JPH11212045A - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents
液晶パネルの製造方法Info
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- JPH11212045A JPH11212045A JP10012703A JP1270398A JPH11212045A JP H11212045 A JPH11212045 A JP H11212045A JP 10012703 A JP10012703 A JP 10012703A JP 1270398 A JP1270398 A JP 1270398A JP H11212045 A JPH11212045 A JP H11212045A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶滴下工法による液晶パネルの製造方法
で、引出電極基板と遮光基板とを接着する紫外線硬化型
樹脂を十分に硬化し、配向異常のない表示品位の良好な
パネルを製造する。 【解決手段】 金属薄膜で形成された引出電極４２を有
するガラス基板１と、表示領域周辺部に遮光膜２１を有
するガラス基板１の、どちらか一方の基板の表示領域周
辺部に紫外線硬化型シール樹脂８１を形成し、更にどち
らか一方の基板の表示領域に所定量の液晶材料７を滴下
した後、２枚の基板を重ね合わせて、金属製引出電極４
２を有するガラス基板側、または２枚の基板の両側から
紫外線を照射してシール樹脂を硬化する。
で、引出電極基板と遮光基板とを接着する紫外線硬化型
樹脂を十分に硬化し、配向異常のない表示品位の良好な
パネルを製造する。 【解決手段】 金属薄膜で形成された引出電極４２を有
するガラス基板１と、表示領域周辺部に遮光膜２１を有
するガラス基板１の、どちらか一方の基板の表示領域周
辺部に紫外線硬化型シール樹脂８１を形成し、更にどち
らか一方の基板の表示領域に所定量の液晶材料７を滴下
した後、２枚の基板を重ね合わせて、金属製引出電極４
２を有するガラス基板側、または２枚の基板の両側から
紫外線を照射してシール樹脂を硬化する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネルの製造
方法に係り、特に、液晶を挾む二枚のガラス基板の貼り
合わせ方法に関するものである。
方法に係り、特に、液晶を挾む二枚のガラス基板の貼り
合わせ方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の技術について図９〜図１２を用い
て説明する。液晶パネルの組立方法は大きく分類して２
通りの工法が提案されている。
て説明する。液晶パネルの組立方法は大きく分類して２
通りの工法が提案されている。
【０００３】まず第１の工法は、ガラス基板を貼り合わ
せて図９〜図１１に示すような空セルを組み立てた後
に、空セル内を真空引きし、空セル内の真空圧と大気圧
の圧力差を利用して液晶材料を注入する方法である（真
空注入工法）。真空注入工法の場合には、上下２枚のガ
ラス基板１を貼り合わせて、シール樹脂８を十分に硬化
した後、液晶材料を注入する。シール樹脂８の材料とし
て、パネル構成に応じて熱硬化型と紫外線硬化型を任意
に選択することができる。
せて図９〜図１１に示すような空セルを組み立てた後
に、空セル内を真空引きし、空セル内の真空圧と大気圧
の圧力差を利用して液晶材料を注入する方法である（真
空注入工法）。真空注入工法の場合には、上下２枚のガ
ラス基板１を貼り合わせて、シール樹脂８を十分に硬化
した後、液晶材料を注入する。シール樹脂８の材料とし
て、パネル構成に応じて熱硬化型と紫外線硬化型を任意
に選択することができる。
【０００４】近年、液晶パネルの省スペース化の要求に
対して、図９，図１０に示すような表示領域周辺部の遮
光膜２にシール樹脂８が重なる構成が主流であるが、熱
硬化型のシール樹脂を用いた場合には遮光膜２との位置
関係に関わりなく、シール樹脂８を十分に硬化すること
ができる。現在までに生産された液晶パネルのほとんど
がこの真空注入工法により組み立てられており、最も条
件検討が進んだ工法である。
対して、図９，図１０に示すような表示領域周辺部の遮
光膜２にシール樹脂８が重なる構成が主流であるが、熱
硬化型のシール樹脂を用いた場合には遮光膜２との位置
関係に関わりなく、シール樹脂８を十分に硬化すること
ができる。現在までに生産された液晶パネルのほとんど
がこの真空注入工法により組み立てられており、最も条
件検討が進んだ工法である。
【０００５】第２の工法は、液晶材料を一方の基板上に
滴下した後、もう一方の基板を貼り合わせる工法（滴下
工法）である。この工法はパネル作成のスループットが
短く、液晶材料の利用効率も高いことから次世代の組立
工法として期待されている。
滴下した後、もう一方の基板を貼り合わせる工法（滴下
工法）である。この工法はパネル作成のスループットが
短く、液晶材料の利用効率も高いことから次世代の組立
工法として期待されている。
【０００６】しかし、未硬化のシール樹脂に液晶材料が
直接接触するために液晶配向の乱れが発生しやすく、で
きるだけ液晶配向を安定させるために、迅速に硬化する
ことのできる紫外線硬化型のシール樹脂材料が用いられ
ている。
直接接触するために液晶配向の乱れが発生しやすく、で
きるだけ液晶配向を安定させるために、迅速に硬化する
ことのできる紫外線硬化型のシール樹脂材料が用いられ
ている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】滴下工法により液晶パ
ネルを製造する時には、上記のように紫外線硬化型のシ
ール樹脂が用いられているが、この時十分なエネルギー
の紫外線をシール樹脂に照射できるようにパネルの表示
領域周辺部の設計及び紫外線照射方法に制約が必要とな
る。
ネルを製造する時には、上記のように紫外線硬化型のシ
ール樹脂が用いられているが、この時十分なエネルギー
の紫外線をシール樹脂に照射できるようにパネルの表示
領域周辺部の設計及び紫外線照射方法に制約が必要とな
る。
【０００８】特にＴＦＴ液晶パネルや電極による反射を
用いた反射型液晶パネル等の、金属製の引出電極を用い
た液晶パネルでは、パネルの上下いずれから紫外線照射
を行ってもシール樹脂に紫外線を照射することができな
い領域が発生し、この領域近傍ではシール樹脂の硬化が
不十分となり、液晶配向が安定しない。
用いた反射型液晶パネル等の、金属製の引出電極を用い
た液晶パネルでは、パネルの上下いずれから紫外線照射
を行ってもシール樹脂に紫外線を照射することができな
い領域が発生し、この領域近傍ではシール樹脂の硬化が
不十分となり、液晶配向が安定しない。
【０００９】このため滴下工法を用いて金属により引出
電極が形成された液晶パネルを作成するためには、図１
２に示すように、表示領域周辺部の遮光膜２の更に外側
に紫外線硬化型シール樹脂８１を塗布して、遮光膜２の
ある基板側から紫外線遮光マスク９１を通して紫外線９
０の照射を行う必要がある。図９，図１０に示すような
表示領域周辺部の遮光膜２にシール樹脂を重ねて、周辺
領域を省スペース化する構成の場合には、金属製の引出
電極４２又は遮光膜２の陰となるために、シール樹脂８
を十分に硬化することができないという問題があった。
電極が形成された液晶パネルを作成するためには、図１
２に示すように、表示領域周辺部の遮光膜２の更に外側
に紫外線硬化型シール樹脂８１を塗布して、遮光膜２の
ある基板側から紫外線遮光マスク９１を通して紫外線９
０の照射を行う必要がある。図９，図１０に示すような
表示領域周辺部の遮光膜２にシール樹脂を重ねて、周辺
領域を省スペース化する構成の場合には、金属製の引出
電極４２又は遮光膜２の陰となるために、シール樹脂８
を十分に硬化することができないという問題があった。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、遮光膜の材質毎に引出電極幅と、隣接する電極との
距離（電極の形成されていない領域：電極間幅）に制限
を設けて、引出電極を有する基板側から紫外線を照射す
ることや、貼り合わせた２枚の基板の両側から紫外線を
照射することが効果的である。
に、遮光膜の材質毎に引出電極幅と、隣接する電極との
距離（電極の形成されていない領域：電極間幅）に制限
を設けて、引出電極を有する基板側から紫外線を照射す
ることや、貼り合わせた２枚の基板の両側から紫外線を
照射することが効果的である。
【００１１】このように、引出電極幅と引出電極間幅の
設計に制約を設けることによって、電極間からシール樹
脂中に入射した紫外線を、対向基板の遮光膜表面での反
射や遮光膜表面と電極表面による多重反射、更にはシー
ル材料中のフィラー剤による散乱により、電極の陰領域
にも十分に照射することができ、また、シール樹脂中の
光開始剤の連鎖反応もあって、電極の陰領域のシール樹
脂を十分に硬化することができる。
設計に制約を設けることによって、電極間からシール樹
脂中に入射した紫外線を、対向基板の遮光膜表面での反
射や遮光膜表面と電極表面による多重反射、更にはシー
ル材料中のフィラー剤による散乱により、電極の陰領域
にも十分に照射することができ、また、シール樹脂中の
光開始剤の連鎖反応もあって、電極の陰領域のシール樹
脂を十分に硬化することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１〜図６は本発明の実施の形態
におけるＴＦＴ液晶パネルの主要部分の断面を示したも
のである。ここで、１はガラス基板、１３は金属製の引
出電極基板、１４は遮光基板、２１は金属製の遮光膜、
２２は樹脂製の遮光膜、３１，３２，３３はそれぞれ
赤，緑，青のカラーフィルタ、４１は透明電極（ＩＴ
Ｏ）、４２は金属製の引出電極、５はオーバーコート、
６は配向膜、７は液晶材料、７１はスペーサー粒子、８
１は紫外線硬化型シール樹脂、９０は紫外線、９１は紫
外線遮光マスクである。
におけるＴＦＴ液晶パネルの主要部分の断面を示したも
のである。ここで、１はガラス基板、１３は金属製の引
出電極基板、１４は遮光基板、２１は金属製の遮光膜、
２２は樹脂製の遮光膜、３１，３２，３３はそれぞれ
赤，緑，青のカラーフィルタ、４１は透明電極（ＩＴ
Ｏ）、４２は金属製の引出電極、５はオーバーコート、
６は配向膜、７は液晶材料、７１はスペーサー粒子、８
１は紫外線硬化型シール樹脂、９０は紫外線、９１は紫
外線遮光マスクである。
【００１３】図１〜図３は遮光膜２１としてＣｒ等の金
属薄膜を用い、図４〜図６は遮光膜２２として黒色顔料
を含んだ樹脂製の遮光膜を用いた場合である。また図１
〜図６は、それぞれの断面図を用いて、紫外線９０の照
射を引出電極基板１３側から照射した場合と、引出電極
基板１３と遮光基板１４の両側から照射した場合を示し
ている。
属薄膜を用い、図４〜図６は遮光膜２２として黒色顔料
を含んだ樹脂製の遮光膜を用いた場合である。また図１
〜図６は、それぞれの断面図を用いて、紫外線９０の照
射を引出電極基板１３側から照射した場合と、引出電極
基板１３と遮光基板１４の両側から照射した場合を示し
ている。
【００１４】引出電極幅と、電極間幅（隣接する電極間
の、電極が形成されていない領域の幅）には、遮光膜の
材質と紫外線照射の方法（引出電極基板１３側からか、
両基板１３、１４側からか）によって異なり、（表４）
のように制限されている。
の、電極が形成されていない領域の幅）には、遮光膜の
材質と紫外線照射の方法（引出電極基板１３側からか、
両基板１３、１４側からか）によって異なり、（表４）
のように制限されている。
【００１５】また、紫外線の照射が一定エネルギー以上
であれば、紫外線照射エネルギー量が上記制限に影響を
及ぼすことはほとんど無い。
であれば、紫外線照射エネルギー量が上記制限に影響を
及ぼすことはほとんど無い。
【００１６】次に、本発明の具体的実施例について図
７，図８，（表１），（表２−１），（表２−２），
（表３），（表４）を用いて説明する。
７，図８，（表１），（表２−１），（表２−２），
（表３），（表４）を用いて説明する。
【００１７】（実施例１）Ｃｒ着膜済みのガラス基板に
フォトレジストを塗布、フォトマスクを介しての紫外線
照射、現像、エッチング、レジスト剥離等の工程を経
て、図７及び（表１）に示すＡ〜ＯのＣｒパターン基板
１０を作成した。このＣｒパターンは金属製の引出電極
を模した構成（模擬引出電極４３）となっており、後工
程でシール樹脂硬化を行うための紫外線硬化を行う時
に、引出電極の陰に相当する領域を作り出すために形成
したものである。このＡ〜Ｏの模擬電極幅４３１と、電
極間幅４３２は（表１）に示す通りである。
フォトレジストを塗布、フォトマスクを介しての紫外線
照射、現像、エッチング、レジスト剥離等の工程を経
て、図７及び（表１）に示すＡ〜ＯのＣｒパターン基板
１０を作成した。このＣｒパターンは金属製の引出電極
を模した構成（模擬引出電極４３）となっており、後工
程でシール樹脂硬化を行うための紫外線硬化を行う時
に、引出電極の陰に相当する領域を作り出すために形成
したものである。このＡ〜Ｏの模擬電極幅４３１と、電
極間幅４３２は（表１）に示す通りである。
【００１８】
【表１】
【００１９】これらのＣｒパターン基板１０にスピンコ
ーターを用いてエポキシ樹脂からなる熱硬化型樹脂を塗
布、２００℃，２時間の熱硬化を施してオーバーコート
５を形成した。次に、スパッタリングによって透明電極
（ＩＴＯ）４１を全面に２０００〜２５００Åの膜厚と
なるように成膜した後、フォトリソ法にてストライプ状
にパターニングを行い、ＳＴＮ液晶パネル用のセグメン
ト基板１１を作成した（図８参照）。
ーターを用いてエポキシ樹脂からなる熱硬化型樹脂を塗
布、２００℃，２時間の熱硬化を施してオーバーコート
５を形成した。次に、スパッタリングによって透明電極
（ＩＴＯ）４１を全面に２０００〜２５００Åの膜厚と
なるように成膜した後、フォトリソ法にてストライプ状
にパターニングを行い、ＳＴＮ液晶パネル用のセグメン
ト基板１１を作成した（図８参照）。
【００２０】これらのセグメント基板１１と、予め準備
しておいたＩＴＯのコモンパターン付のカラーフィルタ
基板１２の表面に、ポリイミド樹脂製の配向膜６を５０
０〜１０００Åの膜厚となるように形成した後、ＳＴＮ
液晶パネルとして組み立てられるように、所定の方向に
ラビング処理を行った。このカラーフィルタ基板１２に
は遮光膜２が形成されており、この遮光膜がＣｒ製のも
のと、黒色顔料を含んだ樹脂製のものと２通り準備し
た。
しておいたＩＴＯのコモンパターン付のカラーフィルタ
基板１２の表面に、ポリイミド樹脂製の配向膜６を５０
０〜１０００Åの膜厚となるように形成した後、ＳＴＮ
液晶パネルとして組み立てられるように、所定の方向に
ラビング処理を行った。このカラーフィルタ基板１２に
は遮光膜２が形成されており、この遮光膜がＣｒ製のも
のと、黒色顔料を含んだ樹脂製のものと２通り準備し
た。
【００２１】次に、これらのセグメント基板１１の表示
領域周辺部に、平均粒径７．０μｍのガラスファイバー
を１〜２％含んだ紫外線硬化型エポキシアクリレート系
シール樹脂８１をスクリーン印刷によって塗布し、更
に、表示領域には所定量の液晶材料７を滴下した。この
時シール樹脂８１はＣｒによって形成した模擬引出電極
４３のパターンに重なるように、かつ表示領域を取り囲
むように形成した。
領域周辺部に、平均粒径７．０μｍのガラスファイバー
を１〜２％含んだ紫外線硬化型エポキシアクリレート系
シール樹脂８１をスクリーン印刷によって塗布し、更
に、表示領域には所定量の液晶材料７を滴下した。この
時シール樹脂８１はＣｒによって形成した模擬引出電極
４３のパターンに重なるように、かつ表示領域を取り囲
むように形成した。
【００２２】一方、カラーフィルタ基板１２には平均粒
径６．５μｍの固着材付樹脂製のスペーサ粒子７１を平
方ミリメートル当たり２００〜３００個散布し、１５０
度の熱処理を施して基板に固着した。
径６．５μｍの固着材付樹脂製のスペーサ粒子７１を平
方ミリメートル当たり２００〜３００個散布し、１５０
度の熱処理を施して基板に固着した。
【００２３】次に、真空チャンバー中でこれらのセグメ
ント基板１１とカラーフィルタ基板１２を、シール樹脂
８１がカラーフィルタ基板１２の表示領域外周辺遮光膜
２に半分だけ重なるように貼り合わせ、真空チャンバー
から取り出した後にシール樹脂８１に紫外線９０を照射
して、図８に示すＳＴＮ液晶パネルを作成した。この時
紫外線９０の照射は２５ｍＷ／ｃｍ2（４０５ｎｍにて
測定）を５分間行い、セグメント基板１１側から照射し
たものとセグメント基板１１とカラーフィルタ基板１２
の両側から照射したものをそれぞれ作成した。
ント基板１１とカラーフィルタ基板１２を、シール樹脂
８１がカラーフィルタ基板１２の表示領域外周辺遮光膜
２に半分だけ重なるように貼り合わせ、真空チャンバー
から取り出した後にシール樹脂８１に紫外線９０を照射
して、図８に示すＳＴＮ液晶パネルを作成した。この時
紫外線９０の照射は２５ｍＷ／ｃｍ2（４０５ｎｍにて
測定）を５分間行い、セグメント基板１１側から照射し
たものとセグメント基板１１とカラーフィルタ基板１２
の両側から照射したものをそれぞれ作成した。
【００２４】これらのＳＴＮ液晶パネルに１３０℃の熱
アニールを３０時間施した後にパネルに電圧印加して液
晶の配向の安定性を観察した。観察結果を（表２−
１），（表２−２）に示す。
アニールを３０時間施した後にパネルに電圧印加して液
晶の配向の安定性を観察した。観察結果を（表２−
１），（表２−２）に示す。
【００２５】次に、これらの作成したＡ〜Ｏのパネルを
分解して、シール樹脂８１を剥がして、ＦＴＩＲ解析を
行い、シール樹脂の重合度を測定した。測定結果を（表
２−１），（表２−２）に示す。
分解して、シール樹脂８１を剥がして、ＦＴＩＲ解析を
行い、シール樹脂の重合度を測定した。測定結果を（表
２−１），（表２−２）に示す。
【００２６】
【表２−１】
【００２７】
【表２−２】
【００２８】（実施例２）実施例１で作成したＣｒパタ
ーン基板１０のうち、Ａ，Ｍ（遮光膜２がＣｒ、樹脂
共）を用いて実施例１と同様に図８のＳＴＮ液晶パネル
を作成した。この際、シール樹脂８１の硬化時の紫外線
照射時間を１，２，３，５，１０分とし、照射はセグメ
ント基板側から行った。これらのパネルに１４０℃、３
０時間の熱アニールを施して液晶配向の安定性を評価し
た後に、パネルを分解して、それぞれのシール樹脂をＦ
ＴＩＲ解析によって重合度を測定した。この結果を（表
３）に示す。
ーン基板１０のうち、Ａ，Ｍ（遮光膜２がＣｒ、樹脂
共）を用いて実施例１と同様に図８のＳＴＮ液晶パネル
を作成した。この際、シール樹脂８１の硬化時の紫外線
照射時間を１，２，３，５，１０分とし、照射はセグメ
ント基板側から行った。これらのパネルに１４０℃、３
０時間の熱アニールを施して液晶配向の安定性を評価し
た後に、パネルを分解して、それぞれのシール樹脂をＦ
ＴＩＲ解析によって重合度を測定した。この結果を（表
３）に示す。
【００２９】
【表３】
【００３０】（表２−１），（表２−２）から、金属製
模擬引出電極４３の電極幅４３１、電極間幅４３２によ
って紫外線硬化型シール樹脂８１の硬化の度合が異な
り、カラーフィルタ基板１２の遮光膜２の材質と紫外線
照射方法（どちらのガラス基板側から照射するか）によ
って異なっていることがわかる。これは、照射した紫外
線は、すべて平行光で基板面に垂直に入射している訳で
はなく、斜め光も多く含まれているために、遮光膜２や
金属製模擬電極４３によって反射されて模擬電極４３や
遮光膜２の陰となっている領域のシール樹脂８１にも照
射されるためであると考えられる。
模擬引出電極４３の電極幅４３１、電極間幅４３２によ
って紫外線硬化型シール樹脂８１の硬化の度合が異な
り、カラーフィルタ基板１２の遮光膜２の材質と紫外線
照射方法（どちらのガラス基板側から照射するか）によ
って異なっていることがわかる。これは、照射した紫外
線は、すべて平行光で基板面に垂直に入射している訳で
はなく、斜め光も多く含まれているために、遮光膜２や
金属製模擬電極４３によって反射されて模擬電極４３や
遮光膜２の陰となっている領域のシール樹脂８１にも照
射されるためであると考えられる。
【００３１】（表３）は、紫外線小照射エネルギーが一
定値（２５ｍＷ／ｃｍ2，３分）以上の場合には、紫外
線小照射エネルギーは電極幅４３１、電極間幅４３２と
シール硬化度にはほとんど影響がないことを示してい
る。
定値（２５ｍＷ／ｃｍ2，３分）以上の場合には、紫外
線小照射エネルギーは電極幅４３１、電極間幅４３２と
シール硬化度にはほとんど影響がないことを示してい
る。
【００３２】これらの結果から、金属製の引出電極を用
いた液晶パネルを紫外線照射型シール樹脂を用いて組み
立てる場合の引出電極の設計条件が（表４）のように決
定される。
いた液晶パネルを紫外線照射型シール樹脂を用いて組み
立てる場合の引出電極の設計条件が（表４）のように決
定される。
【００３３】
【表４】
【００３４】なお、本実施例では液晶配向の安定性を確
認するために、シール樹脂の硬化が不十分な場合に、そ
の影響で液晶配向が乱れやすいＳＴＮ液晶パネルを用い
たが、ＴＮモードその他の液晶パネルであっても、同様
の硬化が得られる。
認するために、シール樹脂の硬化が不十分な場合に、そ
の影響で液晶配向が乱れやすいＳＴＮ液晶パネルを用い
たが、ＴＮモードその他の液晶パネルであっても、同様
の硬化が得られる。
【００３５】これらの結果をもとに、（表４）に示す条
件通りにＴＦＴ液晶パネル（図１〜図６）を作成し、液
晶配向の安定した表示の良好なパネルであることを確認
した。なお、これらの図では簡単のためにＴＦＴアレイ
等、本発明には直接関係しない部分の図示は省略した。
件通りにＴＦＴ液晶パネル（図１〜図６）を作成し、液
晶配向の安定した表示の良好なパネルであることを確認
した。なお、これらの図では簡単のためにＴＦＴアレイ
等、本発明には直接関係しない部分の図示は省略した。
【００３６】
【発明の効果】金属製引出電極の電極幅、電極間幅に制
約を設けることによって、滴下工法を用いても、液晶配
向が安定した表示領域周辺部がコンパクトな液晶パネル
を製造することができる。
約を設けることによって、滴下工法を用いても、液晶配
向が安定した表示領域周辺部がコンパクトな液晶パネル
を製造することができる。
【図１】本発明の実施の形態における液晶パネルの主要
部分の断面図（遮光膜が金属製遮光膜で、それにシール
樹脂が半分重なり、紫外線は引出電極基板側から照射）
部分の断面図（遮光膜が金属製遮光膜で、それにシール
樹脂が半分重なり、紫外線は引出電極基板側から照射）
【図２】本発明の実施の形態における液晶パネルの主要
部分の断面図（遮光膜が金属製遮光膜で、それにシール
樹脂が半分重なり、紫外線は引出電極基板及び遮光基板
の両側から照射）
部分の断面図（遮光膜が金属製遮光膜で、それにシール
樹脂が半分重なり、紫外線は引出電極基板及び遮光基板
の両側から照射）
【図３】本発明の実施の形態における液晶パネルの主要
部分の断面図（遮光膜が金属製遮光膜で、それにシール
樹脂が全部重なり、紫外線は引出電極基板側から照射）
部分の断面図（遮光膜が金属製遮光膜で、それにシール
樹脂が全部重なり、紫外線は引出電極基板側から照射）
【図４】本発明の実施の形態における液晶パネルの主要
部分の断面図（遮光膜が樹脂製遮光膜で、それにシール
樹脂が半分重なり、紫外線は引出電極基板側から照射）
部分の断面図（遮光膜が樹脂製遮光膜で、それにシール
樹脂が半分重なり、紫外線は引出電極基板側から照射）
【図５】本発明の実施の形態における液晶パネルの主要
部分の断面図（遮光膜が樹脂製遮光膜で、それにシール
樹脂が半分重なり、紫外線は引出電極基板及び遮光基板
の両側から照射）
部分の断面図（遮光膜が樹脂製遮光膜で、それにシール
樹脂が半分重なり、紫外線は引出電極基板及び遮光基板
の両側から照射）
【図６】本発明の実施の形態における液晶パネルの主要
部分の断面図（遮光膜が樹脂製遮光膜で、それにシール
樹脂が全部重なり、紫外線は引出電極基板側から照射）
部分の断面図（遮光膜が樹脂製遮光膜で、それにシール
樹脂が全部重なり、紫外線は引出電極基板側から照射）
【図７】本発明の具体的実施例で用いた模擬電極パター
ンの主要部分の平面図
ンの主要部分の平面図
【図８】本発明の具体的実施例で作成したＳＴＮ液晶パ
ネルの主要部分の断面図
ネルの主要部分の断面図
【図９】従来技術における真空注入工法により組み立て
た液晶パネルの主要部分の断面図（シール樹脂が遮光膜
に全部重なる）
た液晶パネルの主要部分の断面図（シール樹脂が遮光膜
に全部重なる）
【図１０】従来技術における真空注入工法により組み立
てた液晶パネルの主要部分の断面図（シール樹脂が遮光
膜に半分重なる）
てた液晶パネルの主要部分の断面図（シール樹脂が遮光
膜に半分重なる）
【図１１】従来技術における真空注入工法により組み立
てた液晶パネルの主要部分の断面図（シール樹脂が遮光
膜に重ならない）
てた液晶パネルの主要部分の断面図（シール樹脂が遮光
膜に重ならない）
【図１２】従来技術における液晶滴下工法により組み立
てた液晶パネルの主要部分の断面図（シール樹脂が遮光
膜に重ならず、紫外線は遮光基板側から照射）
てた液晶パネルの主要部分の断面図（シール樹脂が遮光
膜に重ならず、紫外線は遮光基板側から照射）
１ ガラス基板 ２ 遮光膜 ５ オーバーコート ６ 配向膜 ７ 液晶材料 ８ シール樹脂 １０ Ｃｒパターン基板 １１ セグメント基板 １２ カラーフィルタ基板 １３ 引出電極基板 １４ 遮光基板 ２１ 金属製遮光膜 ２２ 樹脂製遮光膜 ３１ カラーフィルタ（赤） ３２ カラーフィルタ（緑） ３３ カラーフィルタ（青） ４１ 透明電極（ＩＴＯ） ４２ 引出電極 ４３ 模擬引出電極 ７１ スペーサ粒子 ８１ 紫外線硬化型シール樹脂 ９０ 紫外線 ９１ 紫外線遮光マスク ４３１ 電極幅 ４３２ 電極間幅
Claims (8)
- 【請求項１】 金属薄膜で形成された引出電極を有する
ガラス基板と、表示領域周辺部に金属薄膜で形成された
遮光膜を有するガラス基板のいずれか一方の基板の表示
領域周辺部に紫外線硬化型シール樹脂を塗布し、更にい
ずれか一方の基板の表示領域に所定量の液晶材料を滴下
した後、２枚の基板を重ね合わせ、金属製引出電極を有
するガラス基板側から紫外線を照射してシール樹脂を硬
化するガラス基板貼り合わせ工程を有することを特徴と
する液晶パネルの製造方法。 - 【請求項２】 紫外線硬化型シール樹脂と重なる領域の
引出電極の幅が４０μｍ以下であり、更に隣接する引出
電極との距離の２．５倍以下であることを特徴とする請
求項１記載の液晶パネルの製造方法。 - 【請求項３】 金属薄膜で形成された引出電極を有する
ガラス基板と、表示領域周辺部に金属薄膜で形成された
遮光膜を有するガラス基板のいずれか一方の基板の表示
領域周辺部に紫外線硬化型シール樹脂を塗布し、更にい
ずれか一方の基板の表示領域に所定量の液晶材料を滴下
した後、２枚の基板を貼り合わせ、２枚の基板の両側か
ら紫外線を照射してシール樹脂を硬化するガラス基板貼
り合わせ工程を有することを特徴とする液晶パネルの製
造方法。 - 【請求項４】 紫外線硬化型シール樹脂と重なる領域の
引出電極の幅が４０μｍ以下であり、更に隣接する引出
電極との距離の３．０倍以下であることを特徴とする請
求項３記載の液晶パネルの製造方法。 - 【請求項５】 金属薄膜で形成された引出電極を有する
ガラス基板と、表示領域周辺部に黒色顔料を含んだ樹脂
製の遮光膜を有するガラス基板のいずれか一方の基板の
表示領域周辺部に紫外線硬化型シール樹脂を塗布し、更
にいずれか一方の基板の表示領域に所定量の液晶材料を
滴下した後、２枚の基板を重ね合わせ、金属製引出電極
を有するガラス基板側から紫外線を照射してシール樹脂
を硬化するガラス基板貼り合わせ工程を有することを特
徴とする液晶パネルの製造方法。 - 【請求項６】 紫外線硬化型シール樹脂と重なる領域の
引出電極の幅が３０μｍ以下であり、更に隣接する引出
電極との距離の２．０倍以下であることを特徴とする請
求項５記載の液晶パネルの製造方法。 - 【請求項７】 金属薄膜で形成された引出電極を有する
ガラス基板と、表示領域周辺部に黒色顔料を含んだ樹脂
製の遮光膜を有するガラス基板のいずれか一方の基板の
表示領域周辺部に紫外線硬化型シール樹脂を塗布し、更
にいずれか一方の基板の表示領域に所定量の液晶材料を
滴下した後、２枚の基板を貼り合わせ、２枚の基板の両
側から紫外線を照射してシール樹脂を硬化するガラス基
板貼り合わせ工程を有することを特徴とする液晶パネル
の製造方法。 - 【請求項８】 紫外線硬化型シール樹脂と重なる領域の
引出電極の幅が３０μｍ以下であり、更に隣接する引出
電極との距離の２．５倍以下であることを特徴とする請
求項７記載の液晶パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10012703A JPH11212045A (ja) | 1998-01-26 | 1998-01-26 | 液晶パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10012703A JPH11212045A (ja) | 1998-01-26 | 1998-01-26 | 液晶パネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11212045A true JPH11212045A (ja) | 1999-08-06 |
Family
ID=11812777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10012703A Pending JPH11212045A (ja) | 1998-01-26 | 1998-01-26 | 液晶パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPH11212045A (ja) |
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