JPH11191502A - 低抵抗型チップ抵抗器 - Google Patents

低抵抗型チップ抵抗器

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JPH11191502A
JPH11191502A JP9359429A JP35942997A JPH11191502A JP H11191502 A JPH11191502 A JP H11191502A JP 9359429 A JP9359429 A JP 9359429A JP 35942997 A JP35942997 A JP 35942997A JP H11191502 A JPH11191502 A JP H11191502A
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JP
Japan
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low
electrodes
resistance
pair
paste
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Pending
Application number
JP9359429A
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English (en)
Inventor
Masato Shimada
真人 嶋田
Satoshi Kuwabara
敏 桑原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hokuriku Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Hokuriku Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 抵抗値のバラツキ及び変動が少ない低抵抗型
チップ抵抗器を提供する。 【解決手段】 アルミナ基板1の表面及び裏面にAg−
Pd含有グレーズペーストを用いて一対の表面電極2,
2及び裏面電極3、3を形成する。一対の表面電極2,
2間及び一対の裏面電極3,3間にAg−Pd含有グレ
ーズペーストを用いて表面側低抵抗体4及び裏面側低抵
抗体5を形成する。表面側低抵抗体4及び裏面側低抵抗
体5を2層構造のオーバーコート6〜9で覆う。アルミ
ナ基板1を間にして対向する表面電極2と裏面電極3と
を相互に接続するようにAg−Pd含有グレーズペース
トを用いてアルミナ基板の両端部に一対の側面電極1
0,10を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、抵抗値がmΩ台の
低抵抗型チップ抵抗器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の一般的なチップ抵抗器は、アルミ
ナ基板の表面に形成した一対の表面電極の間に抵抗ペー
ストを用いて厚膜の抵抗体を形成し、厚膜の抵抗体の上
をオーバーコートで覆い、基板の両端部に半田付け電極
を形成した構造を有している。従来の低抵抗型チップ抵
抗器も、基本的にはこの構造を採用している。但し従来
は、抵抗体の抵抗値を下げるために、抵抗ペーストを複
数回塗布して抵抗体の厚みを厚くしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】抵抗値が低くなるほ
ど、抵抗体の抵抗値のバラツキ及び変動が大きな問題と
なるだけでなく、電極部の抵抗値のバラツキ及び変動も
全体の抵抗値に大きな影響を持つようになる。しかしな
がら従来のように抵抗体の厚みを厚くする構造を採用す
ると、抵抗体の抵抗値のバラツキが大きくなる上、抵抗
体とアルミナ基板の熱膨脹係数の差から抵抗体がアルミ
ナ基板から離れ易くなって、抵抗値が変動しやすくな
る。
【0004】本発明の目的は、抵抗値のバラツキ及び変
動が少ない低抵抗型チップ抵抗器を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の低抵抗型チップ
抵抗器では、アルミナ基板の表面にAg−Pd含有グレ
ーズペーストを用いて一対の表面電極を形成する。また
アルミナ基板の裏面にAg−Pd含有グレーズペースト
を用いて一対の裏面電極を形成する。そして一対の表面
電極間に該一対の表面電極と端部が重なるようにAg−
Pd含有グレーズペーストを用いて表面側低抵抗体を形
成し、一対の裏面電極間に該一対の裏面電極と端部が重
なるようにAg−Pd含有グレーズペーストを用いて裏
面側低抵抗体を形成する。表面側低抵抗体を1層構造以
上の表側オーバーコートで覆い、また裏面側低抵抗体も
1層構造以上の裏側オーバーコートで覆う。そしてアル
ミナ基板を間にして対向する表面電極と裏面電極とを相
互に接続するようにAg−Pd含有グレーズペーストを
用いてアルミナ基板の両端部に一対の側面電極を形成す
る。
【0006】ここでAg−Pd含有グレーズペーストと
は、Ag粉末とPd粉末とが適宜の割合でガラスペース
トに混ぜられたものであり、Ag粉末だけを含有するA
g含有グレーズペーストと比べて、抵抗値のバラツキ及
び変動が少ない。
【0007】アルミナ基板の両面に抵抗体を形成する構
造は、公知である。しかしながら当業者には、この構造
を用いて抵抗値がmΩ台の低抵抗型チップ抵抗器を作る
という発想は従来なかった。これは基板の両面に抵抗体
を形成すると、製造工程が多くなるだけでなく、構造が
複雑になるために、極めて非現実的な構造であるとの考
えが当業者の常識なっていたからである。本発明では、
この当業者の常識を破って、あえて表面側低抵抗体と裏
面側低抵抗体とを並列に接続する構成を採用した。表面
側低抵抗体と裏面側低抵抗体とを並列接続すると、従来
のように抵抗体の厚みを厚くする構造を採用しなくて
も、全体の抵抗値を大きく下げることができるだけでな
く、抵抗体がアルミナ基板から剥離して抵抗値が変動す
るといった問題も生じなくなり、低抵抗型チップ抵抗器
においては優れた効果を発揮する。そして本発明では、
更に抵抗値のバラツキと変動を小さくするために、表面
電極、裏面電極、表面側低抵抗体、裏面側低抵抗体及び
側面電極のすべてをAg−Pd含有グレーズペーストに
より形成した。このような構成も、従来当業者が考えな
かったものであり、この構成を採用することにより、各
部の抵抗値のバラツキ及び変動が少なくなって、結果と
して、抵抗値のバラツキ及び変動が少ない低抵抗型チッ
プ抵抗器を得ることができたのである。
【0008】なお一般的なチップ抵抗器であれば、半田
付け性を改善するために、側面電極の表面をニッケルメ
ッキ層と半田メッキ層とにより覆っている。しかしなが
ら、メッキ層も抵抗値を持っており、抵抗器の抵抗値が
低くなると、メッキ層の抵抗値のバラツキも大きな影響
を持つようになる。そのため本発明では、このようなメ
ッキ層をあえて形成していない。
【0009】表側オーバーコート及び裏側オーバーコー
トは、2層構造のガラスオーバーコートから構成するの
が好ましい。そして一対の側面電極はその裏側端部が、
裏側オーバーコートの表面よりも突出するように形成す
る。このようにすると半田付けが良好になるだけでな
く、半田付け時の熱で抵抗値が変動するのを防止でき
る。
【0010】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施の形態の一例を製造方法とともに詳細に説明する。図
1は、本発明の低抵抗型チップ抵抗器の実施の形態の一
例の断面図である。また図2(A)〜(D)及び(a)
〜(d)は、製造工程の途中の工程までを示す図であ
る。なお図1においては、理解を容易にするために、各
部の形状を誇張して描いてある。
【0011】図1及び図2において、1はアルミナ基板
であり、一般的にはセラミックス基板とも呼ばれる。ア
ルミナ基板1の表面にはAg−Pd含有グレーズペース
トを用いて一対の表面電極2,2が形成されている。こ
の例では、AgとPdの含有比率が95:5のAg−P
d含有グレーズペーストを用いて、スクリ−ン印刷によ
り厚みが約30μmの表面電極2,2を形成した[図2
(A)及び(a)参照]。Ag−Pd含有グレーズペー
ストの焼成温度は、約800℃である。
【0012】次にアルミナ基板1の裏面にAg−Pd含
有グレーズペーストを用いて一対の裏面電極3,3を形
成した[図2(B)及び(b)参照]。裏面電極3,3
は、表面電極2,2を形成したAg−Pd含有グレーズ
ペーストと同じペーストを用いて、表面電極2,2と同
様に形成した。裏面電極3,3の厚みも約30μmであ
る。
【0013】次に一対の表面電極2,2間に一対の表面
電極2,2と端部が重なるようにAg−Pd含有グレー
ズペーストを用いて表面側低抵抗体4を形成した。この
例では、AgとPdの含有比率が70:30のAg−P
d含有グレーズペーストを用いて、スクリ−ン印刷によ
り厚みが約30μmの表面側低抵抗体4を形成した[図
2(C)及び(c)参照]。Ag−Pd含有グレーズペ
ーストの焼成温度は、約800℃である。同様にして、
一対の裏面電極3,3間に一対の裏面電極3,3と端部
が重なるようにAg−Pd含有グレーズペーストを用い
て裏面側低抵抗体5を形成した[図2(D)及び(d)
参照]。裏面側低抵抗体5も表面側低抵抗体4を形成す
るために用いたAg−Pd含有グレーズペーストを用い
て形成した。表面側低抵抗体4及び裏面側低抵抗体5の
抵抗値はそれぞれ約40mΩであった。
【0014】次に表面側低抵抗体4の表面をガラスペー
ストで覆って下側ガラス層6を形成した。下側ガラス層
6の厚みは、約10μmで、ガラスペーストの焼成温度
は約600℃であった。また同様にして、裏面側低抵抗
体5の表面をガラスペーストで覆って下側ガラス層7を
形成した。下側ガラス層7の厚みも、約10μmで、ガ
ラスペーストの焼成温度は約600℃であった。
【0015】次に下側ガラス層6及び7の上を非晶質ガ
ラスペーストで覆って上側ガラス層8及び9をそれぞれ
形成した。上側ガラス層8及び9の厚みは、それぞれ約
10μmで、非晶質ガラスペーストの焼成温度は約60
0℃であった。下側ガラス層6と上側ガラス層8とによ
り、表側オーバーコートが構成され、下側ガラス層7と
上側ガラス層9とにより、裏側オーバーコートが構成さ
れている。
【0016】最後に、アルミナ基板1を間にして対向す
る表面電極2と裏面電極3とを相互に接続するようにA
g−Pd含有グレーズペーストを用いてアルミナ基板1
の両端部に一対の側面電極10,10を形成した。側面
電極10,10を形成するために用いたAg−Pd含有
グレーズペーストは、表面電極2,2及び裏面電極3,
3を形成するために用いたものと同じAg−Pd含有グ
レーズペーストである。なお一対の側面電極10,10
の裏側端部10a,10aは、上側ガラス層9の表面よ
りも突出するように形成されている。
【0017】この様にして形成した低抵抗型チップ抵抗
器の側面電極10と表面電極2を含めた電極部分及び側
面電極と裏面電極3を含めた電極部分の抵抗値は、約
0.25mΩである。したがってこの低抵抗型チップ抵
抗器の抵抗値は、約20mΩである。
【0018】この構造の低抵抗型チップ抵抗器を多数個
製造してTCRを測定したところ、平均100ppmと
低くなることが確認された。またこの構造の低抵抗型チ
ップ抵抗器では、アルミナ基板1の両面に抵抗体がある
ため、電極のどの部分にプローブを当ててもほぼ同じ抵
抗値を読取ることができる。
【0019】上記例では、表側オーバーコート及び裏側
オーバーコートを共に2層構造のガラスオーバーコート
により形成したが、消費電力が小さい場合には、上側オ
ーバーコートを樹脂により形成してもよい。
【0020】上記例において、表面電極2,2間の距離
及び裏面電極3,3間の距離を小さくすると、抵抗値を
更に小さくすることができる。
【0021】上記例においては、表面電極2,2及び裏
面電極3,3ともに矩形状を呈しているが、表面電極
2,2及び裏面電極3,3を共にL字形状にしてもよ
い。
【0022】
【発明の効果】本発明によれば、表面側低抵抗体と裏面
側低抵抗体とを並列に接続する構成を採用し、また表面
電極、裏面電極、表面側低抵抗体、裏面側低抵抗体及び
側面電極のすべてをAg−Pd含有グレーズペーストに
より形成することにより、抵抗値のバラツキ及び変動が
少ない低抵抗型チップ抵抗器を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の低抵抗型チップ抵抗器の実施の形態
の一例の断面図である。
【図2】 (A)〜(D)及び(a)〜(d)は、それ
ぞれ製造工程の途中の工程を示す図である。
【符号の説明】
1 アルミナ基板 2 表面電極 3 裏面電極 4 表面側低抵抗体 5 裏面側低抵抗体 6,7 下側ガラス層 8,9 上側ガラス層 10 側面電極

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルミナ基板の表面にAg−Pd含有グ
    レーズペーストを用いて形成された一対の表面電極と、 前記アルミナ基板の裏面にAg−Pd含有グレーズペー
    ストを用いて形成された一対の裏面電極と、 前記一対の表面電極間に該一対の表面電極と端部が重な
    るようにAg−Pd含有グレーズペーストを用いて形成
    された表面側低抵抗体と、 前記一対の裏面電極間に該一対の裏面電極と端部が重な
    るようにAg−Pd含有グレーズペーストを用いて形成
    された裏面側低抵抗体と、 前記表面側低抵抗体を覆う1層構造以上の表側オーバー
    コートと、 前記裏面側低抵抗体を覆う1層構造以上の裏側オーバー
    コートと、 前記アルミナ基板を間にして対向する前記表面電極と前
    記裏面電極とを相互に接続するようにAg−Pd含有グ
    レーズペーストを用いて前記アルミナ基板の両端部に形
    成された一対の側面電極とを具備してなる低抵抗型チッ
    プ抵抗器。
  2. 【請求項2】 前記表側オーバーコート及び前記裏側オ
    ーバーコートは、2層構造のガラスオーバーコートから
    なり、 前記一対の側面電極は裏側端部が、前記裏側オーバーコ
    ートの表面よりも突出するように形成されている請求項
    1に記載の低抵抗型チップ抵抗器。
JP9359429A 1997-12-26 1997-12-26 低抵抗型チップ抵抗器 Pending JPH11191502A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6826031B2 (en) 2001-09-06 2004-11-30 Noritake Co., Limited Ceramic electronic component and production method therefor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6826031B2 (en) 2001-09-06 2004-11-30 Noritake Co., Limited Ceramic electronic component and production method therefor

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