JPH11199532A - シクロヘキサノールの製造方法 - Google Patents
シクロヘキサノールの製造方法Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 ベンゼン(Bz)からシクロヘキサノール
(CHL)を一貫製造する方法において、シクロヘキサ
ン(CHX)やBzが水和反応系内で高濃度で蓄積する
問題を解決し、蓄積防止のための抽出蒸留への循環や複
雑な精製工程を要せず、また抽出蒸留の負荷を減じ、コ
ストダウンする。 【解決手段】 1)〜4)の工程を有するBzからCH
Lを連続製造する方法。 1)Bzを部分水素化したBz、CHXおよびCHEを
含有する水添反応混合物を各成分に分離する第1分離工
程。 2)1)で分離したCHEを水和してCHE、CHLお
よびメチルシクロペンテン(MCPN)を含有する混合
物を得る水和工程。 3)2)の水和反応混合物をCHE−MCPN混合物と
CHLとに分離する第2分離工程。 4)3)で分離したCHE−MCPN混合物の少なくと
も一部をMCPN高濃度成分と低濃度成分とに分離し、
高濃度成分を系外に排出し、低濃度成分を2)に循環す
る循環工程。
(CHL)を一貫製造する方法において、シクロヘキサ
ン(CHX)やBzが水和反応系内で高濃度で蓄積する
問題を解決し、蓄積防止のための抽出蒸留への循環や複
雑な精製工程を要せず、また抽出蒸留の負荷を減じ、コ
ストダウンする。 【解決手段】 1)〜4)の工程を有するBzからCH
Lを連続製造する方法。 1)Bzを部分水素化したBz、CHXおよびCHEを
含有する水添反応混合物を各成分に分離する第1分離工
程。 2)1)で分離したCHEを水和してCHE、CHLお
よびメチルシクロペンテン(MCPN)を含有する混合
物を得る水和工程。 3)2)の水和反応混合物をCHE−MCPN混合物と
CHLとに分離する第2分離工程。 4)3)で分離したCHE−MCPN混合物の少なくと
も一部をMCPN高濃度成分と低濃度成分とに分離し、
高濃度成分を系外に排出し、低濃度成分を2)に循環す
る循環工程。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ベンゼンからシク
ロヘキサノールを製造するに当たり、シクロヘキサノー
ル及び副生成物であるシクロヘキサンの純度を向上する
ようにしたシクロヘキサノールの製造方法に関する。
ロヘキサノールを製造するに当たり、シクロヘキサノー
ル及び副生成物であるシクロヘキサンの純度を向上する
ようにしたシクロヘキサノールの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ベンゼンを部分水素化してシクロ
ヘキセン(以下、「CHE」と称すことがある)、シク
ロヘキサン(以下、「CHX」と称すことがある)、及
びベンゼン(以下、「Bz」と称すことがある)からな
る反応混合物を得る水添反応方法、これを抽出蒸留によ
って各成分に分離する方法、並びに分離されたCHEを
ゼオライト触媒等の存在下で水和してシクロヘキサノー
ル(以下、「CHL」と称すことがある)を得る水和反
応方法が知られている。また、この水和反応の生成物か
らCHL分離後、副生成物であるメチルシクロペンテン
(以下、「MCPN」と称すことがある)と未反応のC
HEとを抽出蒸留に供することも知られており(例え
ば、特開平4−41448号公報等)、更に上記の水
添、分離及び水和を一貫して行い、かつCHL分離後、
MCPNと未反応のCHEを抽出蒸留工程に循環すると
共に、該CHEを脱水素してBzに変換して水添反応工
程に循環することによって、使用原料の利用率を向上さ
せることができることが特開平7−165646号公報
に記載されている。すなわち、水和反応で副生したMC
PNは未反応のCHEと共に水和反応工程か又は抽出蒸
留工程に循環されることになる。
ヘキセン(以下、「CHE」と称すことがある)、シク
ロヘキサン(以下、「CHX」と称すことがある)、及
びベンゼン(以下、「Bz」と称すことがある)からな
る反応混合物を得る水添反応方法、これを抽出蒸留によ
って各成分に分離する方法、並びに分離されたCHEを
ゼオライト触媒等の存在下で水和してシクロヘキサノー
ル(以下、「CHL」と称すことがある)を得る水和反
応方法が知られている。また、この水和反応の生成物か
らCHL分離後、副生成物であるメチルシクロペンテン
(以下、「MCPN」と称すことがある)と未反応のC
HEとを抽出蒸留に供することも知られており(例え
ば、特開平4−41448号公報等)、更に上記の水
添、分離及び水和を一貫して行い、かつCHL分離後、
MCPNと未反応のCHEを抽出蒸留工程に循環すると
共に、該CHEを脱水素してBzに変換して水添反応工
程に循環することによって、使用原料の利用率を向上さ
せることができることが特開平7−165646号公報
に記載されている。すなわち、水和反応で副生したMC
PNは未反応のCHEと共に水和反応工程か又は抽出蒸
留工程に循環されることになる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、MCP
Nを含む未反応のCHEを抽出蒸留工程に循環する方法
を採用する理由の1つは、この未反応のCHE中に同時
に含まれるCHXやBzの有効利用の他、上記公知文献
に直接の記載はないが、CHXやBzの水和反応系内へ
の蓄積防止があると思われる。即ち、抽出蒸留工程で分
離されたCHE中には不可避的に少量のCHXやBzが
含まれるが、これらは水和反応では消費されずに、次の
未反応のCHEとCHLとを分離する工程でCHEと共
に取り出される。この未反応のCHEを含む成分は原料
として水和工程に循環するのが通常であるが、これだけ
ではCHXやBzが水和反応系内で高濃度で蓄積してし
まうという問題点がある。この蓄積を防止するために、
未反応のCHEを含む成分を抽出蒸留工程に循環する
と、CHXとBzを分離して有効利用できる。従って、
この抽出蒸留の際、未反応CHE中に含まれるMCPN
はCHXと一緒に留出される。
Nを含む未反応のCHEを抽出蒸留工程に循環する方法
を採用する理由の1つは、この未反応のCHE中に同時
に含まれるCHXやBzの有効利用の他、上記公知文献
に直接の記載はないが、CHXやBzの水和反応系内へ
の蓄積防止があると思われる。即ち、抽出蒸留工程で分
離されたCHE中には不可避的に少量のCHXやBzが
含まれるが、これらは水和反応では消費されずに、次の
未反応のCHEとCHLとを分離する工程でCHEと共
に取り出される。この未反応のCHEを含む成分は原料
として水和工程に循環するのが通常であるが、これだけ
ではCHXやBzが水和反応系内で高濃度で蓄積してし
まうという問題点がある。この蓄積を防止するために、
未反応のCHEを含む成分を抽出蒸留工程に循環する
と、CHXとBzを分離して有効利用できる。従って、
この抽出蒸留の際、未反応CHE中に含まれるMCPN
はCHXと一緒に留出される。
【0004】しかしながら、上記の方法には以下のよう
な問題点が存在する。すなわち、CHXはMCPNを含
有する形で取得されるため、これを再利用するために複
雑な工程が必要である。例えば、特開平3−28754
8号公報では、MCPNを含有するCHXに水素化処理
を施してMCPNをメチルシクロペンタンとし、これを
蒸留によって分離して精製CHXを得ている。このよう
にCHXをそのまま別用途に使用する場合、及びCHX
をBzに変換して本発明のようなベンゼンからシクロヘ
キセンやシクロヘキサノールを製造する方法などに再利
用する場合のいずれにおいても、このような複雑な精製
工程を必要とするのは好ましくない。
な問題点が存在する。すなわち、CHXはMCPNを含
有する形で取得されるため、これを再利用するために複
雑な工程が必要である。例えば、特開平3−28754
8号公報では、MCPNを含有するCHXに水素化処理
を施してMCPNをメチルシクロペンタンとし、これを
蒸留によって分離して精製CHXを得ている。このよう
にCHXをそのまま別用途に使用する場合、及びCHX
をBzに変換して本発明のようなベンゼンからシクロヘ
キセンやシクロヘキサノールを製造する方法などに再利
用する場合のいずれにおいても、このような複雑な精製
工程を必要とするのは好ましくない。
【0005】また、このMCPNを含むCHEを抽出蒸
留工程に循環する方法では、抽出蒸留の負荷が大きいと
いう問題点もある。即ち、このCHEを抽出蒸留工程に
循環しない場合よりも供給量が増加し、不純物も増大す
るため、還流比が増大したり、塔径も大きくせざるを得
ない等の他、リボイラーやコンデンサーの負荷も増大
し、コストアップにつながってしまう。
留工程に循環する方法では、抽出蒸留の負荷が大きいと
いう問題点もある。即ち、このCHEを抽出蒸留工程に
循環しない場合よりも供給量が増加し、不純物も増大す
るため、還流比が増大したり、塔径も大きくせざるを得
ない等の他、リボイラーやコンデンサーの負荷も増大
し、コストアップにつながってしまう。
【0006】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたもので、副生成物であるシクロヘキサンを複雑な
工程を必要とせずに純度を向上し、他のプロセス(シク
ロヘキサン酸化プロセスなど)に利用でき、また従来法
よりコストアップにならない方法を提供しようとするも
のである。
されたもので、副生成物であるシクロヘキサンを複雑な
工程を必要とせずに純度を向上し、他のプロセス(シク
ロヘキサン酸化プロセスなど)に利用でき、また従来法
よりコストアップにならない方法を提供しようとするも
のである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、下記
(1)〜(4)の工程を有するベンゼンから連続的にシ
クロヘキサノールを製造する方法に存するものである。 (1)ベンゼンを部分水素化して得られた、ベンゼン、
シクロヘキサンおよびシクロヘキセンを含有する水添反
応混合物を、ベンゼン、シクロヘキサンおよびシクロヘ
キセンの各成分に分離する第1分離工程。 (2)上記(1)の第1分離工程で分離されたシクロヘ
キセンを水和して、シクロヘキセン、シクロヘキサノー
ルおよびメチルシクロペンテンを含有する水和反応混合
物を得る水和工程。
(1)〜(4)の工程を有するベンゼンから連続的にシ
クロヘキサノールを製造する方法に存するものである。 (1)ベンゼンを部分水素化して得られた、ベンゼン、
シクロヘキサンおよびシクロヘキセンを含有する水添反
応混合物を、ベンゼン、シクロヘキサンおよびシクロヘ
キセンの各成分に分離する第1分離工程。 (2)上記(1)の第1分離工程で分離されたシクロヘ
キセンを水和して、シクロヘキセン、シクロヘキサノー
ルおよびメチルシクロペンテンを含有する水和反応混合
物を得る水和工程。
【0008】(3)上記(2)の水和工程で得られた水
和反応混合物を、シクロヘキセンとメチルシクロペンテ
ンとの混合物とシクロヘキサノールとに分離する第2分
離工程。 (4)上記(3)の第2分離工程で分離されたシクロヘ
キセンとメチルシクロペンテンとの混合物の少なくとも
一部を、メチルシクロペンテンの濃度の高い成分とメチ
ルシクロペンテンの濃度の低い成分とに分離し、上記メ
チルシクロペンテンの濃度の高い成分を、上記(1)の
第1分離工程に循環することなく系外に排出すると共
に、上記メチルシクロペンテンの濃度の低い成分を、上
記(2)の水和工程に循環する循環工程。
和反応混合物を、シクロヘキセンとメチルシクロペンテ
ンとの混合物とシクロヘキサノールとに分離する第2分
離工程。 (4)上記(3)の第2分離工程で分離されたシクロヘ
キセンとメチルシクロペンテンとの混合物の少なくとも
一部を、メチルシクロペンテンの濃度の高い成分とメチ
ルシクロペンテンの濃度の低い成分とに分離し、上記メ
チルシクロペンテンの濃度の高い成分を、上記(1)の
第1分離工程に循環することなく系外に排出すると共
に、上記メチルシクロペンテンの濃度の低い成分を、上
記(2)の水和工程に循環する循環工程。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のベンゼンから一貫して連続的にシクロヘキサノ
ールを製造する方法は、少なくとも図1に示す様に水添
工程、第1分離工程、水和反応工程、及び第2分離工程
を含む。図1においては、ベンゼンの水添反応工程で生
成したシクロヘキセン、シクロヘキサン及び未反応のベ
ンゼンは、抽出蒸留工程で分離され、シクロヘキセンは
水和反応工程の原料となり、未反応のベンゼンは水添反
応工程にリサイクルされ、シクロヘキサンは系外に出さ
れる。水和反応工程ではシクロヘキサノールが生成し、
第2分離工程で未反応のシクロヘキセンと分離される。
未反応のシクロヘキセンは水和反応工程にリサイクルさ
れる。メチルシクロペンテンが該水和反応リサイクル系
に蓄積されるのを防ぐため、該未反応のシクロヘキセン
の1部を抜き取り、蒸留塔で濃縮後、抽出蒸留に循環せ
ずパージするというものである。
本発明のベンゼンから一貫して連続的にシクロヘキサノ
ールを製造する方法は、少なくとも図1に示す様に水添
工程、第1分離工程、水和反応工程、及び第2分離工程
を含む。図1においては、ベンゼンの水添反応工程で生
成したシクロヘキセン、シクロヘキサン及び未反応のベ
ンゼンは、抽出蒸留工程で分離され、シクロヘキセンは
水和反応工程の原料となり、未反応のベンゼンは水添反
応工程にリサイクルされ、シクロヘキサンは系外に出さ
れる。水和反応工程ではシクロヘキサノールが生成し、
第2分離工程で未反応のシクロヘキセンと分離される。
未反応のシクロヘキセンは水和反応工程にリサイクルさ
れる。メチルシクロペンテンが該水和反応リサイクル系
に蓄積されるのを防ぐため、該未反応のシクロヘキセン
の1部を抜き取り、蒸留塔で濃縮後、抽出蒸留に循環せ
ずパージするというものである。
【0010】以下、上記各工程毎に説明する。水添反応工程 ベンゼンの部分水添反応においては、水の存在下で反応
を行うのが好ましい。水の量としては、反応形式によっ
て異なるが、一般的にはベンゼンの0.01〜10重量
倍であり、好ましくは0.1〜5重量倍である。かかる
条件では、原料及び生成物を主成分とする有機液相(油
相)と、水を含む液相(水相)とは、撹拌を行わない状
態では2相を形成することになる。油相と水相の割合が
極端に偏っている場合は、2相の形成が困難であり、分
液が困難となる。また、水の量が少なすぎても、多すぎ
ても、水の存在効果が減少する。
を行うのが好ましい。水の量としては、反応形式によっ
て異なるが、一般的にはベンゼンの0.01〜10重量
倍であり、好ましくは0.1〜5重量倍である。かかる
条件では、原料及び生成物を主成分とする有機液相(油
相)と、水を含む液相(水相)とは、撹拌を行わない状
態では2相を形成することになる。油相と水相の割合が
極端に偏っている場合は、2相の形成が困難であり、分
液が困難となる。また、水の量が少なすぎても、多すぎ
ても、水の存在効果が減少する。
【0011】更に、本発明においては、水中に金属塩化
合物を含有させるのが好ましい。金属塩化合物は、1族
金属、2族金属、あるいは亜鉛、マンガン、コバルト等
金属の硫酸塩、塩化物、酢酸塩、リン酸塩等が例示され
る。金属塩の使用量は、通常、反応系の水に対して1×
10-5重量倍から1重量倍、好ましくは1×10-4重量
倍から0.1重量倍である。
合物を含有させるのが好ましい。金属塩化合物は、1族
金属、2族金属、あるいは亜鉛、マンガン、コバルト等
金属の硫酸塩、塩化物、酢酸塩、リン酸塩等が例示され
る。金属塩の使用量は、通常、反応系の水に対して1×
10-5重量倍から1重量倍、好ましくは1×10-4重量
倍から0.1重量倍である。
【0012】本反応にはルテニウム触媒の使用が好適で
ある。ルテニウムの原料としては、ルテニウムのハロゲ
ン化物、硝酸塩、水酸化物、さらに、ルテニウムカルボ
ニル、ルテニウムアンミン錯体などの錯体化合物や、ル
テニウムアルコキシド等が例示される。なかでも、塩化
ルテニウムが好適に使用される。触媒の活性成分である
ルテニウムは、単独で使用することもできるが、他の金
属成分を助触媒成分として併用するのが好ましい。該助
触媒成分としては、亜鉛、鉄、コバルト、マンガン、
金、ランタン、銅などが有効であり、特に亜鉛が好まし
い。助触媒成分の原料としては、それらの各金属のハロ
ゲン化物、硝酸塩、酢酸塩、硫酸塩及び各金属を含む錯
体化合物等が使用される。助触媒金属を使用する場合
は、ルテニウム原子に対する助触媒金属の原子比は通常
0.01〜20、好ましくは0.1〜10である。
ある。ルテニウムの原料としては、ルテニウムのハロゲ
ン化物、硝酸塩、水酸化物、さらに、ルテニウムカルボ
ニル、ルテニウムアンミン錯体などの錯体化合物や、ル
テニウムアルコキシド等が例示される。なかでも、塩化
ルテニウムが好適に使用される。触媒の活性成分である
ルテニウムは、単独で使用することもできるが、他の金
属成分を助触媒成分として併用するのが好ましい。該助
触媒成分としては、亜鉛、鉄、コバルト、マンガン、
金、ランタン、銅などが有効であり、特に亜鉛が好まし
い。助触媒成分の原料としては、それらの各金属のハロ
ゲン化物、硝酸塩、酢酸塩、硫酸塩及び各金属を含む錯
体化合物等が使用される。助触媒金属を使用する場合
は、ルテニウム原子に対する助触媒金属の原子比は通常
0.01〜20、好ましくは0.1〜10である。
【0013】この触媒は非担持型でも良いが、シリカ、
アルミナ、シリカーアルミナ、ゼオライト、活性炭、あ
るいは一般的な金属酸化物、複合酸化物、水酸化物、難
水溶性金属塩等の担体に担持した担持型であってもよ
い。このような担持型の触媒に使用される担体として
は、一般的に触媒担体として使用される難溶性の酸化物
や金属塩などが好ましく、具体的には硫酸バリウム、硫
酸カルシウムなどの金属塩、シリカ、アルミナ、ジルコ
ニア、チタニア、クロミナ、希土類金属の酸化物、ある
いは、シリカ−アルミナ、シリカ−ジルコニア、ケイ酸
ジルコニウムなどの複合酸化物、さらには、ジルコニア
などの金属酸化物で修飾したシリカ等が例示される。ま
た、上記担体のなかで、水銀圧入法により細孔容量と細
孔分布を測定した場合、直径が75〜100,000Å
の細孔の全細孔容量が0.2〜10ml/g、好ましく
は0.3〜5ml/gであり、かつこの直径が75〜1
00,000Åの細孔の全細孔容量に対する、直径が2
50Å以上の細孔の全細孔容量の割合が50%以上、好
ましくは70%以上である担体である。またこの250
Å未満の細孔の細孔容量の割合が大きすぎると選択率の
低下を招く傾向があるのであまり好ましくない。
アルミナ、シリカーアルミナ、ゼオライト、活性炭、あ
るいは一般的な金属酸化物、複合酸化物、水酸化物、難
水溶性金属塩等の担体に担持した担持型であってもよ
い。このような担持型の触媒に使用される担体として
は、一般的に触媒担体として使用される難溶性の酸化物
や金属塩などが好ましく、具体的には硫酸バリウム、硫
酸カルシウムなどの金属塩、シリカ、アルミナ、ジルコ
ニア、チタニア、クロミナ、希土類金属の酸化物、ある
いは、シリカ−アルミナ、シリカ−ジルコニア、ケイ酸
ジルコニウムなどの複合酸化物、さらには、ジルコニア
などの金属酸化物で修飾したシリカ等が例示される。ま
た、上記担体のなかで、水銀圧入法により細孔容量と細
孔分布を測定した場合、直径が75〜100,000Å
の細孔の全細孔容量が0.2〜10ml/g、好ましく
は0.3〜5ml/gであり、かつこの直径が75〜1
00,000Åの細孔の全細孔容量に対する、直径が2
50Å以上の細孔の全細孔容量の割合が50%以上、好
ましくは70%以上である担体である。またこの250
Å未満の細孔の細孔容量の割合が大きすぎると選択率の
低下を招く傾向があるのであまり好ましくない。
【0014】また触媒は適当な方法で活性化して使用さ
れるのが良い。この活性化方法としては、例えば水素ガ
スによる接触還元法、あるいはホルマリン、水素化ホウ
素ナトリウム、ヒドラジン等による化学還元法が用いら
れる。このうち、水素ガスによる接触還元が好ましく、
具体的には例えば水素含有ガス雰囲気下で、通常80〜
500℃、好ましくは100〜450℃の条件下で焼成
して還元活性化する。還元温度が80℃未満では、ルテ
ニウムの還元率が著しく低下し、また、500℃を越え
るとルテニウムの凝集が起こりやすくなり、シクロヘキ
セン生成の収率や選択率が低下する原因となる。
れるのが良い。この活性化方法としては、例えば水素ガ
スによる接触還元法、あるいはホルマリン、水素化ホウ
素ナトリウム、ヒドラジン等による化学還元法が用いら
れる。このうち、水素ガスによる接触還元が好ましく、
具体的には例えば水素含有ガス雰囲気下で、通常80〜
500℃、好ましくは100〜450℃の条件下で焼成
して還元活性化する。還元温度が80℃未満では、ルテ
ニウムの還元率が著しく低下し、また、500℃を越え
るとルテニウムの凝集が起こりやすくなり、シクロヘキ
セン生成の収率や選択率が低下する原因となる。
【0015】本発明では以上説明した方法で得られたも
のを通常触媒として使用するが、かかる触媒に対して以
下に説明する水処理を施すことにより、シクロヘキセン
の選択性などにおいて、より改良された触媒を得ること
が可能である。この水処理条件としては、上記の触媒
(ルテニウム還元物)に対して、通常0.01〜100
重量倍、好ましくは0.1〜10重量倍の水に浸漬する
ことなどが挙げられる。処理条件としては、通常常圧か
ら加圧下、室温〜250℃、好ましくは室温〜200℃
で、通常10分以上、好ましくは1〜20時間である。
水処理の雰囲気は、通常、不活性ガス雰囲気下あるいは
水素ガス雰囲気下であり、好ましくは水素ガス雰囲気下
である。更に、水処理後の触媒は、通常乾燥し、再還元
処理、特に水素ガス雰囲気下で接触処理することによ
り、活性がより高められたルテニウム触媒を得ることが
可能となる。また、以上の水処理に用いる水としては、
純水のほかに金属塩を含有する水溶液であってもよい。
のを通常触媒として使用するが、かかる触媒に対して以
下に説明する水処理を施すことにより、シクロヘキセン
の選択性などにおいて、より改良された触媒を得ること
が可能である。この水処理条件としては、上記の触媒
(ルテニウム還元物)に対して、通常0.01〜100
重量倍、好ましくは0.1〜10重量倍の水に浸漬する
ことなどが挙げられる。処理条件としては、通常常圧か
ら加圧下、室温〜250℃、好ましくは室温〜200℃
で、通常10分以上、好ましくは1〜20時間である。
水処理の雰囲気は、通常、不活性ガス雰囲気下あるいは
水素ガス雰囲気下であり、好ましくは水素ガス雰囲気下
である。更に、水処理後の触媒は、通常乾燥し、再還元
処理、特に水素ガス雰囲気下で接触処理することによ
り、活性がより高められたルテニウム触媒を得ることが
可能となる。また、以上の水処理に用いる水としては、
純水のほかに金属塩を含有する水溶液であってもよい。
【0016】水添反応の条件としては、反応温度は通常
50〜250℃、好ましくは100〜220℃の範囲か
ら選択される。250℃以上ではシクロヘキセンの選択
率が低下し、50℃以下では反応速度が著しく低下する
ので好ましくない。また、反応時の水素の圧力は、通常
0.1〜20MPa、好ましくは0.5〜10MPaの
範囲から選ばれる。20MPaを超えると工業的に不利
であり、一方、0.1MPa未満では反応速度が著しく
低下するので設備上不経済である。
50〜250℃、好ましくは100〜220℃の範囲か
ら選択される。250℃以上ではシクロヘキセンの選択
率が低下し、50℃以下では反応速度が著しく低下する
ので好ましくない。また、反応時の水素の圧力は、通常
0.1〜20MPa、好ましくは0.5〜10MPaの
範囲から選ばれる。20MPaを超えると工業的に不利
であり、一方、0.1MPa未満では反応速度が著しく
低下するので設備上不経済である。
【0017】上記反応後の反応液は、ルテニウム触媒が
分散した水相と、有機物からなる油相の混合物である。
かかる反応液は図1で静置槽として例示されている油水
分離器に導入され、油水分離が施される。かかる油水分
離器は反応器内に設置してもいいし、反応器外に設置し
てもよい。かかる油水分離器において相分離された水相
は、好ましくは反応系にリサイクルして再度水添反応に
用いられる。一方、油相は抽出蒸留の第1分離工程に導
入される。
分散した水相と、有機物からなる油相の混合物である。
かかる反応液は図1で静置槽として例示されている油水
分離器に導入され、油水分離が施される。かかる油水分
離器は反応器内に設置してもいいし、反応器外に設置し
てもよい。かかる油水分離器において相分離された水相
は、好ましくは反応系にリサイクルして再度水添反応に
用いられる。一方、油相は抽出蒸留の第1分離工程に導
入される。
【0018】第1分離工程 第1分離工程に供される油相は、主にベンゼン、シクロ
ヘキセン、及びシクロヘキサンを含有しているが、これ
らはその沸点が互いに近接しているので、この第1分離
工程としては、抽出蒸留や共沸蒸留が通常採用される。
以下、好ましい方法である抽出蒸留の場合を例として説
明する。
ヘキセン、及びシクロヘキサンを含有しているが、これ
らはその沸点が互いに近接しているので、この第1分離
工程としては、抽出蒸留や共沸蒸留が通常採用される。
以下、好ましい方法である抽出蒸留の場合を例として説
明する。
【0019】図2には3塔の蒸留塔からなる分離方法を
示した。蒸留塔D1では抽出蒸留が行われる。ライン1
から油相が供給され、ライン2からは抽剤(以下、「s
olv」と称すことがある)が供給される。塔頂から主
成分をシクロヘキサンとする成分が抜き出され、コンデ
ンサーで凝縮された後、その一部が所定の還流比で蒸留
塔D1に戻されるとともに、残りはライン3から抜き出
される。塔底からはライン4を通じてベンゼン、及びシ
クロヘキセンを主成分とする成分が抜き出される。塔頂
から抜き出されたシクロヘキサンは、脱水素してベンゼ
ンにして水添工程に再循環されたり、シクロヘキサン酸
化してシクロヘキサンやシクロヘキサノール、及びその
混合物にするなどの他の工程の原料として有効に利用さ
れる。
示した。蒸留塔D1では抽出蒸留が行われる。ライン1
から油相が供給され、ライン2からは抽剤(以下、「s
olv」と称すことがある)が供給される。塔頂から主
成分をシクロヘキサンとする成分が抜き出され、コンデ
ンサーで凝縮された後、その一部が所定の還流比で蒸留
塔D1に戻されるとともに、残りはライン3から抜き出
される。塔底からはライン4を通じてベンゼン、及びシ
クロヘキセンを主成分とする成分が抜き出される。塔頂
から抜き出されたシクロヘキサンは、脱水素してベンゼ
ンにして水添工程に再循環されたり、シクロヘキサン酸
化してシクロヘキサンやシクロヘキサノール、及びその
混合物にするなどの他の工程の原料として有効に利用さ
れる。
【0020】蒸留塔D2でも抽出蒸留が行われる。ライ
ン4よりベンゼン、シクロヘキセン、及び抽剤を主成分
とする留分が供給され、ライン5から抽剤が供給され
る。塔頂からシクロヘキセンが主成分の留分が抜き出さ
れ、コンデンサで凝縮された後、その一部が所定の還流
比で蒸留塔D2に戻されるとともに、残りはライン6か
ら抜き出される。塔底からはライン7を通じてベンゼン
と抽剤とを主成分とする成分が抜き出され、蒸留塔D3
に供給される。抜き出されたシクロヘキセン留分は水和
工程に供給される。
ン4よりベンゼン、シクロヘキセン、及び抽剤を主成分
とする留分が供給され、ライン5から抽剤が供給され
る。塔頂からシクロヘキセンが主成分の留分が抜き出さ
れ、コンデンサで凝縮された後、その一部が所定の還流
比で蒸留塔D2に戻されるとともに、残りはライン6か
ら抜き出される。塔底からはライン7を通じてベンゼン
と抽剤とを主成分とする成分が抜き出され、蒸留塔D3
に供給される。抜き出されたシクロヘキセン留分は水和
工程に供給される。
【0021】蒸留塔D3では、ベンゼンと抽剤が蒸留分
離され、塔頂からベンゼンが抜き出され、コンデンサで
凝縮された後、その一部が所定の還流比で蒸留塔D3に
戻されるとともに、残りはライン8から抜き出される。
塔頂から抜き出されたベンゼンは水添反応にリサイクル
される。塔底からはライン9を通じて抽剤が抜き出さ
れ、通常、D2及び/またはD3にフィードされ、再利
用される。
離され、塔頂からベンゼンが抜き出され、コンデンサで
凝縮された後、その一部が所定の還流比で蒸留塔D3に
戻されるとともに、残りはライン8から抜き出される。
塔頂から抜き出されたベンゼンは水添反応にリサイクル
される。塔底からはライン9を通じて抽剤が抜き出さ
れ、通常、D2及び/またはD3にフィードされ、再利
用される。
【0022】この抽出蒸留に使用する抽剤としては、
1、3ージメチルアセトアミド、アジポニトリル、スル
ホラン、マロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、γーブ
チルラクトン、N−メチルピロリドン等のなどの公知の
抽剤や、1、3ージメチルイミダゾリゾノン、エチレン
グリコール等の極性を有する有機化合物が使用される。
なお上記の図2の方法は、それぞれの成分に分離するに
当たり、先ずシクロヘキサンを分離し、次いでシクロヘ
キセンとベンゼンとを分離する方法を例示したが、図3
に示すように、先ずベンゼンを分離し、次いでシクロヘ
キサンとシクロヘキセンとを分離する方法を採用するこ
ともできる(詳細説明省略)。
1、3ージメチルアセトアミド、アジポニトリル、スル
ホラン、マロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、γーブ
チルラクトン、N−メチルピロリドン等のなどの公知の
抽剤や、1、3ージメチルイミダゾリゾノン、エチレン
グリコール等の極性を有する有機化合物が使用される。
なお上記の図2の方法は、それぞれの成分に分離するに
当たり、先ずシクロヘキサンを分離し、次いでシクロヘ
キセンとベンゼンとを分離する方法を例示したが、図3
に示すように、先ずベンゼンを分離し、次いでシクロヘ
キサンとシクロヘキセンとを分離する方法を採用するこ
ともできる(詳細説明省略)。
【0023】水和反応 水和反応工程に使用する触媒は、シクロヘキセンの水和
反応に使用できる触媒であれば特に限定されないが、好
ましくは固体酸触媒である。固体酸触媒は酸性の固体物
質であり、ゼオライト、スルホン酸基等を含有する強酸
性イオン交換樹脂、また含水酸化ニオブ、含水酸化タン
タル、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、酸化アルミ
ニウム、二酸化ケイ素等の無機酸化物あるいはこれらの
複合酸化物、更にスメクタイト、カオリナイト、バ−ミ
キュライト等の層状化合物をアルミニウムおよびケイ
素、チタン、ジルコニウムの中から選ばれる一種類以上
の金属酸化物で処理したイオン交換型層状化合物などが
例示されるが、本発明における固体酸触媒としてはゼオ
ライトが特に好ましい。なお、固体酸触媒の使用される
形態は特に制限はないが、通常粉末状、顆粒状で使用す
る。また、担体あるいはバインダ−として、アルミナ、
シリカ、チタニア等を使用したものであってもよい。
反応に使用できる触媒であれば特に限定されないが、好
ましくは固体酸触媒である。固体酸触媒は酸性の固体物
質であり、ゼオライト、スルホン酸基等を含有する強酸
性イオン交換樹脂、また含水酸化ニオブ、含水酸化タン
タル、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、酸化アルミ
ニウム、二酸化ケイ素等の無機酸化物あるいはこれらの
複合酸化物、更にスメクタイト、カオリナイト、バ−ミ
キュライト等の層状化合物をアルミニウムおよびケイ
素、チタン、ジルコニウムの中から選ばれる一種類以上
の金属酸化物で処理したイオン交換型層状化合物などが
例示されるが、本発明における固体酸触媒としてはゼオ
ライトが特に好ましい。なお、固体酸触媒の使用される
形態は特に制限はないが、通常粉末状、顆粒状で使用す
る。また、担体あるいはバインダ−として、アルミナ、
シリカ、チタニア等を使用したものであってもよい。
【0024】ゼオライト触媒としては、触媒として使用
可能なゼオライトであれば特に限定されず、例えばモル
デナイト、エリオナイト、フェリエライト、モ−ビル社
発表のZSM−5、ZSM−4、ZSM−8、ZSM−
11、ZSM−12、ZSM−20、ZSM−40、Z
SM−35、ZSM−48系ゼオライト等のアルミノシ
リケ−ト、及びボロシリケ−ト、ガロシリケ−ト、フェ
ロアルミノシリケ−ト等の異元素含有ゼオライトが例示
できる。これらのゼオライトは、通常プロトン交換型
(H型)が用いられるが、その一部がNa、K、Li等
のアルカリ金属元素、Mg、Ca、Sr等のアルカリ土
類金属元素、Fe、Co、Ni、Ru、Pd等の8族金
属元素などから選ばれたカチオン種で交換されていても
よい。
可能なゼオライトであれば特に限定されず、例えばモル
デナイト、エリオナイト、フェリエライト、モ−ビル社
発表のZSM−5、ZSM−4、ZSM−8、ZSM−
11、ZSM−12、ZSM−20、ZSM−40、Z
SM−35、ZSM−48系ゼオライト等のアルミノシ
リケ−ト、及びボロシリケ−ト、ガロシリケ−ト、フェ
ロアルミノシリケ−ト等の異元素含有ゼオライトが例示
できる。これらのゼオライトは、通常プロトン交換型
(H型)が用いられるが、その一部がNa、K、Li等
のアルカリ金属元素、Mg、Ca、Sr等のアルカリ土
類金属元素、Fe、Co、Ni、Ru、Pd等の8族金
属元素などから選ばれたカチオン種で交換されていても
よい。
【0025】本発明では、上記のような固体酸触媒の存
在下、液相中でシクロヘキセンの水和反応を行うことが
できる。反応系には溶媒、あるいは添加物として他の有
機物質を共存させてもよい。該有機物質としては、安息
香酸類、カルボン酸類、フェノ−ル類、サリチル酸類、
アルコ−ル類、フルオロアルコ−ル類、エ−テル類、エ
ステル類、ケトン類等の含酸素有機化合物、アミド化合
物、ニトリル等の含窒素有機化合物、チオ−ル類、スル
ホン酸等の含硫黄有機化合物、ハロゲン化炭素等の含ハ
ロゲン有機化合物、又は脂肪族炭化水素類、芳香族炭化
水素類等が挙げられる。
在下、液相中でシクロヘキセンの水和反応を行うことが
できる。反応系には溶媒、あるいは添加物として他の有
機物質を共存させてもよい。該有機物質としては、安息
香酸類、カルボン酸類、フェノ−ル類、サリチル酸類、
アルコ−ル類、フルオロアルコ−ル類、エ−テル類、エ
ステル類、ケトン類等の含酸素有機化合物、アミド化合
物、ニトリル等の含窒素有機化合物、チオ−ル類、スル
ホン酸等の含硫黄有機化合物、ハロゲン化炭素等の含ハ
ロゲン有機化合物、又は脂肪族炭化水素類、芳香族炭化
水素類等が挙げられる。
【0026】水和反応は、好ましくは連続的に実施され
るが、この場合固体酸触媒と水によって構成される触媒
スラリーに、シクロヘキセンを連続的に供給して水和反
応を行い、反応液から触媒スラリーである水相と、生成
物のシクロヘキサノールを含む油相を相分離して、該油
相を連続的に採取することにより行われる。反応は、通
常撹拌などで水相と油相を混合することにより、懸濁状
態、例えば連続水相中に油相を液滴状態に分散させて行
われる。反応液は、混合を弱くするか停止状態において
は、通常水相と油相に相分離するが、その際該水相に対
する該油相の容量比は、通常0.01〜10、好ましく
は0.1〜1である。供給される原料のシクロヘキセン
あるいは水が一方に比べて大過剰の場合は、水相と油相
の分離が不良であり、かつ反応速度も低下するので好ま
しくない。またシクロヘキセンに対する触媒の重量比
は、通常0.01〜20、好ましくは0.05〜5であ
る。触媒が少なすぎる場合には、反応速度が遅い上に反
応器が大き過ぎ、また多すぎる場合には、触媒コストが
大きくなるので好ましくない。またこの水和反応系にお
いては、主に水相には固体酸触媒が含まれ、油相には原
料のシクロヘキセンと生成したシクロヘキサノールが含
まれる。触媒を含む水相は、分離した後、触媒スラリー
として水和反応器に循環して再使用することができる。
るが、この場合固体酸触媒と水によって構成される触媒
スラリーに、シクロヘキセンを連続的に供給して水和反
応を行い、反応液から触媒スラリーである水相と、生成
物のシクロヘキサノールを含む油相を相分離して、該油
相を連続的に採取することにより行われる。反応は、通
常撹拌などで水相と油相を混合することにより、懸濁状
態、例えば連続水相中に油相を液滴状態に分散させて行
われる。反応液は、混合を弱くするか停止状態において
は、通常水相と油相に相分離するが、その際該水相に対
する該油相の容量比は、通常0.01〜10、好ましく
は0.1〜1である。供給される原料のシクロヘキセン
あるいは水が一方に比べて大過剰の場合は、水相と油相
の分離が不良であり、かつ反応速度も低下するので好ま
しくない。またシクロヘキセンに対する触媒の重量比
は、通常0.01〜20、好ましくは0.05〜5であ
る。触媒が少なすぎる場合には、反応速度が遅い上に反
応器が大き過ぎ、また多すぎる場合には、触媒コストが
大きくなるので好ましくない。またこの水和反応系にお
いては、主に水相には固体酸触媒が含まれ、油相には原
料のシクロヘキセンと生成したシクロヘキサノールが含
まれる。触媒を含む水相は、分離した後、触媒スラリー
として水和反応器に循環して再使用することができる。
【0027】水和反応条件としては、反応温度は、通常
50〜300℃、好ましくは70〜200℃、より好ま
しくは80〜160℃である。反応圧力は特に制限はな
いが、シクロアルケンおよび水を液相に保ち得る圧力が
好ましく、通常5MPa以下、好ましくは0.2〜2M
Paである。反応時間あるいは滞留時間は、通常1分〜
10時間、好ましくは5分〜5時間である。また反応系
は、窒素、ヘリウム、水素、アルゴン、二酸化炭素等の
不活性ガス雰囲気下に保つことが好ましい。この場合、
不活性ガス中の酸素の含有量は少ない方が好ましく、通
常100ppm以下、好ましくは20ppm以下のもの
が使用される。
50〜300℃、好ましくは70〜200℃、より好ま
しくは80〜160℃である。反応圧力は特に制限はな
いが、シクロアルケンおよび水を液相に保ち得る圧力が
好ましく、通常5MPa以下、好ましくは0.2〜2M
Paである。反応時間あるいは滞留時間は、通常1分〜
10時間、好ましくは5分〜5時間である。また反応系
は、窒素、ヘリウム、水素、アルゴン、二酸化炭素等の
不活性ガス雰囲気下に保つことが好ましい。この場合、
不活性ガス中の酸素の含有量は少ない方が好ましく、通
常100ppm以下、好ましくは20ppm以下のもの
が使用される。
【0028】第2分離工程及び循環工程 第2分離工程では、通常蒸留等の方法によってシクロヘ
キセン及び水和反応の副生成物であるメチルシクロペン
テンと、シクロヘキサノールとが分離される。以下、蒸
留による分離方法について図4を用いて説明する。
キセン及び水和反応の副生成物であるメチルシクロペン
テンと、シクロヘキサノールとが分離される。以下、蒸
留による分離方法について図4を用いて説明する。
【0029】水和反応工程で得られる反応液(主にシク
ロヘキサノール、シクロヘキセン及びメチルシクロペン
テンを含有する)は図4の蒸留塔D4にて分離され、塔
頂から未反応のシクロヘキセンが留出され、塔底から製
品であるシクロヘキサノールが抜き出される。留出され
たシクロヘキセン中にはベンゼン、シクロヘキサン及び
メチルシクロペンテンが含まれ、このメチルシクロペン
テンを水和反応工程に循環するとこれらは水和反応に利
用されないので、これらの反応系内への溜まり込みを防
ぐため、留出したシクロヘキセンの1部をライン14か
ら抜き出し、蒸留塔D5によってこれらメチルシクロペ
ンテン等の軽沸成分を濃縮し、ライン16より系外へ抜
き出す。D5の塔底液はライン17より水和反応工程に
リサイクルする。また蒸留塔D5に供給されない分もラ
イン15より水和反応工程にリサイクルされる。ここで
蒸留塔D5の条件(還流比、留出比、D5の供給量等)
を変更することにより、リサイクル中の軽沸成分量のコ
ントロールが可能である。
ロヘキサノール、シクロヘキセン及びメチルシクロペン
テンを含有する)は図4の蒸留塔D4にて分離され、塔
頂から未反応のシクロヘキセンが留出され、塔底から製
品であるシクロヘキサノールが抜き出される。留出され
たシクロヘキセン中にはベンゼン、シクロヘキサン及び
メチルシクロペンテンが含まれ、このメチルシクロペン
テンを水和反応工程に循環するとこれらは水和反応に利
用されないので、これらの反応系内への溜まり込みを防
ぐため、留出したシクロヘキセンの1部をライン14か
ら抜き出し、蒸留塔D5によってこれらメチルシクロペ
ンテン等の軽沸成分を濃縮し、ライン16より系外へ抜
き出す。D5の塔底液はライン17より水和反応工程に
リサイクルする。また蒸留塔D5に供給されない分もラ
イン15より水和反応工程にリサイクルされる。ここで
蒸留塔D5の条件(還流比、留出比、D5の供給量等)
を変更することにより、リサイクル中の軽沸成分量のコ
ントロールが可能である。
【0030】本発明の特徴の1つは、水和反応生成物か
ら目的生成物であるシクロヘキサノールを取得した後の
シクロヘキセン及びメチルシクロペンテンを、抽出蒸留
に実質的に循環することなく、少なくとも一部を、蒸留
によってメチルシクロペンテン類の濃度の高い成分とメ
チルシクロペンテン類の濃度の低い成分とに分離する。
その結果、メチルシクロペンテンが抽出蒸留系に実質的
に存在しなくなり、シクロヘキサンとの分離工程が不要
となるので、抽出蒸留で得られたシクロヘキサンをその
まま他の反応に使用することが可能である。また、同じ
組成のシクロヘキサン、シクロヘキセン、ベンゼンを得
るにしても、その負荷を大きく低減させることができ
る。また、水和反応系内にメチルシクロペンテンが高濃
度で蓄積することもないという効果もある。
ら目的生成物であるシクロヘキサノールを取得した後の
シクロヘキセン及びメチルシクロペンテンを、抽出蒸留
に実質的に循環することなく、少なくとも一部を、蒸留
によってメチルシクロペンテン類の濃度の高い成分とメ
チルシクロペンテン類の濃度の低い成分とに分離する。
その結果、メチルシクロペンテンが抽出蒸留系に実質的
に存在しなくなり、シクロヘキサンとの分離工程が不要
となるので、抽出蒸留で得られたシクロヘキサンをその
まま他の反応に使用することが可能である。また、同じ
組成のシクロヘキサン、シクロヘキセン、ベンゼンを得
るにしても、その負荷を大きく低減させることができ
る。また、水和反応系内にメチルシクロペンテンが高濃
度で蓄積することもないという効果もある。
【0031】本発明の方法は、特に水和反応におけるM
CPN選択率が1%以下、好ましくは0.5%以下、さ
らに好ましくは0.2%以下である場合に有効である。
MCPNの生成速度が大きすぎる場合、CHEとMCP
Nとの蒸留分離がしにくいので、水和反応に多量のMC
PNが循環することになり、結果として触媒の劣化を加
速しやすくなり、好ましくない。
CPN選択率が1%以下、好ましくは0.5%以下、さ
らに好ましくは0.2%以下である場合に有効である。
MCPNの生成速度が大きすぎる場合、CHEとMCP
Nとの蒸留分離がしにくいので、水和反応に多量のMC
PNが循環することになり、結果として触媒の劣化を加
速しやすくなり、好ましくない。
【0032】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもので
は無い。以下の実施例のフローを図5に示す。原料のベ
ンゼンがライン1から、及びリサイクルされるベンゼン
もライン9から、水添反応器R1に供給される。水添反
応の条件は圧力5.0MPa、反応温度150℃、ベン
ゼンの転化率67.3%、シクロヘキセンの選択率6
4.5%である。反応液はライン2より、また抽剤であ
る1,3ージメチルイミダゾリゾノンをもライン3より
蒸留塔D1に供給され、シクロヘキサンと、シクロヘキ
セン、ベンゼン及び抽剤の混合物に分離される。蒸留塔
は理論段58段相当の充填塔で、抽剤は塔頂から5段目
から供給され、水添反応液は37段目から供給される。
また塔頂の圧力は0.15MPaで還流比は6である。
このとき溜出液であるシクロヘキサンの純度は99.9
5重量%であり、残りはシクロヘキセン及びベンゼンで
ある。D1の缶出液はライン5より、また抽剤の1,3
ージメチルイミダゾリゾノンもライン6より蒸留塔D2
に供給され、シクロヘキセンと、ベンゼン及び抽剤の混
合物に分離される。D2は理論段58段相当の充填塔で
あり、抽剤は塔頂より4段目、D1の缶出液は35段目
より供給される。このとき塔頂の圧力は0.05MPa
で還流比は3である。留出液であるシクロヘキセンはラ
イン7より水和反応器R2に供給される。一方D2の缶
出液は蒸留塔D3によりベンゼンと抽剤に分離される。
D3は理論段13段相当の充填塔であり、塔頂から6段
目にD2の缶出液の供給段がある。このとき塔頂圧は
0.05MPaで、還流比は1である。D3の溜出液で
あるベンゼンはライン9より水添工程にリサイクルされ
る。一方抽剤は冷却後D1、及びD2にリサイクルされ
る。
が、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもので
は無い。以下の実施例のフローを図5に示す。原料のベ
ンゼンがライン1から、及びリサイクルされるベンゼン
もライン9から、水添反応器R1に供給される。水添反
応の条件は圧力5.0MPa、反応温度150℃、ベン
ゼンの転化率67.3%、シクロヘキセンの選択率6
4.5%である。反応液はライン2より、また抽剤であ
る1,3ージメチルイミダゾリゾノンをもライン3より
蒸留塔D1に供給され、シクロヘキサンと、シクロヘキ
セン、ベンゼン及び抽剤の混合物に分離される。蒸留塔
は理論段58段相当の充填塔で、抽剤は塔頂から5段目
から供給され、水添反応液は37段目から供給される。
また塔頂の圧力は0.15MPaで還流比は6である。
このとき溜出液であるシクロヘキサンの純度は99.9
5重量%であり、残りはシクロヘキセン及びベンゼンで
ある。D1の缶出液はライン5より、また抽剤の1,3
ージメチルイミダゾリゾノンもライン6より蒸留塔D2
に供給され、シクロヘキセンと、ベンゼン及び抽剤の混
合物に分離される。D2は理論段58段相当の充填塔で
あり、抽剤は塔頂より4段目、D1の缶出液は35段目
より供給される。このとき塔頂の圧力は0.05MPa
で還流比は3である。留出液であるシクロヘキセンはラ
イン7より水和反応器R2に供給される。一方D2の缶
出液は蒸留塔D3によりベンゼンと抽剤に分離される。
D3は理論段13段相当の充填塔であり、塔頂から6段
目にD2の缶出液の供給段がある。このとき塔頂圧は
0.05MPaで、還流比は1である。D3の溜出液で
あるベンゼンはライン9より水添工程にリサイクルされ
る。一方抽剤は冷却後D1、及びD2にリサイクルされ
る。
【0033】抽出工程で分離されたシクロヘキセンはラ
イン7より水和反応器R2に供給される。水和反応条件
は圧力0.7MPa、反応温度120℃、シクロヘキセ
ン転化率11%、シクロヘキサノール選択率99.8%
である。反応液はライン11より蒸留塔D4に供給さ
れ、シクロヘキサノールと、未反応のシクロヘキセン及
びメチルシクロペンテンを含む軽沸分に分離される。D
4は理論段15段相当の充填塔で、R2の反応液は上か
ら7段目に供給される。このとき塔頂圧は常圧で還流比
は0.3である。溜出液はライン12から1部ライン1
4を経て蒸留塔D5に供給される。D5にてメチルシク
ロペンテンを濃縮し、塔頂よりパージを行う。D5は理
論段30段相当の充填塔で、D4の留出液は塔頂から2
3段目に供給される。塔頂圧は常圧で、還流比30であ
る。D5の缶出液はライン17から水和反応器にリサイ
クルされる。一方D5に供給されないシクロヘキセンは
ライン15から水和反応器にリサイクルされる。
イン7より水和反応器R2に供給される。水和反応条件
は圧力0.7MPa、反応温度120℃、シクロヘキセ
ン転化率11%、シクロヘキサノール選択率99.8%
である。反応液はライン11より蒸留塔D4に供給さ
れ、シクロヘキサノールと、未反応のシクロヘキセン及
びメチルシクロペンテンを含む軽沸分に分離される。D
4は理論段15段相当の充填塔で、R2の反応液は上か
ら7段目に供給される。このとき塔頂圧は常圧で還流比
は0.3である。溜出液はライン12から1部ライン1
4を経て蒸留塔D5に供給される。D5にてメチルシク
ロペンテンを濃縮し、塔頂よりパージを行う。D5は理
論段30段相当の充填塔で、D4の留出液は塔頂から2
3段目に供給される。塔頂圧は常圧で、還流比30であ
る。D5の缶出液はライン17から水和反応器にリサイ
クルされる。一方D5に供給されないシクロヘキセンは
ライン15から水和反応器にリサイクルされる。
【0034】上記の条件のとき、各ラインのマスバラン
スは表1のようになり、メチルシクロペンテン、ベンゼ
ン、シクロヘキサンがリサイクルラインに溜まり込まな
いことがわかる。つまり、蒸留塔にフィードするライン
11のMCPNが1%に抑えられている。もし蒸留塔D
5の条件をゆるめれば、ライン11でのMCPN濃度が
上昇し、水和触媒の劣化を招くことになる。またライン
4から副生成物として取得したシクロヘキサン中には、
メチルシクロペンテンが全く混入しない純度の高いシク
ロヘキサンが得られることがわかる。
スは表1のようになり、メチルシクロペンテン、ベンゼ
ン、シクロヘキサンがリサイクルラインに溜まり込まな
いことがわかる。つまり、蒸留塔にフィードするライン
11のMCPNが1%に抑えられている。もし蒸留塔D
5の条件をゆるめれば、ライン11でのMCPN濃度が
上昇し、水和触媒の劣化を招くことになる。またライン
4から副生成物として取得したシクロヘキサン中には、
メチルシクロペンテンが全く混入しない純度の高いシク
ロヘキサンが得られることがわかる。
【0035】
【表1】
【0036】
【表2】
【0037】上記表1中、Bzはベンゼン、CHXはシ
クロヘキサン、CHEはシクロヘキセン、MCPNはメ
チルシクロペンテン、CHLはシクロヘキサノール、H
Bは高沸物、DMIは1,3−はジメチルイミダゾリジ
ノンを示す。
クロヘキサン、CHEはシクロヘキセン、MCPNはメ
チルシクロペンテン、CHLはシクロヘキサノール、H
Bは高沸物、DMIは1,3−はジメチルイミダゾリジ
ノンを示す。
【0038】
【発明の効果】以上の通り詳細に説明した本発明の特徴
は、水和反応の生成物から、目的生成物であるシクロヘ
キサノールを取得した後のシクロヘキセン及びメチルシ
クロペンテンを、従来技術のように抽出蒸留に循環する
ことなく、その少なくとも一部を蒸留等の手段によっ
て、メチルシクロペンテンの濃度の高い成分と、メチル
シクロペンテンの濃度の低い成分とに分離し、前者を系
外に抜き出し、後者を水和反応工程に循環することであ
る。その結果、ベンゼンからシクロヘキサノールを一貫
して製造する方法においても、メチルシクロペンテンが
抽出蒸留系内に実質的に存在しないので、シクロヘキサ
ンとの分離工程が不要であり、従って、抽出蒸留で得ら
れたシクロヘキサンをそのまま他の用途などに利用する
ことが可能である。また、同じ組成のシクロヘキサン、
シクロヘキセン、及びベンゼンを得るにしても、その負
荷を大きく低減させることができる。また、水和反応系
内にメチルシクロペンテンが多量に蓄積することもない
等の効果もあり、工業的に採用する方法として極めて有
利である。
は、水和反応の生成物から、目的生成物であるシクロヘ
キサノールを取得した後のシクロヘキセン及びメチルシ
クロペンテンを、従来技術のように抽出蒸留に循環する
ことなく、その少なくとも一部を蒸留等の手段によっ
て、メチルシクロペンテンの濃度の高い成分と、メチル
シクロペンテンの濃度の低い成分とに分離し、前者を系
外に抜き出し、後者を水和反応工程に循環することであ
る。その結果、ベンゼンからシクロヘキサノールを一貫
して製造する方法においても、メチルシクロペンテンが
抽出蒸留系内に実質的に存在しないので、シクロヘキサ
ンとの分離工程が不要であり、従って、抽出蒸留で得ら
れたシクロヘキサンをそのまま他の用途などに利用する
ことが可能である。また、同じ組成のシクロヘキサン、
シクロヘキセン、及びベンゼンを得るにしても、その負
荷を大きく低減させることができる。また、水和反応系
内にメチルシクロペンテンが多量に蓄積することもない
等の効果もあり、工業的に採用する方法として極めて有
利である。
【図1】本発明の製造方法の全工程を模式的に示した図
である。
である。
【図2】本発明の製造方法の第1分離工程(抽出分離工
程)において、3塔の蒸留塔を使用し、先ずシクロヘキ
サンを分離し、次いでシクロヘキセンとベンゼンとを分
離する方法を模式的に示した図である。
程)において、3塔の蒸留塔を使用し、先ずシクロヘキ
サンを分離し、次いでシクロヘキセンとベンゼンとを分
離する方法を模式的に示した図である。
【図3】本発明の製造方法の第1分離工程(抽出分離工
程)において、4塔の蒸留塔を使用し、先ずベンゼンを
分離し、次いでシクロヘキサンとシクロヘキセンとを分
離する方法を模式的に示した図である。
程)において、4塔の蒸留塔を使用し、先ずベンゼンを
分離し、次いでシクロヘキサンとシクロヘキセンとを分
離する方法を模式的に示した図である。
【図4】本発明の製造方法の水和工程及び第2分離工程
を模式的に示した図である。
を模式的に示した図である。
【図5】本発明の実施例のプロセスのフローを示した図
である。
である。
R1、R2は反応器。D1、D2、D3、D4及びD5
は蒸留塔。数字の1から18は管(ライン)。Bzはベ
ンゼン。CHXはシクロヘキサン。CHEはシクロヘキ
セン。MCPNはメチルシクロペンテン。CHLはシク
ロヘキサノール。solvは抽剤。
は蒸留塔。数字の1から18は管(ライン)。Bzはベ
ンゼン。CHXはシクロヘキサン。CHEはシクロヘキ
セン。MCPNはメチルシクロペンテン。CHLはシク
ロヘキサノール。solvは抽剤。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 29/04 C07C 29/04 29/80 29/80 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
Claims (6)
- 【請求項1】 下記(1)〜(4)の工程を有するベン
ゼンから連続的にシクロヘキサノールを製造する方法。 (1)ベンゼンを部分水素化して得られた、ベンゼン、
シクロヘキサンおよびシクロヘキセンを含有する水添反
応混合物を、ベンゼン、シクロヘキサンおよびシクロヘ
キセンの各成分に分離する第1分離工程。 (2)上記(1)の第1分離工程で分離されたシクロヘ
キセンを水和して、シクロヘキセン、シクロヘキサノー
ルおよびメチルシクロペンテンを含有する水和反応混合
物を得る水和工程。 (3)上記(2)の水和工程で得られた水和反応混合物
を、シクロヘキセンとメチルシクロペンテンとの混合物
とシクロヘキサノールとに分離する第2分離工程。 (4)上記(3)の第2分離工程で分離されたシクロヘ
キセンとメチルシクロペンテンとの混合物の少なくとも
一部を、メチルシクロペンテンの濃度の高い成分とメチ
ルシクロペンテンの濃度の低い成分とに分離し、上記メ
チルシクロペンテンの濃度の高い成分を、上記(1)の
第1分離工程に循環することなく系外に排出すると共
に、上記メチルシクロペンテンの濃度の低い成分を、上
記(2)の水和工程に循環する循環工程。 - 【請求項2】 (1)の第1分離工程を、抽出溶剤を用
いた抽出蒸留によって行う請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 (2)の水和工程を、固体酸触媒の存在
下で行う請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 固体酸触媒としてゼオライトを使用する
請求項3に記載の方法。 - 【請求項5】 (2)の水和工程におけるメチルシクロ
ペンテンの選択率が、1%以下である請求項1乃至4の
いずれかに記載の方法。 - 【請求項6】 (4)の循環工程として、(3)の第2
分離工程で得られたシクロヘキセンとメチルシクロペン
テンとの混合物の一部を(2)の水和工程に循環し、且
つ残部を蒸留によって、メチルシクロペンテンの濃度の
高い成分とメチルシクロペンテンの濃度の低い成分とに
分離し、該メチルシクロペンテンの濃度の高い成分を系
外に排出すると共に、該メチルシクロペンテンの濃度の
低い成分を(2)の水和工程に循環する方法、を採用す
る請求項1乃至5のいずれかに記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10000639A JPH11199532A (ja) | 1998-01-06 | 1998-01-06 | シクロヘキサノールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10000639A JPH11199532A (ja) | 1998-01-06 | 1998-01-06 | シクロヘキサノールの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199532A true JPH11199532A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11479292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10000639A Pending JPH11199532A (ja) | 1998-01-06 | 1998-01-06 | シクロヘキサノールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11199532A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110452093A (zh) * | 2019-07-26 | 2019-11-15 | 聊城煤泗新材料科技有限公司 | 一种环己醇精制预热系统和工艺及应用 |
| WO2024124500A1 (zh) * | 2022-12-15 | 2024-06-20 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 己二酸的生产方法 |
-
1998
- 1998-01-06 JP JP10000639A patent/JPH11199532A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110452093A (zh) * | 2019-07-26 | 2019-11-15 | 聊城煤泗新材料科技有限公司 | 一种环己醇精制预热系统和工艺及应用 |
| WO2024124500A1 (zh) * | 2022-12-15 | 2024-06-20 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 己二酸的生产方法 |
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