JPH11199617A - 共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 - Google Patents
共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法Info
- Publication number
- JPH11199617A JPH11199617A JP1318598A JP1318598A JPH11199617A JP H11199617 A JPH11199617 A JP H11199617A JP 1318598 A JP1318598 A JP 1318598A JP 1318598 A JP1318598 A JP 1318598A JP H11199617 A JPH11199617 A JP H11199617A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- component
- alkyl
- cyclopentadienyl
- bonded
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- -1 (substituted) cyclopentadienyl Chemical group 0.000 claims abstract description 287
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 25
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 96
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 33
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 27
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 claims description 27
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 claims description 23
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 21
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 125000006539 C12 alkyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 9
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 10
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 5
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 81
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 38
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 32
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical class C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 28
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 16
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 8
- WKNDOGQJUCFKJD-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].CN(C)[Si](C)(C)C1=C(C(=C(C1(C)[Ti+2])C)C)C Chemical compound [Cl-].[Cl-].CN(C)[Si](C)(C)C1=C(C(=C(C1(C)[Ti+2])C)C)C WKNDOGQJUCFKJD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JYGZGUWIYJQLJQ-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].C[SiH](C)[Ti+2]C1C(=C(C(=C1C)C)C)C Chemical compound [Cl-].[Cl-].C[SiH](C)[Ti+2]C1C(=C(C(=C1C)C)C)C JYGZGUWIYJQLJQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L titanium(ii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ti+2] ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- UWNADWZGEHDQAB-UHFFFAOYSA-N i-Pr2C2H4i-Pr2 Natural products CC(C)CCC(C)C UWNADWZGEHDQAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- QTMBNCMQGRJAAA-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-(2,3,4,5-tetramethylcyclopenta-2,4-dien-1-yl)silane Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C(C)C1[Si](C)(C)Cl QTMBNCMQGRJAAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- MVXVYAKCVDQRLW-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrolo[2,3-b]pyridine Chemical compound C1=CN=C2NC=CC2=C1 MVXVYAKCVDQRLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxyphenol Chemical group COC1=CC=CC(OC)=C1O KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(F)C(C#N)=C1 CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical class CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBFXPAJCBYNCBG-UHFFFAOYSA-K [Cl-].[Cl-].[Cl-].CN(C)[Si](C)(C)C1(C(=C(C(=C1C)C)C)C)[Ti+3] Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].CN(C)[Si](C)(C)C1(C(=C(C(=C1C)C)C)C)[Ti+3] XBFXPAJCBYNCBG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYZXMVILOKSUKA-UHFFFAOYSA-K chloro(dimethyl)alumane;dichloro(methyl)alumane Chemical compound C[Al](C)Cl.C[Al](Cl)Cl HYZXMVILOKSUKA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- SYZWSSNHPZXGML-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;oxolane Chemical compound ClCCl.C1CCOC1 SYZWSSNHPZXGML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N diethylalumane Chemical compound CC[AlH]CC HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M dimethylalumanylium;chloride Chemical compound C[Al](C)Cl JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 2
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- KJJBSBKRXUVBMX-UHFFFAOYSA-N magnesium;butane Chemical compound [Mg+2].CCC[CH2-].CCC[CH2-] KJJBSBKRXUVBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH2-]C YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- DGPNLWCCHIULCZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetramethylcyclopenta-1,3-diene Chemical compound CC1C(C)=CC(C)=C1C DGPNLWCCHIULCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005918 1,2-dimethylbutyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006218 1-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004338 2,2,3-trimethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003562 2,2-dimethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003660 2,3-dimethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005808 2,4,6-trimethoxyphenyl group Chemical group [H][#6]-1=[#6](-[#8]C([H])([H])[H])-[#6](-*)=[#6](-[#8]C([H])([H])[H])-[#6]([H])=[#6]-1-[#8]C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003764 2,4-dimethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WCZHLAADHIGYLH-UHFFFAOYSA-L 2-ethylhexylaluminum(2+);dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].CCCCC(CC)C[Al+2] WCZHLAADHIGYLH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxaluminane Chemical compound C[Al]1CCCCO1 AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004336 3,3-dimethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004337 3-ethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003469 3-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005917 3-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 4-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUSMDMDNFUYZTM-UHFFFAOYSA-N 8-chloroquinoline Chemical compound C1=CN=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 RUSMDMDNFUYZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- CAQWNKXTMBFBGI-UHFFFAOYSA-N C.[Na] Chemical compound C.[Na] CAQWNKXTMBFBGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFBLAYJXKAOMSF-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)CC[K] Chemical compound C1(=CC=CC=C1)CC[K] JFBLAYJXKAOMSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBZJBJTDRIIY-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)[K] Chemical compound CC(C)(C)[K] FWDBZJBJTDRIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJRTWGWWBDOAMP-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)[Na] Chemical compound CC(C)(C)[Na] QJRTWGWWBDOAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWVLDMTUKDWODM-UHFFFAOYSA-N CC(C)C[K] Chemical compound CC(C)C[K] IWVLDMTUKDWODM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISZKKWKBYKPCSI-UHFFFAOYSA-N CC(C)C[Na] Chemical compound CC(C)C[Na] ISZKKWKBYKPCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFGLZFZXSHRQEA-UHFFFAOYSA-N CC(C)[K] Chemical compound CC(C)[K] DFGLZFZXSHRQEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQPSKTOGFFYYKN-UHFFFAOYSA-N CC(C)[Na] Chemical compound CC(C)[Na] HQPSKTOGFFYYKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRIOVJXKEOXLIQ-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C([K])C=C1 Chemical compound CC1=CC=C([K])C=C1 RRIOVJXKEOXLIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INIKVNUYBZMTJY-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=CC([K])=C1 Chemical compound CC1=CC=CC([K])=C1 INIKVNUYBZMTJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHBPZHMJXSYVDN-UHFFFAOYSA-N CC=1C(C(=C(C1C)C)C)[Si](C)(C)N(CC)CC Chemical compound CC=1C(C(=C(C1C)C)C)[Si](C)(C)N(CC)CC CHBPZHMJXSYVDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDMZCZOHEHPGMW-UHFFFAOYSA-N CCC(C)[K] Chemical compound CCC(C)[K] FDMZCZOHEHPGMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEPCRAGGRXDAIP-UHFFFAOYSA-N CCC(C)[Na] Chemical compound CCC(C)[Na] QEPCRAGGRXDAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOUHPCHHSFSDJW-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[K] Chemical compound CCCCCC[K] QOUHPCHHSFSDJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVZKGBSAERIRCK-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[Na] Chemical compound CCCCCC[Na] CVZKGBSAERIRCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGWPQXSLRXAAAA-UHFFFAOYSA-N CCCCC[K] Chemical compound CCCCC[K] XGWPQXSLRXAAAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWVPJOOMBGGPKS-UHFFFAOYSA-N CCCCC[Na] Chemical compound CCCCC[Na] RWVPJOOMBGGPKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCMZYCFSSYXEQR-UHFFFAOYSA-N CCCC[K] Chemical compound CCCC[K] KCMZYCFSSYXEQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVECFARLYQAUNR-UHFFFAOYSA-N CCCC[Mg]CC Chemical compound CCCC[Mg]CC MVECFARLYQAUNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRDQNLLVRXMERV-UHFFFAOYSA-N CCCC[Na] Chemical compound CCCC[Na] IRDQNLLVRXMERV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJGPGQJYWPRTFO-UHFFFAOYSA-N CCC[K] Chemical compound CCC[K] ZJGPGQJYWPRTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHCDZZIXAMDCBJ-UHFFFAOYSA-N CCC[Na] Chemical compound CCC[Na] AHCDZZIXAMDCBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUFTCUMEDALHC-UHFFFAOYSA-N CC[K] Chemical compound CC[K] ZCUFTCUMEDALHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTZRDKVFLPLTPU-UHFFFAOYSA-N CC[Na] Chemical compound CC[Na] NTZRDKVFLPLTPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKDBZWZRJNRBGA-UHFFFAOYSA-L Cl[Ti]Cl.[CH]1C=CC=C1 Chemical compound Cl[Ti]Cl.[CH]1C=CC=C1 KKDBZWZRJNRBGA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILPBSCFCAUEFBS-UHFFFAOYSA-L N-[dimethyl-(2,3,4,5-tetramethylcyclopenta-2,4-dien-1-yl)silyl]-N-methylmethanamine titanium(2+) dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ti+2].CN(C)[Si](C)(C)C1C(C)=C(C)C(C)=C1C ILPBSCFCAUEFBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLOSSHSFATUNTF-UHFFFAOYSA-N [K]C1=CC=CC=C1 Chemical compound [K]C1=CC=CC=C1 PLOSSHSFATUNTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVLDJSZFKQJMKD-UHFFFAOYSA-N [Li].[Si] Chemical class [Li].[Si] ZVLDJSZFKQJMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYOQEFGAZKEPGG-UHFFFAOYSA-N [Li]C1=CC=C(C)C=C1 Chemical compound [Li]C1=CC=C(C)C=C1 FYOQEFGAZKEPGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSNKFXQOYAHDOG-UHFFFAOYSA-N [Li]C1=CC=CC(C)=C1 Chemical compound [Li]C1=CC=CC(C)=C1 QSNKFXQOYAHDOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229940043430 calcium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000001674 calcium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-O diethyl(phenyl)azanium Chemical compound CC[NH+](CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-O dimethyl(phenyl)azanium Chemical compound C[NH+](C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- KZLUHGRPVSRSHI-UHFFFAOYSA-N dimethylmagnesium Chemical compound C[Mg]C KZLUHGRPVSRSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRVHLWAVKJBFN-UHFFFAOYSA-N diphenylzinc Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Zn]C1=CC=CC=C1 MKRVHLWAVKJBFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-O hydron;quinoline Chemical compound [NH+]1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N lithium methoxide Chemical compound [Li+].[O-]C JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJNUJWMGIWJSLT-UHFFFAOYSA-N lithium trimethylsilanide Chemical compound [Li+].C[Si-](C)C JJNUJWMGIWJSLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWAWVCZRBYMUTC-UHFFFAOYSA-N lithium;(4-methylphenyl)methanolate Chemical compound [Li+].CC1=CC=C(C[O-])C=C1 RWAWVCZRBYMUTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCZVEWRRAVASGL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methanidylpropane Chemical compound [Li+].CC(C)[CH2-] CCZVEWRRAVASGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWQNOHZMQIFBX-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropan-2-olate Chemical compound [Li+].CC(C)(C)[O-] LZWQNOHZMQIFBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OONWLILMXMWOMG-UHFFFAOYSA-M lithium;4-methylphenolate Chemical compound [Li+].CC1=CC=C([O-])C=C1 OONWLILMXMWOMG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LTRVAZKHJRYLRJ-UHFFFAOYSA-N lithium;butan-1-olate Chemical compound [Li+].CCCC[O-] LTRVAZKHJRYLRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMAFBJJKWTWLJP-UHFFFAOYSA-N lithium;butan-2-olate Chemical compound [Li+].CCC(C)[O-] XMAFBJJKWTWLJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBKDYYFPDRPMPE-UHFFFAOYSA-N lithium;cyclopenta-1,3-diene Chemical compound [Li+].C=1C=C[CH-]C=1 DBKDYYFPDRPMPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHNJTQYTRPXLLG-UHFFFAOYSA-N lithium;diethylazanide Chemical compound [Li+].CC[N-]CC AHNJTQYTRPXLLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDGSUPBDGKOGQT-UHFFFAOYSA-N lithium;dimethylazanide Chemical compound [Li+].C[N-]C YDGSUPBDGKOGQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N lithium;ethanolate Chemical compound [Li+].CC[O-] AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUPFWVQZXYTRSK-UHFFFAOYSA-N lithium;heptan-1-olate Chemical compound [Li+].CCCCCCC[O-] UUPFWVQZXYTRSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPXOATAYFFLLBM-UHFFFAOYSA-N lithium;hexan-1-olate Chemical compound [Li+].CCCCCC[O-] PPXOATAYFFLLBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVKLZHZYBZPWIN-UHFFFAOYSA-N lithium;pentan-1-olate Chemical compound [Li]OCCCCC VVKLZHZYBZPWIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAVQZBGEXVFCJI-UHFFFAOYSA-M lithium;phenoxide Chemical compound [Li+].[O-]C1=CC=CC=C1 XAVQZBGEXVFCJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WVHPRHPUFLPMMM-UHFFFAOYSA-N lithium;phenylmethanolate Chemical compound [Li]OCC1=CC=CC=C1 WVHPRHPUFLPMMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXIRPJHGXWFUAE-UHFFFAOYSA-N lithium;propan-1-olate Chemical compound [Li+].CCC[O-] MXIRPJHGXWFUAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAUKUGBTJXWQMF-UHFFFAOYSA-N lithium;propan-2-olate Chemical compound [Li+].CC(C)[O-] HAUKUGBTJXWQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZAVVKVUMPLRRS-UHFFFAOYSA-N lithium;propane Chemical compound [Li+].C[CH-]C SZAVVKVUMPLRRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBEREOHJDYAKDA-UHFFFAOYSA-N lithium;propane Chemical compound [Li+].CC[CH2-] XBEREOHJDYAKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUWNHKMYUGNWEC-UHFFFAOYSA-N lithium;triethylsilanide Chemical compound [Li+].CC[Si-](CC)CC NUWNHKMYUGNWEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSUKUDRNJSFZGK-UHFFFAOYSA-N lithium;triphenylsilanide Chemical compound [Li+].C1=CC=CC=C1[Si-](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WSUKUDRNJSFZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- UKZCGMDMXDLAGZ-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].C[C-](C)C UKZCGMDMXDLAGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[C-](C)C CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M magnesium;benzene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C1=CC=[C-]C=C1 IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;bromide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Br-] NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DLPASUVGCQPFFO-UHFFFAOYSA-N magnesium;ethane Chemical compound [Mg+2].[CH2-]C.[CH2-]C DLPASUVGCQPFFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- BHGADZKHWXCHKX-UHFFFAOYSA-N methane;potassium Chemical compound C.[K] BHGADZKHWXCHKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-O methyl(diphenyl)azanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[NH+](C)C1=CC=CC=C1 DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- RAYYZJTYTUPECK-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-2,4-dinitroaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O RAYYZJTYTUPECK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXOSZRZRAZJLM-UHFFFAOYSA-N n-[dimethyl-(2,3,4,5-tetramethylcyclopenta-2,4-dien-1-yl)silyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)[Si](C)(C)C1C(C)=C(C)C(C)=C1C GOXOSZRZRAZJLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IJJSYKQZFFGIEE-UHFFFAOYSA-N naphthalene;potassium Chemical compound [K].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 IJJSYKQZFFGIEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N naphthalene;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M phenylmagnesium bromide Chemical compound Br[Mg]C1=CC=CC=C1 ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003112 potassium compounds Chemical class 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- IZWIPIIVPHXLTN-UHFFFAOYSA-N potassium;cyclopenta-1,3-diene Chemical compound [K+].C1C=CC=[C-]1 IZWIPIIVPHXLTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWIBIHTJMCHGT-UHFFFAOYSA-N potassium;diphenylmethylbenzene Chemical compound [K+].C1=CC=CC=C1[C-](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FZWIBIHTJMCHGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007613 slurry method Methods 0.000 description 1
- 150000003388 sodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- KSMWLICLECSXMI-UHFFFAOYSA-N sodium;benzene Chemical compound [Na+].C1=CC=[C-]C=C1 KSMWLICLECSXMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHUVHDUNQKJDKW-UHFFFAOYSA-N sodium;cyclopenta-1,3-diene Chemical compound [Na+].C=1C=C[CH-]C=1 OHUVHDUNQKJDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N tert-butylamine Chemical compound CC(C)(C)N YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O tributylazanium Chemical compound CCCC[NH+](CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQPMDTQDAXRDGS-UHFFFAOYSA-N triphenylalumane Chemical compound C1=CC=CC=C1[Al](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JQPMDTQDAXRDGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-O triphenylphosphanium Chemical compound C1=CC=CC=C1[PH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHAOCGKAMRAFMM-UHFFFAOYSA-N tris(2-ethylhexyl)alumane Chemical compound CCCCC(CC)C[Al](CC(CC)CCCC)CC(CC)CCCC FHAOCGKAMRAFMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDDPTCUZZASZIQ-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]alumane Chemical compound [Al+3].CC(C)(C)[O-].CC(C)(C)[O-].CC(C)(C)[O-] MDDPTCUZZASZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 工業的に用いる上で、より簡単に合成でき、
また長期保存安定性や活性の再現性の高い新規な触媒系
を提供し、該触媒を用いた共重合体の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 特定の一般式で示される錯体を含有する
重合触媒、及び該触媒成分(A)と(B)アルキルアル
ミニウムオキシ化合物および/または(C)カチオン発
生剤および/または(D)アルキルアルミニウム化合物
および/または(E)アルキルアルカリ金属および/ま
たはアルキルアルカリ土類金属化合物からなる重合触
媒、及び該重合触媒で重合される共重合体が98. 6〜
53モル%のエチレン及び1.4〜47モル%のスチレ
ンを含むエチレンとスチレンの疑似ランダムコポリマー
である共重合体の製造方法。
また長期保存安定性や活性の再現性の高い新規な触媒系
を提供し、該触媒を用いた共重合体の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 特定の一般式で示される錯体を含有する
重合触媒、及び該触媒成分(A)と(B)アルキルアル
ミニウムオキシ化合物および/または(C)カチオン発
生剤および/または(D)アルキルアルミニウム化合物
および/または(E)アルキルアルカリ金属および/ま
たはアルキルアルカリ土類金属化合物からなる重合触
媒、及び該重合触媒で重合される共重合体が98. 6〜
53モル%のエチレン及び1.4〜47モル%のスチレ
ンを含むエチレンとスチレンの疑似ランダムコポリマー
である共重合体の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な重合用の錯
体触媒及び該触媒によるエチレンとビニル芳香族モノマ
ー共重合体の製造方法に関する。
体触媒及び該触媒によるエチレンとビニル芳香族モノマ
ー共重合体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】エチレンとビニル芳香族モノマーの共重
合触媒としては、特開平3−163088号公報や特開
平7−70223号公報などで拘束された幾何形状をも
つ4族4価の金属配位錯体が高活性かつ共重合性に優れ
た触媒系として知られている。しかし、これらの錯体触
媒系は、50℃以上の高温での安定性が悪く、錯体の長
期保存安定性や活性の再現性も十分ではないという問題
点があり、工業的に用いる上では、課題を残すものであ
るといえる。
合触媒としては、特開平3−163088号公報や特開
平7−70223号公報などで拘束された幾何形状をも
つ4族4価の金属配位錯体が高活性かつ共重合性に優れ
た触媒系として知られている。しかし、これらの錯体触
媒系は、50℃以上の高温での安定性が悪く、錯体の長
期保存安定性や活性の再現性も十分ではないという問題
点があり、工業的に用いる上では、課題を残すものであ
るといえる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は工業的に用い
る上で従来錯体より熱安定性にすぐれ、また長期保存安
定性や活性の再現性の高い触媒系を見いだすことを目的
としてなされたものである。
る上で従来錯体より熱安定性にすぐれ、また長期保存安
定性や活性の再現性の高い触媒系を見いだすことを目的
としてなされたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は特定の構造を有
する4族3価錯体が従来錯体に比べ熱安定性が高く、か
つ(A)特定の構造を有する4族3価錯体と(B)特定
の構造を有する金属化合物またはカチオン発生剤との組
み合わせることにより、従来の錯体触媒系よりも長期保
存安定性がよく重合活性の再現性の面で遥かにすぐれて
いるという驚くべき事実に基づいてなされたものであ
る。
する4族3価錯体が従来錯体に比べ熱安定性が高く、か
つ(A)特定の構造を有する4族3価錯体と(B)特定
の構造を有する金属化合物またはカチオン発生剤との組
み合わせることにより、従来の錯体触媒系よりも長期保
存安定性がよく重合活性の再現性の面で遥かにすぐれて
いるという驚くべき事実に基づいてなされたものであ
る。
【0005】すなわち本発明は、 [1] 触媒(A)成分が下記一般式(1)で示される
錯体を含むことを特徴とする重合触媒、
錯体を含むことを特徴とする重合触媒、
【化5】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。)
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。)
【0006】[2] 下記一般式(1)で示される錯体
を含む触媒(A)成分と(B)成分および/または
(C)成分を含むことを特徴とする重合触媒、(A)
を含む触媒(A)成分と(B)成分および/または
(C)成分を含むことを特徴とする重合触媒、(A)
【化6】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤
【0007】[3] 下記一般式(1)で示される錯体
を含む触媒(A)成分と(B)成分および/または
(C)成分および(D)成分を含むことを特徴とする重
合触媒、(A)
を含む触媒(A)成分と(B)成分および/または
(C)成分および(D)成分を含むことを特徴とする重
合触媒、(A)
【化7】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物
【0008】[4] 下記一般式(1)で示される錯体
を含む触媒(A)成分と(B)成分および/または
(C)成分および/または(D)成分および(E)成分
を含むことを特徴とする重合触媒、(A)
を含む触媒(A)成分と(B)成分および/または
(C)成分および/または(D)成分および(E)成分
を含むことを特徴とする重合触媒、(A)
【化8】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属および/またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属および/またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物
【0009】[5] 上記重合触媒[1]〜[4]で重
合される共重合体が98. 6〜53モル%のエチレン及
び1.4〜47モル%のスチレンを含むエチレンとスチ
レンの疑似ランダムコポリマーであることを特徴とする
共重合体の製造方法、に関するものである。エチレンと
ビニル芳香族モノマーの共重合触媒としては、特開平3
−163088号公報や特開平7−70223号公報な
どの拘束された幾何形状をもつ金属配位錯体があるが、
これらの錯体触媒系は50℃以上の温度においての熱安
定性が悪いことがわかっている。また、錯体の長期保存
安定性や活性の再現性も十分ではないという問題点があ
り、工業的に用いる上では、上記錯体と同等以上の共重
合活性を有し、より簡単に合成でき取り扱いも容易な錯
体が望まれていた。
合される共重合体が98. 6〜53モル%のエチレン及
び1.4〜47モル%のスチレンを含むエチレンとスチ
レンの疑似ランダムコポリマーであることを特徴とする
共重合体の製造方法、に関するものである。エチレンと
ビニル芳香族モノマーの共重合触媒としては、特開平3
−163088号公報や特開平7−70223号公報な
どの拘束された幾何形状をもつ金属配位錯体があるが、
これらの錯体触媒系は50℃以上の温度においての熱安
定性が悪いことがわかっている。また、錯体の長期保存
安定性や活性の再現性も十分ではないという問題点があ
り、工業的に用いる上では、上記錯体と同等以上の共重
合活性を有し、より簡単に合成でき取り扱いも容易な錯
体が望まれていた。
【0010】本発明者らは、上記の問題点を解決し得る
新規錯体触媒系について鋭意検討した結果、(A)特定
の構造を有するハーフメタロセン系錯体が合成も容易で
あり錯体の熱安定性にもすぐれるということとさらに
(A)と(B)アルミニウムオキシ化合物及び/または
(C)カチオン発生剤とを組み合わせ系と(A)と
(B)及び/または(C)にさらに(D)成分を組み合
わせた系と(A)と(B)及び/または(C)及び/ま
たは(D)にさらに(E)成分を組み合わせた系とが共
重合活性にすぐれ、重合温度範囲も広く、重合温度によ
る活性の低下も少なく、活性再現性も高いということを
見出し本発明の完成に至ったものである。
新規錯体触媒系について鋭意検討した結果、(A)特定
の構造を有するハーフメタロセン系錯体が合成も容易で
あり錯体の熱安定性にもすぐれるということとさらに
(A)と(B)アルミニウムオキシ化合物及び/または
(C)カチオン発生剤とを組み合わせ系と(A)と
(B)及び/または(C)にさらに(D)成分を組み合
わせた系と(A)と(B)及び/または(C)及び/ま
たは(D)にさらに(E)成分を組み合わせた系とが共
重合活性にすぐれ、重合温度範囲も広く、重合温度によ
る活性の低下も少なく、活性再現性も高いということを
見出し本発明の完成に至ったものである。
【0011】本発明に係る重合触媒成分(A)は下記一
般式(1)で示される。
般式(1)で示される。
【化9】 式中、Mは4族3価の遷移金属でTiまたはZrまたは
Hfである。5員環はシクロペンタジエニル基及び置換
シクロペンタジエニル基でインデニル基、フルオレニル
基等も含まれる。Mと置換シクロペンタジエニル基はη
5 でπ結合していて5員環の炭素はそれぞれ等価であ
る。R1 〜R4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよ
く、水素またはC1〜C12のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基でこのう
ちの任意の2つもしくは3つが結合し環を形成していて
も良く、また環にはインデニルやフルオレニルの様な共
役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。
Hfである。5員環はシクロペンタジエニル基及び置換
シクロペンタジエニル基でインデニル基、フルオレニル
基等も含まれる。Mと置換シクロペンタジエニル基はη
5 でπ結合していて5員環の炭素はそれぞれ等価であ
る。R1 〜R4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよ
く、水素またはC1〜C12のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基でこのう
ちの任意の2つもしくは3つが結合し環を形成していて
も良く、また環にはインデニルやフルオレニルの様な共
役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。
【0012】Yは炭素又はSi又はGe元素によるアル
キレン、シリレン、ゲルミレン基であり、R5 、R6 は
同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C12
のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリロキ
シ基、アリール基でR5 、R6 は互いに結合しYを含ん
だヘテロ環を形成していてもかまわない。mは1〜3の
整数である。ZはN、P、S、O元素のうちいずれか一
つで遷移金属元素と非共有電子対による相互作用はある
がσ結合は形成していないものとする。R7 はそれぞれ
同じでも異なっていても良く、水素又はC1〜C12の
アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ
基、ハロゲンからなるものとする。nは1〜3の整数で
結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数であ
る。Z(R7 )nは具体的には下記一般式(2)に示す
化合物も含むものとする。
キレン、シリレン、ゲルミレン基であり、R5 、R6 は
同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C12
のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリロキ
シ基、アリール基でR5 、R6 は互いに結合しYを含ん
だヘテロ環を形成していてもかまわない。mは1〜3の
整数である。ZはN、P、S、O元素のうちいずれか一
つで遷移金属元素と非共有電子対による相互作用はある
がσ結合は形成していないものとする。R7 はそれぞれ
同じでも異なっていても良く、水素又はC1〜C12の
アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ
基、ハロゲンからなるものとする。nは1〜3の整数で
結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数であ
る。Z(R7 )nは具体的には下記一般式(2)に示す
化合物も含むものとする。
【0013】
【化10】 (但し、R8 、R9 はそれぞれ同じでも異なっていても
良く、C1〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。) X1 、X2 はそれぞれ同じでも異なっていても良く、水
素またはC1〜C12のアルキル基、アルコキシ基、ア
リール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。
良く、C1〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。) X1 、X2 はそれぞれ同じでも異なっていても良く、水
素またはC1〜C12のアルキル基、アルコキシ基、ア
リール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。
【0014】一般式(1)および(2)における、R1
〜R9 のアルキル基、アリール基及びアルコキシ基、ア
リロキシ基のアルキル、アリール部分の具体例として
は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、sec−ブチ
ル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルブチル、
2−メチルブチル、1,2−ジメチルプロピル、ネオペ
ンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、1−メチルペン
チル、2−メチルペンチル、
〜R9 のアルキル基、アリール基及びアルコキシ基、ア
リロキシ基のアルキル、アリール部分の具体例として
は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、sec−ブチ
ル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルブチル、
2−メチルブチル、1,2−ジメチルプロピル、ネオペ
ンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、1−メチルペン
チル、2−メチルペンチル、
【0015】3−メチルペンチル、1,1−ジメチルブ
チル、2,2−ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチ
ル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチ
ル、1,1−エチルメチルプロピル、1−エチルブチ
ル、2−エチルブチル、シクロヘキシル、n−ヘプチ
ル、イソヘプチル、4−メチルヘキシル、3−メチルヘ
キシル、2−メチルヘキシル、1−メチルヘキシル、
1,1−ジメチルペンチル、2,2−ジメチルペンチ
ル、3,3−ジメチルペンチル、4,4−ジメチルペン
チル、1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメチルペ
ンチル、1,4−ジメチルペンチル、1−エチルペンチ
ル、
チル、2,2−ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチ
ル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチ
ル、1,1−エチルメチルプロピル、1−エチルブチ
ル、2−エチルブチル、シクロヘキシル、n−ヘプチ
ル、イソヘプチル、4−メチルヘキシル、3−メチルヘ
キシル、2−メチルヘキシル、1−メチルヘキシル、
1,1−ジメチルペンチル、2,2−ジメチルペンチ
ル、3,3−ジメチルペンチル、4,4−ジメチルペン
チル、1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメチルペ
ンチル、1,4−ジメチルペンチル、1−エチルペンチ
ル、
【0016】1−プロピルブチル、2−エチルペンチ
ル、3−エチルペンチル、1,1−エチルメチルブチ
ル、1,1−ジエチルプロピル、2,3−ジメチルペン
チル、2,4−ジメチルペンチル、3,4−ジメチルペ
ンチル、1,−エチル−2−メチルブチル、1−エチル
−3−メチルブチル、4−メチルシクロヘキシル、3−
メチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、1,1,2−
トリメチルブチル、1,1,3−トリメチルブチル、
2,2,1−トリメチルブチル、2,2,3−トリメチ
ルブチル、3,3,1−トリメチルブチル、3,3,2
−トリメチルブチル、1,1,2,2−テトラメチルプ
ロピル、n−オクチル、
ル、3−エチルペンチル、1,1−エチルメチルブチ
ル、1,1−ジエチルプロピル、2,3−ジメチルペン
チル、2,4−ジメチルペンチル、3,4−ジメチルペ
ンチル、1,−エチル−2−メチルブチル、1−エチル
−3−メチルブチル、4−メチルシクロヘキシル、3−
メチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、1,1,2−
トリメチルブチル、1,1,3−トリメチルブチル、
2,2,1−トリメチルブチル、2,2,3−トリメチ
ルブチル、3,3,1−トリメチルブチル、3,3,2
−トリメチルブチル、1,1,2,2−テトラメチルプ
ロピル、n−オクチル、
【0017】1−メチルヘプチル、2−メチルヘプチ
ル、3−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5−メ
チルヘプチル、イソオクチル、1−エチルヘキシル2−
エチルヘキシル、3−エチルヘキシル、4−エチルヘキ
シル、1,1−ジメチルヘキシル、2,2−ジメチルヘ
キシル、3,3−ジメチルヘキシル、4,4−ジメチル
ヘキシル、5,5−ジメチルヘキシル、1,2−ジメチ
ルヘキシル、1,3−ジメチルヘキシル、1,4−ジメ
チルヘキシル、1,5−ジメチルヘキシル、2,3−ヂ
メチルヘキシル、2,4−ジメチルヘキシル、3,4−
ジメチルヘキシル、2,5−ジメチルヘキシル、3,5
−ジメチルヘキシル、1,1−メチルエチルペンチル、
1−エチル−2−メチルペンチル、1−エチル−3−メ
チルペンチル、1−エチル−4−メチルペンチル、2−
エチル−1−メチルペンチル、
ル、3−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5−メ
チルヘプチル、イソオクチル、1−エチルヘキシル2−
エチルヘキシル、3−エチルヘキシル、4−エチルヘキ
シル、1,1−ジメチルヘキシル、2,2−ジメチルヘ
キシル、3,3−ジメチルヘキシル、4,4−ジメチル
ヘキシル、5,5−ジメチルヘキシル、1,2−ジメチ
ルヘキシル、1,3−ジメチルヘキシル、1,4−ジメ
チルヘキシル、1,5−ジメチルヘキシル、2,3−ヂ
メチルヘキシル、2,4−ジメチルヘキシル、3,4−
ジメチルヘキシル、2,5−ジメチルヘキシル、3,5
−ジメチルヘキシル、1,1−メチルエチルペンチル、
1−エチル−2−メチルペンチル、1−エチル−3−メ
チルペンチル、1−エチル−4−メチルペンチル、2−
エチル−1−メチルペンチル、
【0018】2,2−エチルメチルペンチル、3,3−
エチルメチルペンチル、2−エチル−3−メチルペンチ
ル、2−エチル−4−メチルペンチル、3−エチル−4
−メチルペンチル、3−エチル−2−メチルペンチル、
1,1−ジエチルブチル、2,2−ジエチルブチル、
1,2−ジエチルブチル、1,1−メチルプロピルブチ
ル、2−メチル−1−プロピルブチル、3メチル−1−
プロピルブチル、4−エチルシクロヘキシル、3−エチ
ルシクロヘキシル、3,4−ジメチルシクロヘキシル、
1,1,2−トリメチルペンチル、1,1,3−トリメ
チルペンチル、1,1,4−トリメチルペンチル、2,
2,1−トリメチルペンチル、2,2,3−トリメチル
ペンチル、2,2,4−トリメチルペンチル、3,3,
1−トリメチルペンチル、3,3,2−トリメチルペン
チル、3,3,4−トリメチルペンチル、1,2,3−
トリメチルペンチル、1,2,4−トリメチルペンチ
ル、
エチルメチルペンチル、2−エチル−3−メチルペンチ
ル、2−エチル−4−メチルペンチル、3−エチル−4
−メチルペンチル、3−エチル−2−メチルペンチル、
1,1−ジエチルブチル、2,2−ジエチルブチル、
1,2−ジエチルブチル、1,1−メチルプロピルブチ
ル、2−メチル−1−プロピルブチル、3メチル−1−
プロピルブチル、4−エチルシクロヘキシル、3−エチ
ルシクロヘキシル、3,4−ジメチルシクロヘキシル、
1,1,2−トリメチルペンチル、1,1,3−トリメ
チルペンチル、1,1,4−トリメチルペンチル、2,
2,1−トリメチルペンチル、2,2,3−トリメチル
ペンチル、2,2,4−トリメチルペンチル、3,3,
1−トリメチルペンチル、3,3,2−トリメチルペン
チル、3,3,4−トリメチルペンチル、1,2,3−
トリメチルペンチル、1,2,4−トリメチルペンチ
ル、
【0019】1,3,4−トリメチルペンチル、1,
2,3−トリメチルペンチル、1,2,4−トリメチル
ペンチル、1,3,4−トリメチルペンチル、1,1,
2,2−テトラメチルブチル、1,1,3,3−テトラ
メチルブチル、1,1,2,3−テトラメチルブチル、
2,2,1,3−テトラメチルブチル、1−エチル−
1,2−ジメチルブチル、2−エチル−1,2−ジメチ
ルブチル、1−エチル−2,3−ジメチルブチル、n−
ノニル、イソノニル、1−メチルオクチル、2−メチル
オクチル、3−メチルオクチル、4−メチルオクチル、
5−メチルオクチル、6−メチルオクチル、1−エチル
ヘプチル、2−エチルヘプチル、
2,3−トリメチルペンチル、1,2,4−トリメチル
ペンチル、1,3,4−トリメチルペンチル、1,1,
2,2−テトラメチルブチル、1,1,3,3−テトラ
メチルブチル、1,1,2,3−テトラメチルブチル、
2,2,1,3−テトラメチルブチル、1−エチル−
1,2−ジメチルブチル、2−エチル−1,2−ジメチ
ルブチル、1−エチル−2,3−ジメチルブチル、n−
ノニル、イソノニル、1−メチルオクチル、2−メチル
オクチル、3−メチルオクチル、4−メチルオクチル、
5−メチルオクチル、6−メチルオクチル、1−エチル
ヘプチル、2−エチルヘプチル、
【0020】3−エチルヘプチル、4−エチルヘプチ
ル、5−エチルヘプチル1,1−ジメチルヘプチル、
2,2−ジメチルヘプチル、3,3−ジメチルヘプチ
ル、4,4−ジメチルヘプチル、5,5−ジメチルヘプ
チル、6,6−ジメチルヘプチル、1,2−ジメチルヘ
プチル、1,3−ジメチルヘプチル、1,4−ジメチル
ヘプチル、1,5−ジメチルヘプチル、1,6−ジメチ
ルヘプチル、2,3−ジメチルヘプチル、2,4−ジメ
チルヘプチル、2,5−ジメチルヘプチル、2,6−ジ
メチルヘプチル、3,4−ジメチルヘプチル、3,5−
ジメチルヘプチル、3,6−ジメチルヘプチル、4,5
−ジメチルヘプチル、4,6−ジメチルヘプチル、5,
6−ジメチルヘプチル、1,1,2−トリメチルヘキシ
ル、
ル、5−エチルヘプチル1,1−ジメチルヘプチル、
2,2−ジメチルヘプチル、3,3−ジメチルヘプチ
ル、4,4−ジメチルヘプチル、5,5−ジメチルヘプ
チル、6,6−ジメチルヘプチル、1,2−ジメチルヘ
プチル、1,3−ジメチルヘプチル、1,4−ジメチル
ヘプチル、1,5−ジメチルヘプチル、1,6−ジメチ
ルヘプチル、2,3−ジメチルヘプチル、2,4−ジメ
チルヘプチル、2,5−ジメチルヘプチル、2,6−ジ
メチルヘプチル、3,4−ジメチルヘプチル、3,5−
ジメチルヘプチル、3,6−ジメチルヘプチル、4,5
−ジメチルヘプチル、4,6−ジメチルヘプチル、5,
6−ジメチルヘプチル、1,1,2−トリメチルヘキシ
ル、
【0021】1,1,3−トリメチルヘキシル、1,
1,4−トリメチルヘキシル、1,1,5−トリメチル
ヘキシル、2,2,1−トリメチルヘキシル、2,2,
3−トリメチルヘキシル、2,2,4−トリメチルヘキ
シル、2,2,5−トリメチルヘキシル、3,3,1−
トリメチルヘキシル、3,3,2−トリメチルヘキシ
ル、3,3,4−トリメチルヘキシル、3,3,5−ト
リメチルヘキシル、4,4,1−トリメチルヘキシル、
4,4,2−トリメチルヘキシル、4,4,3−トリメ
チルヘキシル、4,4,5−トリメチルヘキシル、5,
5,1−トリメチルヘキシル、5,5,2−トリメチル
ヘキシル、5,5,3−トリメチルヘキシル、5,5,
4−トリメチルヘキシル、1,2,3−トリメチルヘキ
シル、2,3,4−トリメチルヘキシル、
1,4−トリメチルヘキシル、1,1,5−トリメチル
ヘキシル、2,2,1−トリメチルヘキシル、2,2,
3−トリメチルヘキシル、2,2,4−トリメチルヘキ
シル、2,2,5−トリメチルヘキシル、3,3,1−
トリメチルヘキシル、3,3,2−トリメチルヘキシ
ル、3,3,4−トリメチルヘキシル、3,3,5−ト
リメチルヘキシル、4,4,1−トリメチルヘキシル、
4,4,2−トリメチルヘキシル、4,4,3−トリメ
チルヘキシル、4,4,5−トリメチルヘキシル、5,
5,1−トリメチルヘキシル、5,5,2−トリメチル
ヘキシル、5,5,3−トリメチルヘキシル、5,5,
4−トリメチルヘキシル、1,2,3−トリメチルヘキ
シル、2,3,4−トリメチルヘキシル、
【0022】3,4,5−トリメチルヘキシル、1,
3,4−トリメチルヘキシル、1,4,5−トリメチル
ヘキシル、2,4,5−トリメチルヘキシル、1,2,
5−トリメチルヘキシル、1,2,4−トリメチルヘキ
シル、1,1−エチルメチルヘキシル、2,2−エチル
メチルヘキシル、3,3−エチルメチルヘキシル、4,
4−エチルメチルヘキシル、5,5−エチルメチルヘキ
シル、1−エチル−2−メチルヘキシル、1−エチル−
3−メチルヘキシル、1−エチル−4−メチルヘキシ
ル、1−エチル−5−メチルヘキシル、2−エチル−1
−メチルヘキシル、3−エチル−1−メチルヘキシル、
3−エチル−2−メチルヘキシル、1,1−ジエチルペ
ンチル、2,2−ジエチルペンチル、3,3−ジエチル
ペンチル、1,2−ジエチルペンチル、1,3−ジエチ
ルペンチル、2,3−ジエチルペンチル、1,1−メチ
ルプロピルペンチル、2,2−メチルプロピルペンチ
ル、
3,4−トリメチルヘキシル、1,4,5−トリメチル
ヘキシル、2,4,5−トリメチルヘキシル、1,2,
5−トリメチルヘキシル、1,2,4−トリメチルヘキ
シル、1,1−エチルメチルヘキシル、2,2−エチル
メチルヘキシル、3,3−エチルメチルヘキシル、4,
4−エチルメチルヘキシル、5,5−エチルメチルヘキ
シル、1−エチル−2−メチルヘキシル、1−エチル−
3−メチルヘキシル、1−エチル−4−メチルヘキシ
ル、1−エチル−5−メチルヘキシル、2−エチル−1
−メチルヘキシル、3−エチル−1−メチルヘキシル、
3−エチル−2−メチルヘキシル、1,1−ジエチルペ
ンチル、2,2−ジエチルペンチル、3,3−ジエチル
ペンチル、1,2−ジエチルペンチル、1,3−ジエチ
ルペンチル、2,3−ジエチルペンチル、1,1−メチ
ルプロピルペンチル、2,2−メチルプロピルペンチ
ル、
【0023】1−メチル−2−プロピルペンチルn−デ
シル、イソデシル、1−メチルノニル、2−メチルノニ
ル、3−メチルノニル、4−メチルノニル、5−メチル
ノニル、6−メチルノニル、7−メチルノニル、1−エ
チルオクチル、2−エチルオクチル、3−エチルオクチ
ル、4−エチルオクチル、5−エチルオクチル、6−エ
チルオクチル、1,1−ジメチルオクチル、2,2−ジ
メチルオクチル、3,3−ジメチルオクチル、4,4−
ジメチルオクチル、5,5−ジメチルオクチル、6,6
−ジメチルオクチル、7,7−ジメチルオクチル、1,
2−ジメチルオクチル、1,3−ジメチルオクチル、
1,4−ジメチルオクチル、1,5−ジメチルオクチ
ル、1,6−ジメチルオクチル、1,7−ジメチルオク
チル、2,3−ジメチルオクチル、2,4−ジメチルオ
クチル、2,5−ジメチルオクチル、
シル、イソデシル、1−メチルノニル、2−メチルノニ
ル、3−メチルノニル、4−メチルノニル、5−メチル
ノニル、6−メチルノニル、7−メチルノニル、1−エ
チルオクチル、2−エチルオクチル、3−エチルオクチ
ル、4−エチルオクチル、5−エチルオクチル、6−エ
チルオクチル、1,1−ジメチルオクチル、2,2−ジ
メチルオクチル、3,3−ジメチルオクチル、4,4−
ジメチルオクチル、5,5−ジメチルオクチル、6,6
−ジメチルオクチル、7,7−ジメチルオクチル、1,
2−ジメチルオクチル、1,3−ジメチルオクチル、
1,4−ジメチルオクチル、1,5−ジメチルオクチ
ル、1,6−ジメチルオクチル、1,7−ジメチルオク
チル、2,3−ジメチルオクチル、2,4−ジメチルオ
クチル、2,5−ジメチルオクチル、
【0024】2,6−ジメチルオクチル、2,7−ジメ
チルオクチル、3,4−ジメチルオクチル、3,5−ジ
メチルオクチル、3,6−ジメチルオクチル、3,7−
ジメチルオクチル、4,5−ジメチルオクチル、4,6
−ジメチルオクチル、4,7−ジメチルオクチル、5,
6−ジメチルオクチル、5,7−ジメチルオクチル、n
−ウンデシル、n−ドデシル、フェニル、ベンジル、p
−トリル、m−トリル、キシリル、メシチリル、2,6
−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニ
ル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,6−トリメ
トキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフェニル、
2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフチル、o
−イソプロポキシフェニルなどがあげられる。
チルオクチル、3,4−ジメチルオクチル、3,5−ジ
メチルオクチル、3,6−ジメチルオクチル、3,7−
ジメチルオクチル、4,5−ジメチルオクチル、4,6
−ジメチルオクチル、4,7−ジメチルオクチル、5,
6−ジメチルオクチル、5,7−ジメチルオクチル、n
−ウンデシル、n−ドデシル、フェニル、ベンジル、p
−トリル、m−トリル、キシリル、メシチリル、2,6
−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニ
ル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,6−トリメ
トキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフェニル、
2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフチル、o
−イソプロポキシフェニルなどがあげられる。
【0025】触媒成分(B)のアルミニウムオキシ化合
物としては下記一般式で示される有機アルミニウムオキ
シ化合物のうち少なくとも1つの化合物があげられる。
物としては下記一般式で示される有機アルミニウムオキ
シ化合物のうち少なくとも1つの化合物があげられる。
【化11】 (式中、R10〜R14は同じでも異なっていても良く、C
1〜C8までの炭化水素基、nは1〜50までの整数を
表す。)
1〜C8までの炭化水素基、nは1〜50までの整数を
表す。)
【0026】触媒成分(B)のカチオン発生剤の代表的
なものとしては下記一般式で示される有機ホウ素化合物
があげられる。
なものとしては下記一般式で示される有機ホウ素化合物
があげられる。
【化12】(BR15R16R17)n 、 A(BR15R16R17R18)n (式中、Aはカチオンである。R15〜R18は同じでも異
なっていても良く、C1〜C14までのハロゲン化アリ
ール基を含む炭化水素基、アルコキシ基、アリロキシ基
を表し、nは1〜4までの整数を表す。)
なっていても良く、C1〜C14までのハロゲン化アリ
ール基を含む炭化水素基、アルコキシ基、アリロキシ基
を表し、nは1〜4までの整数を表す。)
【0027】ここで化合物のカチオンAとしては、4級
アミンまたは4級アンモニウム塩またはカルボカチオン
または価数+1〜4の金属カチオンがあり、具体例とし
ては、ピリジニウム、2,4−ジニトロ−N,N−ジエ
チルアニリニウム、p−ニトロアニリニウム、2,5−
ジクロロアニリンp−ニトロ−N,N−ジメチルアニリ
ニウム、キノリニウム、N,N−ジメチルアニリニウ
ム、メチルジフェニルアンモニウム、N,N−ジエチル
アニリニウム、8−クロロキノリニウム、トリメチルア
ンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリエチルア
ンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリフェニルカ
ルボカチオン、トリフェニルホスホニウム、アンモニウ
ム、ナトリウム、リチウム、カリウム、セシウム、カル
シウム、マグネシウム等があげられる。
アミンまたは4級アンモニウム塩またはカルボカチオン
または価数+1〜4の金属カチオンがあり、具体例とし
ては、ピリジニウム、2,4−ジニトロ−N,N−ジエ
チルアニリニウム、p−ニトロアニリニウム、2,5−
ジクロロアニリンp−ニトロ−N,N−ジメチルアニリ
ニウム、キノリニウム、N,N−ジメチルアニリニウ
ム、メチルジフェニルアンモニウム、N,N−ジエチル
アニリニウム、8−クロロキノリニウム、トリメチルア
ンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリエチルア
ンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリフェニルカ
ルボカチオン、トリフェニルホスホニウム、アンモニウ
ム、ナトリウム、リチウム、カリウム、セシウム、カル
シウム、マグネシウム等があげられる。
【0028】また、R15〜R18の炭化水素基、及びアル
コキシ基、アリロキシ基の炭化水素基部分の具体例とし
ては、アレチルアセトナト、イソプロピル、フェニル、
ベンジル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチ
リル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメ
チルフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,
6−トリメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフ
ェニル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフ
チル、o−イソプロポキシフェニル、ペンタフルオロフ
ェニルペンタフルオロベンジル、テトラフルオロフェニ
ル、テトラフルオロトリル等があげられる。
コキシ基、アリロキシ基の炭化水素基部分の具体例とし
ては、アレチルアセトナト、イソプロピル、フェニル、
ベンジル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチ
リル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメ
チルフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,
6−トリメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフ
ェニル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフ
チル、o−イソプロポキシフェニル、ペンタフルオロフ
ェニルペンタフルオロベンジル、テトラフルオロフェニ
ル、テトラフルオロトリル等があげられる。
【0029】一方、触媒成分(D)のアルキルアルミニ
ウム化合物としては、アルキルアルミニウム等の有機ア
ルミニウム化合物をあげることができる。具体的な化合
物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリフェニル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジメチ
ルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロラ
イド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、トリ(2−エ
チルヘキシル)アルミニウム、(2−エチルヘキシル)
アルミニウムジクロリドなどが挙げられる。
ウム化合物としては、アルキルアルミニウム等の有機ア
ルミニウム化合物をあげることができる。具体的な化合
物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリフェニル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジメチ
ルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロラ
イド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、トリ(2−エ
チルヘキシル)アルミニウム、(2−エチルヘキシル)
アルミニウムジクロリドなどが挙げられる。
【0030】これらの他にナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、カリウムアルミニウムハイドライド、ジイソ
ブチルナトリウムアルミニウムハイドライド、トリ(t
- ブトキシ)アルミニウムハイドライド、トリエチルナ
トリウムアルミニウムハイドライド、ジイソブチルナト
リウムアルミニウムハイドライド、トリエチルナトリウ
ムアルミニウムハイドライド、トリエトキシナトリウム
アルミニウムハイドライド、トリエチルリチウムアルミ
ニウムハイドライド等の2種以上の金属を含有する水素
化物でも構わない。これらの化合物のなかでも好ましい
ものとしては、トリメチルアルミニウム、トリエチルア
ルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルア
ルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムクロリド、
メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウ
ムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジ
イソブチルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、予め反
応させることで合成される錯体(ア−ト錯体)等も含ま
れる。
ドライド、カリウムアルミニウムハイドライド、ジイソ
ブチルナトリウムアルミニウムハイドライド、トリ(t
- ブトキシ)アルミニウムハイドライド、トリエチルナ
トリウムアルミニウムハイドライド、ジイソブチルナト
リウムアルミニウムハイドライド、トリエチルナトリウ
ムアルミニウムハイドライド、トリエトキシナトリウム
アルミニウムハイドライド、トリエチルリチウムアルミ
ニウムハイドライド等の2種以上の金属を含有する水素
化物でも構わない。これらの化合物のなかでも好ましい
ものとしては、トリメチルアルミニウム、トリエチルア
ルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルア
ルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムクロリド、
メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウ
ムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジ
イソブチルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、予め反
応させることで合成される錯体(ア−ト錯体)等も含ま
れる。
【0031】また、触媒成分(E)のアルキルアルカリ
金属および/またはアルキルアルカリ土類金属化合物の
具体例としては、有機リチウム化合物、有機ナトリウム
化合物、有機カリウム化合物、有機亜鉛化合物、有機マ
グネシウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機カル
シウム化合物等を挙げることが出来るが、単独あるいは
二種以上(A)と組み合わせて用いることもできる。
金属および/またはアルキルアルカリ土類金属化合物の
具体例としては、有機リチウム化合物、有機ナトリウム
化合物、有機カリウム化合物、有機亜鉛化合物、有機マ
グネシウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機カル
シウム化合物等を挙げることが出来るが、単独あるいは
二種以上(A)と組み合わせて用いることもできる。
【0032】含Li化合物の具体例としては、メチルリ
チウム、エチルリチウム、n−プロピルリチウム、イソ
プロピルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチ
ルリチウム、イソブチルリチウム、t−ブチルリチウ
ム、n−ペンチルリチウム、n−ヘキシルリチウム、フ
ェニルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、m−
トリルリチウム、p−トリルリチウム、キシリルリチウ
ム、ジメチルアミノリチウム、ジエチルアミノリチウ
ム、メトキシリチウム、エトキシリチウム、n−プロポ
キシリチウム、イソプロポキシリチウム、n−ブトキシ
リチウム、sec−ブトキシリチウム、tー ブトキシリ
チウム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチ
ウム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウ
ム、フェノキシリチウム、4−メチルフェノキシリチウ
ム、ベンジルオキシリチウム、4−メチルベンジルオキ
シリチウム、等が挙げられる。
チウム、エチルリチウム、n−プロピルリチウム、イソ
プロピルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチ
ルリチウム、イソブチルリチウム、t−ブチルリチウ
ム、n−ペンチルリチウム、n−ヘキシルリチウム、フ
ェニルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、m−
トリルリチウム、p−トリルリチウム、キシリルリチウ
ム、ジメチルアミノリチウム、ジエチルアミノリチウ
ム、メトキシリチウム、エトキシリチウム、n−プロポ
キシリチウム、イソプロポキシリチウム、n−ブトキシ
リチウム、sec−ブトキシリチウム、tー ブトキシリ
チウム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチ
ウム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウ
ム、フェノキシリチウム、4−メチルフェノキシリチウ
ム、ベンジルオキシリチウム、4−メチルベンジルオキ
シリチウム、等が挙げられる。
【0033】また、トリメチルシリルリチウム、ジエチ
ルメチルシリルリチウム、ジメチルエチルシリルリチウ
ム、トリエチルシリルリチウム、トリフェニルシリルリ
チウム等の有機ケイ素リチウム化合物でも良い。含Na
化合物の具体例としては、メチルナトリウム、エチルナ
トリウム、n−プロピルナトリウム、イソプロピルナト
リウム、nー ブチルナトリウム、sec−ブチルナトリ
ウム、イソブチルナトリウム、t−ブチルナトリウム、
n−ペンチルナトリウム、n−ヘキシルナトリウム、フ
ェニルナトリウム、シクロペンタジエニルナトリウム、
m−トリルナトリウム、p−トリルナトリウム、キシリ
ルナトリウム、ナトリウムナフタレン等が挙げられる。
ルメチルシリルリチウム、ジメチルエチルシリルリチウ
ム、トリエチルシリルリチウム、トリフェニルシリルリ
チウム等の有機ケイ素リチウム化合物でも良い。含Na
化合物の具体例としては、メチルナトリウム、エチルナ
トリウム、n−プロピルナトリウム、イソプロピルナト
リウム、nー ブチルナトリウム、sec−ブチルナトリ
ウム、イソブチルナトリウム、t−ブチルナトリウム、
n−ペンチルナトリウム、n−ヘキシルナトリウム、フ
ェニルナトリウム、シクロペンタジエニルナトリウム、
m−トリルナトリウム、p−トリルナトリウム、キシリ
ルナトリウム、ナトリウムナフタレン等が挙げられる。
【0034】含K化合物の具体例としては、メチルカリ
ウム、エチルカリウム、n−プロピルカリウム、イソプ
ロピルカリウム、n−ブチルカリウム、sec−ブチル
カリウム、イソブチルカリウム、t−ブチルカリウム、
n−ペンチルカリウム、n−ヘキシルカリウム、トリフ
ェニルメチルカリウム、フェニルカリウム、フェニルエ
チルカリウム、シクロペンタジエニルカリウム、m−ト
リルカリウム、p−トリルカリウム、キシリルカリウ
ム、カリウムナフタレン等が挙げられる。
ウム、エチルカリウム、n−プロピルカリウム、イソプ
ロピルカリウム、n−ブチルカリウム、sec−ブチル
カリウム、イソブチルカリウム、t−ブチルカリウム、
n−ペンチルカリウム、n−ヘキシルカリウム、トリフ
ェニルメチルカリウム、フェニルカリウム、フェニルエ
チルカリウム、シクロペンタジエニルカリウム、m−ト
リルカリウム、p−トリルカリウム、キシリルカリウ
ム、カリウムナフタレン等が挙げられる。
【0035】含Zn化合物としては、ジエチル亜鉛、ビ
ス(η5 −シクロペンタジエニル)亜鉛、ジフェニル亜
鉛等が挙げられ、さらに含Mg化合物としては、ジメチ
ルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグ
ネシウム、エチルブチルマグネシウム、メチルマグネシ
ウムブロマイド、エチルマグネシウムクロライド、エチ
ルマグネシウムブロマイド、エチルマグネシウムクロラ
イド、フェニルマグネシウムブロマイド、フェニルマグ
ネシウムクロライド、t−ブチルマグネシウムクロライ
ド、t−ブチルマグネシウムブロマイド等が挙げられ
る。
ス(η5 −シクロペンタジエニル)亜鉛、ジフェニル亜
鉛等が挙げられ、さらに含Mg化合物としては、ジメチ
ルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグ
ネシウム、エチルブチルマグネシウム、メチルマグネシ
ウムブロマイド、エチルマグネシウムクロライド、エチ
ルマグネシウムブロマイド、エチルマグネシウムクロラ
イド、フェニルマグネシウムブロマイド、フェニルマグ
ネシウムクロライド、t−ブチルマグネシウムクロライ
ド、t−ブチルマグネシウムブロマイド等が挙げられ
る。
【0036】これらの他にリチウムハイドライド、カリ
ウムハイドライド、ナトリウムハイドライド、カルシウ
ムハイドライド等のアルカリ(土類)金属水素化物や、
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t−ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、有機ア
ルカリ金属化合物と有機マグネシウム化合物を予め反応
させることで合成される錯体(ア−ト錯体)等も含まれ
る。
ウムハイドライド、ナトリウムハイドライド、カルシウ
ムハイドライド等のアルカリ(土類)金属水素化物や、
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t−ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、有機ア
ルカリ金属化合物と有機マグネシウム化合物を予め反応
させることで合成される錯体(ア−ト錯体)等も含まれ
る。
【0037】本発明において使用するのに好適な触媒は
(A)成分である遷移金属化合物と(B)成分のアルキ
ルアルミニウムオキシ化合物、または(A)成分と
(C)成分であるカチオン発生剤、または(A)成分と
(B)成分と(C)成分であるカチオン発生剤、または
(A)成分と(B)成分と(D)成分であるアルキルア
ルミニウム化合物、または(A)成分と(D)成分であ
るアルキルアルミニウム化合物、または(A)成分と
(B)成分と(E)成分であるアルキルアルカリ金属類
および/またはアルキルアルカリ土類金属類、または
(A)成分と(B)成分と(C)成分と(D)成分、ま
たは(A)成分と(B)成分と(C)成分と(E)成
分、(A)成分と(B)成分と(D)成分と(E)成
分、(A)成分と(E)成分の組み合わせがあり、上記
の組み合わせで触媒(A)成分と(B)(C)(D)
(E)成分のいずれかを任意の順序でかつ任意の好適な
方法で組み合わせることによって製造される。
(A)成分である遷移金属化合物と(B)成分のアルキ
ルアルミニウムオキシ化合物、または(A)成分と
(C)成分であるカチオン発生剤、または(A)成分と
(B)成分と(C)成分であるカチオン発生剤、または
(A)成分と(B)成分と(D)成分であるアルキルア
ルミニウム化合物、または(A)成分と(D)成分であ
るアルキルアルミニウム化合物、または(A)成分と
(B)成分と(E)成分であるアルキルアルカリ金属類
および/またはアルキルアルカリ土類金属類、または
(A)成分と(B)成分と(C)成分と(D)成分、ま
たは(A)成分と(B)成分と(C)成分と(E)成
分、(A)成分と(B)成分と(D)成分と(E)成
分、(A)成分と(E)成分の組み合わせがあり、上記
の組み合わせで触媒(A)成分と(B)(C)(D)
(E)成分のいずれかを任意の順序でかつ任意の好適な
方法で組み合わせることによって製造される。
【0038】触媒(A)成分と(B)成分の好ましい触
媒組成比は(A):(B)=1:0.01〜1:100
00、触媒(A)成分と(C)成分の好ましい触媒組成
比は(A):(C)=1:0.01〜1:100、触媒
(A)成分と(D)成分の好ましい触媒組成比は
(A):(D)=1:0.01〜1:1000、触媒
(A)成分と(E)成分の好ましい触媒組成比は
(A):(E)=1:0.01〜1:100である。触
媒組成物の調製はあらかじめ、窒素、アルゴン等の不活
性ガス雰囲気下、好適な溶媒中で混合することにより行
っても良いし、(A)(B)(C)(D)(E)それぞ
れの成分を別々にモノマーが共存するリアクター内に打
ち込んで、リアクター内において調製しても良い。触媒
調製に好適な溶媒はヘキサン、シクロヘキサン等、アル
カンをはじめとする炭化水素系溶媒とトルエン、ベンゼ
ン、エチルベンゼン、等の芳香族系の溶媒があげられ
る。また、これらの溶媒は前処理において水分等を除去
しておくことが好ましい。触媒組成物の調製温度として
は、−20℃〜150℃が最適である。
媒組成比は(A):(B)=1:0.01〜1:100
00、触媒(A)成分と(C)成分の好ましい触媒組成
比は(A):(C)=1:0.01〜1:100、触媒
(A)成分と(D)成分の好ましい触媒組成比は
(A):(D)=1:0.01〜1:1000、触媒
(A)成分と(E)成分の好ましい触媒組成比は
(A):(E)=1:0.01〜1:100である。触
媒組成物の調製はあらかじめ、窒素、アルゴン等の不活
性ガス雰囲気下、好適な溶媒中で混合することにより行
っても良いし、(A)(B)(C)(D)(E)それぞ
れの成分を別々にモノマーが共存するリアクター内に打
ち込んで、リアクター内において調製しても良い。触媒
調製に好適な溶媒はヘキサン、シクロヘキサン等、アル
カンをはじめとする炭化水素系溶媒とトルエン、ベンゼ
ン、エチルベンゼン、等の芳香族系の溶媒があげられ
る。また、これらの溶媒は前処理において水分等を除去
しておくことが好ましい。触媒組成物の調製温度として
は、−20℃〜150℃が最適である。
【0039】本発明の重合方法は、モノマーと触媒の存
在下、減圧、大気圧、加圧のいずれかの条件のもとで、
バルク、溶液、スラリーのいずれの方法でも行うことが
出来る。重合を行うのに好適な温度範囲としては−30
℃〜260℃であり、好ましくは0℃〜200℃であ
る。また、重合においては、窒素、アルゴン等の不活性
ガス雰囲気下で行っても良いし、エチレン雰囲気下で行
っても良い、またエチレン、及び/またはプロピレン及
び/またはブチレンと上記の不活性ガスの混合雰囲気下
でもかまわない。さらに、分子量調節のために上記のガ
スに加えて、水素を共存させてもかまわない。また、触
媒成分をアルミナ、塩化マグネシウム、シリカのような
好適な担体に担持させて用いてもかまわない。また所望
ならば、重合に際して溶媒を用いることも出来る。
在下、減圧、大気圧、加圧のいずれかの条件のもとで、
バルク、溶液、スラリーのいずれの方法でも行うことが
出来る。重合を行うのに好適な温度範囲としては−30
℃〜260℃であり、好ましくは0℃〜200℃であ
る。また、重合においては、窒素、アルゴン等の不活性
ガス雰囲気下で行っても良いし、エチレン雰囲気下で行
っても良い、またエチレン、及び/またはプロピレン及
び/またはブチレンと上記の不活性ガスの混合雰囲気下
でもかまわない。さらに、分子量調節のために上記のガ
スに加えて、水素を共存させてもかまわない。また、触
媒成分をアルミナ、塩化マグネシウム、シリカのような
好適な担体に担持させて用いてもかまわない。また所望
ならば、重合に際して溶媒を用いることも出来る。
【0040】重合に用いるのに好適な溶媒としては、ヘ
キサン、シクロヘキサン等、アルカンをはじめとする炭
化水素系溶媒とトルエン、ベンゼン、エチルベンゼン、
等の芳香族系の溶媒があげられる。また、重合に用いる
モノマーとしては、エチレンとスチレンが最も好適であ
るが、必要に応じてプロピレン、ブチレン等の他のオレ
フィン化合物やα−メチルスチレン、ジフェニルエチレ
ン等の芳香族ビニル化合物を共存させることが出来る。
本重合における好適な触媒量は[(生成ポリマー重量)
Kg]/[触媒(A)成分1mol]=50kg/1m
ol〜10000000kg/1mol程度のポリマー
を与える量である。
キサン、シクロヘキサン等、アルカンをはじめとする炭
化水素系溶媒とトルエン、ベンゼン、エチルベンゼン、
等の芳香族系の溶媒があげられる。また、重合に用いる
モノマーとしては、エチレンとスチレンが最も好適であ
るが、必要に応じてプロピレン、ブチレン等の他のオレ
フィン化合物やα−メチルスチレン、ジフェニルエチレ
ン等の芳香族ビニル化合物を共存させることが出来る。
本重合における好適な触媒量は[(生成ポリマー重量)
Kg]/[触媒(A)成分1mol]=50kg/1m
ol〜10000000kg/1mol程度のポリマー
を与える量である。
【0041】本発明における重合後のポリマーの分離の
方法としては、例えば重合液にアセトンまたは酸もしく
はアルカリを混合したアルコール等の貧溶媒となる極性
溶媒を加えて重合体を沈澱させて回収する方法、反応液
を撹拌下、熱湯中に投入後、溶媒と共に蒸留回収する方
法、または直接反応液を加熱して溶媒を留去する方法等
を挙げることができる。本発明の重合触媒は第1に触媒
の合成が容易でかつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反
応に高活性を示すことである。第2に貯蔵安定性・活性
安定性が極めて優れることである。したがって触媒の活
性は数カ月たっても殆ど当初の重合活性を持続する。
方法としては、例えば重合液にアセトンまたは酸もしく
はアルカリを混合したアルコール等の貧溶媒となる極性
溶媒を加えて重合体を沈澱させて回収する方法、反応液
を撹拌下、熱湯中に投入後、溶媒と共に蒸留回収する方
法、または直接反応液を加熱して溶媒を留去する方法等
を挙げることができる。本発明の重合触媒は第1に触媒
の合成が容易でかつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反
応に高活性を示すことである。第2に貯蔵安定性・活性
安定性が極めて優れることである。したがって触媒の活
性は数カ月たっても殆ど当初の重合活性を持続する。
【0042】
【発明の実施の形態】以下実施例により本発明を更に具
体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定され
るものではない。以下に実施例及び比較例を行なうにあ
たり、用いた触媒成分について以下に示す。 [触媒(A)成分] (合成例1) 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N−7−アザインドールの合
成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタ
ジエニルジメチルシリルクロライドの合成 1,2,4,5−テトラメチル−1,3−シクロペンタ
ジエン13.2mmolを200mlのシュレンク管に
入れ窒素置換した。脱水テトラヒドロフラン80mlを
加え、−40℃に冷却した。攪拌しながらn−ブチルリ
チウム13.2mmolをゆっくりと滴下した。溶液白
濁後0℃で2時間攪拌した。ここへジメチルジクロロシ
ラン15mmolを一気に滴下し、一晩攪拌した。反応
後溶媒と過剰のジメチルジクロロシランを減圧下に留去
し、黄色液体を得た。これを減圧蒸留により精製し、次
の反応に用いた。
体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定され
るものではない。以下に実施例及び比較例を行なうにあ
たり、用いた触媒成分について以下に示す。 [触媒(A)成分] (合成例1) 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N−7−アザインドールの合
成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタ
ジエニルジメチルシリルクロライドの合成 1,2,4,5−テトラメチル−1,3−シクロペンタ
ジエン13.2mmolを200mlのシュレンク管に
入れ窒素置換した。脱水テトラヒドロフラン80mlを
加え、−40℃に冷却した。攪拌しながらn−ブチルリ
チウム13.2mmolをゆっくりと滴下した。溶液白
濁後0℃で2時間攪拌した。ここへジメチルジクロロシ
ラン15mmolを一気に滴下し、一晩攪拌した。反応
後溶媒と過剰のジメチルジクロロシランを減圧下に留去
し、黄色液体を得た。これを減圧蒸留により精製し、次
の反応に用いた。
【0043】2,3,4,5−テトラメチル−2,4ー
シクロペンタジエニルジメチルシリル−N−7−アザイ
ンドールの合成 7−アザインドール13.2mmolを脱水テトラヒド
ロフラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−
ブチルリチウム13.2mmolを加え、1時間攪拌、
室温に戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した
2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタ
ジエニルジメチルシリルクロライドのテトラヒドロフラ
ン(THF)溶液を滴下した。1時間攪拌後室温に戻し
1晩攪拌した。反応後減圧乾固し、脱水トルエン40m
lを加え不溶分を濾別。液層を減圧乾固した。淡黄色油
状物3.2gが得られた(収率81.8%)。
シクロペンタジエニルジメチルシリル−N−7−アザイ
ンドールの合成 7−アザインドール13.2mmolを脱水テトラヒド
ロフラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−
ブチルリチウム13.2mmolを加え、1時間攪拌、
室温に戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した
2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタ
ジエニルジメチルシリルクロライドのテトラヒドロフラ
ン(THF)溶液を滴下した。1時間攪拌後室温に戻し
1晩攪拌した。反応後減圧乾固し、脱水トルエン40m
lを加え不溶分を濾別。液層を減圧乾固した。淡黄色油
状物3.2gが得られた(収率81.8%)。
【0044】Ti(thf)3 Cl3 の合成 TiCl3 20mmol分の塩化メチレンーTHF溶液
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えた,ジムロートを取り付け2
0時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水
ペンタンで2回洗浄した(収率70%)。
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えた,ジムロートを取り付け2
0時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水
ペンタンで2回洗浄した(収率70%)。
【0045】[(N−7−アザインドリル)ジメチルシ
リル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロ
ペンタジエニル]チタニウムジクロライドの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N−7−アザインドール5m
molを脱水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、0
℃に冷却後n−ブチルリチウム5mmolを加え2時間
攪拌した。続いてTi(thf)3 Cl3 5mmolの
THF溶液に加え一晩攪拌した。減圧乾固したのち脱水
トルエンを10ml加え不溶分を濾別し、再び減圧乾固
した後脱水ヘキサン20mlを加え−20℃で再結晶を
し、目的物を得た。
リル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロ
ペンタジエニル]チタニウムジクロライドの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N−7−アザインドール5m
molを脱水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、0
℃に冷却後n−ブチルリチウム5mmolを加え2時間
攪拌した。続いてTi(thf)3 Cl3 5mmolの
THF溶液に加え一晩攪拌した。減圧乾固したのち脱水
トルエンを10ml加え不溶分を濾別し、再び減圧乾固
した後脱水ヘキサン20mlを加え−20℃で再結晶を
し、目的物を得た。
【0046】(合成例2) 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジエチルアミンの合
成 ジエチルアミン13.2mmolを脱水テトラヒドロフ
ラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−ブチ
ルリチウム13.2mmolを加え、1時間攪拌、室温
に戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライドのTHF溶液を滴下し
た。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌した。反応後減圧
乾固し、脱水トルエン40mlを加え不溶分を濾別し、
液層を減圧乾固して、淡黄色油状物を得た。
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジエチルアミンの合
成 ジエチルアミン13.2mmolを脱水テトラヒドロフ
ラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−ブチ
ルリチウム13.2mmolを加え、1時間攪拌、室温
に戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライドのTHF溶液を滴下し
た。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌した。反応後減圧
乾固し、脱水トルエン40mlを加え不溶分を濾別し、
液層を減圧乾固して、淡黄色油状物を得た。
【0047】[(N,N−ジエチルアミノ)ジメチルシ
リル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロ
ペンタジエニル]チタニウムジクロライドの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジエチルアミン5m
molを脱水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、0
℃に冷却後n−ブチルリチウム5mmolを加え2時間
攪拌した。続いてTi(thf)3 Cl3 5mmolの
THF溶液に加え一晩攪拌した。減圧乾固したのち脱水
トルエンを10ml加え不溶分を濾別し、再び減圧乾固
した後脱水ヘキサン20mlを加え−20℃で再結晶を
し、目的物を得た。
リル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロ
ペンタジエニル]チタニウムジクロライドの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジエチルアミン5m
molを脱水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、0
℃に冷却後n−ブチルリチウム5mmolを加え2時間
攪拌した。続いてTi(thf)3 Cl3 5mmolの
THF溶液に加え一晩攪拌した。減圧乾固したのち脱水
トルエンを10ml加え不溶分を濾別し、再び減圧乾固
した後脱水ヘキサン20mlを加え−20℃で再結晶を
し、目的物を得た。
【0048】(合成例3) 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジメチルアミンの合
成 ジメチルアミンのTHF溶液13.2mmol分を脱水
テトラヒドロフラン40mlに溶解し−40℃まで冷却
した。n−ブチルリチウム13.2mmolを加え、1
時間攪拌、室温に戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先
に合成した2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シ
クロペンタジエニルジメチルシリルクロライドのTHF
溶液を滴下した。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌し
た。反応後減圧乾固し、脱水トルエン40mlを加え不
溶分を濾別し、液層を減圧乾固して、淡黄色油状物を得
た。
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジメチルアミンの合
成 ジメチルアミンのTHF溶液13.2mmol分を脱水
テトラヒドロフラン40mlに溶解し−40℃まで冷却
した。n−ブチルリチウム13.2mmolを加え、1
時間攪拌、室温に戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先
に合成した2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シ
クロペンタジエニルジメチルシリルクロライドのTHF
溶液を滴下した。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌し
た。反応後減圧乾固し、脱水トルエン40mlを加え不
溶分を濾別し、液層を減圧乾固して、淡黄色油状物を得
た。
【0049】[(N,N−ジメチルアミノ)ジメチルシ
リル、2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロ
ペンタジエニル]チタニウムジクロライドの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジメチルアミン5m
molを脱水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、0
℃に冷却後n−ブチルリチウム5mmolを加え2時間
攪拌した。続いてTi(thf)3 Cl3 5mmolの
THF溶液に加え一晩攪拌した。減圧乾固したのち脱水
トルエンを10ml加え不溶分を濾別し、再び減圧乾固
した後脱水ヘキサン20mlを加え−20℃で再結晶を
し、目的物を得た。
リル、2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロ
ペンタジエニル]チタニウムジクロライドの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジメチルアミン5m
molを脱水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、0
℃に冷却後n−ブチルリチウム5mmolを加え2時間
攪拌した。続いてTi(thf)3 Cl3 5mmolの
THF溶液に加え一晩攪拌した。減圧乾固したのち脱水
トルエンを10ml加え不溶分を濾別し、再び減圧乾固
した後脱水ヘキサン20mlを加え−20℃で再結晶を
し、目的物を得た。
【0050】(合成例4) (N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタジエンの合
成 t−ブチルアミン8.2mmolを脱水テトラヒドロフ
ラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−ブチ
ルリチウム8.2mmolを加え、1時間攪拌、室温に
戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライドのTHF溶液を滴下し
た。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌した。反応後減圧
乾固し、脱水トルエン40mlを加え不溶分を濾別。液
層を減圧乾固した。淡黄色油状物が得られた。
4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタジエンの合
成 t−ブチルアミン8.2mmolを脱水テトラヒドロフ
ラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−ブチ
ルリチウム8.2mmolを加え、1時間攪拌、室温に
戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライドのTHF溶液を滴下し
た。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌した。反応後減圧
乾固し、脱水トルエン40mlを加え不溶分を濾別。液
層を減圧乾固した。淡黄色油状物が得られた。
【0051】Ti(thf)3 Cl3 の合成 TiCl3 20mmol分の塩化メチレンーTHF溶液
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えた。ジムロートを取り付け2
0時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水
ペンタンで2回洗浄した(収率70%)。
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えた。ジムロートを取り付け2
0時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水
ペンタンで2回洗浄した(収率70%)。
【0052】[(N−t−ブチルアミド)ジメチルシリ
ル−2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペン
タジエニル]チタニウムジクロリドの合成 (N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタジエン5.
1mmolを脱水トルエン20mlに溶解し、−40℃
に冷却した。n−BuLi10.2mmolを加え2時
間攪拌した。これをあらかじめ−78℃に冷却しトルエ
ン20mlに分散させておいたTi(thf)3 Cl3
に加えた。15分後AgCl6mmolを加え、一晩攪
拌した。これを減圧乾固し、脱水塩化メチレン60ml
を加えた。濾過後液層を減圧乾固した。ヘキサン20m
lで洗浄し目的物を得た。
ル−2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペン
タジエニル]チタニウムジクロリドの合成 (N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタジエン5.
1mmolを脱水トルエン20mlに溶解し、−40℃
に冷却した。n−BuLi10.2mmolを加え2時
間攪拌した。これをあらかじめ−78℃に冷却しトルエ
ン20mlに分散させておいたTi(thf)3 Cl3
に加えた。15分後AgCl6mmolを加え、一晩攪
拌した。これを減圧乾固し、脱水塩化メチレン60ml
を加えた。濾過後液層を減圧乾固した。ヘキサン20m
lで洗浄し目的物を得た。
【0053】
【実施例1】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオー
トクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。ト
ルエンは精製塔を通し、計量管内に280mlサンプリ
ングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を減
圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(B)成分とし
てメチルアルモキサン(MMAO)を20mmol打ち
込み、計量管内のトルエン280mlでリアクタに移送
した。同様にスチレンを920mlサンプリングし脱気
操作を行ったあと、740mlをリアクタ内に移送し
た。リアクタを90℃に加熱し、つぎに(A)成分とし
て[(N−7−アザインドリル)ジメチルシリル−2,
3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタジエ
ニル]チタニウムジクロライド20μmolのトルエン
溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン18
0mlで移送した。リアクタ内をエチレンで10kg/
cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開
始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度
にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を
行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処
理しポリマーを回収した。ポリマー収量は51g、NM
R測定よりポリマー中のスチレン含量は33wt%であ
った。
トクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。ト
ルエンは精製塔を通し、計量管内に280mlサンプリ
ングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を減
圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(B)成分とし
てメチルアルモキサン(MMAO)を20mmol打ち
込み、計量管内のトルエン280mlでリアクタに移送
した。同様にスチレンを920mlサンプリングし脱気
操作を行ったあと、740mlをリアクタ内に移送し
た。リアクタを90℃に加熱し、つぎに(A)成分とし
て[(N−7−アザインドリル)ジメチルシリル−2,
3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタジエ
ニル]チタニウムジクロライド20μmolのトルエン
溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン18
0mlで移送した。リアクタ内をエチレンで10kg/
cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開
始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度
にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を
行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処
理しポリマーを回収した。ポリマー収量は51g、NM
R測定よりポリマー中のスチレン含量は33wt%であ
った。
【0054】
【実施例2】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオー
トクレーブ)を接続し、触媒タンク、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に280
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧にし触媒タンク内に(B)成分としてM
MAOを20mmol打ち込みリアクタに移送した。、
計量管内のトルエン280mlをリアクタに移送した。
同様にスチレンを920mlサンプリングし脱気操作を
行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃
に加熱し、つぎに(A)成分として[(N−7−アザイ
ンドリル)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメ
チル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジク
ロライド20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打
ち込みリアクタに移送した。リアクタ内をエチレンで6
kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪
拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合
中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら60分
重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール
中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量は49
g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量は43w
t%であった。
トクレーブ)を接続し、触媒タンク、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に280
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧にし触媒タンク内に(B)成分としてM
MAOを20mmol打ち込みリアクタに移送した。、
計量管内のトルエン280mlをリアクタに移送した。
同様にスチレンを920mlサンプリングし脱気操作を
行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃
に加熱し、つぎに(A)成分として[(N−7−アザイ
ンドリル)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメ
チル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジク
ロライド20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打
ち込みリアクタに移送した。リアクタ内をエチレンで6
kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪
拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合
中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら60分
重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール
中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量は49
g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量は43w
t%であった。
【0055】
【実施例3】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオー
トクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。ト
ルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプリ
ングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を減
圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(A)成分とし
て[(N−7−アザインドリル)ジメチルシリル−2,
3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタジエ
ニル]チタニウムジクロライド20μmolのトルエン
溶液、(B)成分としてMMAOを20mmolをあら
かじめ混合したものを打ち込み、計量管内のトルエン2
80mlでリアクタに移送した。同様にスチレンを60
0mlサンプリングし脱気操作を行ったあと、リアクタ
内に移送した。リアクタを90℃に加熱しリアクタ内を
エチレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラ
インを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下
がるため、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保
ちながら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を
塩酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。ポリマ
ー収量は46g、NMR測定よりポリマー中のスチレン
含量は12wt%であった。
トクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。ト
ルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプリ
ングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を減
圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(A)成分とし
て[(N−7−アザインドリル)ジメチルシリル−2,
3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタジエ
ニル]チタニウムジクロライド20μmolのトルエン
溶液、(B)成分としてMMAOを20mmolをあら
かじめ混合したものを打ち込み、計量管内のトルエン2
80mlでリアクタに移送した。同様にスチレンを60
0mlサンプリングし脱気操作を行ったあと、リアクタ
内に移送した。リアクタを90℃に加熱しリアクタ内を
エチレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラ
インを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下
がるため、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保
ちながら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を
塩酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。ポリマ
ー収量は46g、NMR測定よりポリマー中のスチレン
含量は12wt%であった。
【0056】
【実施例4】あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)、(B)成分の混合物を用いた以外は実施例1と
同様の方法で行った。ポリマー収量は45g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は30wt%であっ
た。
(A)、(B)成分の混合物を用いた以外は実施例1と
同様の方法で行った。ポリマー収量は45g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は30wt%であっ
た。
【0057】
【実施例5】あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)、(B)成分の混合物を用いた以外は実施例2と
同様の方法で行った。ポリマー収量は45g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は39wt%であっ
た。
(A)、(B)成分の混合物を用いた以外は実施例2と
同様の方法で行った。ポリマー収量は45g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は39wt%であっ
た。
【0058】
【実施例6】あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)、(B)成分の混合物を用いた以外は実施例3と
同様の方法で行った。ポリマー収量は43g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は12wt%であっ
た。
(A)、(B)成分の混合物を用いた以外は実施例3と
同様の方法で行った。ポリマー収量は43g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は12wt%であっ
た。
【0059】
【実施例7】(A)成分として[(N,N−ジエチルア
ミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル
−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロラ
イドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行った。ポ
リマー収量は41g、NMR測定よりポリマー中のスチ
レン含量は17wt%であった。
ミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル
−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロラ
イドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行った。ポ
リマー収量は41g、NMR測定よりポリマー中のスチ
レン含量は17wt%であった。
【0060】
【実施例8】(A)成分として[(N,N−ジエチルア
ミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル
−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロラ
イドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行った。ポ
リマー収量は52g、NMR測定よりポリマー中のスチ
レン含量は19wt%であった。
ミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル
−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロラ
イドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行った。ポ
リマー収量は52g、NMR測定よりポリマー中のスチ
レン含量は19wt%であった。
【0061】
【実施例9】(A)成分として[(N,N−ジエチルア
ミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル
−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロラ
イドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポ
リマー収量は46g、NMR測定よりポリマー中のスチ
レン含量は8wt%であった。
ミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル
−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロラ
イドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポ
リマー収量は46g、NMR測定よりポリマー中のスチ
レン含量は8wt%であった。
【0062】
【実施例10】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行った。
ポリマー収量は39g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は31wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行った。
ポリマー収量は39g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は31wt%であった。
【0063】
【実施例11】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリジ
ライドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。
ポリマー収量は44g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は37wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリジ
ライドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。
ポリマー収量は44g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は37wt%であった。
【0064】
【実施例12】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行った。
ポリマー収量は46g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は10wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行った。
ポリマー収量は46g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は10wt%であった。
【0065】
【実施例13】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行った。
ポリマー収量は38g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は31wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行った。
ポリマー収量は38g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は31wt%であった。
【0066】
【実施例14】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行った。
ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は38wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行った。
ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は38wt%であった。
【0067】
【実施例15】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は41g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は12wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は41g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は12wt%であった。
【0068】
【実施例16】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行った。
ポリマー収量は35g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は26wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行った。
ポリマー収量は35g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は26wt%であった。
【0069】
【実施例17】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。
ポリマー収量は35g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は40wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。
ポリマー収量は35g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は40wt%であった。
【0070】
【実施例18】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は11wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は11wt%であった。
【0071】
【実施例19】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオ
ートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。
トルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプ
リングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を
減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(B)成分と
してMMAOを10mmol、(D)成分としてトリメ
チルアルミニウム10mmol打ち込み、計量管内のト
ルエン280mlでリアクタに移送した。同様にスチレ
ンを600mlサンプリングし脱気操作を行ったあと、
リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し、つ
ぎに(A)成分として[(N−7−アザインドリル)ジ
メチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4
ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライド20
μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量
管内のスチレン180mlで移送した。リアクタ内をエ
チレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ライ
ンを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下が
るため、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ち
ながら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩
酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。ポリマー
収量は32g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含
量は41wt%であった。
ートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。
トルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプ
リングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を
減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(B)成分と
してMMAOを10mmol、(D)成分としてトリメ
チルアルミニウム10mmol打ち込み、計量管内のト
ルエン280mlでリアクタに移送した。同様にスチレ
ンを600mlサンプリングし脱気操作を行ったあと、
リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し、つ
ぎに(A)成分として[(N−7−アザインドリル)ジ
メチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4
ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライド20
μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量
管内のスチレン180mlで移送した。リアクタ内をエ
チレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ライ
ンを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下が
るため、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ち
ながら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩
酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。ポリマー
収量は32g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含
量は41wt%であった。
【0072】
【実施例20】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオ
ートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。
トルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプ
リングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を
減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(B)成分と
してMMAOを15mmol、(E)成分としてジブチ
ルマグネシウム5mmol打ち込み、計量管内のトルエ
ン280mlでリアクタに移送した。同様にスチレンを
600mlサンプリングし脱気操作を行ったあと、リア
クタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し、つぎに
(A)成分として[(N−7−アザインドリル)ジメチ
ルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシ
クロペンタジエニル]チタニウムジクロライド20μm
olのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内
のスチレン180mlで移送した。リアクタ内をエチレ
ンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを
止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるた
め、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちなが
ら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メ
タノール中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量
は33g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量は
38wt%であった。
ートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。
トルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプ
リングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を
減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(B)成分と
してMMAOを15mmol、(E)成分としてジブチ
ルマグネシウム5mmol打ち込み、計量管内のトルエ
ン280mlでリアクタに移送した。同様にスチレンを
600mlサンプリングし脱気操作を行ったあと、リア
クタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し、つぎに
(A)成分として[(N−7−アザインドリル)ジメチ
ルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシ
クロペンタジエニル]チタニウムジクロライド20μm
olのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内
のスチレン180mlで移送した。リアクタ内をエチレ
ンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを
止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるた
め、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちなが
ら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メ
タノール中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量
は33g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量は
38wt%であった。
【0073】
【実施例21】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオ
ートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。
トルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプ
リングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を
減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(C)成分と
して(C6 F5 )3 B0.2mmol打ち込み、計量管
内のトルエン280mlでリアクタに移送した。同様に
スチレンを600mlサンプリングし脱気操作を行った
あと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱
し、つぎに(A)成分として[(N−7−アザインドリ
ル)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ド20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込
み、計量管内のスチレン180mlで移送した。リアク
タ内をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン
供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ
圧が下がるため、重合中適度にエチレンを供給し、所定
圧を保ちながら60分重合を行った。重合後、ポリマー
溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。
ポリマー収量は31g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は36wt%であった。
ートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。
トルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプ
リングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を
減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(C)成分と
して(C6 F5 )3 B0.2mmol打ち込み、計量管
内のトルエン280mlでリアクタに移送した。同様に
スチレンを600mlサンプリングし脱気操作を行った
あと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱
し、つぎに(A)成分として[(N−7−アザインドリ
ル)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ド20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込
み、計量管内のスチレン180mlで移送した。リアク
タ内をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン
供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ
圧が下がるため、重合中適度にエチレンを供給し、所定
圧を保ちながら60分重合を行った。重合後、ポリマー
溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。
ポリマー収量は31g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は36wt%であった。
【0074】
【実施例22】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例19と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は31g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は10wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例19と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は31g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は10wt%であった。
【0075】
【実施例23】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例20と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は32g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は34wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例20と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は32g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は34wt%であった。
【0076】
【実施例24】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例21と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は30g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は38wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例21と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は30g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は38wt%であった。
【0077】
【実施例25】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例19と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は35g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は28wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例19と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は35g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は28wt%であった。
【0078】
【実施例26】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例20と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は34wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例20と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は34wt%であった。
【0079】
【実施例27】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例21と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は23g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は26wt%であった。
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
ライドを用いた以外は実施例21と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は23g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は26wt%であった。
【0080】
【比較例1】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は32g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は14wt%であった。
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は32g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は14wt%であった。
【0081】
【比較例2】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は34g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は34g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
【0082】
【比較例3】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は17g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は14wt%であった。
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は17g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は14wt%であった。
【0083】
【比較例4】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は12g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は12g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
【0084】
【比較例5】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は12g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は12g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
【0085】
【比較例6】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は24g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は10wt%であった。
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は24g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は10wt%であった。
【0086】
【発明の効果】本発明の重合触媒は触媒の耐熱性が優
れ、広い温度領域で重合反応に高活性を示し、貯蔵安定
性・活性安定性が極めて優れることである。したがっ
て、触媒の活性は数カ月たっても殆ど当初の重合活性を
持続する。
れ、広い温度領域で重合反応に高活性を示し、貯蔵安定
性・活性安定性が極めて優れることである。したがっ
て、触媒の活性は数カ月たっても殆ど当初の重合活性を
持続する。
Claims (5)
- 【請求項1】 触媒(A)成分が下記一般式(1)で示
される錯体を含むことを特徴とする重合触媒。 【化1】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。) - 【請求項2】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
を含むことを特徴とする重合触媒。 (A) 【化2】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 - 【請求項3】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
および/または(D)成分を含むことを特徴とする重合
触媒。 (A) 【化3】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 - 【請求項4】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
および/または(D)成分および/または(E)成分を
含むことを特徴とする重合触媒。 (A) 【化4】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
ペンタジエニル基η5 でπ結合している。R1 〜R4 は
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
る。X1 、X2 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属および/またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の重合触
媒で重合される共重合体が98. 6〜53モル%のエチ
レン及び1.4〜47モル%のスチレンを含むエチレン
とスチレンの疑似ランダムコポリマーであることを特徴
とする共重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1318598A JPH11199617A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | 共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1318598A JPH11199617A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | 共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199617A true JPH11199617A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11826131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1318598A Pending JPH11199617A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | 共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11199617A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106317282A (zh) * | 2016-08-19 | 2017-01-11 | 东华大学 | 超高分子量乙烯/苯乙烯类共聚物及其制备方法 |
-
1998
- 1998-01-08 JP JP1318598A patent/JPH11199617A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106317282A (zh) * | 2016-08-19 | 2017-01-11 | 东华大学 | 超高分子量乙烯/苯乙烯类共聚物及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4674023B2 (ja) | 遷移金属化合物、α−オレフィン製造用触媒及びα−オレフィンの製造方法 | |
| JP3341117B2 (ja) | 金属配位錯体の製造 | |
| CN101855015B (zh) | 催化剂组合物以及乙烯低聚的方法 | |
| JPH06239915A (ja) | α‐オレフィン重合用触媒成分およびそれを用いたα‐オレフィン重合体の製造法 | |
| JPH06239914A (ja) | α‐オレフィン重合用触媒成分およびそれを用いたα‐オレフィン重合体の製造法 | |
| JP4658326B2 (ja) | 橋架けメタロセン、製造法、触媒系での使用 | |
| JPH07505418A (ja) | C2〜c10−アルク−1−エンの重合のための触媒系 | |
| JP4482448B2 (ja) | 4−アリール−置換三環状インデニル誘導体含有第4族金属錯体 | |
| JP2012051931A (ja) | フルオロシリコン置換基を少なくとも1個有していてメタロセンの調製で用いるに有用な配位子 | |
| CN112745366B (zh) | 硅基桥联的茂金属化合物及其制备方法、应用 | |
| JP4658335B2 (ja) | 不飽和化合物重合用有機金属触媒 | |
| JP3998270B2 (ja) | シクロペンタジエニル化合物の製造方法 | |
| JPH11199617A (ja) | 共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| EP2800753A1 (en) | Process for the preparation of metallocene complexes | |
| JPH11199621A (ja) | コポリマー重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 | |
| JPH11199618A (ja) | 新規重合用触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| JPH11199616A (ja) | 共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| JPH11199615A (ja) | 新規な重合触媒および該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| JPH11199619A (ja) | 共重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| EP1059299B1 (en) | Process for the polymerisation of olefins in the presence of indenyl compounds | |
| WO2014092352A1 (ko) | 신규한 리간드 화합물, 이의 제조방법, 전이금속 화합물, 및 이의 제조방법 | |
| JPH11199623A (ja) | 新規重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 | |
| JP2007063409A (ja) | 環状オレフィン系共重合体の製造方法 | |
| JPH11199620A (ja) | 重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| KR0151873B1 (ko) | 메탈로센 화합물, 이의 제조방법 및 이를 촉매로 이용한 고분자의 제조방법 |