JPH11181233A - フェノール樹脂組成物、フェノール樹脂積層板及びフェノール樹脂銅張積層板 - Google Patents

フェノール樹脂組成物、フェノール樹脂積層板及びフェノール樹脂銅張積層板

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JPH11181233A
JPH11181233A JP35850697A JP35850697A JPH11181233A JP H11181233 A JPH11181233 A JP H11181233A JP 35850697 A JP35850697 A JP 35850697A JP 35850697 A JP35850697 A JP 35850697A JP H11181233 A JPH11181233 A JP H11181233A
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JP
Japan
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phenolic resin
varnish
laminate
water
impregnated
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JP35850697A
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English (en)
Inventor
Noboru Akinaka
昇 秋中
Masabumi Yano
正文 矢野
Hideki Ishihara
秀樹 石原
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O

Landscapes

  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フェノール樹脂積層板の耐銀マイグレーショ
ン性を改善する。 【解決手段】 水溶性フェノール樹脂及びフェノール系
酸化防止剤を必須成分としてなるフェノール樹脂組成物
をワニスとし、このワニスを下塗り用水溶性フェノール
樹脂ワニスとして紙基材に含浸乾燥し、次に上塗り用フ
ェノール樹脂ワニスを含浸乾燥して得られたプリプレグ
を所定枚数重ねて加熱加圧してフェノール樹脂積層板と
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フェノール樹脂組
成物、フェノール樹脂積層板及びフェノール樹脂銅張積
層板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】紙を基材とするフェノール樹脂積層板
は、打抜加工性、ドリル加工性に優れ、かつ安価である
ため民生用電子機器プリント配線板の基板として広く用
いられている。紙を基材とするフェノール樹脂積層板
は、フェノール樹脂のワニスを紙基材に含浸乾燥して得
られるプリプレグの所定枚数を重ね、加熱加圧して製造
される。通常は、プリプレグと銅はくとを組み合わせて
銅張積層板とし、銅はくをエッチングすることにより回
路を形成してプリント配線板とされる。フェノール樹脂
としては、フェノール類とアルデヒド類とをアルカリ触
媒の存在下に反応させたレゾール型フェノール樹脂が用
いられている。プリプレグを製造するとき、レゾール型
フェノール樹脂のワニスを直接紙基材に含浸することは
せず、下塗り用水溶性フェノール樹脂ワニスを含浸乾燥
した後に、上塗り用フェノール樹脂ワニスを含浸乾燥す
るようにしている。レゾール型フェノール樹脂は、紙基
材との親和性が若干低いためである。
【0003】民生用電子機器のプリント配線板において
は、プリント配線板製造の材料として片面銅張積層板が
多用され、片面の銅はくをエッチングして回路を形成
し、銅はくと反対側の面に、銀ペースト印刷により、ジ
ャンパー線などの回路を形成している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】銀ペースト印刷は、エ
ッチングのような薬液処理工程を含まないので、作業が
単純かつ自動化も容易であり、紙基材フェノール樹脂積
層板を基板とするプリント配線板のような安価なプリン
ト配線板に適している。ところが、銀ペースト印刷によ
り形成された回路間に直流電圧の印加を長時間続ける
と、回路間が短絡することがあった。この現象は、印加
された直流電圧により銀がイオン化して回路間を移動析
出することによる銀の結晶成長に起因するものであるこ
とから、銀マイグレーションといわれている。
【0005】水溶性フェノール樹脂のワニスを下塗りす
ると、耐銀マイグレーション性が改善されることが知ら
れている。しかしながら、配線が高密度化するのに伴
い、ライン間隔も小さくなり、耐銀マイグレーション性
の一層の改善が要求されるようになってきている。本発
明は、かかる点に鑑みてなされたもので、フェノール樹
脂積層板の耐銀マイグレーション性をさらに改善するこ
とを課題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、水溶性フェノール樹脂及びフェノール系酸化防止剤
を必須成分としてなるフェノール樹脂組成物である。
【0007】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載のフェノール樹脂組成物をワニスとし、このワニ
スを下塗り用水溶性フェノール樹脂ワニスとして紙基材
に含浸乾燥し、次に上塗り用フェノール樹脂ワニスを含
浸乾燥して得られたプリプレグを所定枚数重ねて加熱加
圧してなるフェノール樹脂積層板である。また、請求項
3に記載の発明は、請求項1に記載のフェノール樹脂組
成物をワニスとし、このワニスを下塗り用水溶性フェノ
ール樹脂ワニスとして紙基材に含浸乾燥し、次に上塗り
用フェノール樹脂ワニスを含浸乾燥して得られたプリプ
レグを所定枚数重ね、さらに銅はくを重ねて加熱加圧し
てなるフェノール樹脂銅張積層板である。
【0008】フェノール系酸化防止剤が、どのような機
構で銀マイグレーションを抑制するのかについては詳ら
かでないが、フェノール系酸化防止剤が還元性を有して
いることから、酸化反応の1種である銀のイオン化を抑
制するものと推定される。このことから、本発明は、銀
マイグレーションに限らず、銅のような他の金属のマイ
グレーション防止にも有効である。
【0009】
【発明の実施の形態】フェノール系酸化防止剤として
は、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル
化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4
−エチル−フェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネ
ートなどのモノフェノール酸化防止剤、2,2’−メチ
レンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチル
フェノール)、4,4’−チオビス(3−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス
(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、3,9−
ビス[1,1−ジメチル−2−〔β−(3−t−ブチル
−−4−ヒドロキシ−5−メチル−フェニル)プロピオ
ニルオキシ〕エチル]2,4,8,10−テトラオキサ
スピロ〔5,5〕ウンデカン、1,1,3−トリス(2
−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)
ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
ベンゼン、テトラキス−〔メチレン−3−(3’,5’
−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート〕メタン、ビス〔3,3’−ビス−(4’−ヒ
ドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシ
ッド〕グリコールエステル、1,3,5−トリス
(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベン
ジル)−s−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,
5H)トリオンなどのビスフェノール系酸化防止剤等が
例示される。フェノール系酸化防止剤は、水溶性フェノ
ール樹脂100重量部に対して、0.01〜10重量部
の範囲で配合されるのが好ましい。0.01重量部未満
であると効果が漸次小さくなり、10重量部を超えて配
合しても、効果は変わらず、過剰に配合されるとかえっ
て積層板としたときの耐熱性に影響するおそれがある。
このことから、0.05〜1重量部の範囲で配合される
のがより好ましい。
【0010】本発明で用いられる水溶性フェノール樹脂
は、フェノールとホルムアルデヒドとをアミンを触媒と
して反応させて得られ、従来から下塗り用水溶性フェノ
ール樹脂ワニスに用いられているものと変わりはない。
水溶性フェノール樹脂は、溶剤に溶解し、さらに一般式
が化2の(I)又は(II)で表される化合物を加えたワニ
スとして紙基材に含浸乾燥してプリプレグとされる。こ
こで用いられる溶剤は、従来から下塗り用水溶性フェノ
ール樹脂ワニスに用いられている、水とメターノールと
の等量混合溶剤が用いられるがこれに制限されるもので
はない。
【0011】紙基材としては、クラフトパルプを抄造し
て得られるクラフト紙が主に用いられるが、コットンリ
ンター紙、リンターとクラフトパルプの混抄紙、ガラス
繊維と紙繊維との混抄紙なども使用できる。下塗り用水
溶性フェノール樹脂ワニスは、乾燥後の状態での付着量
が5〜30重量%となるように、含浸する量を制御する
のが好ましい。乾燥後の状態での付着量が5重量%未満
になると効果が漸減する。また、30重量%を超える
と、上塗り用フェノール樹脂の付着量が相対的に小さく
なり、積層板に必要な耐熱性などの特性が漸次低下す
る。このことから、乾燥後の状態での付着量が10〜2
5重量%の範囲となるように含浸する量を制御するのが
より好ましい。
【0012】上塗り用フェノール樹脂ワニスはレゾール
型フェノール樹脂が用いられこの樹脂は、フェノール類
とアルデヒド類とをアルカリ触媒の存在下に反応させて
得られる。フェノール類としては、フェノール、メタク
レゾール、パラクレゾール、オルソクレゾール、イソプ
ロピルフェノール、パラターシャリーブチルフェノー
ル、ノニルフェノール、ビスフェノールA等が挙げられ
る。
【0013】また、アルデヒド類としては、ホルムアル
デヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、パ
ラアセトアルデヒド、ブチルアルデヒド、オクチルアル
デヒド、ベンズアルデヒド等が挙げられる。一般にはホ
ルムアルデヒド又はパラホルムアルデヒドが使用され
る。
【0014】可撓性を付与するため、また、打ち抜き加
工性をよくするため、レゾール型フェノール樹脂を乾性
油で変性するのが好ましい。フェノール類と乾性油とを
酸触媒の存在下にあらかじめ反応させ、次いで、アルデ
ヒド類をアルカリ触媒の存在下に反応させることによ
り、乾性油変性レゾール型フェノール樹脂が得られる。
乾性油としては、桐油、アマニ油、脱水ヒマシ油、オイ
チシカ油等が使用される。乾性油変性率については特に
制限されるものではないが、通常10〜40重量%の間
で適宜選択されている。
【0015】上塗り用フェノール樹脂ワニスとするとき
の溶剤としては、トルエン、メタノール、メチルエチル
ケトン、2−メトキシエタノール、アセトン、スチレン
等が用いられる。上塗り用フェノール樹脂ワニスには、
フェノール樹脂積層板に可塑性、難燃性を付与するため
に各種の可塑剤、難燃剤を添加してもよい。
【0016】上塗り用フェノール樹脂ワニスは、乾燥後
の状態での全付着量(下塗りと上塗りとの合計付着量)
が35〜60重量%となるように含浸する量を制御する
のが好ましい。
【0017】このようにして得られたプリプレグを所定
枚数重ね、温度150〜180℃、圧力7〜15MPa
で60〜120分間、加熱加圧してフェノール樹脂積層
板を得る。またプリプレグを所定枚数にさらに銅はくを
重ねて加熱加圧してフェノール樹脂銅張積層板を得る。
【0018】
【実施例】実施例1 下塗り用水溶性フェノール樹脂ワニスの調製 フェノール1モル、37重量%ホルマリンをホルムアル
デヒド換算で1.2モル、及び、トリエチルアミン換算
で0.4モル量のトリエチルアミン水溶液(濃度:30
重量%)を、70℃で6時間反応させて水溶性フェノー
ル樹脂を得た。得られた水溶性フェノール樹脂を、重量
比で、水1対メタノール1の混合溶媒で希釈し、これ
に、水溶性フェノール樹脂100重量部に対して、4,
4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)を0.3重量部配合して、固形分12重量%
の下塗り用水溶性フェノール樹脂ワニスを調製した。
【0019】上塗り用フェノール樹脂ワニスの調製 桐油1000g、フェノール1000g、メタクレゾー
ル1000g、パラトルエンスルホン酸1gを反応釜に
仕込み、110℃で2時間反応させ、さらに、パラホル
ム1045g、メタノール300g、アンモニア水18
0gを加えて80℃で反応を続け、反応生成物のゲル化
時間(160℃の熱板上でのゲル化時間をいう)が5分
になったとろで減圧下に脱水濃縮して上塗り用桐油変性
フェノール樹脂ワニスを調製した。
【0020】プリプレグの作製 坪量140g/m2 のクラフト紙に、下塗り用水溶性フ
ェノール樹脂ワニスを、乾燥後の固形分付着量が16重
量%となるように含浸乾燥し、次に、上塗り用桐油変性
フェノール樹脂ワニスを、下塗り用水溶性フェノール樹
脂ワニスによる固形分付着量との合計が53重量%とな
るように含浸乾燥してプリプレグを作製した。
【0021】積層板の作製 得られたプリプレグを8枚を重ね、その片側に厚さ35
μmで接着剤付き銅はく1枚を重ね、鏡板で挾んで熱板
間に挿入し、温度170℃、圧力11MPaで加熱加圧
して片面銅張積層板を作製した。
【0022】片面銅張積層板の銅はくのない側に、銀ペ
ーストを用いて、線間距離0.5mmの電極を形成し
た。これを、温度60℃、90%RHに保持し、電極間
に30Vの直流を連続300時間印加した。300時間
経過後の銀マイグレーションによる銀の結晶成長の長さ
を、顕微鏡により観察し、基準スケールにより測定した
ところ、0.149mmであった。
【0023】比較例 4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)を配合しないほか、実施例1と同様にし
て片面銅張積層板を作製した。以下実施例1と同様にし
て銀マイグレーションによる銀の結晶成長の長さを測定
したところ、0.206mmであった。
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、フェノール樹脂積層板
及びフェノール樹脂銅張積層板の耐銀マイグレーション
性を優れたものとすることができる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水溶性フェノール樹脂及びフェノール系
    酸化防止剤を必須成分としてなるフェノール樹脂組成
    物。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のフェノール樹脂組成物
    をワニスとし、このワニスを下塗り用フェノール樹脂ワ
    ニスとして紙基材に含浸乾燥し、次に上塗り用フェノー
    ル樹脂ワニスを含浸乾燥して得られたプリプレグを所定
    枚数重ねて加熱加圧してなるフェノール樹脂積層板。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載のフェノール樹脂組成物
    をワニスとし、このワニスを下塗り用フェノール樹脂ワ
    ニスとして紙基材に含浸乾燥し、次に上塗り用フェノー
    ル樹脂ワニスを含浸乾燥して得られたプリプレグを所定
    枚数重ね、これに銅はくを重ねて加熱加圧してなるフェ
    ノール樹脂積層板。
JP35850697A 1997-12-25 1997-12-25 フェノール樹脂組成物、フェノール樹脂積層板及びフェノール樹脂銅張積層板 Pending JPH11181233A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000239416A (ja) * 1999-02-22 2000-09-05 Matsushita Electric Works Ltd フェノール樹脂基板
US7312145B2 (en) 2002-10-23 2007-12-25 Tomoegawa Paper Co., Ltd. Electronic member, method for making the same, and semiconductor device
JP2010056135A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Japan Aviation Electronics Industry Ltd 配線コーティング用フェノール樹脂組成物、これを用いる印刷回路基板およびその製造方法

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