JPH11212491A - パターニング可能な伝導性トレースを有する単シート形ディスプレイ - Google Patents
パターニング可能な伝導性トレースを有する単シート形ディスプレイInfo
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- JPH11212491A JPH11212491A JP10307313A JP30731398A JPH11212491A JP H11212491 A JPH11212491 A JP H11212491A JP 10307313 A JP10307313 A JP 10307313A JP 30731398 A JP30731398 A JP 30731398A JP H11212491 A JPH11212491 A JP H11212491A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、低コストで製造できる大型フラッ
トパネル形ディスプレイの提供を目的とする。 【解決手段】 画像を形成するディスプレイを製造する
ため使用される本発明の構造物は、第１及び第２の表面
を有する透過型基板と、透過型基板の第１の表面に設け
られ、伝導性トレースを形成するためパターニング可能
である感光伝導性層と、感光伝導性層の上に設けられた
光変調材料を含む層と、光変調材料を含む層の上に設け
られた第２の感光伝導性層とを有する。
トパネル形ディスプレイの提供を目的とする。 【解決手段】 画像を形成するディスプレイを製造する
ため使用される本発明の構造物は、第１及び第２の表面
を有する透過型基板と、透過型基板の第１の表面に設け
られ、伝導性トレースを形成するためパターニング可能
である感光伝導性層と、感光伝導性層の上に設けられた
光変調材料を含む層と、光変調材料を含む層の上に設け
られた第２の感光伝導性層とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は映像ディスプレイに
関する。本発明は、薄い多層プレートを通過する光を制
御するため電気的に変調された信号を使用するフラット
パネル形ディスプレイに関する。本発明は、特に具体的
には、光変調材料の間に電位を与えるため二つの分離し
たトレースの組を使用する。
関する。本発明は、薄い多層プレートを通過する光を制
御するため電気的に変調された信号を使用するフラット
パネル形ディスプレイに関する。本発明は、特に具体的
には、光変調材料の間に電位を与えるため二つの分離し
たトレースの組を使用する。
【０００２】
【従来の技術】フラットパネル形ディスプレイは多数の
技術を用いて製造することができる。典型的な実施例
は、O'Maraによる“Liquid Crystal Flat Panel Displa
y ”及びその他の同様な刊行物に記載されている。これ
らのディスプレイは、基板として透過型ガラスプレート
を使用し、第１の導電性トレースの組を形成する電気的
トレースが平行線のパターン状にスパッタリングされ
る。インジウム・スズ・酸化物（ＩＴＯ）のような透過
型導体は、電荷をトレースによって邪魔されない透過型
領域全体に分散させるためトレース上にスパッタリング
される。第２の基板は、透過型導電性層を有するトレー
スの組で同様に被覆される。
技術を用いて製造することができる。典型的な実施例
は、O'Maraによる“Liquid Crystal Flat Panel Displa
y ”及びその他の同様な刊行物に記載されている。これ
らのディスプレイは、基板として透過型ガラスプレート
を使用し、第１の導電性トレースの組を形成する電気的
トレースが平行線のパターン状にスパッタリングされ
る。インジウム・スズ・酸化物（ＩＴＯ）のような透過
型導体は、電荷をトレースによって邪魔されない透過型
領域全体に分散させるためトレース上にスパッタリング
される。第２の基板は、透過型導電性層を有するトレー
スの組で同様に被覆される。
【０００３】層は基板上に塗布され、液晶をねじれネマ
ティック（ＴＮ）又は超ねじれネマティック（ＳＴＮ）
コンフィギュレーションに向けるためパターニングされ
る。二つの基板は空間的に離され、二つの基板間の隙間
は液晶材料で充填される。いずれかの組からの導体のペ
アは選択され、液晶材料の光伝達特性を変えるためエネ
ルギーが与えられる。
ティック（ＴＮ）又は超ねじれネマティック（ＳＴＮ）
コンフィギュレーションに向けるためパターニングされ
る。二つの基板は空間的に離され、二つの基板間の隙間
は液晶材料で充填される。いずれかの組からの導体のペ
アは選択され、液晶材料の光伝達特性を変えるためエネ
ルギーが与えられる。
【０００４】別の実施例では、トレースは直交格子を画
成しないが、英数字ディスプレイ又はグラフィック画像
を形成するよう構造化される。他の実施例では、透過型
基板上のアクティブディスプレイは、スパッタリング若
しくは印刷され、書き込まれた情報に依存して各ディス
プレイ素子を連続的に駆動するためメモリ素子を使用す
る。他の実施例では、SID DIGEST 90, article 12.6に
記載されているように、液晶は、液晶ポリマーマトリク
ス（ＬＣＰＣ）を形成するため重合的に分散させられ
る。ＬＣＰＣは、典型的に紫外重合アクリルポリマーに
配列される。液晶はポリマーに均質化され、エマルジョ
ンは基板上に被覆される。紫外線がエマルジョンに当て
られる。エマルジョンは硬化し、液晶材料のバブルが剛
性のある重合体マトリクスに保持される。
成しないが、英数字ディスプレイ又はグラフィック画像
を形成するよう構造化される。他の実施例では、透過型
基板上のアクティブディスプレイは、スパッタリング若
しくは印刷され、書き込まれた情報に依存して各ディス
プレイ素子を連続的に駆動するためメモリ素子を使用す
る。他の実施例では、SID DIGEST 90, article 12.6に
記載されているように、液晶は、液晶ポリマーマトリク
ス（ＬＣＰＣ）を形成するため重合的に分散させられ
る。ＬＣＰＣは、典型的に紫外重合アクリルポリマーに
配列される。液晶はポリマーに均質化され、エマルジョ
ンは基板上に被覆される。紫外線がエマルジョンに当て
られる。エマルジョンは硬化し、液晶材料のバブルが剛
性のある重合体マトリクスに保持される。
【０００５】画像ディスプレイは、カラーフィルタアレ
イがディスプレイの画素上に形成された場合、カラー画
像を出現させる。米国特許第５，４６２，８３３号の場
合、三つのカラー層が透過型基板上に形成される。この
特許の場合、透過型電極層はカラーフィルタ上に形成さ
れる。フィルタープレートは液晶層に揃えられる。フィ
ルタプレートはガラスであり、ハロゲン化銀、カラー形
成層を有する。透過型電極材料はＣＦＡを上回る温度で
スパッタリングされる。実際上、透過型電極材料が存在
するため、色素が色素層にイオン移動させられる。導電
性層を色素層から分離することができれば有利である。
イがディスプレイの画素上に形成された場合、カラー画
像を出現させる。米国特許第５，４６２，８３３号の場
合、三つのカラー層が透過型基板上に形成される。この
特許の場合、透過型電極層はカラーフィルタ上に形成さ
れる。フィルタープレートは液晶層に揃えられる。フィ
ルタプレートはガラスであり、ハロゲン化銀、カラー形
成層を有する。透過型電極材料はＣＦＡを上回る温度で
スパッタリングされる。実際上、透過型電極材料が存在
するため、色素が色素層にイオン移動させられる。導電
性層を色素層から分離することができれば有利である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来技術によれば、デ
ィスプレイを作成するため、多数のプレート上に多数の
多層分離層が必要とされる。電気的トレース及び透過型
伝導性層は、典型的に、材料を基板上に繰り返し真空沈
着させることにより形成される。この工程は、コスト高
であり、かつ、資本集約的な設備で長い処理時間を必要
とする。フラットパネル形ディスプレイのコストを低下
させることができれば有利である。また、従来の構造
は、低コスト大型フラットパネル形ディスプレイの作成
に適当ではない。低コストの大型フラットパネル形ディ
スプレイを作成することができれば有利である。
ィスプレイを作成するため、多数のプレート上に多数の
多層分離層が必要とされる。電気的トレース及び透過型
伝導性層は、典型的に、材料を基板上に繰り返し真空沈
着させることにより形成される。この工程は、コスト高
であり、かつ、資本集約的な設備で長い処理時間を必要
とする。フラットパネル形ディスプレイのコストを低下
させることができれば有利である。また、従来の構造
は、低コスト大型フラットパネル形ディスプレイの作成
に適当ではない。低コストの大型フラットパネル形ディ
スプレイを作成することができれば有利である。
【０００７】本発明の目的は、上記の問題点を解決する
ディスプレイ装置を提供することである。本発明の別の
目的は、光変調層と組み合わせて使用する伝導性トレー
スを提供することである。
ディスプレイ装置を提供することである。本発明の別の
目的は、光変調層と組み合わせて使用する伝導性トレー
スを提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記本発明の目的は、画
像を形成するディスプレイを製造するため使用される構
造物において、 ａ）第１及び第２の表面を有する透過型基板と、 ｂ）上記透過型基板の上記第１の表面に設けられ、伝導
性トレースを形成するためパターニング可能である感光
伝導性層と、 ｃ）上記感光伝導性層の上に設けられた光変調材料を含
む層と、 ｄ）上記光変調材料を含む層に設けられた第２の感光伝
導性層とを有する構造物によって実現される。
像を形成するディスプレイを製造するため使用される構
造物において、 ａ）第１及び第２の表面を有する透過型基板と、 ｂ）上記透過型基板の上記第１の表面に設けられ、伝導
性トレースを形成するためパターニング可能である感光
伝導性層と、 ｃ）上記感光伝導性層の上に設けられた光変調材料を含
む層と、 ｄ）上記光変調材料を含む層に設けられた第２の感光伝
導性層とを有する構造物によって実現される。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は本発明の構造物の断面図で
ある。ディスプレイ５は、ポリエステルプラスチックか
ら形成されるKodak Estar フィルムのような透明な透過
型材料でもよく、２０乃至２００ミクロン（μｍ）の厚
さを有する基板１２を使用する。本実施例の場合、基板
１２は８０ミクロンの厚さのポリエステルフィルムベー
スのシートである。ポリカーボネートのような他の透明
なポリマーを使用しても構わない。基板１２は、感光金
属形成層１４を支持する第１の表面１２ａを有する。
ある。ディスプレイ５は、ポリエステルプラスチックか
ら形成されるKodak Estar フィルムのような透明な透過
型材料でもよく、２０乃至２００ミクロン（μｍ）の厚
さを有する基板１２を使用する。本実施例の場合、基板
１２は８０ミクロンの厚さのポリエステルフィルムベー
スのシートである。ポリカーボネートのような他の透明
なポリマーを使用しても構わない。基板１２は、感光金
属形成層１４を支持する第１の表面１２ａを有する。
【００１０】好ましい実施例の場合、感光金属形成層１
４はハロゲン化銀粒状物のエマルジョンである。或い
は、金又は銅の塩類のような他の感光金属形成層を使用
してもよい。ハロゲン化銀エマルジョンの場合、高濃度
のゼラチン状のハロゲン化銀塩が従来の映像化エマルジ
ョンの伝導性を改良するため使用される。粒子径が０．
５乃至２ミクロンの高純度インジウム・スズ・酸化物又
は高純度銀のような伝導性添加剤が写真的に生成された
金属性の銀の伝導性を改良するためエマルジョンに添加
される。
４はハロゲン化銀粒状物のエマルジョンである。或い
は、金又は銅の塩類のような他の感光金属形成層を使用
してもよい。ハロゲン化銀エマルジョンの場合、高濃度
のゼラチン状のハロゲン化銀塩が従来の映像化エマルジ
ョンの伝導性を改良するため使用される。粒子径が０．
５乃至２ミクロンの高純度インジウム・スズ・酸化物又
は高純度銀のような伝導性添加剤が写真的に生成された
金属性の銀の伝導性を改良するためエマルジョンに添加
される。
【００１１】第１の感光層１４の上には被覆可能な光変
調層３０がある。光変調層３０は、従来の設計の液晶で
もよい。一実施例において、液晶材料はゼラチンのよう
な重合性バインダー中で均質化される。液晶ゼラチンエ
マルジョンは、光変調層３０の光変調を最適化するた
め、１乃至３０ミクロンの厚さまで被覆される。マイク
ロ−カプセル化強誘電性（ＦＬＣ）材料のような他の光
変調型電気的作動材料で被覆しても構わない。
調層３０がある。光変調層３０は、従来の設計の液晶で
もよい。一実施例において、液晶材料はゼラチンのよう
な重合性バインダー中で均質化される。液晶ゼラチンエ
マルジョンは、光変調層３０の光変調を最適化するた
め、１乃至３０ミクロンの厚さまで被覆される。マイク
ロ−カプセル化強誘電性（ＦＬＣ）材料のような他の光
変調型電気的作動材料で被覆しても構わない。
【００１２】第２の感光層２４は光変調層３０上に塗布
される。第２の感光層２４は、第１の感光層１４と性質
が類似している。第２の感光層２４は種々の光の波長に
感応する。ハロゲン化銀エマルジョンの場合、従来の感
光剤が使用される。一実施例において、第１の感光層１
４は緑色光に感応するハロゲン化銀エマルジョンであ
る。第２の感光層２４は赤又は赤外線に感応するハロゲ
ン化銀エマルジョンである。図２において、各感光層１
４及び２４は、一つ以上のマスクを通して夫々の感光す
る色の光が照射され、非伝導性領域２６及び伝導性領域
２８を形成するように現像される。
される。第２の感光層２４は、第１の感光層１４と性質
が類似している。第２の感光層２４は種々の光の波長に
感応する。ハロゲン化銀エマルジョンの場合、従来の感
光剤が使用される。一実施例において、第１の感光層１
４は緑色光に感応するハロゲン化銀エマルジョンであ
る。第２の感光層２４は赤又は赤外線に感応するハロゲ
ン化銀エマルジョンである。図２において、各感光層１
４及び２４は、一つ以上のマスクを通して夫々の感光す
る色の光が照射され、非伝導性領域２６及び伝導性領域
２８を形成するように現像される。
【００１３】基板１２の第２の表面１２ｂはカラーフィ
ルタアレイ４０を支持する。カラーフィルタアレイ４０
は、第１の感光層１４が基板１２に塗布される前に基板
１２に印刷された単層でもよい。或いは、カラーフィル
タアレイ４０は、３層のハロゲン化銀色素形成化学物質
でもよく、各層はカラーフィルタアレイ４０の別個のカ
ラーを形成する。このような多層アレイの一例は、米国
特許第５，４６２，８２２号に記載されている。この引
例に記載された発明は、カラーフィルタアレイ上に伝導
性層を高温でスパッタリングする。一方、本発明によれ
ば、伝導性層は基板１２の第１の表面１２ａ上に沈着し
た金属性トレースである。
ルタアレイ４０を支持する。カラーフィルタアレイ４０
は、第１の感光層１４が基板１２に塗布される前に基板
１２に印刷された単層でもよい。或いは、カラーフィル
タアレイ４０は、３層のハロゲン化銀色素形成化学物質
でもよく、各層はカラーフィルタアレイ４０の別個のカ
ラーを形成する。このような多層アレイの一例は、米国
特許第５，４６２，８２２号に記載されている。この引
例に記載された発明は、カラーフィルタアレイ上に伝導
性層を高温でスパッタリングする。一方、本発明によれ
ば、伝導性層は基板１２の第１の表面１２ａ上に沈着し
た金属性トレースである。
【００１４】本発明の重要な部分は、ハロゲン化銀色素
形成エマルジョンの場合に、カラーフィルタアレイ４０
がシートの第２の表面１２ｂの上に沈着されることであ
る。導電性（電気的に伝導性）トレース１６及び２８を
作成するため使用される金属現像処理は、金属性銀の保
持を必要とする。色素形成ハロゲン化銀エマルジョンの
場合に、不透明な金属性銀は、光が形成された色素を透
過できるように取り除かれるべきである。基板１２の一
方の面にカラー形成ハロゲン化銀エマルジョンを沈着さ
せ、他方の面に金属形成ハロゲン化銀エマルジョンを沈
着させることにより、層の別個の化学処理が行えるよう
になる。基板１２の第２の表面１２ｂ側にカラーフィル
タアレイ４０が形成されている場合、１個の変調された
画素からの光が別のカラーフィルタ領域を照射すること
を防止するため、形成される画素のサイズはシートの厚
さよりも十分に厚くしなければならない。基板１２の厚
さが８０ミクロンである場合、画素の寸法はシートの厚
さの５倍、即ち、４００ミクロン以上の厚さでなければ
ならない。
形成エマルジョンの場合に、カラーフィルタアレイ４０
がシートの第２の表面１２ｂの上に沈着されることであ
る。導電性（電気的に伝導性）トレース１６及び２８を
作成するため使用される金属現像処理は、金属性銀の保
持を必要とする。色素形成ハロゲン化銀エマルジョンの
場合に、不透明な金属性銀は、光が形成された色素を透
過できるように取り除かれるべきである。基板１２の一
方の面にカラー形成ハロゲン化銀エマルジョンを沈着さ
せ、他方の面に金属形成ハロゲン化銀エマルジョンを沈
着させることにより、層の別個の化学処理が行えるよう
になる。基板１２の第２の表面１２ｂ側にカラーフィル
タアレイ４０が形成されている場合、１個の変調された
画素からの光が別のカラーフィルタ領域を照射すること
を防止するため、形成される画素のサイズはシートの厚
さよりも十分に厚くしなければならない。基板１２の厚
さが８０ミクロンである場合、画素の寸法はシートの厚
さの５倍、即ち、４００ミクロン以上の厚さでなければ
ならない。
【００１５】図２には、露光、現像されたカラーフィル
タアレイ４０が示されている。赤色フィルタ層５０は、
赤色フィルタ色付き領域５２及び赤色フィルタ色無し領
域５４を作成するため露光、現像されたハロゲン化銀エ
マルジョン層である。第２の緑色フィルタ層６０は、緑
色フィルタ色付き領域６２及び緑色フィルタ色無し領域
６４を作成するため露光、現像されたハロゲン化銀エマ
ルジョン層である。青色フィルタ層７０は、青色フィル
タ色付き領域７２及び青色フィルタ色無し領域７４を作
成するため露光、現像されたハロゲン化銀エマルジョン
層である。多層カラーフィルタアレイの露光及び現像
は、層をシートの反対側に塗布する前に行ってもよい。
或いは、カラーフィルタアレイ４０は、スクリーン印刷
技術のような非感光式印刷処理を用いて第１の表面１２
ａ又は第２の表面１２ｂに単層として印刷しても良い。
感光層１４及び２８にトレースを形成する露光マスク９
０（図７を参照のこと）は、トレース１６及び１８がカ
ラーフィルタアレイ４０と整列するように、カラーフィ
ルタアレイ４０に揃えられる。
タアレイ４０が示されている。赤色フィルタ層５０は、
赤色フィルタ色付き領域５２及び赤色フィルタ色無し領
域５４を作成するため露光、現像されたハロゲン化銀エ
マルジョン層である。第２の緑色フィルタ層６０は、緑
色フィルタ色付き領域６２及び緑色フィルタ色無し領域
６４を作成するため露光、現像されたハロゲン化銀エマ
ルジョン層である。青色フィルタ層７０は、青色フィル
タ色付き領域７２及び青色フィルタ色無し領域７４を作
成するため露光、現像されたハロゲン化銀エマルジョン
層である。多層カラーフィルタアレイの露光及び現像
は、層をシートの反対側に塗布する前に行ってもよい。
或いは、カラーフィルタアレイ４０は、スクリーン印刷
技術のような非感光式印刷処理を用いて第１の表面１２
ａ又は第２の表面１２ｂに単層として印刷しても良い。
感光層１４及び２８にトレースを形成する露光マスク９
０（図７を参照のこと）は、トレース１６及び１８がカ
ラーフィルタアレイ４０と整列するように、カラーフィ
ルタアレイ４０に揃えられる。
【００１６】好ましい一実施例において、両側の全ての
層は同時に露光される。光吸収性材料７５の層は、基板
１２の一方若しくは両方の表面１２ａ及び１２ｂに被覆
される。光吸収性材料７５は、ハロゲン化銀フィルム上
にハレーション防止層を設ける従来技術で周知の方法で
調製され得る。付加層は、基板１２の両側の表面上で独
立した層の露光を可能にさせる。光吸収性材料７５は、
感光層を現像するため使用される溶液中で溶解可能であ
るため、基板はシートが処理された後、光学的に透過性
である。
層は同時に露光される。光吸収性材料７５の層は、基板
１２の一方若しくは両方の表面１２ａ及び１２ｂに被覆
される。光吸収性材料７５は、ハロゲン化銀フィルム上
にハレーション防止層を設ける従来技術で周知の方法で
調製され得る。付加層は、基板１２の両側の表面上で独
立した層の露光を可能にさせる。光吸収性材料７５は、
感光層を現像するため使用される溶液中で溶解可能であ
るため、基板はシートが処理された後、光学的に透過性
である。
【００１７】図３及び４には本発明による構造物の完成
後のシートが示されている。簡単のため、光変調材料は
透過状態に駆動され、カラーフィルタアレイは基板１２
の第２の表面１２ｂに塗布されていない場合を想定す
る。垂直方向トレース２８は第２の層２４に在り、緑色
光のラインによって形成される。光変調層３０は図面で
は透明に示されている。水平方向トレース１６は、赤色
又は赤外光のラインを使用して第１の感光層１４に形成
される。
後のシートが示されている。簡単のため、光変調材料は
透過状態に駆動され、カラーフィルタアレイは基板１２
の第２の表面１２ｂに塗布されていない場合を想定す
る。垂直方向トレース２８は第２の層２４に在り、緑色
光のラインによって形成される。光変調層３０は図面で
は透明に示されている。水平方向トレース１６は、赤色
又は赤外光のラインを使用して第１の感光層１４に形成
される。
【００１８】この好ましい実施例の場合に、ディスプレ
イ５は、ビデオ標準ＳＭＰＴＥ ２７４Ｍに準拠して画
像を表示するように設計されている。水平方向トレース
１６は、１００ミクロンの幅と、４００ミクロンのライ
ン間のギャップを有する１０８０本のトレースを含む。
１９２０本の垂直方向トレース２８は、幅が１００ミク
ロンであり、ライン間のギャップは４００ミクロンであ
る。透明なアパーチャは、５００ミクロン平方の画素内
で４００ミクロン平方である。
イ５は、ビデオ標準ＳＭＰＴＥ ２７４Ｍに準拠して画
像を表示するように設計されている。水平方向トレース
１６は、１００ミクロンの幅と、４００ミクロンのライ
ン間のギャップを有する１０８０本のトレースを含む。
１９２０本の垂直方向トレース２８は、幅が１００ミク
ロンであり、ライン間のギャップは４００ミクロンであ
る。透明なアパーチャは、５００ミクロン平方の画素内
で４００ミクロン平方である。
【００１９】図５及び６には、各画素８０内に形成する
ことができる伝導性構造物の詳細が示されている。水平
方向トレース１６及び垂直方向トレース２８は不透明で
あり、かつ、本実施例の場合、各画素を組み立てる。透
明なアパーチャ８２は、各画素の光変調領域として作用
する。水平方向トレース１６は、透明なアパーチャ８２
の全域に垂直方向フィラメント格子８４を有する。垂直
方向フィラメント格子８４は、相互に直交し、かつ、４
５°の角度で傾けられ、５ミクロンの幅及び１５ミクロ
ンのピッチ間隔を備えた２組のフィラメントにより構成
してもよい。水平方向フィラメント格子８６は、垂直方
向フィラメント８４と構造的に類似し、各垂直方向トレ
ース２８から水平方向に延びる。透明なアパーチャ８２
全域に亘るフィラメント格子８４及び８６の交差は、ト
レース１６及び２８から電荷を透明なアパーチャ８２の
全域に拡げる。換言すれば、垂直及び水平方向の第１及
び第２の伝導性トレースは、それらの間に電位が与えら
れたとき、表示される画像を生成するため垂直方向トレ
ース２８、光変調層３０、水平方向トレース１６及びカ
ラーフィルタアレイ４０を通過する光を選択的に伝達す
るため、光変調材料層３０上に作用する電界が生成され
るように整列される。
ことができる伝導性構造物の詳細が示されている。水平
方向トレース１６及び垂直方向トレース２８は不透明で
あり、かつ、本実施例の場合、各画素を組み立てる。透
明なアパーチャ８２は、各画素の光変調領域として作用
する。水平方向トレース１６は、透明なアパーチャ８２
の全域に垂直方向フィラメント格子８４を有する。垂直
方向フィラメント格子８４は、相互に直交し、かつ、４
５°の角度で傾けられ、５ミクロンの幅及び１５ミクロ
ンのピッチ間隔を備えた２組のフィラメントにより構成
してもよい。水平方向フィラメント格子８６は、垂直方
向フィラメント８４と構造的に類似し、各垂直方向トレ
ース２８から水平方向に延びる。透明なアパーチャ８２
全域に亘るフィラメント格子８４及び８６の交差は、ト
レース１６及び２８から電荷を透明なアパーチャ８２の
全域に拡げる。換言すれば、垂直及び水平方向の第１及
び第２の伝導性トレースは、それらの間に電位が与えら
れたとき、表示される画像を生成するため垂直方向トレ
ース２８、光変調層３０、水平方向トレース１６及びカ
ラーフィルタアレイ４０を通過する光を選択的に伝達す
るため、光変調材料層３０上に作用する電界が生成され
るように整列される。
【００２０】他の一実施例において、画素８０は、図３
に示される如く、トレースの交点の周りの４象限として
画成される。フィラメント格子８４及び８６は、４個の
各象限の中に配置される。この他の一実施例の構造物の
場合、電界が透明なアパーチャ８２の中間点の前までし
か延びない利点が得られる。このため、フィラメント格
子８４及び８６が電荷を拡散させる距離を短縮すること
により、格子８４及び８６に亘る電界損失が減少する。
に示される如く、トレースの交点の周りの４象限として
画成される。フィラメント格子８４及び８６は、４個の
各象限の中に配置される。この他の一実施例の構造物の
場合、電界が透明なアパーチャ８２の中間点の前までし
か延びない利点が得られる。このため、フィラメント格
子８４及び８６が電荷を拡散させる距離を短縮すること
により、格子８４及び８６に亘る電界損失が減少する。
【００２１】フィラメント８４と８６の間の領域は、フ
ィラメント間の透明な領域に沈着される金属性銀を制限
するレベルの放射線が照射される。或いは、フィラメン
ト間の開口全域に電界を拡散させるため、０．５乃至２
ミクロンの粒子径を有する高純度インジウム・スズ・酸
化物のような非感光、導電性、かつ、光学的透過型材料
を層１４及び２４に組み込んでも良い。他の実施例にお
いて、インジウム・スズ・酸化物は、感光層１４及び２
４が塗布される前に、基板１２の第１の表面１２ａにス
パッタ被覆される。予めスパッタリングが行われる実施
例の場合、ＩＴＯ（インジウム・スズ・酸化物）材料
は、水平方向トレース１６の近傍で基板１２に電荷を拡
散するため作用する。これにより、第１の感光層１４内
で透明なアパーチャ８２を通過する光透過特性の改善が
得られる。各画素に照射する一部の光は、トレース１６
及び２８と、フィラメント格子８４及び８６の不透明性
によって阻止され、残りの光が処理済みの第１の感光層
１４と処理済みの第２の感光層２４の間の電界によって
制御される。
ィラメント間の透明な領域に沈着される金属性銀を制限
するレベルの放射線が照射される。或いは、フィラメン
ト間の開口全域に電界を拡散させるため、０．５乃至２
ミクロンの粒子径を有する高純度インジウム・スズ・酸
化物のような非感光、導電性、かつ、光学的透過型材料
を層１４及び２４に組み込んでも良い。他の実施例にお
いて、インジウム・スズ・酸化物は、感光層１４及び２
４が塗布される前に、基板１２の第１の表面１２ａにス
パッタ被覆される。予めスパッタリングが行われる実施
例の場合、ＩＴＯ（インジウム・スズ・酸化物）材料
は、水平方向トレース１６の近傍で基板１２に電荷を拡
散するため作用する。これにより、第１の感光層１４内
で透明なアパーチャ８２を通過する光透過特性の改善が
得られる。各画素に照射する一部の光は、トレース１６
及び２８と、フィラメント格子８４及び８６の不透明性
によって阻止され、残りの光が処理済みの第１の感光層
１４と処理済みの第２の感光層２４の間の電界によって
制御される。
【００２２】図７には、伝導性トレースが、米国特許第
３，０３３，７６５号及び米国特許第３，４６４，８２
２号に記載された方法の変形に従って感光層１４及び２
４に形成される様子が概略的に示されている。本実施例
の場合、露光されていないハロゲン化銀９２は感光材料
である。同図において、一例として単層が示されてい
る。図７の（ａ）では、光マスク９０が、ハロゲン化銀
９４を照射、露光する光源を選択的に遮断し、露光され
ていないハロゲン化銀９２を不活性状態のまま残す。別
個のマスク及び別個のカラー照明を用いる多重露光が、
各金属形成層内にトレースを現像するため使用され得
る。或いは、感光層１４及び２４にトレースを形成する
ため複合多着色マスクを有する単独のマスクを使用して
もよい。図７の（ｂ）において、ディスプレイ５は露光
ハロゲン化銀９４を金属性銀９６に変換するため写真的
に現像される。同図の（ｃ）において、従来の写真定着
ステップは、露光されていないハロゲン化銀９２を除去
する。同図の（ｄ）において、金属性銀９６は、ハロゲ
ン化銀９８を形成するため漂白によって再ハロゲン化さ
れる。同図の（ｅ）において、再ハロゲン化銀９８は、
再現像された銀１００を形成するため再現像される。現
像器内の金属塩は、伝導性を改良するため付加的な金属
１０２を沈着する。他の処理の場合、ゼラチン状の銀金
属粒子は、把ラジウム金属を銀粒状物状に沈着するため
第１のメッキ浴に浸される。最終的な銅塩のメッキ浴
は、トレースの伝導性を改良するため付加的な導体を加
える。
３，０３３，７６５号及び米国特許第３，４６４，８２
２号に記載された方法の変形に従って感光層１４及び２
４に形成される様子が概略的に示されている。本実施例
の場合、露光されていないハロゲン化銀９２は感光材料
である。同図において、一例として単層が示されてい
る。図７の（ａ）では、光マスク９０が、ハロゲン化銀
９４を照射、露光する光源を選択的に遮断し、露光され
ていないハロゲン化銀９２を不活性状態のまま残す。別
個のマスク及び別個のカラー照明を用いる多重露光が、
各金属形成層内にトレースを現像するため使用され得
る。或いは、感光層１４及び２４にトレースを形成する
ため複合多着色マスクを有する単独のマスクを使用して
もよい。図７の（ｂ）において、ディスプレイ５は露光
ハロゲン化銀９４を金属性銀９６に変換するため写真的
に現像される。同図の（ｃ）において、従来の写真定着
ステップは、露光されていないハロゲン化銀９２を除去
する。同図の（ｄ）において、金属性銀９６は、ハロゲ
ン化銀９８を形成するため漂白によって再ハロゲン化さ
れる。同図の（ｅ）において、再ハロゲン化銀９８は、
再現像された銀１００を形成するため再現像される。現
像器内の金属塩は、伝導性を改良するため付加的な金属
１０２を沈着する。他の処理の場合、ゼラチン状の銀金
属粒子は、把ラジウム金属を銀粒状物状に沈着するため
第１のメッキ浴に浸される。最終的な銅塩のメッキ浴
は、トレースの伝導性を改良するため付加的な導体を加
える。
【００２３】ディスプレイ５への電気接続は図８の
（ａ）及び（ｂ）に示されている。水平方向トレース１
６及び垂直方向トレース２８は、伝導性パッド１１４の
千鳥形パターンで終端する。貫通先端点１１２を有する
ピン１１０は、剛性のある非伝導性基板上に配置され
る。ピンはディスプレイ５に押しつけられ、貫通先端点
１１２はトレース１６及び２８の端でパッド１４を通さ
れる。貫通動作によって、ディスプレイのトレース１６
及び１８に電気的内部接続性が与えられる。
（ａ）及び（ｂ）に示されている。水平方向トレース１
６及び垂直方向トレース２８は、伝導性パッド１１４の
千鳥形パターンで終端する。貫通先端点１１２を有する
ピン１１０は、剛性のある非伝導性基板上に配置され
る。ピンはディスプレイ５に押しつけられ、貫通先端点
１１２はトレース１６及び２８の端でパッド１４を通さ
れる。貫通動作によって、ディスプレイのトレース１６
及び１８に電気的内部接続性が与えられる。
【００２４】上記の通り、本発明の幾つかの好ましい実
施例に関して本発明を詳細に説明したが、本発明の精神
及び範囲を逸脱することなく変更及び変形をなし得るこ
とが認められる。
施例に関して本発明を詳細に説明したが、本発明の精神
及び範囲を逸脱することなく変更及び変形をなし得るこ
とが認められる。
【００２５】
【発明の効果】本発明の構造物によれば、低コスト、低
温の層及び処理を使用してディスプレイが製造できる利
点が得られる。このディスプレイは、低コストの写真層
技術を利用する。写真層技術は、光変調層とパターニン
グされた伝導性トレースとを利用する。感光材料を種々
のパターンに露光することによって、大量のシート材料
が被覆され、種々のタイプのディスプレイに形成され得
る。
温の層及び処理を使用してディスプレイが製造できる利
点が得られる。このディスプレイは、低コストの写真層
技術を利用する。写真層技術は、光変調層とパターニン
グされた伝導性トレースとを利用する。感光材料を種々
のパターンに露光することによって、大量のシート材料
が被覆され、種々のタイプのディスプレイに形成され得
る。
【図１】本発明の構造物に含まれるシートの処理前の断
面図である。
面図である。
【図２】本発明の構造物に含まれるシートの処理後の断
面図である。
面図である。
【図３】完成した構造物の平面図である。
【図４】本発明の構造物の他の実施例を示す断面図であ
る。
る。
【図５】本発明の構造物の部分平面図である。
【図６】図５の断面図である。
【図７】（ａ）乃至（ｅ）は、本発明にしたがって伝導
性トレースを形成する種々のステップを示す図である。
性トレースを形成する種々のステップを示す図である。
【図８】（ａ）は伝導性トレースの終端を示す平面図で
あり、（ｂ）は（ａ）のライン８−８による断面図であ
る。
あり、（ｂ）は（ａ）のライン８−８による断面図であ
る。
５ ディスプレイ １２ 基板 １２ａ 第１の表面 １２ｂ 第２の表面 １４ 第１の感光金属形成層 ２４ 第２の感光層 ３０ 光変調層 ４０ カラーフィルタアレイ
Claims (3)
- 【請求項１】 画像を形成するディスプレイを製造する
ため使用される構造物において、 ａ）第１及び第２の表面を有する透過型基板と、 ｂ）上記透過型基板の上記第１の表面に設けられ、伝導
性トレースを形成するためパターニング可能である感光
伝導性層と、 ｃ）上記感光伝導性層の上に設けられた光変調材料を含
む層と、 ｄ）上記光変調材料を含む層の上に設けられた第２の感
光伝導性層とを有する構造物。 - 【請求項２】 画像を形成するディスプレイにおいて、 ａ）第１及び第２の表面を有する透過型基板と、 ｂ）パターニングされた感光材料から形成され、上記透
過型基板の上記第１の表面の上に設けられた感光伝導性
の第１の伝導性トレースの組と、 ｃ）上記感光伝導性の層の上に設けられた光変調材料を
含む層と、 ｄ）パターニングされた感光材料から形成され、上記光
変調材料を含む層の上に設けられた第２の伝導性トレー
スの組とを有し、 ｅ）上記第１の伝導性トレースの組及び上記第２の伝導
性トレースの組は、それらの間に電位が与えられたと
き、表示される画像を生成すべく上記光変調材料を含む
層を介して上記透過型基板を通過する光を選択的に伝達
するため、上記光変調材料を含む層に作用する電界が生
成されるように整列されることを特徴とするディスプレ
イ。 - 【請求項３】 画像を形成するディスプレイにおいて、 ａ）第１及び第２の表面を有する透過型基板と、 ｂ）パターニングされた感光材料から形成され、上記透
過型基板の上記第１の表面の上に設けられた感光伝導性
の第１の伝導性トレースの組と、 ｃ）上記感光伝導性の層の上に設けられた光変調材料を
含む層と、 ｄ）パターニングされた感光材料から形成され、上記光
変調材料を含む層の上に設けられた第２の伝導性トレー
スの組とを有し、 ｅ）上記第１の伝導性トレースの組及び上記第２の伝導
性トレースの組は、それらの間に電位が与えられたと
き、表示される画像を生成すべく上記光変調材料を含む
層を介して上記透過型基板を通過する光を選択的に伝達
するため、上記光変調材料を含む層に作用する電界が生
成されるように整列されていることを特徴とするシート
を含むディスプレイ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US961056 | 1997-10-30 | ||
| US08/961,056 US5990994A (en) | 1997-10-30 | 1997-10-30 | First and second light sensitive conductive layers for use in image displays |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11212491A true JPH11212491A (ja) | 1999-08-06 |
Family
ID=25504003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10307313A Withdrawn JPH11212491A (ja) | 1997-10-30 | 1998-10-28 | パターニング可能な伝導性トレースを有する単シート形ディスプレイ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5990994A (ja) |
| EP (1) | EP0913724A3 (ja) |
| JP (1) | JPH11212491A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5858581A (en) * | 1997-12-15 | 1999-01-12 | Eastman Kodak Company | Method of producing a display having a patternable conductive traces |
| US6043856A (en) * | 1997-12-18 | 2000-03-28 | Eastman Kodak Company | Liquid crystal dispersion display using opaque conductive layers including developed silver |
| US6215540B1 (en) * | 1998-08-10 | 2001-04-10 | Eastman Kodak Company | Light modulating layer with different transmissive states with conductive pixel areas formed from a photosensitive layer |
| US6556734B1 (en) | 1999-04-19 | 2003-04-29 | Gemfire Corporation | Electrical connection scheme for optical devices |
| TWI299419B (en) | 2000-05-31 | 2008-08-01 | Nitto Denko Corp | Liquid crystal cell substrate and liquid crystal displays |
| JP3719939B2 (ja) * | 2000-06-02 | 2005-11-24 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板およびその製造方法ならびに表示装置および撮像装置 |
| US6944032B1 (en) | 2001-04-12 | 2005-09-13 | Rockwell Collins | Interconnect for flat panel displays |
| JP3847590B2 (ja) * | 2001-08-30 | 2006-11-22 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
| US6950157B2 (en) * | 2003-06-05 | 2005-09-27 | Eastman Kodak Company | Reflective cholesteric liquid crystal display with complementary light-absorbing layer |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3033765A (en) * | 1958-06-06 | 1962-05-08 | Eastman Kodak Co | Photographic production of electrically conducting silver images |
| US3464822A (en) * | 1965-09-13 | 1969-09-02 | Du Pont | Process for making electrically conductive images |
| BE794188A (nl) * | 1972-01-26 | 1973-07-18 | Agfa Gevaert Nv | Verbeterde fotografische zilverhalogenide-emulsies |
| JPS6043633A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-08 | Citizen Watch Co Ltd | 液晶カラ−表示パネル |
| US4772885A (en) * | 1984-11-22 | 1988-09-20 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid crystal color display device |
| JPH01181577A (ja) * | 1988-01-12 | 1989-07-19 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 光半導体素子 |
| US5245452A (en) * | 1988-06-24 | 1993-09-14 | Matsushita Electronics Corporation | Active matric drive liquid crystal display device using polycrystalline silicon pixel electrodes |
| KR960002202B1 (ko) * | 1991-02-04 | 1996-02-13 | 가부시끼가이샤 한도다이 에네르기 겐뀨쇼 | 액정 전기 광학 장치 제작 방법 |
| US5705424A (en) * | 1992-09-11 | 1998-01-06 | Kopin Corporation | Process of fabricating active matrix pixel electrodes |
| DE69303003T2 (de) * | 1993-03-11 | 1997-01-23 | Agfa Gevaert Nv | Mehrfarben-Flüssigkristallanzeige und deren Herstellung |
| DE69324000T2 (de) * | 1993-04-05 | 1999-10-14 | Agfa-Gevaert N.V. | Lithographischer Träger und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform |
| US5471330A (en) * | 1993-07-29 | 1995-11-28 | Honeywell Inc. | Polysilicon pixel electrode |
| JP3515602B2 (ja) * | 1994-01-27 | 2004-04-05 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料及びカラー画像形成方法 |
| JP3239723B2 (ja) * | 1994-11-17 | 2001-12-17 | 東レ株式会社 | 感光性導電ペーストおよび電極の製造方法 |
| JP3920958B2 (ja) * | 1995-12-28 | 2007-05-30 | 大日本印刷株式会社 | 着色透明導電膜の形成方法及び表示装置 |
| US6013983A (en) * | 1995-12-28 | 2000-01-11 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transparent colored conductive film |
| KR100304402B1 (ko) * | 1996-11-12 | 2002-03-08 | 포만 제프리 엘 | 전기전도성중합체의패턴및그의전극또는전기접점으로서의용도 |
| US5858581A (en) * | 1997-12-15 | 1999-01-12 | Eastman Kodak Company | Method of producing a display having a patternable conductive traces |
| US5912716A (en) * | 1998-02-20 | 1999-06-15 | Eastman Kodak Company | Selectively presenting viewable and conductive images |
-
1997
- 1997-10-30 US US08/961,056 patent/US5990994A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-10-19 EP EP98203508A patent/EP0913724A3/en not_active Withdrawn
- 1998-10-28 JP JP10307313A patent/JPH11212491A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0913724A3 (en) | 2000-07-19 |
| US5990994A (en) | 1999-11-23 |
| EP0913724A2 (en) | 1999-05-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051021 |
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| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20051109 |