JPH11194512A - 電子写真感光体、その製造方法、それを用いた画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた塗布性で電荷発生層が形成でき、感度
およびその繰返し使用における静電的な安定性に優れた
電子写真感光体を用いて優れた特性の画像を形成する。 【解決手段】 機能分離型感光体の電荷発生層にτ型無
金属フタロシアニンと塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合
体とを含有させる。特に、重量比でτ型無金属フタロシ
アニン／塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体＝１／３〜
３／１に選ぶ。電荷発生層厚を０．１〜０．６μｍに選
ぶ。塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体として、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン
酸、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコールの共重
合体を選ぶ。特に、モノマー換算でビニルアルコール成
分を少なくとも１０重量％以上含むものを選ぶ。分散剤
としてケトン系溶剤を用いた塗布液で電荷発生層を形成
する。反転現像プロセスを用いた画像形成装置に上記感
光体を適用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、可視光領域から近
赤外光領域に至る幅広い波長域に高い感度を有する電子
写真感光体、その製造方法およびそれを用いた画像形成
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】感光体の感光層材料として、従来から知
られているセレン、硫化カドミウムおよび酸化亜鉛等の
無機光導電性材料には、たとえば暗所において適度な電
位に帯電できる、暗所において電荷の逸散が少ない、お
よび光照射によって速かに電荷を逸散できるなどの利点
を有する。その反面、次のような欠点を有する。たとえ
ばセレン系材料を用いた感光体では、製造条件が難し
く、製造コストが高く、また熱や機械的な衝撃に弱いた
め取扱いに注意を要する。また、硫化カドミウム系材料
や酸化亜鉛系材料を用いた感光体では、多湿の環境下で
安定した感度が得られず、また増感剤として添力した色
素がコロナ帯電による帯電劣化や露光による光退色を生
じるので、長期的に安定した特性が得られない。一方、
感光層材料として提案されているポリビニルカルバゾー
ルなどの有機光導電性材料は、無機光導電性材料に比べ
て成膜性や軽量性などの点で優れている。

【０００３】有機光導電性材料を用いた感光体の実用化
に対し、高い感度、高い耐久性および環境変化による高
い安定性を得るために提案された機能分離型の感光体
は、光導電性機能としての電荷発生機能と電荷輸送機能
とを分離したものであり、積層型や分散型などがある。
このような機能分離型感光体は、電荷発生機能や電荷輸
送機能のための材料の選択範囲が広く、したがって帯電
性、感度、残留電位、繰返し特性および耐刷性などの電
子写真特性において、最適な材料を選択することによっ
て高性能な感光体が提供できる。また、塗工の手法で作
成できるので、極めて生産性が高く、安価な感光体が提
供できる。さらに、電荷発生機能のための材料によっ
て、感光波長域を自在に選択できる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】特に、比較的長波長域
まで高感度なフタロシアニンが電荷発生材料として用い
られ、近年、高速プリンタの１種であるレーザ光源を用
いた電子写真方式のレーザプリンタ用として有効に用い
られる。フタロシアニンを用いた感光体の例は、たとえ
ば特開昭５８−１８２６３９号公報、特開昭６０−１９
１５３号公報および特開昭６３−２６７９４９号公報に
開示されている。特開昭５８−１８２６３９号公報では
τ型、η型無金属フタロシアニンが、特開昭６０−１９
１５３号公報では変形τ型、変形η型無金属フタロシア
ニンが、それぞれ使用されている。また、特開昭６３−
２６７９４９号公報では、τ型、変形τ型、η型、変形
η型フタロシアニンとブチラール樹脂との混合物が使用
されている。しかし、このような材料を用いた感光体で
も感度やその繰返し使用における静電的な安定性などの
静電特性に関して実用化に充分ではない。

【０００５】また、特開平１−３０７７５９号公報に
は、塩化ビニル系共重合体樹脂をバインダとして用いた
電荷発生層を有する電子写真感光体が開示されている。
しかし、該感光体でも実用化に充分な静電特性が得られ
ていない。

【０００６】本発明の目的は、優れた分散性の電荷発生
層を有し、静電特性、特に感度およびその繰返し使用に
おける静電的な安定性に優れた電子写真感光体を提供す
ることである。また、本発明の他の目的は、優れた塗布
性で電荷発生層が形成できる電子写真感光体の製造方法
を提供することである。また、本発明のさらに他の目的
は、優れた画像特性の画像形成が可能な電子写真感光体
を用いた画像形成装置を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、導電性支持体
上に電荷発生層と電荷輸送層とを有する電子写真感光体
において、前記電荷発生層は、τ型無金属フタロシアニ
ンと塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体とを含有するこ
とを特徴とする電子写真感光体である。

【０００８】本発明に従えば、機能分離型感光体におい
て、電荷発生層にτ型無金属フタロシアニンと塩化ビニ
ル−酢酸ビニル系共重合体とを含有させることによっ
て、静電特性、特に感度およびその繰返し使用における
静電的な安定性に優れた電子写真感光体が提供できる。

【０００９】また本発明は、前記τ型無金属フタロシア
ニンと塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体との重量比
が、τ型無金属フタロシアニン／塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体で１／３〜３／１の範囲であることを特徴
とする。

【００１０】本発明に従えば、τ型無金属フタロシアニ
ンと塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体との重量比を１
／３〜３／１の範囲に選ぶことによって、感度およびそ
の繰返し使用における静電的な安定性がさらに向上す
る。

【００１１】また本発明は、前記電荷発生層の膜厚が、
０．１μｍ〜０．６μｍの範囲に選ばれることを特徴と
する。

【００１２】本発明に従えば、電荷発生層の膜厚を０．
１μｍ〜０．６μｍの範囲に選ぶことによって、優れた
感度およびその繰返し使用における静電的な安定性が得
られる。

【００１３】また本発明は、前記塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体として、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
が選ばれることを特徴とする。

【００１４】本発明に従えば、塩化ビニル−酢酸ビニル
系共重合体として、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を
選ぶことによって、優れた感度およびその繰返し使用に
おける静電的な安定性が得られる。

【００１５】また本発明は、前記塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体として、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイ
ン酸共重合体が選ばれることを特徴とする。

【００１６】本発明に従えば、塩化ビニル−酢酸ビニル
系共重合体として、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン
酸共重合体を選ぶことによって、優れた感度およびその
繰返し使用における静電的な安定性が得られる。

【００１７】また本発明は、前記塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体として、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール共重合体が選ばれることを特徴とする。

【００１８】本発明に従えば、塩化ビニル−酢酸ビニル
系共重合体として、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体を選ぶことによって、優れた感度およ
びその繰返し使用における静電的な安定性が得られる。

【００１９】また本発明は、前記塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体において、モノマー換算
で、ビニルアルコール成分が少なくとも１０重量％以上
含まれていることを特徴とする。

【００２０】本発明に従えば、塩化ビニル−酢酸ビニル
−ビニルアルコール共重合体として、モノマー換算で、
ビニルアルコール成分が少なくとも１０重量％以上含ま
れるものを用いることによって、優れた感度およびその
繰返し使用における静電的な安定性が得られる。

【００２１】また本発明は、導電性支持体上に電荷発生
層と電荷輸送層とを有する電子写真感光体の製造方法で
あって、電荷発生層用の塗布液を塗布して電荷発生層を
形成する電子写真感光体の製造方法において、前記電荷
発生層用塗布液は、τ型無金属フタロシアニンをケトン
系溶剤中で分散してなることを特徴とする電子写真感光
体の製造方法である。

【００２２】本発明に従えば、機能分離型感光体の製造
において、特に電荷発生層用の塗布液はτ型無金属フタ
ロシアニンをケトン系溶剤中で分散してなり、電荷発生
層は該塗布液を塗布することによって形成される。該塗
布液は分散性に優れ、これを用いることによって優れた
塗布性で電荷発生層を形成することができる。このよう
にして作成された電子写真感光体は、上述したように優
れた感度および繰返し使用における静電的な安定性を有
する。

【００２３】また本発明は、前記電荷発生層塗布液は、
結着樹脂として塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体を含
有することを特徴とする。

【００２４】本発明に従えば、電荷発生層用の塗布液は
結着樹脂として塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体を含
有してなる。該塗布液を用いることによって、優れた塗
布性で電荷発生層を形成することができる。

【００２５】また本発明は、前記塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体として、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイ
ン酸共重合体が含有されることを特徴とする。

【００２６】本発明に従えば、塩化ビニル−酢酸ビニル
系共重合体として塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸
共重合体を含有する。該塗布液を用いることによって、
優れた塗布性で電荷発生層を形成することができる。

【００２７】また本発明は、前記塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体として、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール共重合体が含有されることを特徴とする。

【００２８】本発明に従えば、塩化ビニル−酢酸ビニル
系共重合体として塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル
コール共重合体を含有する。該塗布液を用いることによ
って、優れた塗布性で電荷発生層を形成することができ
る。

【００２９】また本発明は、電子写真感光体を用い、反
転現像プロセスで画像を形成する画像形成装置におい
て、前記電子写真感光体は、上述のうちのいずれか１つ
に記載の電子写真感光体であることを特徴とする。

【００３０】本発明に従えば、反転現像プロセスを用い
た画像形成装置に対して上述したような電子写真感光体
を適用することによって、該画像形成装置で優れた画像
特性の画像が形成可能となる。

【００３１】ここで、本発明の電子写真感光体を構成す
る材料について説明する。

【００３２】電荷発生層に含有される電荷発生材料とし
ては周知のτ型無金属フタロシアニンを用いることがで
き、たとえば特開昭５８−１８２６３９号公報、特開昭
６０−１９１５３号公報および特開昭６３−２６７９４
９号公報に記載されているものを用いることができる。
また、これらの無金属フタロシアニンを２種以上混合し
て使用しても構わない。

【００３３】用いられるτ型無金属フタロシアニンは、
ブラッグ角度（２θ±０．２度）が７．２，９．２，１
６．８，１７．４，２０．４および２０．９に強い線を
示すＸ線回折図形を有するものである。特に赤外線吸収
スペクトルとして、７００〜７６０ｃｍ^-1の間に７５１
±２ｃｍ^-1が最も強い４本の吸収帯を有し、１３２０〜
１３４０ｃｍ^-1の間に２本のほぼ同じ強さの吸収帯を有
し、３２８８±３ｃｍ^-1に特徴的な吸収を有するものが
望ましい。

【００３４】τ型無金属フタロシアニンの代表的な製造
方法における特徴点は、α型無金属フタロシアニンを５
０〜１８０℃、好ましくは６０〜１３０℃において、τ
型を示すに足りる充分な時間だけ、撹拌または機械的歪
力をもってミリングすることである。なお、製造条件に
依存する結晶中の格子欠陥や転移のでき方などによっ
て、Ｘ線回折および赤外線吸収スぺクトルには多少の誤
差が生じるので、上述のように範囲をもって示してい
る。

【００３５】τ型無金属フタロシアニンの原料として用
いることができるα型無金属フタロシアニンは、モーザ
ーおよびトーマスの「フタロシアニン化合物」（Moser
andThomas“Phthalocyanine Compounds”）などの公知
の方法や他の適当な方法によって得られる。α型無金属
フタロシアニンを得るために用いられる無金属フタロシ
アニンは、硫酸などの酸によって脱金属ができるリチウ
ムフタロシアニン、ナトリウムフタロシアニン、カルシ
ウムフタロシアニンおよびマグネシウムフタロシアニン
などの金属フタロシアニンを酸処理することによって得
られる。あるいは、フタロジニトリル、アミノイミノイ
ソインドレニンまたはアルコキシイミノイソインドレニ
ンなどから直接合成される。無金属フタロシアニンを望
ましくは５℃以下で硫酸などの酸に溶解した後、または
無金属フタロシアニンを酸塩にした後、水、好ましくは
氷水中に注いで、再折出することによって、または加水
分解することによって、α型無金属フタロシアニンが得
られる。

【００３６】α型無金属フタロシアニンは、乾燥状態ま
たは水ペースト状態で、撹拌またはミリングされる。こ
のとき、顔料の通常の分散、乳化および混合などと同様
の分散メディア、たとえばガラスビーズ、スチールビー
ズまたはジルコニアビーズを用いても構わない。また、
分散メディアを用いなくても構わない。分散媒として
は、撹拌やミリング時の温度において液状のものが用い
られ、たとえばグリセリン、エチレングリコールおよび
ジエチレングリコールなどのアルコール系、ポリエチレ
ングリコール系、エテレングリコールモノメチルエーテ
ルおよびエチレングリコールモノブチルエーテルなどの
セロソルブ系、ケトン系、およびエステルケトン系の溶
剤が挙げられる。

【００３７】α型からτ型への結晶転移工程で使用され
る撹拌またはミリング装置としては、たとえばサンドミ
ル、ニーダ、ホモミキサ、アジタ、スターラ、バンバリ
ミキサ、ボールミル、アトライタおよびペイントシェー
カが挙げられる。結晶転移工程における温度範囲は、上
述のように５０〜１８０℃、好ましくは６０〜１３０℃
に選ばれる。また、通常の結晶転移工程と同様に結晶核
を用いても構わない。

【００３８】結晶転移速度は、撹拌やミリングの効率、
歪力、原料、粒子径および温度などの種々の条件に依存
する。結晶転移工程終了後、通常の精製法で磨砕助剤お
よび分散媒などを除去し、乾燥することによって目的と
するτ型無金属フタロシアニンが得られる。

【００３９】また、用いられるτ型無金属フタロシアニ
ンとして、ブラッグ角度（２θ±０．２度）が７．５，
９．１，１６．８，１７．３，２０．３，２０．８，２
１．４および２１．７に強い線を示すＸ線回折図形を有
する変形τ型無金属フタロシアニンがある。変形τ型無
金属フタロシアニンとしては、特に、赤外線吸収スペク
トルにおいて、７００〜７６０ｃｍ^-1の間に７５３±２
ｃｍ^-1が最も強い４本の吸収帯を有し、１３２０〜１３
４０ｃｍ^-1の間に２本のほぼ同じ強さの吸収帯を有し、
３２９７±３ｃｍ^-1に特徴的な吸収を有するものが望ま
しい。変形τ型無金属フタロシアニンは、上述のτ型無
金属フタロシアニンとほぼ同様な製造方法によって得る
ことができる。

【００４０】電荷発生層に含有される結着樹脂として
は、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体が用いられる。
特に、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合比が、塩化ビニ
ル／酢酸ビニル＝９５／５〜５０／５０の範囲のものが
使用される。また、塩化ビニルおよび酢酸ビニル以外
に、共重合体全休の１５重量％までの量の第３の共重合
体成分が含まれていてもよい。第３の共重合体成分とし
ては、ビニルアルコールおよびマレイン酸が挙げられ
る。また、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体の分子量
は、３０００〜８００００の範囲のものが好ましい。

【００４１】塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体は、具
体的に、塩化ビニル−酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニルアルコール、塩化ビニル−酢酸ビニル−マ
レイン酸、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
−マレイン酸および塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル
酸などの共重合体が挙げられる。

【００４２】電荷発生層において、τ型無金属フタロシ
アニンと塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体を含有する
ことによって、キャリア発生効率や電荷注入効率が向上
して、静電特性、特に感度が著しく向上し、また繰返し
使用時の電位安定性が著しく向上するものと推測され
る。

【００４３】また、τ型無金属フタロシアニンと塩化ビ
ニル−酢酸ビニル系共重合体を含有する電荷発生層塗工
液は分散性が非常に安定しているので、塗工時の塗膜欠
陥が低減し、それにともなう画像欠陥が防止できる。

【００４４】電荷発生層において、電荷発生材料と結着
樹脂との配合比（重量比）は、電荷発生材料／結着樹脂
＝１／１０〜２０／１の範囲に選ばれる。１／１０より
も小さいときには感度が悪くなり実使用に耐えられず、
２０／１よりも大きいときには繰返し使用時における帯
電性の低下が大きくなるので好ましくない。なお、後述
する実施例から、好ましくは１／３〜３／１の範囲に選
ばれる。また、電荷発生層の厚みは、０．０５μｍ〜５
μｍの範囲に選ばれる。０．０５μｍよりも小さいとき
には感度が悪くなり、５μｍよりも大きいときには繰返
し使用時において帯電性の低下が大きくなるので好まし
くない。なお、後述する実施例から、好ましくは０．１
μｍ〜０．６μｍの範囲に選ばれる。

【００４５】電荷輸送層の材料には、正孔輸送物質と電
子輸送物質とがある。正孔輸送物質としては、たとえば
ポリ−Ｎ−カルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−
カルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピ
レン−ホルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリ
ビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾー
ル誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘
導体、エナミン誘導体、および以下の一般式（化１）〜
（化２０）で示される化合物がある。

【００４６】

【化１】

【００４７】式（化１）中、Ｒ１はメチル基、エチル
基、２−ヒドロキシエチル基または２−クロルエチル基
を表し、Ｒ２はメチル基、エチル基、ベンジル基または
フェニル基を表し、Ｒ３は水素原子、塩素原子、臭素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコ
キシ基、ジアルキルアミノ基またはニトロ基を表す。

【００４８】

【化２】

【００４９】式（化２）中、Ａｒはナフタレン環、アン
トラセン環、スチリル環およびそれらの置換体、あるい
はピリジン環、フラン環、チオフェン環を表し、Ｒはア
ルキル基またはベンジル基を表す。

【００５０】

【化３】

【００５１】式（化３）中、Ｒ１はアルキル基、ベンジ
ル基、フェニル基またはナフチル基を表し、Ｒ２は水素
原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアル
コキシ基、ジアルキルアミノ基、ジアラルキルアミノ基
またはジアリールアミノ基を表し、ｎは１〜４の整数を
表し、ｎが２以上のときはＲ２は同じでも異なっていて
もよい。Ｒ３は水素原子またはメトキシ基を表す。

【００５２】

【化４】

【００５３】式（化４）中、Ｒ１は炭素数１〜１１のア
ルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基または複素
環基を表し、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ同一でも異なっ
ていてもよく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、
ヒドロキシアルキル基、クロルアルキル基または置換も
しくは無置換のアラルキル基を表し、またＲ２およびＲ
３は互いに結合して窒素を含む複素環を形成していても
よい。Ｒ４は同一でも異なっていてもよく、水素原子、
炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基またはハロゲ
ン原子を表す。

【００５４】

【化５】

【００５５】式（化５）中、Ｒは水素原子またはハロゲ
ン原子を表し、Ａｒは置換もしくは無置換のフェニル
基、ナフチル基、アントリル基またはカルバゾリル基を
表す。

【００５６】

【化６】

【００５７】式（化６）中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭
素数１〜４のアルキル基を表し、Ａｒは

【００５８】

【化７】

【００５９】を表し、Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基
を表し、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４
のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはジア
ルキルアミノ基を表し、ｎは１または２であって、ｎが
２のときはＲ３は同一でも異なってもよく、Ｒ４および
Ｒ５は水素原子、炭素数１〜４の置換もしくは無置換の
アルキル基または置換もしくは無置換のべンジル基を表
す。

【００６０】

【化８】

【００６１】式（化８）中、Ｒはカルバゾリル基、ピリ
ジル基、チエニル基、インドリル基、フリル基あるいは
それぞれ置換もしくは非置換のフェニル基、スチリル
基、ナフチル基またはアントリル基であって、これらの
置換基がジアルキルアミノ基、アルキル基、アルコキシ
基、カルボキシ基またはそのエステル、ハロゲン原子、
シアノ基、アラルキルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ラルキルアミノ基、アミノ基、ニトロ基およびアセチル
アミノ基からなる群から選ばれた基を表す。

【００６２】

【化９】

【００６３】式（化９）中、Ｒ１は低級アルキル基、置
換もしくは無置換のフェニル基またはベンジル基を表
し、Ｒ２は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基あるいは低級ア
ルキル基またはベンジル基で置換されたアミノ基を表
し、ｎは１または２の整数を表す。

【００６４】

【化１０】

【００６５】式（化１０）中、Ｒ１は水素原子、アルキ
ル基、アルコキシ基またハロゲン原子を表し、Ｒ２およ
びＲ３はアルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル
基あるいは置換もしくは無置換アリール基を表し、Ｒ４
は水素原子、低級アルキル基または置換もしくは無置換
のフェニル基を表し、またＡｒは置換もしくは無置換の
フェニル基またはナフチル基を表す。

【００６６】

【化１１】

【００６７】式（化１１）中、ｎは０または１の整数、
Ｒ１は水素原子、アルキル基または置換もしくは無置換
のフェニル基を表し、Ａｒは置換もしくは未置換のアリ
ール基を表し、Ｒ５は置換アルキル基を含むアルキル
基、あるいは置換もしくは無置換のアリール基を表し、
Ａは

【００６８】

【化１２】

【００６９】９−アントリル基または置換もしくは無置
換のカルバソリル基を表し、ここで、Ｒ２は水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、または−Ｎ
（Ｒ３，Ｒ４）（但し、Ｒ３およびＲ４はアルキル基、
置換もしくは無置換のアラルキル基または置換もしくは
無置換のアリール基を示し、Ｒ３およびＲ４は同じでも
異なっていてもよく、Ｒ４は環を形成してもよい）を表
し、ｍは０，１，２または３の整数であって、ｍが２以
上のときはＲ２は同一でも異なってもよいく、ｎが０の
ときにはＡとＲ１は共同で環を形成してもよい。

【００７０】

【化１３】

【００７１】式（化１３）中、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は
水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ジアル
キルアミノ基またはハロゲン原子を表し、ｎは０または
１を表す。

【００７２】

【化１４】

【００７３】式（化１４）中、Ｒ１およびＲ２は置換ア
ルキル基を含むアルキル基、または置換もしくは未置換
のアリール基を表し、Ａは置換アミノ基、置換もしくは
未置換のアリール基またはアリル基を表す。

【００７４】

【化１５】

【００７５】式（化１５）中、Ｘは水素原子、低級アル
キル基またはハロゲン原子を表し、Ｒは置換アルキル基
を含むアルキル基、または置換もしくは無置換のアリー
ル基を表し、Ａは置換アミノ基または置換もしくは無置
換のアリール基を表す。

【００７６】

【化１６】

【００７７】式（化１６）中、Ｒ１は低級アルキル基、
低級アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、ｎは０〜
４の整数を表し、Ｒ２およびＲ３は同じでも異なっても
よく、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基ま
たハロゲン原子を表す。

【００７８】

【化１７】

【００７９】式（化１７）中、Ｒ１，Ｒ３およびＲ４は
水素原子、アミノ基、アルコキシ基、チオアルコキシ
基、アリールオキシ基、メチレンジオキシ基、置換もし
くは無置換のアルキル基、ハロゲン原子または置換もし
くは無置換のアリール基を表し、Ｒ２は水素原子、アル
コキシ基、置換もしくは無置換のアルキル基またはハロ
ゲン原子を表す。但し、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３およびＲ４は
すベて水素原子である場合を除く。また、ｋ，ｌ，ｍお
よびｎは１，２，３または４の整数であり、各々が２，
３または４の整数のときは、前記Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３およ
びＲ４は同じでも異なってもよい。

【００８０】

【化１８】

【００８１】式（化１８）中、Ａｒは炭素数１８個以下
の縮合多環式炭化水素基を表し、またＲ１およびＲ２は
水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキ
ル基、アルコキシ基、置換もしくは無置換のフェニル基
を表し、それぞれ同じでも異なっていてもよい。

【００８２】

【化１９】

【００８３】式（化１９）中、Ａｒは置換もしくは無置
換の芳香族炭化水素基を表し、Ａは−Ａｒ′−Ｎ（Ｒ
１，Ｒ２）（但し、Ａｒは置換もしくは無置換の芳香族
炭化水素基を表し、Ｒ１およびＲ２は置換もしくは無置
換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール
基である）を表す。

【００８４】

【化２０】

【００８５】式（化２０）中、Ａｒは芳香族炭化水素基
を、Ｒは水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基ま
たはアリール基をそれぞれ表す。ｎは０または１、ｍは
１または２であって、ｎ＝０、ｍ＝１の場合、ＡｒとＲ
は共同で環を形成してもよい。

【００８６】一般式（化１）で表される化合物には、９
−エチルカルバゾール−３−アルデヒド−１−メチル−
１−フェニルヒドラゾン、９−エチルカルバゾール−３
−アルデヒド−１−ベンジル−１−フェニルヒドラゾ
ン、９−エチルカルバゾール−３−アルデヒド−１，１
−ジフェニルヒドラゾンなどがある。一般式（化２）で
表される化合物には、４−ジエチルアミノスチリル−β
−アルデヒド−１−メチル−１−フェニルヒドラゾン、
４−メトキシナフタレン−１−アルデヒド−１−ベンジ
ル−１−フェニルヒドラゾンなどがある。

【００８７】一般式（化３）で表される化合物には、４
−メトキシベンズアルデヒド−１−メチル−１−フェニ
ルヒドラゾン、２，４−ジメトキシベンズアルデヒド−
１−ベンジル−１−フェニルヒドラゾン、４−ジエチル
アミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾ
ン、４−メトキシベンズアルデヒド−１−ベンジル−１
−（４−メトキシ）フェニルヒドラゾン、４−ジフェニ
ルアミノベンズアルデヒド−１−ベンジル−１−フェニ
ルヒドラゾン、４−ジベンジルアミノベンズアルデヒド
−１，１−ジフェニルヒドラゾンなどがある。

【００８８】一般式（化４）で表される化合物には、
１，１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパ
ン、トリス（４−ジエチルアミノフェニル）メタン、
１，１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパ
ン、２，２−ジメチル−４，４′ビス（ジエチルアミ
ノ）−トリフェニルメタンなどがある。一般式（化５）
で表される化合物には、９−（４−ジエチルアミノスチ
リル）アントラセン、９−ブロム−１０−（４−ジエチ
ルアミノスチリル）アントラセンなどがある。

【００８９】一般式（化６）で表される化合物には、９
−（４−ジメチルアミノベンジリデン）フルオレン、３
−（９−フルオレニリデン）−９−エチルカルバゾール
などがある。一般式（化８）で表される化合物には、
１，２−ビス（４−ジエチルアミノスチリル）ベンゼ
ン、１，２−ビス（２，４−ジメトキシスチリル）ベン
ゼンなどがある。一般式（化９）で表される化合物に
は、３−スチリル−９−エチルカルバゾール、３−（４
メトキシスチリル）−９−エチルカルバゾールなどがあ
る。

【００９０】一般式（化１０）で表される化合物には、
４−ジフェニルアミノスチルベン、４−ジベンジルアミ
ノスチルベン、４−ジトリルアミノスチルベン、１−
（４−ジフェニルアミノスチリル）ナフタレン、１−
（４−ジエチルアミノスチリル）ナフタレンなどがあ
る。一般式（化１１）で表される化合物には、４′−ジ
フェニルアミノ−α−フェニルスチルベン、４′−ビス
（４−メチルフェニル）アミノ−α−フェニルスチルベ
ンなどがある。

【００９１】一般式（化１３）で表される化合物には、
１−フェニル−３−（４−ジエチルアミノスチリル）−
５−（４−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−
フェニル−３−（４−ジメチルアミノスチリル）−５−
（４−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリンなどがあ
る。一般式（化１４）で表される化合物には、２，５−
ビス（４−ジエチルアミノフェニル−１，３，４−オキ
サジアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−５−
（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサ
ジアゾール、２−（４−ジメチルアミノフェニル）−５
−（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキ
サジアゾールなどがある。

【００９２】一般式（化１５）で表される化合物には、
２−Ｎ，Ｎ′−ジフェニルアミノ−５−（Ｎ−エチルカ
ルバゾール−３−イル）−１，３，４−オキサジアゾー
ル、２−（４−ジエチルアミノフェニル）−５−（Ｎ−
エチルカルバゾール−３−イル）−１，３，４−オキサ
ジアゾールなどがある。一般式（化１６）で表されるベ
ンジジン化合物には、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′
−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニ
ル］−４，４′−ジアミン、３，３′−ジメチル−Ｎ，
Ｎ，Ｎ，′Ｎ′−テトラキス（４−メチルフェニル）−
［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミンなどが
ある。

【００９３】一般式（化１７）で表されるビフェニルア
ミン化合物には、４′−メトキシ−Ｎ，Ｎ′−ジフェニ
ル−［１，１′−ビフェニル］−４−アミン、４′−メ
チル−Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−［１，
１′−ビフェニル］−４−アミン、４′−メトキシ−
Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−［１，１′−ビ
フェニル］−４−アミンなどがある。一般式（化１８）
で表されるトリアリールアミン化合物には、１−ジフェ
ニルアミノピレン、１−ジ（ｐ−トリルアミノ）ピレン
などがある。

【００９４】一般式（化１９）で表されるジオレフィン
芳香族化合物には、１，４−ビス（４−ジフェニルアミ
ノスチリル）ベンゼン、１，４−［ビス（４−ジ（ｐ−
トリル）アミノスチリル］ベンゼンなどがある。一般式
（化２０）で表されるスチリルピレン化合物には、ｌ−
（４−ジフェニルアミノスチリル）ピレン、１−［４−
ジ（ｐ−トリル）アミノスチリル］ピレンなどがある。

【００９５】一方、電子輸送物質としては、たとえばク
ロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テ
トラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９
−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−
フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサント
ン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，
８−トリニトロ−インデノ４Ｈ−インデノ［１，２−
ｂ］チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジ
ベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、および３，
５−ジメチル−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４，４′−ジフェノキノンがある。

【００９６】上述した正孔輸送物質や電子輸送物質の電
荷輸送物質は、単独または２種以上混合して用いても構
わない。

【００９７】電荷輸送層に使用される結着樹脂として
は、ポリカーボネート（ビスフェノールＡタイプ、ビス
フェノールＺタイプ）、ポリエステル、メタクリル樹
脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポ
リ酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッ
ド樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアリ
クレート、ポリアクリルアミド、ポリアミド、フェノキ
シ樹脂などが用いられる。これらの結着樹脂は、単独ま
たは２種類以上の混合物として用いることができる。

【００９８】電荷輸送層に使用される溶剤としては、
Ｎ，Ｎ′−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエ
チルケトン、キシレン、クロロホルム、１，２−ジクロ
ロエタン、ジクロロメタン、モノクロルベンゼン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチルおよび
ジメチルスルホキシドなどがある。

【００９９】電荷輸送層において電荷輸送物質と結着樹
脂との配合比（重量比）は、１／２〜５／１の範囲が好
ましい。電荷輸送層の膜厚は、５μｍ〜５０μｍの範囲
が好ましい。

【０１００】また、電荷発生層中には電荷輸送物質を含
有させることが好ましく、これによって残留電位の抑制
や帯電性、感度の向上が図れる。電荷輸送物質として
は、正孔輸送物質と電子輸送物質との両方が使用可能で
あるが、電荷輸送層に正孔輸送物質を用いたときには、
電荷発生層中に電子輸送物質を含有させることが特に効
果的である。また電荷輸送層に電子輸送物質を用いたと
きには、電荷発生層中に正孔輸送物質を含有させること
が特に効果的である。なお、前者の場合、電荷発生層に
フタロシアニンとジフェノキノンとを同時に含有させた
とき、帯電性の向上、感度の向上および残留電位の抑制
の効果が特に大きい。

【０１０１】電荷発生層や電荷輸送層を形成する方法と
しては、電荷発生層用塗工液や電荷輸送層用塗工液に基
体を浸漬する方法、あるいは各塗工液を基体にスプレー
する方法などを用いることができる。

【０１０２】また、接着性や電荷ブロッキング性を向上
させるために、電荷発生層および電荷輸送層からなる光
導電層と、基体との間に中間層を設けてもよい。中間層
は、一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はそ
の上に光導電層を溶剤で塗布することを考えると、一般
の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望
ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコー
ル、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウムなどの水溶性
樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロンなど
のアルコール可溶性樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタ
ン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂な
ど、三次元綱目構造を形成する硬化型樹脂などが挙げら
れる。なお、中間層にはモアレ防止、残留電位の低減等
のために、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコ
ニウム、酸化スズおよび酸化インジウムなどの金属酸化
物の微粉末顔料を加えても構わない。

【０１０３】電荷発生層および電荷輸送層からなる光導
電層を形成するための基体としては、アルミニウム、黄
銅、ステンレス、ニッケルなどの金属ドラムおよびシー
ト、ポリエチレンフタレート、ポリプロピレン、ナイロ
ン、紙などの材料にアルミニウム、ニッケルなどの金属
を蒸着するか、あるいは酸化チタン、酸化スズ、酸化イ
ンジウム、カーボンブラックなどの導電性物質を適当な
バインダーとともに塗布して導電処理したプラスチッ
ク、紙などのシート状または円筒状基体が挙げられる。

【０１０４】

【発明の実施の形態】（実施例１）直径６５ｍｍ、長さ
３３２ｍｍのアルミニウム製ドラムを準備した。４重量
部のアルコール可溶性ナイロン樹脂ＣＭ８０００（東レ
社製）と、８０重量部のメタノールと、２０重量部のｎ
−ブタノールとを混合し、スターラで撹拌して溶解し、
下引き層用塗工液を調整した。ドラムを下引き層用塗工
液に浸漬し、引き上げた後、１２０℃で２０分乾燥し、
ドラム上に膜厚０．５μｍの下引き層を形成した。

【０１０５】次に、２重量部のτ型無金属フタロシアニ
ン Ｌｉｏｐｈｏｔｏｎ ＴＰＡ−８９１（東洋インキ
製造社製）と、２重量部の塩化ビニル−酢酸ビニル−マ
レイン酸共重合体 ＳＯＬＢＩＮ Ｍ（日信化学工業社
製）と、１００重量部のＭＥＫ（メチルエチルケトン）
とを混合し、ボールミルで４８時間分散し、電荷発生層
用塗工液を調整した。下引き層が形成されたドラムを電
荷発生層用塗工液に浸漬し、引き上げた後、１２０℃で
１０分乾燥し、下引き層上に膜厚０．３μｍの電荷発生
層を形成した。さらに、１０重量部の

【０１０６】

【化２１】

【０１０７】で表される電荷輸送物質と、１０重量部の
ポリカーボネート樹脂 Ｋ１３００（帝人化成社製）
と、０．００２重量部のシリコンオイル ＫＦ５０（信
越化学社製）と、１５０重量部のジクロロメタンとを混
合し、撹拌して溶解し、電荷輸送層用塗工液を調整し
た。電荷発生層が形成されたドラムを電荷輸送層用塗工
液に浸漬し、引き上げた後、１２０℃で２０分乾燥し、
電荷発生層上に膜厚２５μｍの電荷輸送層を形成した。
このようにして感光体を作成した。

【０１０８】（比較例１）実施例１の電荷発生層用塗工
液の塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体に代
わって、２重量部のブチラール樹脂 エスレック ＢＸ
−１（積水化学工業社製）を使用した以外は実施例１と
同様にして感光体を作成した。

【０１０９】（比較例２）実施例１の電荷発生層用塗工
液の塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体に代
わって、２重量部のエポキシ樹脂 ＢＰＯ−２０Ｅ（理
研化学社製）を使用した以外は実施例１と同様にして感
光体を作成した。

【０１１０】（比較例３）実施例１の電荷発生層用塗工
液の組成を、２重量部の

【０１１１】

【化２２】

【０１１２】で表されるトリスアゾ顔料と、２重量部の
塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体 ＳＯＬ
ＢＩＮ Ｍ（日信化学工業社製）と、１００重量部のＭ
ＥＫとからなる組成に変更した以外は実施例１と同様に
して感光体を作成した。

【０１１３】（比較例４）比較例３の電荷発生層用塗工
液の塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体に代
わって、２重量部のブチラール樹脂 エスレック ＢＸ
−１（積水化学工業社製）を使用した以外は比較例３と
同様にして感光体を作成した。

【０１１４】実施例１および比較例１〜４の感光体を、
デジタル複写機ＡＲ５１３０（シャープ社製）改造機に
装着して、耐刷試験を行った結果を表１に示す。耐刷試
験としては、初期および３００００枚画像形成後のそれ
ぞれについて、暗部電位ＶＯ（−Ｖ）および明部電位Ｖ
Ｌ（−Ｖ）を評価した。感度に関して、初期の明部電位
ＶＬが低いことが好ましく、静電的な安定性に関して、
繰返し使用における暗部電位ＶＯおよび明部電位ＶＬの
変化が少ないことが好ましい。実施例１、すなわちτ型
無金属フタロシアニンと塩化ビニル−酢酸ビニル系共重
合体とを含有する電荷発生層を有する感光体は、比較例
１〜４に比べて、感度が良好でかつ初期と３００００枚
画像形成後との電位がほぼ同じであり、繰返し使用にお
いて静電的な安定性が優れていることが分かった。

【０１１５】

【表１】

【０１１６】また、実施例１および比較例１，２の感光
体について、同様の複写機で、反転現像方式で全面が白
色となる白べたの画像形成を行ったところ、実施例１お
よび比較例１では欠陥のない画像が得られたが、比較例
２では黒い斑点状の欠陥がある画像が得られた。以上の
評価結果から、実施例１のτ型無金属フタロシアニンと
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体とを含有する電荷発
生層を有する感光体において、欠陥の少ない画像が形成
でき、かつ静電的な特性が良好であることが分かった。

【０１１７】（実施例２）実施例１の電荷発生層用塗工
液において、τ型無金属フタロシアニンと塩化ビニル−
酢酸ビニル−マレイン酸共重合体との量を、それぞれ
０．８，３．２重量部に変更した以外は、実施例１と同
様にして感光体を作成した。

【０１１８】（実施例３）実施例１の電荷発生層用塗工
液において、τ型無金属フタロシアニンと塩化ビニル−
酢酸ビニル−マレイン酸共重合体との量を、それぞれ
１，３重量部に変更した以外は、実施例１と同様にして
感光体を作成した。

【０１１９】（実施例４）実施例１の電荷発生層用塗工
液において、τ型無金属フタロシアニンと塩化ビニル−
酢酸ビニル−マレイン酸共重合体との量を、それぞれ
３，１重量部に変更した以外は、実施例１と同様にして
感光体を作成した。

【０１２０】（実施例５）実施例１の電荷発生層用塗工
液において、τ型無金属フタロシアニンと塩化ビニル−
酢酸ビニル−マレイン酸共重合体との量を、それぞれ
３．２，０．８重量部に変更した以外は、実施例１と同
様にして感光体を作成した。

【０１２１】実施例１〜５の感光体を、同様の複写機に
装着して、耐刷試験を行った結果を表２に示す。実施例
１，３，４、すなわちτ型無金属フタロシアニンと塩化
ビニル−酢酸ビニル系共重合体との比率を、重量比で、
τ型無金属フタロシアニン／塩化ビニル−酢酸ビニル系
共重合体＝１／３，１／１，３／１とした電荷発生層を
有する感光体において、特に感度が良好でかつ初期と３
００００枚画像形成後との電位がほぼ同じであり、繰返
し使用において静電的な安定性が優れていることが分か
った。

【０１２２】

【表２】

【０１２３】以上の評価結果から、τ型無金属フタロシ
アニン／塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体＝１／３〜
３／１の範囲の電荷発生層を有する感光体において、欠
陥の少ない画像が形成でき、かつ特に高感度で静電的な
安定性の優れた静電特性であることが分かった。

【０１２４】（実施例６）実施例１の電荷発生層におい
て、膜厚を０．０５μｍに変更した以外は、実施例１と
同様にして感光体を作成した。

【０１２５】（実施例７）実施例１の電荷発生層におい
て、膜厚を０．１μｍに変更した以外は、実施例１と同
様にして感光体を作成した。

【０１２６】（実施例８）実施例１の電荷発生層におい
て、膜厚を０．６μｍに変更した以外は、実施例１と同
様にして感光体を作成した。

【０１２７】（実施例９）実施例１の電荷発生層におい
て、膜厚を０．８μｍに変更した以外は、実施例１と同
様にして感光体を作成した。

【０１２８】実施例１，６〜９の感光体を、同様の複写
機に装着して、耐刷試験を行った結果を表３に示す。実
施例１，７，８、すなわち膜厚を０．１，０．３，０．
６μｍとした電荷発生層を有する感光体において、特に
感度が良好でかつ初期と３００００枚画像形成後との電
位がほぼ同じであり、繰返し使用において静電的な安定
性が優れていることが分かった。

【０１２９】

【表３】

【０１３０】以上の評価結果から、膜厚が０．１〜０．
６μｍの範囲の電荷発生層を有する感光体において、欠
陥の少ない画像が形成でき、かつ特に高感度で静電的な
安定性の優れた静電特性であることが分かった。

【０１３１】（実施例１０）直径６５ｍｍ、長さ３５０
ｍｍのアルミニウム製ドラムを準備した。４重量部の水
溶性ポリビニルアセタール樹脂 ＫＷ−１（積水化学工
業社製）と、８０重量部のメタノールと、２０重量部の
水とを混合し、スターラで撹拌して溶解し、下引き層用
塗工液を調整した。ドラムを下引き層用塗工液に浸漬
し、引き上げた後、１２０℃で２０分乾燥し、ドラム上
に膜厚１μｍの下引き層を形成した。

【０１３２】次に、２重量部のτ型無金属フタロシアニ
ン Ｌｉｏｐｈｏｔｏｎ ＴＰＡ−８９１（東洋インキ
製造社製）と、２重量部の塩化ビニル−酢酸ビニル−ア
クリル酸共重合体 ＳＯＬＢＩＮ ＭＦ（日信化学工業
社製）と、１００重量部のＭＥＫとを混合し、ボールミ
ルで４８時間分散し、電荷発生層用塗工液を調整した。
下引き層が形成されたドラムを電荷発生層用塗工液に浸
漬し、引き上げた後、１２０℃で１０分乾燥し、下引き
層上に膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。さら
に、８重量部の

【０１３３】

【化２３】

【０１３４】で表される電荷輸送物質と、１０重量部の
ポリカーボネート樹脂 Ｚ２００（三菱瓦斯化学社製）
と、０．００２重量部のシリコンオイル ＫＦ５０（信
越化学社製）と、１２０重量部のジクロロメタンとを混
合し、撹拌して溶解し、電荷輸送層用塗工液を調整し
た。電荷発生層が形成されたドラムを電荷輸送層用塗工
液に浸漬し、引き上げた後、１２０℃で２０分乾燥し、
電荷発生層上に膜厚３５μｍの電荷輸送層を形成した。
このようにして感光体を作成した。

【０１３５】（実施例１１）実施例１０の電荷発生層用
塗工液に代わって、実施例１の電荷発生層用塗工液を用
いたた以外は、実施例１０と同様にして感光体を作成し
た。

【０１３６】（実施例１２）実施例１０の電荷発生層用
塗工液の塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル酸共重合体
に代わって、２重量部の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体 ＳＯＬＢＩＮＣ（日信化学工業社製）を使用した以
外は実施例１０と同様にして感光体を作成した。

【０１３７】（実施例１３）実施例１０の電荷発生層用
塗工液の塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル酸共重合体
に代わって、２重量部の塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコ−ル共重合体 ＳＯＬＢＩＮ Ａ（日信化学工
業社製）を使用した以外は実施例１０と同様にして感光
体を作成した。なお、該共重合体のビニルアルコ−ル成
分の含有率は、モノマー換算で５重量％である。

【０１３８】（実施例１４）実施例１０の電荷発生層用
塗工液の塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル酸共重合体
に代わって、２重量部の塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコ−ル共重合体 ＳＯＬＢＩＮ Ａ５（日信化学
工業社製）を使用した以外は実施例１０と同様にして感
光体を作成した。なお、該共重合体のビニルアルコ−ル
成分の含有率は、モノマー換算で１２重量％である。

【０１３９】実施例１０〜１４の感光体を、同様の複写
機に装着して、耐刷試験を行った結果を表４に示す。実
施例１１〜１４、すなわち塩化ビニル−酢酸ビニル系共
重合体として、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体および塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体を含有す
る電荷発生層を有する感光体において、感度が良好でか
つ初期と３００００枚画像形成後との電位がほぼ同じで
あり、繰返し使用において静電的な安定性が優れている
ことが分かった。また、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体を含有する電荷発生層を有する感
光体においては、特に、ビニルアルコール成分がモノマ
ー換算で１０重量％以上であるときに、感度が良好であ
ることが分かった。

【０１４０】

【表４】

【０１４１】（比較例５）実施例１の電荷発生層用塗工
液の組成を、２重量部のτ型無金属フタロシアニン Ｌ
ｉｏｐｈｏｔｏｎ ＴＰＡ−８９１（東洋インキ製造社
製）と、２重量部の塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン
酸共重合体 ＳＯＬＢＩＮ Ｍ（日信化学工業社製）
と、１００重量部のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）とか
らなる組成に変更した以外は実施例１と同様にして感光
体を作成した。

【０１４２】実施例１および比較例５の感光体を、同様
の複写機に装着して、初期の電位を測定した結果を表５
に示す。実施例１、すなわちＭＥＫを含有する電荷発生
層を有する感光体において、感度が優れていることが分
かった。以上の結果から、分散媒としてはＭＥＫなどの
ケトン系溶剤が好ましいことが分かった。

【０１４３】

【表５】

【０１４４】また、実施例１１〜１３および比較例２の
電荷発生層用塗工液を密封容器に入れて常温で静置保存
し、液の状態を観察した結果を表６に示す。実施例１１
〜１３、すなわち塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体と
して、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体および塩化ビニル−酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体を含有する電荷発
生層用塗工液において、特に塩化ビニル−酢酸ビニル−
マレイン酸共重合体および塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体を含有する電荷発生層用塗工液
において、保存安定性が優れていることが分かった。

【０１４５】

【表６】

【０１４６】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、機能分離
型感光体において電荷発生層にτ型無金属フタロシアニ
ンと塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体とを含有させた
ので、高感度で繰返し使用における静電的な安定性に優
れた静電特性の感光体が実現できる。特に、τ型無金属
フタロシアニンと塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体と
の重量比を１／３〜３／１に選んだ。また、電荷発生層
の膜厚を０．１μｍ〜０．６μｍの範囲に選んだ。ま
た、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体として、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール共重合体を選んだ。また、塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコール共重合体において、ビニルア
ルコール成分が、モノマー換算で、少なくとも１０重量
％以上含まれているようにした。したがって、さらに高
感度で静電的な安定性に優れた静電特性の感光体が実現
できる。

【０１４７】また本発明によれば、機能分離型感光体の
製造において電荷発生層用の塗布液はτ型無金属フタロ
シアニンをケトン系溶剤中で分散してなり、電荷発生層
は保存安定性に優れた該塗布液を塗布することによって
形成される。したがって、優れた塗布性で電荷発生層を
形成することができる。特に、電荷発生層用の塗布液に
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体をさらに含有させ
た。また、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体として塩
化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体を含有させ
た。したがって、さらに優れた塗布性で電荷発生層を形
成することができる。

【０１４８】また本発明によれば、反転現像プロセスを
用いた画像形成装置に対して上述したような電子写真感
光体を適用することによって、該画像形成装置で欠陥の
少ない優れた画像特性の画像が形成可能となる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｇ 5/06 ３７１ Ｇ０３Ｇ 5/06 ３７１ (72)発明者 寺本 高広 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 川原 在彦 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 森田 和茂 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に電荷発生層と電荷輸送
   層とを有する電子写真感光体において、 前記電荷発生層は、τ型無金属フタロシアニンと塩化ビ
   ニル−酢酸ビニル系共重合体とを含有することを特徴と
   する電子写真感光体。
2. 【請求項２】 前記τ型無金属フタロシアニンと塩化ビ
   ニル−酢酸ビニル系共重合体との重量比が、τ型無金属
   フタロシアニン／塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体で
   １／３〜３／１の範囲であることを特徴とする請求項１
   記載の電子写真感光体。
3. 【請求項３】 前記電荷発生層の膜厚が、０．１μｍ〜
   ０．６μｍの範囲に選ばれることを特徴とする請求項１
   記載の電子写真感光体。
4. 【請求項４】 前記塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体
   として、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が選ばれるこ
   とを特徴とする請求項１記載の電子写真感光体。
5. 【請求項５】 前記塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体
   として、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体
   が選ばれることを特徴とする請求項１記載の電子写真感
   光体。
6. 【請求項６】 前記塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体
   として、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
   重合体が選ばれることを特徴とする請求項１記載の電子
   写真感光体。
7. 【請求項７】 前記塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
   ルコール共重合体において、モノマー換算で、ビニルア
   ルコール成分が少なくとも１０重量％以上含まれている
   ことを特徴とする請求項６記載の電子写真感光体。
8. 【請求項８】 導電性支持体上に電荷発生層と電荷輸送
   層とを有する電子写真感光体の製造方法であって、電荷
   発生層用の塗布液を塗布して電荷発生層を形成する電子
   写真感光体の製造方法において、 前記電荷発生層用塗布液は、τ型無金属フタロシアニン
   をケトン系溶剤中で分散してなることを特徴とする電子
   写真感光体の製造方法。
9. 【請求項９】 前記電荷発生層塗布液は、結着樹脂とし
   て塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体を含有することを
   特徴とする請求項８記載の電子写真感光体の製造方法。
10. 【請求項１０】 前記塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合
    体として、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合
    体が含有されることを特徴とする請求項９記載の電子写
    真感光体の製造方法。
11. 【請求項１１】 前記塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合
    体として、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
    共重合体が含有されることを特徴とする請求項９記載の
    電子写真感光体の製造方法。
12. 【請求項１２】 電子写真感光体を用い、反転現像プロ
    セスで画像を形成する画像形成装置において、 前記電子写真感光体は、請求項１〜７のうちのいずれか
    １つに記載の電子写真感光体であることを特徴とする電
    子写真感光体を用いた画像形成装置。