JPH11217558A - 防汚剤及び防汚層の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学部材等の被処理基材の表面に、指紋、皮
脂、汗、化粧品等の汚れの付着を防止し、また付着した
汚れが容易に拭き取れるようにし、さらにこのような防
汚性の耐久性が向上した防汚層を得る。 【解決手段】 防汚剤が、式（１） 【化１】 [Ｒ^1f-(ＣＨ₂)_l]_n-(ＳｉＡ_4-n)_m （１） （但し、Ｒ^1fはフッ素を有する置換基、Ａは加水分解
基、置換数ｎは０＜ｎ＜４、ｌは０〜３の整数、ｍは１
〜１０の整数である）で示される有機シラン化合物と、
式（２） 【化２】 Ｒ^2f-ＯＨ （２） （但し、Ｒ^2fはフッ素を有する置換基である）で示され
る水酸基を有するフッ素系化合物とを含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、防汚性を必要とす
る各種被処理基材の表面に防汚層を形成するために使用
する防汚剤、この防汚剤を用いて防汚層を形成する方法
及びそれにより得られる防汚層に関する。特に、光学部
材（反射防止膜、光学フィルター、光学レンズ、液晶デ
ィスプレー、ＣＲＴディスプレー、プロジェクションテ
レビ、プラズマディスプレー、ＥＬディスプレー等）の
表面に、各種光学部材の光学性能を損なわせることなく
防汚層を形成することを可能とする防汚剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止膜、光学フィルター、光学レン
ズ、液晶ディスプレー、ＣＲＴディスプレー、プロジェ
クションテレビ、プラズマディスプレー、ＥＬディスプ
レー等の光学部材には、人が使用することによって、指
紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れが付着する場合が多い。
そのような汚れは、一度付着すると除去することは容易
ではなく、特に、反射防止膜付き光学部材では、付着し
た汚れが目立つために問題となる。

【０００３】そこで、これら汚れの問題を解決する手段
として、汚れが付着しにくく、付着しても拭き取りやす
い性能を持つ防汚層を光学部材の表面に形成する技術が
種々提案されている。

【０００４】例えば、特開昭６４−８６１０１号公報に
は、基材の表面に、主として二酸化ケイ素からなる反射
防止膜を設け、更にその表面に有機ケイ素置換基を含む
化合物で処理した防汚性、耐擦傷性の反射防止物品が提
案されている。特開平４−３３８９０１号公報には、同
様に基材表面に末端シラノール有機ポリシロキサンを被
覆した防汚性、耐擦傷性のＣＲＴフィルターが提案され
ている。また、特公平６−２９３３２号公報には、プラ
スチック表面にポリフルオロアルキル基を含むモノ及び
ジシラン化合物及び、ハロゲン、アルキルまたはアルコ
キシのシラン化合物とからなる反射防止膜を有する防汚
性・低反射性プラスチックが提案されている。更に、特
開平７−１６９４０号公報には、パーフルオロアルキル
（メタ）アクリレートとアルコキシシラン基を有する単
量体との共重合体を二酸化ケイ素を主とする光学薄膜上
に形成した光学部材が提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
防汚層の形成技術においては、防汚性が不十分であり、
特に、指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れが拭き取りにく
く、また、使用とともに防汚性能が大きく低下する。こ
のため、防汚性と耐久性に優れた防汚層の開発が望まれ
ている。

【０００６】本発明は以上のような従来技術の課題を解
決しようとするものであり、種々の被処理基材、特に、
反射防止膜等の光学部材の表面に、指紋、皮脂、汗、化
粧品等の汚れが付着することを防止し、また付着しても
容易に拭き取れるようにする優れた防汚性の防汚層を、
高い耐久性で形成できるようにすることを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成するため、式（１）

【０００８】

【化４】 [Ｒ^1f-(ＣＨ₂)_l]_n-(ＳｉＡ_4-n)_m （１） （但し、Ｒ^1fはフッ素を有する置換基、Ａは加水分解
基、置換数ｎは０＜ｎ＜４、ｌは０〜３の整数、ｍは１
〜１０の整数である）で示される有機シラン化合物と、
式（２）

【０００９】

【化５】 Ｒ^2f-ＯＨ （２） （但し、Ｒ^2fはフッ素を有する置換基である）で示され
る水酸基を有するフッ素系化合物とからなることを特徴
とする防汚剤を提供する。

【００１０】特に、この本発明の防汚剤において、式
（１）の有機シラン化合物が、オルガノシラザン化合物
である態様や、式（２）の水酸基を有するフッ素系化合
物が、式（３）

【００１１】

【化６】 Ｒ^f-(ＯＣ₃Ｆ₆)_n-Ｏ-(ＣＦ₂)_m-(ＣＨ₂)_l-ＯＨ （３） （但し、Ｒ^f は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状の
パーフルオロアルキル基、ｎは１〜５０の整数、ｍは０
〜３の整数、ｌは０〜３の整数、但し、６≧ｍ＋ｌ＞０
である）で示される化合物である態様を提供する。

【００１２】また、本発明の防汚剤を用いて被処理基材
上に防汚層を形成する方法として、本発明の防汚剤をド
ライコーティング法により被処理基材の少なくとも片面
に成膜することを特徴とする防汚層の形成方法を提供
し、そのようにして形成された防汚層を提供する。

【００１３】本発明の防汚剤は、特定の式で示される有
機シラン化合物（好ましくは、特定の式のオルガノシラ
ザン化合物）とフッ素系化合物とを含有しているため、
この防汚剤を用いて被処理基材に防汚層を形成すると、
その被処理基材が各種光学部材（反射防止膜、光学フィ
ルター、光学レンズ、液晶ディスプレー、ＣＲＴディス
プレー、プロジェクションテレビ、プラズマディスプレ
ー、ＥＬディスプレー等）であった場合に、それらの光
学性能を損なわせることなく、指紋、皮脂、汗、化粧品
等の汚れの付着を防止でき、また、付着した汚れを容易
に拭き取ることが可能となり、防汚層の耐久性も優れた
ものとなる。特に、有機シラン化合物として、加水分解
基がアミノ基であるオルガノシラザラン化合物を使用す
ると、防汚層と被処理基材との密着性が高くなるので、
これにより得られる防汚層は、いっそう防汚性及び耐久
性に優れたものとなる。

【００１４】さらに、本発明の防汚層の形成方法にした
がい、防汚層を、ドライコーティング法により形成する
と、ウェットコーティング法で形成する場合と比較し
て、防汚層の形成時に防汚剤の希釈溶剤が不要となるの
で、防汚層形成作業上の安全性が高まり、また、防汚層
の膜厚を正確に制御することも可能となる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１６】本発明の防汚剤は、式（１）

【００１７】

【化７】 [Ｒ^1f-(ＣＨ₂)_l]_n-(ＳｉＡ_4-n)_m （１） （但し、Ｒ^1fはフッ素を有する置換基、Ａは加水分解
基、置換数ｎは０＜ｎ＜４、ｌは０〜３の整数、ｍは１
〜１０の整数である）で示される有機シラン化合物と、
式（２）

【００１８】

【化８】 Ｒ^2f-ＯＨ （２） （但し、Ｒ^2fはフッ素を有する置換基である）で示され
る水酸基を有するフッ素系化合物とを含有する。

【００１９】ここで、式（１）の有機シラン化合物につ
いて、フッ素を有する置換基Ｒ^1fとしては、例えば、Ｃ
１〜Ｃ１６の直鎖又は分岐のパーフルオロアルキル基等
をあげることができる。

【００２０】また、式（１）の有機シラン化合物におい
て、加水分解基Ａは、被処理基材表面の水酸基と結合す
る反応基であり、これにより被処理基材に防汚層が形成
されると考えられる。従って、この加水分解基Ａの反応
性が高いほど、得られる防汚層と被処理基材との密着性
が高まると考えられる。そこで、加水分解基Ａとして
は、水酸基に対する反応性を有するものとして、アルコ
キシド基（-ＯＣＨ₃、-ＯＣ₂Ｈ₅、-ＯＣ₃Ｈ₇等）、ハロ
ゲン元素（-Ｃｌ、-Ｂｒ等）、アミノ基（-ＮＨ₂等）が
例示される。このうち、アルコキシド基は一部が加水分
解せずに、残存することが知られている。従って、加水
分解基Ａとしては、特に反応性の高いアミノ基が好まし
い。

【００２１】加水分解基Ａがアミノ基である式（１）の
有機シラン化合物、即ち、オルガノシラザン化合物とし
て、より具体的には、ｎ-ＣＦ₃(ＣＨ₂)₂Ｓｉ(Ｎ
Ｈ)_3/2 、ｎ-Ｃ₃Ｆ₇(ＣＨ₂)₂Ｓｉ(ＮＨ)_3/2 、ｎ-Ｃ₄Ｆ
₉(ＣＨ₂)₂Ｓｉ(ＮＨ)_3/2 、ｎ-Ｃ₆Ｆ₁₃(ＣＨ₂)₂Ｓｉ(Ｎ
Ｈ)_3/2 、ｎ-Ｃ₈Ｆ₁₇(ＣＨ₂)₂Ｓｉ(ＮＨ)_3/2 等が例示
される。特にｎ-Ｃ₈Ｆ₁₇(ＣＨ₂)₂Ｓｉ(ＮＨ)_3/2 が好ま
しい。

【００２２】式（１）の有機シラン化合物における置換
数ｎは、０＜ｎ＜４とすることが好ましい。

【００２３】一方、式（２）で示されるフッ素系化合物
としては、ｎ-ＣＦ₃(ＣＨ₂)₂ＯＨ、ｎ-Ｃ₃Ｆ₇(ＣＨ₂)₂
ＯＨ、ｎ-Ｃ₄Ｆ₉(ＣＨ₂)₂ＯＨ、ｎ-Ｃ₆Ｆ₁₃(ＣＨ₂)₂Ｏ
Ｈ、ｎ-Ｃ₈Ｆ₁₇(ＣＨ₂)₂ＯＨ等が例示される。

【００２４】また、式（２）で示されるフッ素系化合物
としては、式（３）

【００２５】

【化９】 Ｒ^f-(ＯＣ₃Ｆ₆)_n-Ｏ-(ＣＦ₂)_m-(ＣＨ₂)₁-ＯＨ （３） （但し、Ｒ^f は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状の
パーフルオロアルキル基、ｎは１〜５０の整数、ｍは０
〜３の整数、ｌは０〜３の整数、但し、６≧ｍ＋ｌ＞０
である）で示される化合物が好ましく、特に、Ｒ^f が-
ＣＦ₃、-Ｃ₂Ｆ₅、-Ｃ₃Ｆ₇であるフッ素系化合物が好ま
しい。

【００２６】本発明の防汚剤は、上述の式（１）の有機
シラン化合物及び式（２）のフッ素系化合物の他、必要
に応じて種々の添加剤を含有することができる。例え
ば、式（１）の有機シラン化合物の加水分解、重縮合を
促進させる触媒を含有させることができる。

【００２７】このような触媒としては、塩酸、硝酸、硫
酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、シュウ酸、アンモニ
ア、アルミニウムアセチルアセトナート、ジブチルスズ
ジラウレート、オクチル酸スズ化合物、メタンスルホン
酸、トリフロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホ
ン酸、トリフロロ酢酸等が例示できる。これらは、単独
にあるいは２種類以上併せて用いてもよい。

【００２８】本発明の防汚剤が、防汚層の形成対象とす
る被処理基材には特に制限はなく、例えば、ガラス板、
または無機化合物層を含有したガラス板等の無機基材
や、透明プラスチック基材、または無機化合物層を含有
した透明プラスチック基材等の有機基材からなる通常の
光学部材をあげることができる。

【００２９】このうち、無機基材としては、主にガラス
板をあげることができる。無機化合物層を含有したガラ
ス板を形成する当該無機化合物としては、金属酸化物
〔酸化ケイ素（二酸化ケイ素、一酸化ケイ素等）、酸化
アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化ス
ズ、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化アンチモ
ン、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウ
ム、酸化セリウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ（Indium Tin Oxi
de）等〕、金属ハロゲン化物（フッ化マグネシウム、フ
ッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化ランタン、
フッ化セリウム、フッ化リチウム、フッ化トリウム等）
をあげることができる。

【００３０】これら無機化合物からなる無機基材あるい
は無機化合物層は、単層あるいは多層構成とすることが
でき、これらはウェットコーティング法（ディップコー
ティング法、スピンコーティング法、フローコーティン
グ法、スプレーコーティング法、ロールコーティング
法、グラビアコーティング法等）、ＰＶＤ（Physical V
apor Deposition）法（真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法）、ＣＶＤ（Chemical Vap
or Deposition）法等の公知の方法により形成される。

【００３１】また、被処理基材となる有機基材のうち、
透明プラスチック基材としては、種々の有機高分子から
なる基材をあげることができる。通常、光学部材として
使用される基材は、透明性、屈折率、分散性などの光学
特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性
の点から、ポリオレフィン系（ポリエチレン、ポリプロ
ピレン等）、ポリエステル系（ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリアミド系
（ナイロン−６、ナイロン−６６等）、ポリスチレン、
ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、
エチレンビニルアルコール、アクリル、セルロース系
（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セ
ロファン等）、あるいはこれらの有機高分子の共重合体
などからなっているが、本発明が被処理基材とする透明
プラスチック基材としてもこれらの基材をあげることが
できる。

【００３２】これらの有機基材を構成する有機高分子
に、公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、
可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を含有さ
せたものも使用することができる。

【００３３】また、被処理基材とする無機基材あるいは
有機基材の形状は、特に限定されるものではないが、通
常、光学部材として使用される透明プラスチック基材は
フィルム状またはシート状をなしており、本発明の防汚
剤もこれらフィルム状又はシート状のものを被処理基材
とすることができる。このフィルム状またはシート状の
基材としては、単層あるいは複数の有機高分子を積層し
たものでもよい。また、その厚みは、特に限定されるも
のではないが、０．０１〜５ｍｍが好ましい。

【００３４】また、上述のような有機基材上に無機化合
物層を形成した被処理基材の当該無機化合物層として
は、前述の無機基材を構成する無機化合物層と同様の無
機化合物を用いて同様の手法により形成することができ
る。

【００３５】本発明が被処理基材とする光学部材として
は、透明プラスチック基材と無機化合物層との間にハー
ドコート層を有するものでもよい。このハードコート層
を設けることにより、基材表面の硬度が向上すると共
に、基材表面が平滑になり、透明プラスチック基材と無
機化合物層との密着が向上するので、鉛筆等の荷重のか
かる引っ掻きによる傷を防止でき、また、透明プラスチ
ック基材の屈曲により無機化合物層にクラックが発生す
ることを抑制でき、光学部材の機械的強度を改善でき
る。

【００３６】ハードコート層は透明性と適度な硬度と機
械的強度があれば、特に限定されるものではない。例え
ば、電離放射線や紫外線の照射による硬化樹脂や熱硬化
性の樹脂が使用でき、特に紫外線照射硬化型アクリル系
樹脂、有機ケイ素系樹脂、熱硬化型ポリシロキサン樹脂
が好ましい。これらの樹脂は透明プラスチック基材と屈
折率が同等もしくは近似していることがより好ましい。

【００３７】ハードコート層の膜厚は３μｍ以上あれば
十分な強度となるが、透明性、塗工精度、取り扱い性の
点から５〜７μｍの範囲が好ましい。

【００３８】また、ハードコート層に平均粒子径０．０
１〜３μｍの無機あるいは有機物粒子を混合分散させ
か、または、表面形状を凹凸にすることで一般的にアン
チグレアと呼ばれる光拡散性処理を施すことができる。
これらの微粒子は透明であれば特に限定されるものでは
ないが、低屈折率材料が好ましく、酸化ケイ素、フッ化
マグネシウムが安定性、耐熱性等で好ましい。

【００３９】このようなハードコート層の塗布方法は均
一に塗布されるのであれば、いかなる方法でも構わな
い。

【００４０】本発明の防汚剤が被処理基材とする光学部
材の具体的用途としては、例えば、反射防止膜、光学フ
ィルター、光学レンズ、液晶ディスプレー、ＣＲＴディ
スプレー、プロジェクションテレビ、プラズマディスプ
レー、ＥＬディスプレー等をあげることができる、これ
らは公知の方法により製造されたものとすることがで
き、例えば、反射防止膜は、透明プラスチック基材の少
なくとも片面に、無機化合物の単層または多層の薄膜公
知の手法により形成したものとすることができる。

【００４１】以上のような被処理基材に本発明の防汚剤
を用いて防汚層を形成する方法には特に制限はなく、ウ
ェットコーティング法（ディップコーティング法、スピ
ンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコ
ーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーテ
ィング法等）によってもよく、また、ドライコーティン
グ法〔真空蒸着法（抵抗加熱法、電子線ビーム法、高周
波加熱法、イオンビーム法等）、スパッタリング法、Ｃ
ＶＤ法（プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法
等）等〕によってもよい。本発明の防汚剤を任意の方法
で用いることにより被処理基材の少なくとも片面に防汚
層を形成することができる。

【００４２】ウェットコーティング法による場合、希釈
溶媒としては、特に限定されないが、組成物の安定性、
揮発性などを考慮して、パーフルオロヘキサン、パーフ
ルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３−
ジメチルシクロヘキサン等の通常の炭素数５〜１２のパ
ーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメチ
ル）ベンゼン等の多フッ素化芳香族炭化水素、多フッ素
化脂肪族炭化水素等があげられる。また、溶媒は１種類
のみならず２種類以上の混合物として用いることも可能
である。

【００４３】ただし、防汚層形成時の作業環境や、防汚
層の層厚の制御の点からは、希釈溶媒を必要としないド
ライコーティング法によることが好ましく、特に、真空
蒸着法によることが好ましい。

【００４４】即ち、従来の防汚層は、ウェットコーティ
ング法により被処理基材の表面に防汚剤を塗布すること
により作製されている。このようなウェットコーティン
グ法では、防汚剤は揮発性溶媒で希釈して使用されるた
めに、環境対策あるいは防火対策が必要であり、作業性
が悪いという欠点がある。また、膜厚を正確に制御しに
くいと言う問題点もある。

【００４５】また、一般的に有機金属化合物からなる防
汚剤は、一般有機溶剤への溶解性が低く、フロン規制対
象物である１，１，３−トリクロロトリフロロエタンの
ようなフロン類や、高価なフッ化炭化水素類にしか安定
に溶解しないという問題点もある。

【００４６】これに対して、ドライコーティング法は、
希釈溶媒を使用しなくても良いという利点がある。

【００４７】また、従来困難であった防汚層の膜厚をオ
ングストロームオーダーで正確に制御することができ、
所望の防汚層を有する光学部材を提供できる。さらに、
反射防止膜を有する光学部材については、色設定が難し
い反射防止膜の干渉色を変化させることなく、容易に防
汚性を付与することが可能である。

【００４８】なお、防汚層をドライコーティング法によ
り形成する場合、その膜厚は防汚剤の蒸発量に依存して
変化する。したがって、防汚層の膜厚を正確に制御する
ためには、防汚剤の蒸発量を正確に制御することが好ま
しい。

【００４９】ドライコーティング法により、あるいはウ
ェットコーティング法により被処理基材上に防汚層を成
膜した後は、必要に応じて、加熱、加湿、光照射、電子
線照射等を行ってもよい。

【００５０】こうして形成される防汚層の膜厚には、特
に限定はないが、防汚性、耐擦傷性及び光学部材の光学
性能の点から、通常、１０〜５００Åとすることが好ま
しい。

【００５１】

【実施例】以下、本発明の実施例について詳細に説明す
るが、本発明は実施例に記載に限定されるものではな
い。

【００５２】実施例１ 攪拌装置、滴下ロートを装備した１００ｍｌの二つ口フ
ラスコ中に、ＣＦ₃(ＣＦ₂)₇(ＣＨ₂)₂Ｓｉ(ＮＨ)_3/2をビ
ス（トリフルオロメチル）ベンゼンで３ｗｔ％に希釈し
た溶液（ＫＰ８０１Ｍ：信越化学工業社製）（０．１３
ｇ）を添加し、十分に攪拌を続けながら、滴下ロートよ
りＣ₃Ｆ₇-(ＯＣ₃Ｆ₆)₂₄-Ｏ-(ＣＦ₂)₂-ＣＨ₂-ＯＨ（０．
１３ｇ）を滴下し、防汚剤を合成した。

【００５３】トリアセチルセルロースフィルム上にハー
ドコート層と反射防止膜を積層したものを被処理基材と
し、これに真空蒸着法（抵抗加熱法）で上述の防汚剤を
成膜し、防汚層を形成した。

【００５４】この真空蒸着法を行うに際しては、ボート
中の防汚剤の固形量を５ｍｇとし、５×１０^-5Ｔｏｒｒ
以下に真空排気した後、ボートを４００℃に加熱し、防
汚剤を蒸発させた。

【００５５】比較例１ ＣＦ₃(ＣＦ₂)₇(ＣＨ₂)₂Ｓｉ(ＮＨ)_3/2（ＫＰ８０１Ｍ：
信越化学工業社製）を防汚剤に用い、実施例１と同様に
して反射防止膜上に防汚層を形成した。

【００５６】評価 上記の実施例及び比較例で得られた防汚層を試料とし、
次の各種物性評価を行った。この結果を表１に示す。

【００５７】（ａ）接触角測定：接触角計（ＣＡ−Ｘ
型：協和界面科学（株）製）を用いて、乾燥状態（２０
℃−６５％ＲＨ）で直径１．８ｍｍの液滴を針先に作
り、これを試料（固体）の表面に接触させて液滴を作っ
た。接触角とは、固体と液体が接触する点における液体
表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方
の角度で定義した。液体には、蒸留水とｎ−ヘキサデカ
ンをそれぞれ使用した。

【００５８】（ｂ）転落角測定：転落角計（ＣＡ−Ｘ
型：協和界面科学（株）製）を用いて、乾燥状態（２０
℃−６５％ＲＨ）で直径３．０ｍｍの液滴を針先に作
り、これを水平な試料（固体）の表面上に接触させて液
滴を作った。次にこの固体試料を徐々に傾けていくと、
液滴は徐々に変形し、傾斜角度がある角度に達したと
き、液滴は下方へ滑り出す。このときの傾斜角度を転落
角とした。液体には、蒸留水とｎ−ヘキサデカンをそれ
ぞれ使用した。

【００５９】（ｃ）油性ペンの付着性：試料表面に油性
ペン（マジックインキ：細書き用Ｎｏ．５００）を用い
て、長さ１ｃｍの直線を書き、その付き易さあるいは目
立ち易さの目視判定を行った。判定基準は次の通りとし
た。

【００６０】 ○：油性ペンによる筆跡が球状にはじけている ×：油性ペンによる筆跡がはじかれずに、直線が描けて
いる

【００６１】（ｄ）油性ペンの拭き取り性：試料表面に
付着した油性ペンをセルロース製不織布（ペンコットＭ
−３：旭化成（株）製）で拭き取り、その取れ易さの目
視判定を行った。判定基準は次の通りとした。

【００６２】 ○：油性ペンを完全に拭き取ることができる △：油性ペンの拭き取り跡が残る ×：油性ペンを拭き取ることができない

【００６３】（ｅ）指紋の付着性：試料表面に指を数秒
押しつけて、指紋を付着させ、その付き易さあるいは目
立ち易さの目視判定を行った。判定基準は次の通りとし
た。

【００６４】 ○：指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない ×：指紋の付着が確認できる

【００６５】（ｆ）指紋の拭き取り性：試料面に付着し
た指紋をセルロース製不織布（ペンコットＭ−３：旭化
成（株）製）で拭き取り、その取れ易さを目視判定を行
った。判定基準は次の通りとした。

【００６６】 ○：指紋を完全に拭き取ることができる △：指紋の拭き取り跡が残る ×：指紋を拭き取ることができない

【００６７】（ｇ）耐摩耗性：試料表面をセルロース製
不織布（ペンコットＭ−３：旭化成（株）製）で荷重５
００ｇｆで１００回擦った後に、前記各種物性評価
（ａ）〜（ｆ）を行った。

【００６８】

【表１】 （括弧内：耐摩耗性試験後の特性） 実施例１ 比較例１ 接触角（°） 蒸留水 113.7(111.4) 111.8(110.4) n-ヘキサテ゛カン 74.5(73.9) 70.5(70.4) 転落角（°） 蒸留水 6.7(7.0) 32.2(34.0) n-ヘキサテ゛カン 5.5(5.9) 20.7(22.8) 油性ペン 付着性 ○（○） △（△） 拭き取り性 ○（○） △（△） 指紋 付着性 ○（○） ×（×） 拭き取り性 ○（○） △（△）

【００６９】表１から実施例１の防汚層は、比較例１の
防汚層に比して、蒸留水やｎ−ヘキサデカンに濡れにく
く、また、指紋や油性汚れが付着しにくく、かつ付着し
た汚れが落ちやすく、優れた防汚性を有していることが
わかる。また、この実施例の防汚性は耐摩耗性試験後も
維持されていることから、実施例の優れた防汚性は耐久
性を有していることがわかる。

【００７０】

【発明の効果】本発明の防汚剤を用いて光学部材の表面
上に形成した防汚層は、従来の防汚剤を用いて形成した
防汚層に比して、光学部材の光学性能を損なわせること
がなく、指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れを付着しにく
くし、また、付着しても拭き取りやすくし、かつこのよ
うな防汚効果の耐久性に優れている。

【００７１】さらに、本発明の防汚剤を用いてドライコ
ーティング法により防汚層を形成すると、従来のウェッ
トコーティング法と比較して、防汚層形成のための希釈
溶媒が不要となり、また、防汚層の膜厚の正確な制御も
可能となる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 二郎 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 本多 良隆 大阪府大阪市北区中崎西２丁目４番12号 梅田センタービル ダイキン工業株式会社 内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式（１） 【化１】 [Ｒ^1f-(ＣＨ₂)_l]_n-(ＳｉＡ_4-n)_m （１） （但し、Ｒ^1fはフッ素を有する置換基、Ａは加水分解
   基、置換数ｎは０＜ｎ＜４、ｌは０〜３の整数、ｍは１
   〜１０の整数である）で示される有機シラン化合物と、
   式（２） 【化２】 Ｒ^2f-ＯＨ （２） （但し、Ｒ^2fはフッ素を有する置換基である）で示され
   る水酸基を有するフッ素系化合物とからなることを特徴
   とする防汚剤。
2. 【請求項２】 式（１）で示される有機シラン化合物
   が、オルガノシラザン化合物である請求項１記載の防汚
   剤。
3. 【請求項３】 式（２）で示される水酸基を有するフッ
   素系化合物が、式（３） 【化３】 Ｒ^f(ＯＣ₃Ｆ₆)_n-Ｏ-(ＣＦ₂)_m-(ＣＨ₂)₁-ＯＨ （３） （但し、Ｒ^f は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状の
   パーフルオロアルキル基、ｎは１〜５０の整数、ｍは０
   〜３の整数、ｌは０〜３の整数、但し、６≧ｍ＋ｌ＞０
   である）で示される請求項１又は２記載の防汚剤。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の防汚剤
   をドライコーティング法により被処理基材の少なくとも
   片面に成膜することを特徴とする防汚層の形成方法。
5. 【請求項５】 請求項１〜３のいずれかに記載の防汚剤
   を被処理基材の少なくとも片面に成膜後、さらに加熱、
   加湿、光照射、又は電子線照射を行う請求項４記載の防
   汚層の形成方法。
6. 【請求項６】 被処理基材が光学部材である請求項４又
   は５記載の防汚層の形成方法。
7. 【請求項７】 光学部材が反射防止膜である請求項６記
   載の防汚層の形成方法。
8. 【請求項８】 請求項４〜７のいずれかに記載の方法に
   より形成された防汚層。