、0°<θ≦45°の
範囲となされている。
【0023】このような構成を有する塗布装置において
は、支持体7は、ダイ1先端部の上流側リップ5と下流
側リップ6の先端面に沿って抱かれた状態で連続的に走
行させられる。一方、塗料供給装置2からダイ1のポケ
ット3に供給された塗料10は、アキュムレータ効果に
よって塗料圧力が一様化され、スリット4から均一に押
し出されることになる。
は、支持体7は、ダイ1先端部の上流側リップ5と下流
側リップ6の先端面に沿って抱かれた状態で連続的に走
行させられる。一方、塗料供給装置2からダイ1のポケ
ット3に供給された塗料10は、アキュムレータ効果に
よって塗料圧力が一様化され、スリット4から均一に押
し出されることになる。
【0024】ここで、この塗布装置においては、上流側
リップ5のスリット側先端部が切り欠かれ、テーパー面
5aとなされており、このテーパー面5aと下流側リッ
プ6の曲面6a及び非磁性支持体7によって空間が形成
されている。このような場合、上記スリット4から押し
出された塗料は、この空間で塗料だまり11を形成し、
この塗料だまり11によって支持体7が上流側リップ5
の先端面から浮上させられる。したがって、上流側リッ
プ5の先端部が塗布面に接触することによるキズ線の発
生が防止される。
リップ5のスリット側先端部が切り欠かれ、テーパー面
5aとなされており、このテーパー面5aと下流側リッ
プ6の曲面6a及び非磁性支持体7によって空間が形成
されている。このような場合、上記スリット4から押し
出された塗料は、この空間で塗料だまり11を形成し、
この塗料だまり11によって支持体7が上流側リップ5
の先端面から浮上させられる。したがって、上流側リッ
プ5の先端部が塗布面に接触することによるキズ線の発
生が防止される。
【0025】また、この塗料だまり11は、上流側リッ
プ5と下流側リップ6そして非磁性支持体の3点間で安
定に保持され、上流側にオーバフローするといったこと
がない。したがって、塗布速度を500m/分以上に高
速化しても、良好な塗布面の磁性塗膜が均一な膜厚で形
成されることになる。
プ5と下流側リップ6そして非磁性支持体の3点間で安
定に保持され、上流側にオーバフローするといったこと
がない。したがって、塗布速度を500m/分以上に高
速化しても、良好な塗布面の磁性塗膜が均一な膜厚で形
成されることになる。
【0026】なお、均一な厚さの塗膜を形成するために
は、この塗布装置のように上流側リップ5のテーパー面
5aとスリット面5bのなす角θが0°<θ≦45°、
より好ましくは5°≦θ≦35°であることが必要であ
る。
は、この塗布装置のように上流側リップ5のテーパー面
5aとスリット面5bのなす角θが0°<θ≦45°、
より好ましくは5°≦θ≦35°であることが必要であ
る。
【0027】θが45°を越える塗布装置は、特開平6
−154690号公報で提案されている。この塗布装置
の一例を図5に示すが、この場合には、上流側リップ3
5のテーパー面35aとスリット面35bのなす角θが
大きいことから、この空間で空気の流入が起き易く、塗
膜がスジ状に欠ける可能性が高い。
−154690号公報で提案されている。この塗布装置
の一例を図5に示すが、この場合には、上流側リップ3
5のテーパー面35aとスリット面35bのなす角θが
大きいことから、この空間で空気の流入が起き易く、塗
膜がスジ状に欠ける可能性が高い。
【0028】また、上流側リップ35のテーパー面35
aとスリット面35bのなす角θが45°を越えるとい
うことは、つまりテーパー面35aの非磁性支持体37
のなす角θ´は45°>θ´>0°の範囲になる。この
ようにθ´が小さい角度であると、上流側の空気と塗料
の界面が変動し易く、塗布ムラが生じることになる。な
お、上述のスジ状の欠損やこの塗布ムラはいずれも50
0m/分以上の高速域で顕著になる。
aとスリット面35bのなす角θが45°を越えるとい
うことは、つまりテーパー面35aの非磁性支持体37
のなす角θ´は45°>θ´>0°の範囲になる。この
ようにθ´が小さい角度であると、上流側の空気と塗料
の界面が変動し易く、塗布ムラが生じることになる。な
お、上述のスジ状の欠損やこの塗布ムラはいずれも50
0m/分以上の高速域で顕著になる。
【0029】以上が塗布装置の基本的な構成であるが、
この塗布装置ではさらに非磁性支持体背面側の上記塗布
装置のスリット4に対応する位置に、マグネットを配す
るようにしても良い。このマグネットの磁力によって、
上記塗料だまり11が上流側リップ5のテーパー面と下
流側リップ6の曲面及び非磁性支持体の間の空間により
安定に保持され、ムラのない塗料の塗布が行われるよう
になる。
この塗布装置ではさらに非磁性支持体背面側の上記塗布
装置のスリット4に対応する位置に、マグネットを配す
るようにしても良い。このマグネットの磁力によって、
上記塗料だまり11が上流側リップ5のテーパー面と下
流側リップ6の曲面及び非磁性支持体の間の空間により
安定に保持され、ムラのない塗料の塗布が行われるよう
になる。
【0030】次に、上流側リップのテーパー面とスリッ
ト面のなす角θを規制する効果を確認するため、以下の
実験を行った。
ト面のなす角θを規制する効果を確認するため、以下の
実験を行った。
【0031】上流側リップのテーパー面とスリット面の
なす角θが、0°、15°、30°、45°、60°の
塗布装置、すなわち図4に示すタイプの塗布装置(θ=
0°)、図1に示すタイプの塗布装置(θ=15°,3
0°,45°)、図5に示すタイプの塗布装置(θ=6
0°)を用意した。但し、これら塗布装置において、ス
リット幅lは250μmであり、上流側リップと下流側
リップの段差dは25μmである。そして、これら塗布
装置によって支持体上に磁性塗料を塗布し、塗布状況を
調べた。
なす角θが、0°、15°、30°、45°、60°の
塗布装置、すなわち図4に示すタイプの塗布装置(θ=
0°)、図1に示すタイプの塗布装置(θ=15°,3
0°,45°)、図5に示すタイプの塗布装置(θ=6
0°)を用意した。但し、これら塗布装置において、ス
リット幅lは250μmであり、上流側リップと下流側
リップの段差dは25μmである。そして、これら塗布
装置によって支持体上に磁性塗料を塗布し、塗布状況を
調べた。
【0032】塗布速度は、300m/分,400m/
分,500m/分あるいは600m/分に設定した。そ
の他の塗布条件は以下の通りである。
分,500m/分あるいは600m/分に設定した。そ
の他の塗布条件は以下の通りである。
【0033】塗布条件 支持体:ビデオ用ポリエチレンテレフタレートフィルム
(厚さ12μm,幅620mm) 塗布幅:610mm 塗布厚:2.5μm それぞれの場合の塗布状況の評価結果を表1にまとめて
示す。なお、表1において、○、△、×はそれぞれ塗布
レベルを表すものである。○は良好な塗布レベルである
場合、△は塗布に多少不安定さが認められるが、実用的
な塗布レベルである場合、×は塗布面にキズ線等が見受
けられ、塗布が実用レベル以下である場合をそれぞれ示
す。
(厚さ12μm,幅620mm) 塗布幅:610mm 塗布厚:2.5μm それぞれの場合の塗布状況の評価結果を表1にまとめて
示す。なお、表1において、○、△、×はそれぞれ塗布
レベルを表すものである。○は良好な塗布レベルである
場合、△は塗布に多少不安定さが認められるが、実用的
な塗布レベルである場合、×は塗布面にキズ線等が見受
けられ、塗布が実用レベル以下である場合をそれぞれ示
す。
【0034】
【表1】
【0035】まず、上流側リップにテーパー面を形成し
ていない塗布装置(θ=0°)では、300〜400m
/分程度の塗布速度であれば、良好なレベルの塗布が行
われる。しかし、塗布速度が500m/分以上になると
スリットから押し出された塗料が上流側リップへオーバ
フローし、塗布が不安定になる。この場合、支持体を上
流側リップに近づけるとオーバーフローは緩和される
が、上流側リップのスリット側先端部が接触することで
塗膜にキズ線が発生したり異物が付着する。
ていない塗布装置(θ=0°)では、300〜400m
/分程度の塗布速度であれば、良好なレベルの塗布が行
われる。しかし、塗布速度が500m/分以上になると
スリットから押し出された塗料が上流側リップへオーバ
フローし、塗布が不安定になる。この場合、支持体を上
流側リップに近づけるとオーバーフローは緩和される
が、上流側リップのスリット側先端部が接触することで
塗膜にキズ線が発生したり異物が付着する。
【0036】一方、上流側リップのテーパー面とスリッ
ト面のなす角θが45°より大きくなされた塗布装置で
は、塗布速度を高速化していくと、塗膜にスジ状の欠損
が見られるようになる。たとえば、上流側リップのテー
パー面とスリット面のなす角θが60°の場合には塗布
速度400m/分で既に塗布性が不良レベルになる。
ト面のなす角θが45°より大きくなされた塗布装置で
は、塗布速度を高速化していくと、塗膜にスジ状の欠損
が見られるようになる。たとえば、上流側リップのテー
パー面とスリット面のなす角θが60°の場合には塗布
速度400m/分で既に塗布性が不良レベルになる。
【0037】これに対して、上流側リップのテーパー面
とスリット面のなす角θが0°<θ≦45°となされた
塗布装置では、低速域では勿論のこと500m/分以上
の高速域においても良好なレベルの塗布性が得られる。
とスリット面のなす角θが0°<θ≦45°となされた
塗布装置では、低速域では勿論のこと500m/分以上
の高速域においても良好なレベルの塗布性が得られる。
【0038】以上の結果から、上流側リップのスリット
側先端部にテーパー面を形成し、そのテーパー面とスリ
ット面のなす角θを0°<θ≦45°の範囲に規制する
ことは、500m/分以上の高速域における塗布性を改
善する上で有効であることが確認された。なお、上流側
リップのテーパー面とスリット面のなす角θにおいて、
より好ましい範囲は5°≦θ≦35°である。
側先端部にテーパー面を形成し、そのテーパー面とスリ
ット面のなす角θを0°<θ≦45°の範囲に規制する
ことは、500m/分以上の高速域における塗布性を改
善する上で有効であることが確認された。なお、上流側
リップのテーパー面とスリット面のなす角θにおいて、
より好ましい範囲は5°≦θ≦35°である。
【0039】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、エクストルージョン型の塗布装置において、上
流側リップのスリット側先端部を切り欠いてテーパー面
を形成するとともに、テーパー面とスリット面のなす角
θを0°<θ≦45°と比較的小さい角度範囲に規制す
るので、塗布速度を高速化した場合でも、良好な塗布面
を有した塗膜が均一な膜厚で形成できる。
明では、エクストルージョン型の塗布装置において、上
流側リップのスリット側先端部を切り欠いてテーパー面
を形成するとともに、テーパー面とスリット面のなす角
θを0°<θ≦45°と比較的小さい角度範囲に規制す
るので、塗布速度を高速化した場合でも、良好な塗布面
を有した塗膜が均一な膜厚で形成できる。
【0040】したがって、本発明の塗布装置によって、
例えば塗布型の磁気記録媒体の磁性層を形成すると、出
力変動やドロップアウトが抑えられた特性の良好な磁気
記録媒体が得られる。
例えば塗布型の磁気記録媒体の磁性層を形成すると、出
力変動やドロップアウトが抑えられた特性の良好な磁気
記録媒体が得られる。
【図1】本発明を適用した塗布装置の1構成例を示す模
式図である。
式図である。
【図2】上流側リップのテーパ面とスリット面のなす角
θを説明するための模式図である。
θを説明するための模式図である。
【図3】上流側リップのスリット側先端部にテーパー面
を有さないタイプの塗布装置の一例を示す模式図であ
る。
を有さないタイプの塗布装置の一例を示す模式図であ
る。
【図4】上流側リップのスリット側先端部にテーパー面
を有さないタイプの塗布装置の他の例を示す模式図であ
る。
を有さないタイプの塗布装置の他の例を示す模式図であ
る。
【図5】上流側リップのテーパ面とスリット面のなす角
θが所定範囲を越える塗布装置を示す模式図である。
θが所定範囲を越える塗布装置を示す模式図である。
1 ダイ 4 スリット 5 上流側リップ 6 下流側リップ 7 支持体 10 塗料
Claims (2)
- 【請求項1】 ダイ先端の上流側リップと下流側リップ
の先端面に沿って連続的に走行する可撓性支持体上に、
この上流側リップと下流側リップの間に設けられたスリ
ットより塗料を押し出しながら塗布するエクストルージ
ョン型の塗布装置において、 上記上流側リップのスリット側先端にテーパー面が形成
され、この上流側リップのテーパ面とスリット側の面の
なす角θが、0°<θ≦45°なる条件を満たすことを
特徴とする塗布装置。 - 【請求項2】 塗布する塗料が磁性塗料であり、塗布型
の磁気記録媒体の磁性層が形成される請求項1記載の塗
布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15196295A JPH091027A (ja) | 1995-06-19 | 1995-06-19 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15196295A JPH091027A (ja) | 1995-06-19 | 1995-06-19 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH091027A true JPH091027A (ja) | 1997-01-07 |
Family
ID=15530027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15196295A Withdrawn JPH091027A (ja) | 1995-06-19 | 1995-06-19 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH091027A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5334593A (en) * | 1990-01-13 | 1994-08-02 | Yamasa Shoyu Kabushiki Kaisha | Anxiolytic drugs |
| EP0848109A1 (de) * | 1996-12-12 | 1998-06-17 | Voith Sulzer Papiermaschinen GmbH | Auftragswerk zum direkten oder indirekten Auftragen eines flüssigen oder pastösen Mediums auf eine laufende Oberfläche |
| CN117101960A (zh) * | 2023-09-01 | 2023-11-24 | 深圳市新嘉拓自动化技术有限公司 | 一种气浮模头及双面同时涂布设备 |
-
1995
- 1995-06-19 JP JP15196295A patent/JPH091027A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5334593A (en) * | 1990-01-13 | 1994-08-02 | Yamasa Shoyu Kabushiki Kaisha | Anxiolytic drugs |
| EP0848109A1 (de) * | 1996-12-12 | 1998-06-17 | Voith Sulzer Papiermaschinen GmbH | Auftragswerk zum direkten oder indirekten Auftragen eines flüssigen oder pastösen Mediums auf eine laufende Oberfläche |
| CN117101960A (zh) * | 2023-09-01 | 2023-11-24 | 深圳市新嘉拓自动化技术有限公司 | 一种气浮模头及双面同时涂布设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020903 |