JPH11199620A - 重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 - Google Patents
重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法Info
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 工業的に用いる上でより簡単に合成でき、ま
た長期保存安定性や活性の再現性の高い重合触媒と該触
媒を用いたエチレン/ビニル芳香族モノマー共重合体の
製造方法を提供すること。 【解決手段】 (A)特定構造を有する4族遷移金属錯
体、(B)アルキルアルミニウムオキシ化合物及び/ま
たは(C)カチオン発生剤及び/または(D)アルキル
アルミニウム化合物及び/または(E)アルキルアルカ
リ金属またはアルキルアルカリ土類金属化合物を含有す
る重合触媒並びに該重合触媒を用いたエチレン/ビニル
芳香族モノマー共重合体の製造方法。
た長期保存安定性や活性の再現性の高い重合触媒と該触
媒を用いたエチレン/ビニル芳香族モノマー共重合体の
製造方法を提供すること。 【解決手段】 (A)特定構造を有する4族遷移金属錯
体、(B)アルキルアルミニウムオキシ化合物及び/ま
たは(C)カチオン発生剤及び/または(D)アルキル
アルミニウム化合物及び/または(E)アルキルアルカ
リ金属またはアルキルアルカリ土類金属化合物を含有す
る重合触媒並びに該重合触媒を用いたエチレン/ビニル
芳香族モノマー共重合体の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な錯体触媒及
び該触媒によるエチレンとビニル芳香族モノマー共重合
体の製造方法に関する。
び該触媒によるエチレンとビニル芳香族モノマー共重合
体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】エチレンとビニル芳香族モノマーの共重
合触媒としては、特開平3−163088,や特開平7
−70223などの4族3族の拘束された幾何形状をも
つ金属配位錯体が高活性かつ共重合性にすぐれた触媒系
として知られている。しかし、これらの錯体触媒系は拘
束された幾何形状を有するが故に、4価遷移金属化合物
からの合成が難しく、錯体の合成に手間がかかり、純度
の高い錯体が取れないため結果としてコスト高になると
いう問題点があった。また、錯体の長期保存安定性や活
性の再現性も十分ではないという問題点があり、工業的
に用いる上では、課題を残すものであった。
合触媒としては、特開平3−163088,や特開平7
−70223などの4族3族の拘束された幾何形状をも
つ金属配位錯体が高活性かつ共重合性にすぐれた触媒系
として知られている。しかし、これらの錯体触媒系は拘
束された幾何形状を有するが故に、4価遷移金属化合物
からの合成が難しく、錯体の合成に手間がかかり、純度
の高い錯体が取れないため結果としてコスト高になると
いう問題点があった。また、錯体の長期保存安定性や活
性の再現性も十分ではないという問題点があり、工業的
に用いる上では、課題を残すものであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は工業的に用い
る上でより簡単に合成でき、また長期保存安定性や活性
の再現性の高い触媒系を見いだすことを目的としてなさ
れたものである。
る上でより簡単に合成でき、また長期保存安定性や活性
の再現性の高い触媒系を見いだすことを目的としてなさ
れたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は特定の構造を有
する4族4価錯体が従来錯体に比べ合成が容易でかつ
(A)特定の構造を有する4族4価錯体と(B)特定の
構造を有する金属化合物またはカチオン発生剤との組み
合わせることにより、従来の錯体触媒系よりも長期保存
安定性がよく重合活性の再現性の面で遥かにすぐれてい
るという驚くべき事実に基づいてなされたものである。
すなわち本発明は、 [1]触媒(A)成分が下記一般式(1)で示される錯
体を含むことを特徴とする重合触媒
する4族4価錯体が従来錯体に比べ合成が容易でかつ
(A)特定の構造を有する4族4価錯体と(B)特定の
構造を有する金属化合物またはカチオン発生剤との組み
合わせることにより、従来の錯体触媒系よりも長期保存
安定性がよく重合活性の再現性の面で遥かにすぐれてい
るという驚くべき事実に基づいてなされたものである。
すなわち本発明は、 [1]触媒(A)成分が下記一般式(1)で示される錯
体を含むことを特徴とする重合触媒
【0005】
【化5】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。)
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。)
【0006】[2]下記一般式(1)で示される錯体を
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)
成分を含むことを特徴とする重合触媒
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)
成分を含むことを特徴とする重合触媒
【化6】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤
【0007】[3]下記一般式(1)で示される錯体を
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)
成分および/または(D)成分を含むことを特徴とする
重合触媒
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)
成分および/または(D)成分を含むことを特徴とする
重合触媒
【化7】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物
【0008】[4]下記一般式(1)で示される錯体を
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)
成分および/または(D)成分および/または(E)成
分を含むことを特徴とする重合触媒
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)
成分および/または(D)成分および/または(E)成
分を含むことを特徴とする重合触媒
【化8】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属またはアルキルアルカリ土
類金属化合物
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属またはアルキルアルカリ土
類金属化合物
【0009】[5]上記[1]〜[4]で重合される共
重合体が98. 6〜53モル%のエチレン及び1.4〜
47モル%のスチレンを含むエチレンとスチレンの疑似
ランダムコポリマーであることを特徴とする共重合体の
製造方法に関するものである。
重合体が98. 6〜53モル%のエチレン及び1.4〜
47モル%のスチレンを含むエチレンとスチレンの疑似
ランダムコポリマーであることを特徴とする共重合体の
製造方法に関するものである。
【0010】エチレンとビニル芳香族モノマーの共重合
触媒としては、特開平3−163088,や特開平7−
70223などの拘束された幾何形状をもつ金属配位錯
体があるが、これらの錯体触媒系は拘束された幾何形状
を有するが故に、4価遷移金属化合物からの合成が難し
く、錯体の合成に手間がかかり、純度の高い錯体が取れ
ないため結果としてコスト高になるという問題点があっ
た。また、錯体の長期保存安定性や活性の再現性も十分
ではないという問題点があり、工業的に用いる上では、
上記錯体と同等以上の共重合活性を有し、より簡単に合
成でき取り扱いも容易な錯体が望まれていた。
触媒としては、特開平3−163088,や特開平7−
70223などの拘束された幾何形状をもつ金属配位錯
体があるが、これらの錯体触媒系は拘束された幾何形状
を有するが故に、4価遷移金属化合物からの合成が難し
く、錯体の合成に手間がかかり、純度の高い錯体が取れ
ないため結果としてコスト高になるという問題点があっ
た。また、錯体の長期保存安定性や活性の再現性も十分
ではないという問題点があり、工業的に用いる上では、
上記錯体と同等以上の共重合活性を有し、より簡単に合
成でき取り扱いも容易な錯体が望まれていた。
【0011】本発明者らは、上記の問題点を解決し得る
新規錯体触媒系について鋭意検討した結果、(A)特定
の構造を有するハーフメタロセン系錯体が合成も容易で
あり錯体の安定性にもすぐれるということとさらに
(A)と(B)アルミニウムオキシ化合物及び/または
(C)カチオン発生剤とを組み合わせ系と(A)と
(B)及び/または(C)にさらに(D)及び/または
(E)成分を組み合わせた系が共重合活性にすぐれ、重
合温度範囲も広く、重合温度による活性の低下も少な
く、活性再現性も高いということを見出し本発明の完成
に至ったものである。
新規錯体触媒系について鋭意検討した結果、(A)特定
の構造を有するハーフメタロセン系錯体が合成も容易で
あり錯体の安定性にもすぐれるということとさらに
(A)と(B)アルミニウムオキシ化合物及び/または
(C)カチオン発生剤とを組み合わせ系と(A)と
(B)及び/または(C)にさらに(D)及び/または
(E)成分を組み合わせた系が共重合活性にすぐれ、重
合温度範囲も広く、重合温度による活性の低下も少な
く、活性再現性も高いということを見出し本発明の完成
に至ったものである。
【0012】本発明に係る重合触媒成分(A)は下記一
般式(1)示される。
般式(1)示される。
【化9】 式中、Mは4族4価の遷移金属でTiまたはZrまたは
Hfである。5員環はシクロペンタジエニル基、及び置
換シクロペンタジエニル基でインデニル基、フルオレニ
ル基等も含まれる。Mと置換シクロペンタジエニル基は
η5でπ結合していて5員環の炭素はそれぞれ等価であ
る。R1 〜R4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよ
く、水素またはC1〜C12のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基でこのう
ちの任意の2つもしくは3つが結合し環を形成していて
も良い、また環にはインデニルやフルオレニルの様な共
役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。
Hfである。5員環はシクロペンタジエニル基、及び置
換シクロペンタジエニル基でインデニル基、フルオレニ
ル基等も含まれる。Mと置換シクロペンタジエニル基は
η5でπ結合していて5員環の炭素はそれぞれ等価であ
る。R1 〜R4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよ
く、水素またはC1〜C12のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基でこのう
ちの任意の2つもしくは3つが結合し環を形成していて
も良い、また環にはインデニルやフルオレニルの様な共
役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。
【0013】Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,
S,O元素のうちいずれか一つで、M及び芳香環とσ結
合を形成している。ZはN,P,S,O元素のうちいず
れか一つで芳香環とσ結合を形成し、遷移金属元素と非
共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成してい
ないものとする。YとZの位置はオルト、メタ、パラの
いずれかである。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 はそれ
ぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C
12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリロ
キシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4の整
数、mは1〜3の整数で結合している原子の価数−2、
nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数−1
に相当する数である。またZR7 nは具体的には下記一
般式(2)に示す化合物も含むものとする。
S,O元素のうちいずれか一つで、M及び芳香環とσ結
合を形成している。ZはN,P,S,O元素のうちいず
れか一つで芳香環とσ結合を形成し、遷移金属元素と非
共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成してい
ないものとする。YとZの位置はオルト、メタ、パラの
いずれかである。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 はそれ
ぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C
12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリロ
キシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4の整
数、mは1〜3の整数で結合している原子の価数−2、
nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数−1
に相当する数である。またZR7 nは具体的には下記一
般式(2)に示す化合物も含むものとする。
【0014】
【化10】 (ただしR9 、R10はそれぞれ同じでも異なっていても
良く、C1〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。)
良く、C1〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。)
【0015】上記一般式(1)、(2)における、R1
〜R9 のアルキル基、アリール基及びアルコキシ基、ア
リロキシ基のアルキル、アリール部分の具体例として
は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、sec−ブチ
ル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルブチル、
2−メチルブチル、1,2−ジメチルプロピル、ネオペ
ンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、1−メチルペン
チル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、1,
1−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、3,3
−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−
ジメチルブチル、1,1−エチルメチルプロピル、1−
エチルブチル、2−エチルブチル、シクロヘキシル、n
−ヘプチル、イソヘプチル、4−メチルヘキシル、3−
メチルヘキシル、2−メチルヘキシル、1−メチルヘキ
シル、1,1−ジメチルペンチル、2,2−ジメチルペ
ンチル、3,3−ジメチルペンチル、4,4−ジメチル
ペンチル、1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメチ
ルペンチル、1,4−ジメチルペンチル、1−エチルペ
ンチル、1−プロピルブチル、2−エチルペンチル、3
−エチルペンチル、
〜R9 のアルキル基、アリール基及びアルコキシ基、ア
リロキシ基のアルキル、アリール部分の具体例として
は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、sec−ブチ
ル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルブチル、
2−メチルブチル、1,2−ジメチルプロピル、ネオペ
ンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、1−メチルペン
チル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、1,
1−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、3,3
−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−
ジメチルブチル、1,1−エチルメチルプロピル、1−
エチルブチル、2−エチルブチル、シクロヘキシル、n
−ヘプチル、イソヘプチル、4−メチルヘキシル、3−
メチルヘキシル、2−メチルヘキシル、1−メチルヘキ
シル、1,1−ジメチルペンチル、2,2−ジメチルペ
ンチル、3,3−ジメチルペンチル、4,4−ジメチル
ペンチル、1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメチ
ルペンチル、1,4−ジメチルペンチル、1−エチルペ
ンチル、1−プロピルブチル、2−エチルペンチル、3
−エチルペンチル、
【0016】1,1−エチルメチルブチル、1,1−ジ
エチルプロピル、2,3−ジメチルペンチル、2,4−
ジメチルペンチル、3,4−ジメチルペンチル、1,−
エチル−2−メチルブチル、1−エチル−3−メチルブ
チル、4−メチルシクロヘキシル、3−メチルシクロヘ
キシル、シクロヘプチル、1,1,2−トリメチルブチ
ル、1,1,3−トリメチルブチル、2,2,1−トリ
メチルブチル、2,2,3−トリメチルブチル、3,
3,1−トリメチルブチル、3,3,2−トリメチルブ
チル、1,1,2,2−テトラメチルプロピル、n−オ
クチル、1−メチルヘプチル、2−メチルヘプチル、3
−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5−メチルヘ
プチル、イソオクチル、1−エチルヘキシル2−エチル
ヘキシル、3−エチルヘキシル、4−エチルヘキシル、
1,1−ジメチルヘキシル、2,2−ジメチルヘキシ
ル、3,3−ジメチルヘキシル、4,4−ジメチルヘキ
シル、5,5−ジメチルヘキシル、1,2−ジメチルヘ
キシル、1,3−ジメチルヘキシル、1,4−ジメチル
ヘキシル、1,5−ジメチルヘキシル、2,3−ヂメチ
ルヘキシル、2,4−ジメチルヘキシル、3,4−ジメ
チルヘキシル、2,5−ジメチルヘキシル、3,5−ジ
メチルヘキシル、1,1−メチルエチルペンチル、1−
エチル−2−メチルペンチル、1−エチル−3−メチル
ペンチル、1−エチル−4−メチルペンチル、2−エチ
ル−1−メチルペンチル、2,2−エチルメチルペンチ
ル、3,3−エチルメチルペンチル、2−エチル−3−
メチルペンチル、2−エチル−4−メチルペンチル、3
−エチル−4−メチルペンチル、
エチルプロピル、2,3−ジメチルペンチル、2,4−
ジメチルペンチル、3,4−ジメチルペンチル、1,−
エチル−2−メチルブチル、1−エチル−3−メチルブ
チル、4−メチルシクロヘキシル、3−メチルシクロヘ
キシル、シクロヘプチル、1,1,2−トリメチルブチ
ル、1,1,3−トリメチルブチル、2,2,1−トリ
メチルブチル、2,2,3−トリメチルブチル、3,
3,1−トリメチルブチル、3,3,2−トリメチルブ
チル、1,1,2,2−テトラメチルプロピル、n−オ
クチル、1−メチルヘプチル、2−メチルヘプチル、3
−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5−メチルヘ
プチル、イソオクチル、1−エチルヘキシル2−エチル
ヘキシル、3−エチルヘキシル、4−エチルヘキシル、
1,1−ジメチルヘキシル、2,2−ジメチルヘキシ
ル、3,3−ジメチルヘキシル、4,4−ジメチルヘキ
シル、5,5−ジメチルヘキシル、1,2−ジメチルヘ
キシル、1,3−ジメチルヘキシル、1,4−ジメチル
ヘキシル、1,5−ジメチルヘキシル、2,3−ヂメチ
ルヘキシル、2,4−ジメチルヘキシル、3,4−ジメ
チルヘキシル、2,5−ジメチルヘキシル、3,5−ジ
メチルヘキシル、1,1−メチルエチルペンチル、1−
エチル−2−メチルペンチル、1−エチル−3−メチル
ペンチル、1−エチル−4−メチルペンチル、2−エチ
ル−1−メチルペンチル、2,2−エチルメチルペンチ
ル、3,3−エチルメチルペンチル、2−エチル−3−
メチルペンチル、2−エチル−4−メチルペンチル、3
−エチル−4−メチルペンチル、
【0017】3−エチル−2−メチルペンチル、1,1
−ジエチルブチル、2,2−ジエチルブチル、1,2−
ジエチルブチル、1,1−メチルプロピルブチル、2−
メチル−1−プロピルブチル、3メチル−1−プロピル
ブチル、4−エチルシクロヘキシル、3−エチルシクロ
ヘキシル、3,4−ジメチルシクロヘキシル1,1,2
−トリメチルペンチル、1,1,3−トリメチルペンチ
ル、1,1,4−トリメチルペンチル、2,2,1−ト
リメチルペンチル、2,2,3−トリメチルペンチル、
2,2,4−トリメチルペンチル、3,3,1−トリメ
チルペンチル、3,3,2−トリメチルペンチル、3,
3,4−トリメチルペンチル、1,2,3−トリメチル
ペンチル、1,2,4−トリメチルペンチル、1,3,
4−トリメチルペンチル、1,2,3−トリメチルペン
チル、1,2,4−トリメチルペンチル、1,3,4−
トリメチルペンチル、1,1,2,2−テトラメチルブ
チル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、1,1,
2,3−テトラメチルブチル、2,2,1,3−テトラ
メチルブチル、1−エチル−1,2−ジメチルブチル、
2−エチル−1,2−ジメチルブチル、1−エチル−
2,3−ジメチルブチル、n−ノニル、イソノニル、1
−メチルオクチル、2−メチルオクチル、3−メチルオ
クチル、4−メチルオクチル、5−メチルオクチル、6
−メチルオクチル、1−エチルヘプチル、2−エチルヘ
プチル、3−エチルヘプチル、4−エチルヘプチル、5
−エチルヘプチル1,1−ジメチルヘプチル、2,2−
ジメチルヘプチル、3,3−ジメチルヘプチル、4,4
−ジメチルヘプチル、5,5−ジメチルヘプチル、6,
6−ジメチルヘプチル、1,2−ジメチルヘプチル、
−ジエチルブチル、2,2−ジエチルブチル、1,2−
ジエチルブチル、1,1−メチルプロピルブチル、2−
メチル−1−プロピルブチル、3メチル−1−プロピル
ブチル、4−エチルシクロヘキシル、3−エチルシクロ
ヘキシル、3,4−ジメチルシクロヘキシル1,1,2
−トリメチルペンチル、1,1,3−トリメチルペンチ
ル、1,1,4−トリメチルペンチル、2,2,1−ト
リメチルペンチル、2,2,3−トリメチルペンチル、
2,2,4−トリメチルペンチル、3,3,1−トリメ
チルペンチル、3,3,2−トリメチルペンチル、3,
3,4−トリメチルペンチル、1,2,3−トリメチル
ペンチル、1,2,4−トリメチルペンチル、1,3,
4−トリメチルペンチル、1,2,3−トリメチルペン
チル、1,2,4−トリメチルペンチル、1,3,4−
トリメチルペンチル、1,1,2,2−テトラメチルブ
チル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、1,1,
2,3−テトラメチルブチル、2,2,1,3−テトラ
メチルブチル、1−エチル−1,2−ジメチルブチル、
2−エチル−1,2−ジメチルブチル、1−エチル−
2,3−ジメチルブチル、n−ノニル、イソノニル、1
−メチルオクチル、2−メチルオクチル、3−メチルオ
クチル、4−メチルオクチル、5−メチルオクチル、6
−メチルオクチル、1−エチルヘプチル、2−エチルヘ
プチル、3−エチルヘプチル、4−エチルヘプチル、5
−エチルヘプチル1,1−ジメチルヘプチル、2,2−
ジメチルヘプチル、3,3−ジメチルヘプチル、4,4
−ジメチルヘプチル、5,5−ジメチルヘプチル、6,
6−ジメチルヘプチル、1,2−ジメチルヘプチル、
【0018】1,3−ジメチルヘプチル、1,4−ジメ
チルヘプチル、1,5−ジメチルヘプチル、1,6−ジ
メチルヘプチル、2,3−ジメチルヘプチル、2,4−
ジメチルヘプチル、2,5−ジメチルヘプチル、2,6
−ジメチルヘプチル、3,4−ジメチルヘプチル、3,
5−ジメチルヘプチル、3,6−ジメチルヘプチル、
4,5−ジメチルヘプチル、4,6−ジメチルヘプチ
ル、5,6−ジメチルヘプチル、1,1,2−トリメチ
ルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,
1,4−トリメチルヘキシル、1,1,5−トリメチル
ヘキシル、2,2,1−トリメチルヘキシル、2,2,
3−トリメチルヘキシル、2,2,4−トリメチルヘキ
シル、2,2,5−トリメチルヘキシル、3,3,1−
トリメチルヘキシル、3,3,2−トリメチルヘキシ
ル、3,3,4−トリメチルヘキシル、3,3,5−ト
リメチルヘキシル、4,4,1−トリメチルヘキシル、
4,4,2−トリメチルヘキシル、4,4,3−トリメ
チルヘキシル、4,4,5−トリメチルヘキシル、5,
5,1−トリメチルヘキシル、5,5,2−トリメチル
ヘキシル、5,5,3−トリメチルヘキシル、5,5,
4−トリメチルヘキシル、1,2,3−トリメチルヘキ
シル、2,3,4−トリメチルヘキシル、3,4,5−
トリメチルヘキシル、1,3,4−トリメチルヘキシ
ル、1,4,5−トリメチルヘキシル、2,4,5−ト
リメチルヘキシル、1,2,5−トリメチルヘキシル、
1,2,4−トリメチルヘキシル、1,1−エチルメチ
ルヘキシル、
チルヘプチル、1,5−ジメチルヘプチル、1,6−ジ
メチルヘプチル、2,3−ジメチルヘプチル、2,4−
ジメチルヘプチル、2,5−ジメチルヘプチル、2,6
−ジメチルヘプチル、3,4−ジメチルヘプチル、3,
5−ジメチルヘプチル、3,6−ジメチルヘプチル、
4,5−ジメチルヘプチル、4,6−ジメチルヘプチ
ル、5,6−ジメチルヘプチル、1,1,2−トリメチ
ルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,
1,4−トリメチルヘキシル、1,1,5−トリメチル
ヘキシル、2,2,1−トリメチルヘキシル、2,2,
3−トリメチルヘキシル、2,2,4−トリメチルヘキ
シル、2,2,5−トリメチルヘキシル、3,3,1−
トリメチルヘキシル、3,3,2−トリメチルヘキシ
ル、3,3,4−トリメチルヘキシル、3,3,5−ト
リメチルヘキシル、4,4,1−トリメチルヘキシル、
4,4,2−トリメチルヘキシル、4,4,3−トリメ
チルヘキシル、4,4,5−トリメチルヘキシル、5,
5,1−トリメチルヘキシル、5,5,2−トリメチル
ヘキシル、5,5,3−トリメチルヘキシル、5,5,
4−トリメチルヘキシル、1,2,3−トリメチルヘキ
シル、2,3,4−トリメチルヘキシル、3,4,5−
トリメチルヘキシル、1,3,4−トリメチルヘキシ
ル、1,4,5−トリメチルヘキシル、2,4,5−ト
リメチルヘキシル、1,2,5−トリメチルヘキシル、
1,2,4−トリメチルヘキシル、1,1−エチルメチ
ルヘキシル、
【0019】2,2−エチルメチルヘキシル、3,3−
エチルメチルヘキシル、4,4−エチルメチルヘキシ
ル、5,5−エチルメチルヘキシル、1−エチル−2−
メチルヘキシル、1−エチル−3−メチルヘキシル、1
−エチル−4−メチルヘキシル、1−エチル−5−メチ
ルヘキシル、2−エチル−1−メチルヘキシル、3−エ
チル−1−メチルヘキシル、3−エチル−2−メチルヘ
キシル、1,1−ジエチルペンチル、2,2−ジエチル
ペンチル、3,3−ジエチルペンチル、1,2−ジエチ
ルペンチル、1,3−ジエチルペンチル、2,3−ジエ
チルペンチル、1,1−メチルプロピルペンチル、2,
2−メチルプロピルペンチル、1−メチル−2−プロピ
ルペンチルn−デシル、イソデシル、1−メチルノニ
ル、2−メチルノニル、3−メチルノニル、4−メチル
ノニル、5−メチルノニル、6−メチルノニル、7−メ
チルノニル、1−エチルオクチル、2−エチルオクチ
ル、3−エチルオクチル、4−エチルオクチル、5−エ
チルオクチル、6−エチルオクチル、1,1−ジメチル
オクチル、2,2−ジメチルオクチル、3,3−ジメチ
ルオクチル、4,4−ジメチルオクチル、5,5−ジメ
チルオクチル、6,6−ジメチルオクチル、7,7−ジ
メチルオクチル、1,2−ジメチルオクチル、
エチルメチルヘキシル、4,4−エチルメチルヘキシ
ル、5,5−エチルメチルヘキシル、1−エチル−2−
メチルヘキシル、1−エチル−3−メチルヘキシル、1
−エチル−4−メチルヘキシル、1−エチル−5−メチ
ルヘキシル、2−エチル−1−メチルヘキシル、3−エ
チル−1−メチルヘキシル、3−エチル−2−メチルヘ
キシル、1,1−ジエチルペンチル、2,2−ジエチル
ペンチル、3,3−ジエチルペンチル、1,2−ジエチ
ルペンチル、1,3−ジエチルペンチル、2,3−ジエ
チルペンチル、1,1−メチルプロピルペンチル、2,
2−メチルプロピルペンチル、1−メチル−2−プロピ
ルペンチルn−デシル、イソデシル、1−メチルノニ
ル、2−メチルノニル、3−メチルノニル、4−メチル
ノニル、5−メチルノニル、6−メチルノニル、7−メ
チルノニル、1−エチルオクチル、2−エチルオクチ
ル、3−エチルオクチル、4−エチルオクチル、5−エ
チルオクチル、6−エチルオクチル、1,1−ジメチル
オクチル、2,2−ジメチルオクチル、3,3−ジメチ
ルオクチル、4,4−ジメチルオクチル、5,5−ジメ
チルオクチル、6,6−ジメチルオクチル、7,7−ジ
メチルオクチル、1,2−ジメチルオクチル、
【0020】1,3−ジメチルオクチル、1,4−ジメ
チルオクチル、1,5−ジメチルオクチル、1,6−ジ
メチルオクチル、1,7−ジメチルオクチル、2,3−
ジメチルオクチル、2,4−ジメチルオクチル、2,5
−ジメチルオクチル、2,6−ジメチルオクチル、2,
7−ジメチルオクチル、3,4−ジメチルオクチル、
3,5−ジメチルオクチル、3,6−ジメチルオクチ
ル、3,7−ジメチルオクチル、4,5−ジメチルオク
チル、4,6−ジメチルオクチル、4,7−ジメチルオ
クチル、5,6−ジメチルオクチル、5,7−ジメチル
オクチル、n−ウンデシル、n−ドデシル、フェニル、
ベンジル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチ
リル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメ
チルフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,
6−トリメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフ
ェニル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフ
チル、o−イソプロポキシフェニルがあげられる。触媒
成分(B)のアルミニウムオキシ化合物としては下記一
般式(3)で示される有機アルミニウムオキシ化合物の
うち少なくとも1つの化合物があげられる。
チルオクチル、1,5−ジメチルオクチル、1,6−ジ
メチルオクチル、1,7−ジメチルオクチル、2,3−
ジメチルオクチル、2,4−ジメチルオクチル、2,5
−ジメチルオクチル、2,6−ジメチルオクチル、2,
7−ジメチルオクチル、3,4−ジメチルオクチル、
3,5−ジメチルオクチル、3,6−ジメチルオクチ
ル、3,7−ジメチルオクチル、4,5−ジメチルオク
チル、4,6−ジメチルオクチル、4,7−ジメチルオ
クチル、5,6−ジメチルオクチル、5,7−ジメチル
オクチル、n−ウンデシル、n−ドデシル、フェニル、
ベンジル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチ
リル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメ
チルフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,
6−トリメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフ
ェニル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフ
チル、o−イソプロポキシフェニルがあげられる。触媒
成分(B)のアルミニウムオキシ化合物としては下記一
般式(3)で示される有機アルミニウムオキシ化合物の
うち少なくとも1つの化合物があげられる。
【0021】
【化11】 (R11〜R14は同じでも異なっていても良く、C1〜C
8までの炭化水素基、nは1〜50までの整数を表す)
8までの炭化水素基、nは1〜50までの整数を表す)
【0022】触媒成分(C)のカチオン発生剤の代表的
なものとしては下記式で示される有機ホウ素化合物があ
げられる。
なものとしては下記式で示される有機ホウ素化合物があ
げられる。
【化12】(BR15R16R17)n A(BR15R16R17R18)n (Aはカチオンである。R15〜R18は同じでも異なって
いても良く、C1〜C14までのハロゲン化アリール基
を含む炭化水素基、アルコキシ基、アリロキシ基nは1
〜4までの整数を表す)ここで化合物Aのカチオンとし
ては4級アミンまたは4級アンモニウム塩またはカルボ
カチオンまたは価数+1〜4の金属カチオンがあり、具
体例としてはピリジニウム、2,4−ジニトロ−N,N
−ジエチルアニリニウム、p−ニトロアニリニウム、
2,5−ジクロロアニリン、p−ニトロ−N,N−ジメ
チルアニリニウム,キノリニウム、N,N−ジメチルア
ニリニウム,メチルジフェニルアンモニウム、N,N−
ジエチルアニリニウム、8−クロロキノリニウム、トリ
メチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリ
エチルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリフ
ェニルカルボカチオン、トリフェニルホスホニウム、ア
ンモニウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、セシウ
ム、カルシウム、マグネシウム、等があげられる。
いても良く、C1〜C14までのハロゲン化アリール基
を含む炭化水素基、アルコキシ基、アリロキシ基nは1
〜4までの整数を表す)ここで化合物Aのカチオンとし
ては4級アミンまたは4級アンモニウム塩またはカルボ
カチオンまたは価数+1〜4の金属カチオンがあり、具
体例としてはピリジニウム、2,4−ジニトロ−N,N
−ジエチルアニリニウム、p−ニトロアニリニウム、
2,5−ジクロロアニリン、p−ニトロ−N,N−ジメ
チルアニリニウム,キノリニウム、N,N−ジメチルア
ニリニウム,メチルジフェニルアンモニウム、N,N−
ジエチルアニリニウム、8−クロロキノリニウム、トリ
メチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリ
エチルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリフ
ェニルカルボカチオン、トリフェニルホスホニウム、ア
ンモニウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、セシウ
ム、カルシウム、マグネシウム、等があげられる。
【0023】またR15〜R18の炭化水素基、及びアルコ
キシ基、アリロキシ基の炭化水素基部分の具体例として
はアレチルアセトナト、イソプロピル、フェニル、ベン
ジル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチリ
ル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチ
ルフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,6
−トリメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフェ
ニル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフチ
ル、o−イソプロポキシフェニル、ペンタフルオロフェ
ニルペンタフルオロベンジル、テトラフルオロフェニ
ル、テトラフルオロトリル、等があげられる。
キシ基、アリロキシ基の炭化水素基部分の具体例として
はアレチルアセトナト、イソプロピル、フェニル、ベン
ジル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチリ
ル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチ
ルフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,6
−トリメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフェ
ニル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフチ
ル、o−イソプロポキシフェニル、ペンタフルオロフェ
ニルペンタフルオロベンジル、テトラフルオロフェニ
ル、テトラフルオロトリル、等があげられる。
【0024】一方、触媒成分(D)のアルキルアルミニ
ウム化合物としては、アルキルアルミニウム等の有機ア
ルミニウム化合物をあげることができる。具体的な化合
物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリフェニル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジメチ
ルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロラ
イド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、トリ(2−エ
チルヘキシル)アルミニウム、(2−エチルヘキシル)
アルミニウムジクロリド等が挙げられる。これらの他に
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t- ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。これ
らの化合物のなかでも好ましいものとしては、トリメチ
ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
メチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムセス
キクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエ
チルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウム
ヒドリド等が挙げられる。また、上記有機アルカリ金属
化合物と有機アルミニウム化合物とを予め反応させるこ
とで合成される錯体、予め反応させることで合成される
錯体(ア−ト錯体)等も含まれる。
ウム化合物としては、アルキルアルミニウム等の有機ア
ルミニウム化合物をあげることができる。具体的な化合
物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリフェニル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジメチ
ルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロラ
イド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、トリ(2−エ
チルヘキシル)アルミニウム、(2−エチルヘキシル)
アルミニウムジクロリド等が挙げられる。これらの他に
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t- ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。これ
らの化合物のなかでも好ましいものとしては、トリメチ
ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
メチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムセス
キクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエ
チルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウム
ヒドリド等が挙げられる。また、上記有機アルカリ金属
化合物と有機アルミニウム化合物とを予め反応させるこ
とで合成される錯体、予め反応させることで合成される
錯体(ア−ト錯体)等も含まれる。
【0025】また触媒成分(E)のアルキルアルカリ金
属またはアルキルアルカリ土類金属化合物の具体例とし
ては有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合物、有機
カリウム化合物、有機亜鉛化合物、有機マグネシウム化
合物、有機アルミニウム化合物、有機カルシウム化合物
等を挙げることが出来るが、単独あるいは二種以上
(A)と組み合わせて用いることもできる。
属またはアルキルアルカリ土類金属化合物の具体例とし
ては有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合物、有機
カリウム化合物、有機亜鉛化合物、有機マグネシウム化
合物、有機アルミニウム化合物、有機カルシウム化合物
等を挙げることが出来るが、単独あるいは二種以上
(A)と組み合わせて用いることもできる。
【0026】含Li化合物の具体例としてはメチルリチ
ウム、エチルリチウム、n- プロピルリチウム、イソプ
ロピルリチウム、nー ブチルリチウム、secー ブチル
リチウム、イソブチルリチウム、t- ブチルリチウム、
nー ペンチルリチウム、nーヘキシルリチウム、フェニ
ルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、m- トリ
ルリチウム、p- トリルリチウム、キシリルリチウム、
ジメチルアミノリチウム、ジエチルアミノリチウム、メ
トキシリチウム、エトキシリチウム、n−プロポキシリ
チウム、イソプロポキシリチウム、n−ブトキシリチウ
ム、secー ブトキシリチウム、tー ブトキシリチウ
ム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチウ
ム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウ
ム、フェノキシリチウム、4−メチルフェノキシリチウ
ム、ベンジルオキシリチウム、4−メチルベンジルオキ
シリチウム、等が挙げられる。
ウム、エチルリチウム、n- プロピルリチウム、イソプ
ロピルリチウム、nー ブチルリチウム、secー ブチル
リチウム、イソブチルリチウム、t- ブチルリチウム、
nー ペンチルリチウム、nーヘキシルリチウム、フェニ
ルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、m- トリ
ルリチウム、p- トリルリチウム、キシリルリチウム、
ジメチルアミノリチウム、ジエチルアミノリチウム、メ
トキシリチウム、エトキシリチウム、n−プロポキシリ
チウム、イソプロポキシリチウム、n−ブトキシリチウ
ム、secー ブトキシリチウム、tー ブトキシリチウ
ム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチウ
ム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウ
ム、フェノキシリチウム、4−メチルフェノキシリチウ
ム、ベンジルオキシリチウム、4−メチルベンジルオキ
シリチウム、等が挙げられる。
【0027】また、トリメチルシリルリチウム、ジエチ
ルメチルシリルリチウム、ジメチルエチルシリルリチウ
ム、トリエチルシリルリチウム、トリフェニルシリルリ
チウム等の有機ケイ素リチウム化合物でも良い。含Na
化合物の具体例としてはメチルナトリウム、エチルナト
リウム、n- プロピルナトリウム、イソプロピルナトリ
ウム、nー ブチルナトリウム、secーブチルナトリウ
ム、イソブチルナトリウム、t- ブチルナトリウム、n
ー ペンチルナトリウム、nー ヘキシルナトリウム、フェ
ニルナトリウム、シクロペンタジエニルナトリウム、m
- トリルナトリウム、p- トリルナトリウム、キシリル
ナトリウム、ナトリウムナフタレン等が挙げられる。
ルメチルシリルリチウム、ジメチルエチルシリルリチウ
ム、トリエチルシリルリチウム、トリフェニルシリルリ
チウム等の有機ケイ素リチウム化合物でも良い。含Na
化合物の具体例としてはメチルナトリウム、エチルナト
リウム、n- プロピルナトリウム、イソプロピルナトリ
ウム、nー ブチルナトリウム、secーブチルナトリウ
ム、イソブチルナトリウム、t- ブチルナトリウム、n
ー ペンチルナトリウム、nー ヘキシルナトリウム、フェ
ニルナトリウム、シクロペンタジエニルナトリウム、m
- トリルナトリウム、p- トリルナトリウム、キシリル
ナトリウム、ナトリウムナフタレン等が挙げられる。
【0028】含K化合物の具体例としてはメチルカリウ
ム、エチルカリウム、n- プロピルカリウム、イソプロ
ピルカリウム、nー ブチルカリウム、secー ブチルカ
リウム、イソブチルカリウム、t- ブチルカリウム、n
ー ペンチルカリウム、nー ヘキシルカリウム、トリフェ
ニルメチルカリウム、フェニルカリウム、フェニルエチ
ルカリウム、シクロペンタジエニルカリウム、m- トリ
ルカリウム、p- トリルカリウム、キシリルカリウム、
カリウムナフタレン等が挙げられる。
ム、エチルカリウム、n- プロピルカリウム、イソプロ
ピルカリウム、nー ブチルカリウム、secー ブチルカ
リウム、イソブチルカリウム、t- ブチルカリウム、n
ー ペンチルカリウム、nー ヘキシルカリウム、トリフェ
ニルメチルカリウム、フェニルカリウム、フェニルエチ
ルカリウム、シクロペンタジエニルカリウム、m- トリ
ルカリウム、p- トリルカリウム、キシリルカリウム、
カリウムナフタレン等が挙げられる。
【0029】含Zn化合物として、ジエチル亜鉛、ビス
(η5 −シクロペンタジエニル)亜鉛、ジフェニル亜鉛
等が挙げられ、さらに含Mg化合物として、ジメチルマ
グネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシ
ウム、エチルブチルマグネシウム、メチルマグネシウム
ブロマイド、エチルマグネシウムクロライド、エチルマ
グネシウムブロマイド、エチルマグネシウムクロライ
ド、フェニルマグネシウムブロマイド、フェニルマグネ
シウムクロライド、tー ブチルマグネシウムクロライ
ド、tー ブチルマグネシウムブロマイド等が挙げられ
る。
(η5 −シクロペンタジエニル)亜鉛、ジフェニル亜鉛
等が挙げられ、さらに含Mg化合物として、ジメチルマ
グネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシ
ウム、エチルブチルマグネシウム、メチルマグネシウム
ブロマイド、エチルマグネシウムクロライド、エチルマ
グネシウムブロマイド、エチルマグネシウムクロライ
ド、フェニルマグネシウムブロマイド、フェニルマグネ
シウムクロライド、tー ブチルマグネシウムクロライ
ド、tー ブチルマグネシウムブロマイド等が挙げられ
る。
【0030】これらの他にリチウムハイドライド、カリ
ウムハイドライド、ナトリウムハイドライド、カルシウ
ムハイドライド等のアルカリ(土類)金属水素化物や、
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t- ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、有機ア
ルカリ金属化合物と有機マグネシウム化合物を予め反応
させることで合成される錯体(ア−ト錯体)等も含まれ
る。
ウムハイドライド、ナトリウムハイドライド、カルシウ
ムハイドライド等のアルカリ(土類)金属水素化物や、
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t- ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、有機ア
ルカリ金属化合物と有機マグネシウム化合物を予め反応
させることで合成される錯体(ア−ト錯体)等も含まれ
る。
【0031】本発明において使用するのに好適な触媒は
(A)成分である遷移金属化合物と(B)成分のアルキ
ルアルミニウムオキシ化合物、または(A)成分と
(C)成分であるカチオン発生剤、または(A)成分と
(B)成分と(C)成分であるカチオン発生剤、または
(A)成分と(B)成分と(D)成分であるアルキルア
ルミニウム化合物、または(A)成分と(D)成分であ
るアルキルアルミニウム化合物、または(A)成分と
(B)成分と(E)成分であるアルキルアルカリ金属類
もしくはアルキルアルカリ土類金属類、または(A)成
分と(B)成分と(C)成分と(D)成分、または
(A)成分と(B)成分と(C)成分と(E)成分、
(A)成分と(B)成分と(D)成分と(E)成分、
(A)成分と(E)成分の組み合わせがあり、上記の組
み合わせで触媒(A)成分と(B)(C)(D)(E)
成分のいずれかを任意の順序でかつ任意の好適な方法で
組み合わせることによって製造される。
(A)成分である遷移金属化合物と(B)成分のアルキ
ルアルミニウムオキシ化合物、または(A)成分と
(C)成分であるカチオン発生剤、または(A)成分と
(B)成分と(C)成分であるカチオン発生剤、または
(A)成分と(B)成分と(D)成分であるアルキルア
ルミニウム化合物、または(A)成分と(D)成分であ
るアルキルアルミニウム化合物、または(A)成分と
(B)成分と(E)成分であるアルキルアルカリ金属類
もしくはアルキルアルカリ土類金属類、または(A)成
分と(B)成分と(C)成分と(D)成分、または
(A)成分と(B)成分と(C)成分と(E)成分、
(A)成分と(B)成分と(D)成分と(E)成分、
(A)成分と(E)成分の組み合わせがあり、上記の組
み合わせで触媒(A)成分と(B)(C)(D)(E)
成分のいずれかを任意の順序でかつ任意の好適な方法で
組み合わせることによって製造される。
【0032】触媒(A)成分と(B)成分の好ましい触
媒組成比は(A):(B)=1:0.01〜1:100
00,触媒(A)成分と(C)成分の好ましい触媒組成
比は(A):(C)=1:0.01〜1:100,触媒
(A)成分と(D)成分の好ましい触媒組成比は
(A):(D)=1:0.01〜1:1000,触媒
(A)成分と(E)成分の好ましい触媒組成比は
(A):(E)=1:0.01〜1:100である。触
媒組成物の調製はあらかじめ、窒素、アルゴン等の不活
性ガス雰囲気下、好適な溶媒中で混合することにより行
っても良いし、(A)(B)(C)(D)(E)それぞ
れの成分を別々にモノマーが共存するリアクター内に打
ち込んで、リアクター内において調製しても良い。触媒
調製に好適な溶媒はヘキサン、シクロヘキサン等、アル
カンをはじめとする炭化水素系溶媒とトルエン、ベンゼ
ン、エチルベンゼン、等の芳香族系の溶媒があげられ
る。またこれらの溶媒は前処理において水分等を除去し
ておくことが好ましい。触媒組成物の調製温度として
は、−20℃〜150℃が最適である。
媒組成比は(A):(B)=1:0.01〜1:100
00,触媒(A)成分と(C)成分の好ましい触媒組成
比は(A):(C)=1:0.01〜1:100,触媒
(A)成分と(D)成分の好ましい触媒組成比は
(A):(D)=1:0.01〜1:1000,触媒
(A)成分と(E)成分の好ましい触媒組成比は
(A):(E)=1:0.01〜1:100である。触
媒組成物の調製はあらかじめ、窒素、アルゴン等の不活
性ガス雰囲気下、好適な溶媒中で混合することにより行
っても良いし、(A)(B)(C)(D)(E)それぞ
れの成分を別々にモノマーが共存するリアクター内に打
ち込んで、リアクター内において調製しても良い。触媒
調製に好適な溶媒はヘキサン、シクロヘキサン等、アル
カンをはじめとする炭化水素系溶媒とトルエン、ベンゼ
ン、エチルベンゼン、等の芳香族系の溶媒があげられ
る。またこれらの溶媒は前処理において水分等を除去し
ておくことが好ましい。触媒組成物の調製温度として
は、−20℃〜150℃が最適である。
【0033】本発明の重合方法は、モノマーと触媒の存
在下、減圧、大気圧、加圧のいずれかの条件のもと、バ
ルク、溶液、スラリーのいずれの方法でも行うことが出
来る。重合を行うのに好適な温度範囲としては−30℃
〜260℃であり、好ましくは0℃〜200℃である。
また、重合においては、窒素、アルゴン等の不活性ガス
雰囲気下で行っても良いし、エチレン雰囲気下で行って
も良い、またエチレン、及び/またはプロピレン及び/
またはブチレンと上記の不活性ガスの混合雰囲気下でも
かまわない。さらに、分子量調節のために上記のガスに
加えて、水素を共存させてもかまわない。また、触媒成
分をアルミナ、塩化マグネシウム、シリカのような好適
な担体に担持させて用いてもかまわない。
在下、減圧、大気圧、加圧のいずれかの条件のもと、バ
ルク、溶液、スラリーのいずれの方法でも行うことが出
来る。重合を行うのに好適な温度範囲としては−30℃
〜260℃であり、好ましくは0℃〜200℃である。
また、重合においては、窒素、アルゴン等の不活性ガス
雰囲気下で行っても良いし、エチレン雰囲気下で行って
も良い、またエチレン、及び/またはプロピレン及び/
またはブチレンと上記の不活性ガスの混合雰囲気下でも
かまわない。さらに、分子量調節のために上記のガスに
加えて、水素を共存させてもかまわない。また、触媒成
分をアルミナ、塩化マグネシウム、シリカのような好適
な担体に担持させて用いてもかまわない。
【0034】また所望ならば、重合に際して溶媒を用い
ることも出来る。重合に用いるのに好適な溶媒として
は、ヘキサン、シクロヘキサン等、アルカンをはじめと
する炭化水素系溶媒とトルエン、ベンゼン、エチルベン
ゼン、等の芳香族系の溶媒があげられる。また、重合に
用いるモノマーとしては、エチレンとスチレンが最も好
適であるが、必要に応じてプロピレン、ブチレン等の他
のオレフィン化合物やα−メチルスチレン、ジフェニル
エチレン等の芳香族ビニル化合物を共存させることが出
来る。本重合における好適な触媒量は[(生成ポリマー
重量)Kg]/[触媒(A)成分1mol]=50kg
/1mol〜10000000kg/1mol程度のポ
リマーを与える量である。本発明における重合後のポリ
マーの分離の方法としては、例えば重合液にアセトンま
たは酸もしくはアルカリを混合したアルコール等の貧溶
媒となる極性溶媒を加えて重合体を沈澱させて回収する
方法、反応液を撹拌下、熱湯中に投入後、溶媒と共に蒸
留回収する方法、または直接反応液を加熱して溶媒を留
去する方法等を挙げることができる。本発明の重合触媒
は第1に触媒の合成が容易でかつ耐熱性が優れ広い温度
領域で重合反応に高活性を示すことである。第2に貯蔵
安定性・活性安定性が極めて優れることである。したが
って触媒の活性は数カ月たっても殆ど当初の重合活性を
持続する。
ることも出来る。重合に用いるのに好適な溶媒として
は、ヘキサン、シクロヘキサン等、アルカンをはじめと
する炭化水素系溶媒とトルエン、ベンゼン、エチルベン
ゼン、等の芳香族系の溶媒があげられる。また、重合に
用いるモノマーとしては、エチレンとスチレンが最も好
適であるが、必要に応じてプロピレン、ブチレン等の他
のオレフィン化合物やα−メチルスチレン、ジフェニル
エチレン等の芳香族ビニル化合物を共存させることが出
来る。本重合における好適な触媒量は[(生成ポリマー
重量)Kg]/[触媒(A)成分1mol]=50kg
/1mol〜10000000kg/1mol程度のポ
リマーを与える量である。本発明における重合後のポリ
マーの分離の方法としては、例えば重合液にアセトンま
たは酸もしくはアルカリを混合したアルコール等の貧溶
媒となる極性溶媒を加えて重合体を沈澱させて回収する
方法、反応液を撹拌下、熱湯中に投入後、溶媒と共に蒸
留回収する方法、または直接反応液を加熱して溶媒を留
去する方法等を挙げることができる。本発明の重合触媒
は第1に触媒の合成が容易でかつ耐熱性が優れ広い温度
領域で重合反応に高活性を示すことである。第2に貯蔵
安定性・活性安定性が極めて優れることである。したが
って触媒の活性は数カ月たっても殆ど当初の重合活性を
持続する。
【0035】
【実施例】以下実施例により本発明を更に具体的に説明
するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものでは
ない。以下に実施例及び比較例を行なうにあたり、用い
た触媒成分について以下に示す。 [触媒(A)成分] (合成例1) オルトジフェニルホスフィノフェノールの合成 NaH30.5mmolを秤り、n−ヘキサンで洗浄
(2回)後窒素置換した、乾燥エーテルを75ml加
え、0℃に冷却、オルトブロモフェノール27.8mm
olを滴下、30分攪拌(淡黄色溶液)後、0℃でn−
BuLi30.6mmolを滴下、0℃で1時間攪拌
後、ジフェニルホスフィノクロライド27.8mmol
を滴下(0℃)、滴下後室温で一晩攪拌した。反応後N
H4 Cl(aq.sol.)を加え水層のpHを確認し
たところアルカリ性だったため、HClを加え酸性に
し、エーテルで3回抽出、減圧乾固した。淡黄色個体が
得られた。クロロホルムで再結晶後、白色固体を得た。
(収量2.03g:収率25%)
するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものでは
ない。以下に実施例及び比較例を行なうにあたり、用い
た触媒成分について以下に示す。 [触媒(A)成分] (合成例1) オルトジフェニルホスフィノフェノールの合成 NaH30.5mmolを秤り、n−ヘキサンで洗浄
(2回)後窒素置換した、乾燥エーテルを75ml加
え、0℃に冷却、オルトブロモフェノール27.8mm
olを滴下、30分攪拌(淡黄色溶液)後、0℃でn−
BuLi30.6mmolを滴下、0℃で1時間攪拌
後、ジフェニルホスフィノクロライド27.8mmol
を滴下(0℃)、滴下後室温で一晩攪拌した。反応後N
H4 Cl(aq.sol.)を加え水層のpHを確認し
たところアルカリ性だったため、HClを加え酸性に
し、エーテルで3回抽出、減圧乾固した。淡黄色個体が
得られた。クロロホルムで再結晶後、白色固体を得た。
(収量2.03g:収率25%)
【0036】(η5 −ペンタメチルシクロペンタジエニ
ル)−O−ジフェニルホスフィノフェニルチタニウムジ
クロライドの合成 実験操作はすべて、脱水、脱酸素カラムを通した窒素下
で行い、使用する溶媒はあらかじめ脱水処理したものを
用いた。オルトジフェニルホスフィノフェノール1.8
mmolを、脱水THF20mlに溶かし、室温でn−
BuLi1.9mmolを滴下し、1.5時間攪拌し、
Li塩とした。この、Li塩の溶液を、あらかじめTH
F20mlに溶かしておいたCp*TiCl3溶液中に
室温で10分間かけて滴下した。その後、室温で一晩攪
拌し、翌日減圧乾固した後脱水トルエン30mlを加え
不溶分を濾別した。減圧乾固後、橙色油状物が得られ
た。これを脱水トルエン15mlに溶かし、脱水n−ヘ
キサン50mlを加え、目的物を再沈殿させた。溶液か
ら廬別し減圧乾燥後橙色固体を得た。
ル)−O−ジフェニルホスフィノフェニルチタニウムジ
クロライドの合成 実験操作はすべて、脱水、脱酸素カラムを通した窒素下
で行い、使用する溶媒はあらかじめ脱水処理したものを
用いた。オルトジフェニルホスフィノフェノール1.8
mmolを、脱水THF20mlに溶かし、室温でn−
BuLi1.9mmolを滴下し、1.5時間攪拌し、
Li塩とした。この、Li塩の溶液を、あらかじめTH
F20mlに溶かしておいたCp*TiCl3溶液中に
室温で10分間かけて滴下した。その後、室温で一晩攪
拌し、翌日減圧乾固した後脱水トルエン30mlを加え
不溶分を濾別した。減圧乾固後、橙色油状物が得られ
た。これを脱水トルエン15mlに溶かし、脱水n−ヘ
キサン50mlを加え、目的物を再沈殿させた。溶液か
ら廬別し減圧乾燥後橙色固体を得た。
【0037】(合成例2) N−メチル−2−ジフェニルホスフィノアニリンの合成 N−メチル−2−ヨードアニリン22.8mmol,ジ
フェニルホスフィン22.8mmol、Pd(Ph3
P)40.26gをあらかじめ窒素置換した200ml
シュレンク内にいれた。アセトニトリル30mlと水1
0mlを加えトリエチルアミン3.2mlを加えた。シ
ュレンク管にジムロートを取り付け40時間断続的に加
熱環流した。反応後、溶媒を減圧留去し、塩化メチレン
40mlを加えた。溶液を、分液ロートに移し水80m
lを加え洗浄した。有機層を分別し溶媒を減圧留去し
た。褐色固体を得た。この固体をTHF50mlに溶解
し、過剰量の塩酸を加えた。溶媒を留去し、再びTHF
30mlを加え、沈殿物を桐山ロートで濾別、フラスコ
に移し減圧乾燥させた。これを塩化メチレン40mlに
溶解させNaOH水溶液で処理したのち有機層を分別、
減圧乾燥した。無色の油状物がえられた。この油状物は
2日ほどで完全に結晶化し淡黄色固体となった。(2.
6g)。1H−NMR,31P−NMRより目的物であ
ることを確認した。
フェニルホスフィン22.8mmol、Pd(Ph3
P)40.26gをあらかじめ窒素置換した200ml
シュレンク内にいれた。アセトニトリル30mlと水1
0mlを加えトリエチルアミン3.2mlを加えた。シ
ュレンク管にジムロートを取り付け40時間断続的に加
熱環流した。反応後、溶媒を減圧留去し、塩化メチレン
40mlを加えた。溶液を、分液ロートに移し水80m
lを加え洗浄した。有機層を分別し溶媒を減圧留去し
た。褐色固体を得た。この固体をTHF50mlに溶解
し、過剰量の塩酸を加えた。溶媒を留去し、再びTHF
30mlを加え、沈殿物を桐山ロートで濾別、フラスコ
に移し減圧乾燥させた。これを塩化メチレン40mlに
溶解させNaOH水溶液で処理したのち有機層を分別、
減圧乾燥した。無色の油状物がえられた。この油状物は
2日ほどで完全に結晶化し淡黄色固体となった。(2.
6g)。1H−NMR,31P−NMRより目的物であ
ることを確認した。
【0038】(η5 −ペンタメチルシクロペンタジエニ
ル)−N,N−メチル−2−(ジフェニルホスフィノ)
フェニルチタニウムジクロライドの合成 実験操作はすべて、脱水、脱酸素カラムを通した窒素下
で行い、使用する溶媒はあらかじめ脱水処理したものを
用いた。N−メチル−2−ジフェニルホスフィノアニリ
ン1.8mmolを、脱水THF20mlに溶かし、室
温でn−BuLi1.9mmolを滴下し、1.5時間
攪拌し、Li塩とした。この、Li塩の溶液を、あらか
じめTHF20mlに溶かしておいたCp*TiCl3
溶液中に室温で10分間かけて滴下した。その後、室温
で一晩攪拌し、翌日減圧乾固した後脱水トルエン30m
lを加え不溶分を濾別した。減圧乾固後、橙色油状物が
得られた。これを脱水トルエン15mlに溶かし、脱水
n−ヘキサン50mlを加え、目的物を再沈殿させた。
溶液から廬別し減圧乾燥後橙色固体を得た。
ル)−N,N−メチル−2−(ジフェニルホスフィノ)
フェニルチタニウムジクロライドの合成 実験操作はすべて、脱水、脱酸素カラムを通した窒素下
で行い、使用する溶媒はあらかじめ脱水処理したものを
用いた。N−メチル−2−ジフェニルホスフィノアニリ
ン1.8mmolを、脱水THF20mlに溶かし、室
温でn−BuLi1.9mmolを滴下し、1.5時間
攪拌し、Li塩とした。この、Li塩の溶液を、あらか
じめTHF20mlに溶かしておいたCp*TiCl3
溶液中に室温で10分間かけて滴下した。その後、室温
で一晩攪拌し、翌日減圧乾固した後脱水トルエン30m
lを加え不溶分を濾別した。減圧乾固後、橙色油状物が
得られた。これを脱水トルエン15mlに溶かし、脱水
n−ヘキサン50mlを加え、目的物を再沈殿させた。
溶液から廬別し減圧乾燥後橙色固体を得た。
【0039】(合成例3) (N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2、4ーシクロペンタジエンの合
成 t−ブチルアミン8.2mmolを脱水テトラヒドロフ
ラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−ブチ
ルリチウム8.2mmolを加え、1時間攪拌、室温に
戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライドのTHF溶液を滴下し
た。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌した。反応後減圧
乾固し、脱水トルエン40mlを加え不溶分を濾別。液
層を減圧乾固した。淡黄色油状物が得られた。
4,5ーテトラメチル2、4ーシクロペンタジエンの合
成 t−ブチルアミン8.2mmolを脱水テトラヒドロフ
ラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−ブチ
ルリチウム8.2mmolを加え、1時間攪拌、室温に
戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライドのTHF溶液を滴下し
た。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌した。反応後減圧
乾固し、脱水トルエン40mlを加え不溶分を濾別。液
層を減圧乾固した。淡黄色油状物が得られた。
【0040】Ti(thf)3 Cl3 の合成 TiCl3 20mmol分の塩化メチレンーTHF溶液
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えた,ジムロートを取り付け2
0時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水
ペンタンで2回洗浄した。(収率70%)
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えた,ジムロートを取り付け2
0時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水
ペンタンで2回洗浄した。(収率70%)
【0041】[(N−t−ブチルアミド)ジメチルシリ
ル−2,3,4,5ーテトラメチル2、4ーシクロペン
タジエニル]チタニウムジクロリドの合成 (N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2、4ーシクロペンタジエン5.
1mmolを脱水トルエン20mlに溶解し、−40℃
に冷却した。n−BuLi10.2mmolを加え2時
間攪拌した。これをあらかじめ−78℃に冷却しトルエ
ン20mlに分散させておいたTi(thf)3 Cl3
に加えた。15分後AgCl6mmolを加え、一晩攪
拌した。これを減圧乾固し、脱水塩化メチレン60ml
を加えた。濾過後液層を減圧乾固した。ヘキサン20m
lで洗浄し目的物を得た。
ル−2,3,4,5ーテトラメチル2、4ーシクロペン
タジエニル]チタニウムジクロリドの合成 (N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2、4ーシクロペンタジエン5.
1mmolを脱水トルエン20mlに溶解し、−40℃
に冷却した。n−BuLi10.2mmolを加え2時
間攪拌した。これをあらかじめ−78℃に冷却しトルエ
ン20mlに分散させておいたTi(thf)3 Cl3
に加えた。15分後AgCl6mmolを加え、一晩攪
拌した。これを減圧乾固し、脱水塩化メチレン60ml
を加えた。濾過後液層を減圧乾固した。ヘキサン20m
lで洗浄し目的物を得た。
【0042】(実施例1)装置内を窒素置換後、リアク
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に280
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAO(メチルアルミノキサン)を
20mmol打ち込み、計量管内のトルエン280ml
でリアクタに移送した。同様にスチレンを920mlサ
ンプリングし脱気操作を行ったあと、740mlをリア
クタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し、つぎに
(A)成分として(η5 −ペンタメチルシクロペンタジ
エニル)−O−ジフェニルホスフィノフェニルチタニウ
ムジクロライド20μmolのトルエン溶液を触媒タン
クに打ち込み、計量管内のスチレン180mlで移送し
た。リアクタ内をエチレンで10kg/cm2 に加圧
後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合
に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレンを
供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。重合
後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマー
を回収した。ポリマー収量は54g、NMR測定よりポ
リマー中のスチレン含量は52wt%であった。
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に280
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAO(メチルアルミノキサン)を
20mmol打ち込み、計量管内のトルエン280ml
でリアクタに移送した。同様にスチレンを920mlサ
ンプリングし脱気操作を行ったあと、740mlをリア
クタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し、つぎに
(A)成分として(η5 −ペンタメチルシクロペンタジ
エニル)−O−ジフェニルホスフィノフェニルチタニウ
ムジクロライド20μmolのトルエン溶液を触媒タン
クに打ち込み、計量管内のスチレン180mlで移送し
た。リアクタ内をエチレンで10kg/cm2 に加圧
後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合
に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレンを
供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。重合
後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマー
を回収した。ポリマー収量は54g、NMR測定よりポ
リマー中のスチレン含量は52wt%であった。
【0043】(実施例2)装置内を窒素置換後、リアク
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、触媒タンク、リア
クタ内を窒素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量
管内に280mlサンプリングした後、5分間減圧下で
脱気した。リアクタ内を減圧にし触媒タンク内に(B)
成分としてMMAOを20mmol打ち込みリアクタに
移送した。、計量管内のトルエン280mlをリアクタ
に移送した。同様にスチレンを920mlサンプリング
し脱気操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リア
クタを90℃に加熱し、つぎに(A)成分として(η5
−ペンタメチルシクロペンタジエニル)−O−ジフェニ
ルホスフィノフェニルチタニウムジクロライド20μm
olのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込みリアクタに
移送した。リアクタ内をエチレンで6kg/cm2 に加
圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重
合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレン
を供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。重
合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマ
ーを回収した。ポリマー収量は44g、NMR測定より
ポリマー中のスチレン含量は63wt%であった。
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、触媒タンク、リア
クタ内を窒素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量
管内に280mlサンプリングした後、5分間減圧下で
脱気した。リアクタ内を減圧にし触媒タンク内に(B)
成分としてMMAOを20mmol打ち込みリアクタに
移送した。、計量管内のトルエン280mlをリアクタ
に移送した。同様にスチレンを920mlサンプリング
し脱気操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リア
クタを90℃に加熱し、つぎに(A)成分として(η5
−ペンタメチルシクロペンタジエニル)−O−ジフェニ
ルホスフィノフェニルチタニウムジクロライド20μm
olのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込みリアクタに
移送した。リアクタ内をエチレンで6kg/cm2 に加
圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重
合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレン
を供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。重
合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマ
ーを回収した。ポリマー収量は44g、NMR測定より
ポリマー中のスチレン含量は63wt%であった。
【0044】(実施例3)装置内を窒素置換後、リアク
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に600
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(A)成分として(η5 −ペンタメチルシクロペンタジ
エニル)−O−ジフェニルホスフィノフ ェニルチタ
ニウムジクロライド20μmolのトルエン溶液、
(B)成分としてMMAOを20mmolをあらかじめ
混合したものを打ち込み、計量管内のトルエン280m
lでリアクタに移送した。同様にスチレンを600ml
サンプリングし脱気操作を行ったあと、リアクタ内に移
送した。リアクタを90℃に加熱しリアクタ内をエチレ
ンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを
止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるた
め、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちなが
ら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メ
タノール中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量
は42g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量は
62wt%であった。
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に600
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(A)成分として(η5 −ペンタメチルシクロペンタジ
エニル)−O−ジフェニルホスフィノフ ェニルチタ
ニウムジクロライド20μmolのトルエン溶液、
(B)成分としてMMAOを20mmolをあらかじめ
混合したものを打ち込み、計量管内のトルエン280m
lでリアクタに移送した。同様にスチレンを600ml
サンプリングし脱気操作を行ったあと、リアクタ内に移
送した。リアクタを90℃に加熱しリアクタ内をエチレ
ンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを
止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるた
め、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちなが
ら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メ
タノール中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量
は42g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量は
62wt%であった。
【0045】(実施例4)あらかじめ作成し、1ヶ月間
保存した(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施
例1と同様の方法で行った。ポリマー収量は45g、N
MR測定よりポリマー中のスチレン含量は62wt%で
あった。 (実施例5)あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施例2と同
様の方法で行った。ポリマー収量は44g、NMR測定
よりポリマー中のスチレン含量は59wt%であった。
保存した(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施
例1と同様の方法で行った。ポリマー収量は45g、N
MR測定よりポリマー中のスチレン含量は62wt%で
あった。 (実施例5)あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施例2と同
様の方法で行った。ポリマー収量は44g、NMR測定
よりポリマー中のスチレン含量は59wt%であった。
【0046】(実施例6)あらかじめ作成し、1ヶ月間
保存した(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施
例3と同様の方法で行った。ポリマー収量は45g、N
MR測定よりポリマー中のスチレン含量は63wt%で
あった。 (実施例7)(A)成分として(η5 −ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)−N,N−メチル−2−(ジフェ
ニルホスフィノ)フェニルチタニウムジクロライドを用
いた以外は実施例1と同様の方法で行った。ポリマー収
量は38g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量
は64wt%であった。
保存した(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施
例3と同様の方法で行った。ポリマー収量は45g、N
MR測定よりポリマー中のスチレン含量は63wt%で
あった。 (実施例7)(A)成分として(η5 −ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)−N,N−メチル−2−(ジフェ
ニルホスフィノ)フェニルチタニウムジクロライドを用
いた以外は実施例1と同様の方法で行った。ポリマー収
量は38g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量
は64wt%であった。
【0047】(実施例8)(A)成分として(η5 −ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル)−N,N−メチル−
2−(ジフェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジク
ロライドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は54g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は66wt%であった。 (実施例9)(A)成分として(η5 −ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)−N,N−メチル−2−(ジフェ
ニルホスフィノ)フェニルチタニウムジクロライドを用
いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポリマー収
量は49g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量
は58wt%であった。
ンタメチルシクロペンタジエニル)−N,N−メチル−
2−(ジフェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジク
ロライドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は54g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は66wt%であった。 (実施例9)(A)成分として(η5 −ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)−N,N−メチル−2−(ジフェ
ニルホスフィノ)フェニルチタニウムジクロライドを用
いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポリマー収
量は49g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量
は58wt%であった。
【0048】(実施例10)(A)成分として(η5 −
ペンタメチルシクロペンタジエニル)−N,N−メチル
−2−(ジフェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジ
クロライドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は41g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は64wt%であった。 (実施例11)(A)成分として(η5 −ペンタメチル
シクロペンタジエニル)−N,N−メチル−2−(ジフ
ェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジクロライドを
用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。ポリマー
収量は46g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含
量は59wt%であった。 (実施例12)(A)成分として(η5 −ペンタメチル
シクロペンタジエニル)−N,N−メチル−2−(ジフ
ェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジクロライドを
用いた以外は実施例6と同様の方法で行った。ポリマー
収量は49g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含
量は63wt%であった。
ペンタメチルシクロペンタジエニル)−N,N−メチル
−2−(ジフェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジ
クロライドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は41g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は64wt%であった。 (実施例11)(A)成分として(η5 −ペンタメチル
シクロペンタジエニル)−N,N−メチル−2−(ジフ
ェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジクロライドを
用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。ポリマー
収量は46g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含
量は59wt%であった。 (実施例12)(A)成分として(η5 −ペンタメチル
シクロペンタジエニル)−N,N−メチル−2−(ジフ
ェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジクロライドを
用いた以外は実施例6と同様の方法で行った。ポリマー
収量は49g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含
量は63wt%であった。
【0049】(実施例13)装置内を窒素置換後、リア
クタ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に60
0mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAOを10mmol、(D)成分
としてトリメチルアルミニウム10mmol打ち込み、
計量管内のトルエン280mlでリアクタに移送した。
同様にスチレンを600mlサンプリングし脱気操作を
行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃
に加熱し、つぎに(A)成分として(η5 −ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル)−O−ジフェニルホスフィノ
フェニルチタニウムジクロライド20μmolのトルエ
ン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン1
80mlで移送した。リアクタ内をエチレンで10kg
/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を
開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適
度にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合
を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で
処理しポリマーを回収した。ポリマー収量は33g、N
MR測定よりポリマー中のスチレン含量は53wt%で
あった。
クタ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に60
0mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAOを10mmol、(D)成分
としてトリメチルアルミニウム10mmol打ち込み、
計量管内のトルエン280mlでリアクタに移送した。
同様にスチレンを600mlサンプリングし脱気操作を
行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃
に加熱し、つぎに(A)成分として(η5 −ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル)−O−ジフェニルホスフィノ
フェニルチタニウムジクロライド20μmolのトルエ
ン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン1
80mlで移送した。リアクタ内をエチレンで10kg
/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を
開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適
度にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合
を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で
処理しポリマーを回収した。ポリマー収量は33g、N
MR測定よりポリマー中のスチレン含量は53wt%で
あった。
【0050】(実施例14)装置内を窒素置換後、リア
クタ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に60
0mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAOを15mmol、(E)成分
としてジブチルマグネシウム5mmol打ち込み、計量
管内のトルエン280mlでリアクタに移送した。同様
にスチレンを600mlサンプリングし脱気操作を行っ
たあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加
熱し、つぎに(A)成分として(η5 −ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)−O−ジフェニルホスフィノフェ
ニルチタニウムジクロライド20μmolのトルエン溶
液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン180
mlで移送した。リアクタ内をエチレンで10kg/c
m2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始
した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度に
エチレンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行
った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理
しポリマーを回収した。ポリマー収量は36g、NMR
測定よりポリマー中のスチレン含量は50wt%であっ
た。
クタ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に60
0mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAOを15mmol、(E)成分
としてジブチルマグネシウム5mmol打ち込み、計量
管内のトルエン280mlでリアクタに移送した。同様
にスチレンを600mlサンプリングし脱気操作を行っ
たあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加
熱し、つぎに(A)成分として(η5 −ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)−O−ジフェニルホスフィノフェ
ニルチタニウムジクロライド20μmolのトルエン溶
液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン180
mlで移送した。リアクタ内をエチレンで10kg/c
m2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始
した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度に
エチレンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行
った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理
しポリマーを回収した。ポリマー収量は36g、NMR
測定よりポリマー中のスチレン含量は50wt%であっ
た。
【0051】(実施例15)装置内を窒素置換後、リア
クタ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に60
0mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(C)成分として(C6 F5 )3 B0.2mmol打ち
込み、計量管内のトルエン280mlでリアクタに移送
した。同様にスチレンを600mlサンプリングし脱気
操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを
90℃に加熱し、つぎに(A)成分として(η5 −ペン
タメチルシクロペンタジエニル)−O−ジフェニルホス
フィノフェニルチタニウムジクロライド20μmolの
トルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチ
レン180mlで移送した。リアクタ内をエチレンで1
0kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、
攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重
合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら60
分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノー
ル中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量は30
g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量は69w
t%であった。
クタ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に60
0mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(C)成分として(C6 F5 )3 B0.2mmol打ち
込み、計量管内のトルエン280mlでリアクタに移送
した。同様にスチレンを600mlサンプリングし脱気
操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを
90℃に加熱し、つぎに(A)成分として(η5 −ペン
タメチルシクロペンタジエニル)−O−ジフェニルホス
フィノフェニルチタニウムジクロライド20μmolの
トルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチ
レン180mlで移送した。リアクタ内をエチレンで1
0kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、
攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重
合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら60
分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノー
ル中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量は30
g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量は69w
t%であった。
【0052】(実施例16)(A)成分として(η5 −
ペンタメチルシクロペンタジエニル)−N,N−メチル
−2−(ジフェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジ
クロライドを用いた以外は実施例13と同様の方法で行
った。ポリマー収量は29g、NMR測定よりポリマー
中のスチレン含量は58wt%であった。 (実施例17)(A)成分として(η5 −ペンタメチル
シクロペンタジエニル)−N,N−メチル−2−(ジフ
ェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジクロライドを
用いた以外は実施例14と同様の方法で行った。ポリマ
ー収量は30g、NMR測定よりポリマー中のスチレン
含量は57wt%であった。
ペンタメチルシクロペンタジエニル)−N,N−メチル
−2−(ジフェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジ
クロライドを用いた以外は実施例13と同様の方法で行
った。ポリマー収量は29g、NMR測定よりポリマー
中のスチレン含量は58wt%であった。 (実施例17)(A)成分として(η5 −ペンタメチル
シクロペンタジエニル)−N,N−メチル−2−(ジフ
ェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジクロライドを
用いた以外は実施例14と同様の方法で行った。ポリマ
ー収量は30g、NMR測定よりポリマー中のスチレン
含量は57wt%であった。
【0053】(実施例18)(A)成分として(η5 −
ペンタメチルシクロペンタジエニル)−N,N−メチル
−2−(ジフェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジ
クロライドを用いた以外は実施例15と同様の方法で行
った。ポリマー収量は37g、NMR測定よりポリマー
中のスチレン含量は56wt%であった。 (比較例1)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は31g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は54wt%であった。
ペンタメチルシクロペンタジエニル)−N,N−メチル
−2−(ジフェニルホスフィノ)フェニルチタニウムジ
クロライドを用いた以外は実施例15と同様の方法で行
った。ポリマー収量は37g、NMR測定よりポリマー
中のスチレン含量は56wt%であった。 (比較例1)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は31g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は54wt%であった。
【0054】(比較例2)(A)成分として[(N−t
−ブチルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は実施例2と同様の方法で
行った。ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は21wt%であった。 (比較例3)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は17g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は14wt%であった。
−ブチルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は実施例2と同様の方法で
行った。ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は21wt%であった。 (比較例3)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は17g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は14wt%であった。
【0055】(比較例4)(A)成分として[(N−t
−ブチルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は実施例5と同様の方法で
行った。ポリマー収量は12g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は21wt%であった。 (比較例5)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は12g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。 (比較例6)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は24g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は10wt%であった。
−ブチルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は実施例5と同様の方法で
行った。ポリマー収量は12g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は21wt%であった。 (比較例5)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は12g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。 (比較例6)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は24g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は10wt%であった。
【0056】
【発明の効果】本発明の重合触媒は触媒の合成が容易で
かつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反応に高活性を示
し、貯蔵安定性・活性安定性が極めて優れることであ
る。したがって触媒の活性は数カ月たっても殆ど当初の
重合活性を持続する。
かつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反応に高活性を示
し、貯蔵安定性・活性安定性が極めて優れることであ
る。したがって触媒の活性は数カ月たっても殆ど当初の
重合活性を持続する。
Claims (5)
- 【請求項1】 触媒(A)成分が下記一般式(1)で示
される錯体を含むことを特徴とする重合触媒。 【化1】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) - 【請求項2】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
を含むことを特徴とする重合触媒。 【化2】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 - 【請求項3】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
および/または(D)成分をを含むことを特徴とする重
合触媒。 【化3】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 - 【請求項4】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
および/または(D)成分および/または(E)成分を
含むことを特徴とする重合触媒。 【化4】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe又はN,P,S,O元素
のうちいずれか一つでMとσ結合を形成している。Zは
N,P,S,O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X2 、R6 ,R7 、R8 は
それぞれ同じでも異なっていても良く、水素またはC1
〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リロキシ基、ハロゲンからなるものとする。Lは0〜4
の整数。mは1〜3の整数で結合している原子の価数−
2、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属またはアルキルアルカリ土
類金属化合物 - 【請求項5】 請求項1〜4に記載の重合触媒で重合さ
れる共重合体が98. 6〜53モル%のエチレン及び
1.4〜47モル%のスチレンを含むエチレンとスチレ
ンの疑似ランダムコポリマーであることを特徴とする共
重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1475898A JPH11199620A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1475898A JPH11199620A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199620A true JPH11199620A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11869998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1475898A Pending JPH11199620A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11199620A (ja) |
-
1998
- 1998-01-12 JP JP1475898A patent/JPH11199620A/ja active Pending
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