JPH11221963A - 光情報記録媒体 - Google Patents

光情報記録媒体

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JPH11221963A
JPH11221963A JP10025398A JP2539898A JPH11221963A JP H11221963 A JPH11221963 A JP H11221963A JP 10025398 A JP10025398 A JP 10025398A JP 2539898 A JP2539898 A JP 2539898A JP H11221963 A JPH11221963 A JP H11221963A
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JP
Japan
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optical information
dye
information recording
recording medium
group
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JP10025398A
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English (en)
Inventor
Katsuhiko Meguro
克彦 目黒
Toshio Ishida
寿男 石田
Hiroshi Hashimoto
博司 橋本
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板との密着力が大きく、耐光性にも優れた
光情報記録媒体を得る。 【解決手段】 透明基板上に光照射により信号の記録が
可能な色素記録層、更にその上に金属反射層を有するヒ
ートモード型の光情報記録媒体において、該色素記録層
は下記一般式（１）で表されるシアニン色素およびシク
ロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリウレタン樹
脂を含有することを特徴とする光情報記録媒体。 ［ＤＹＥ+ ］n Ｘn- （１） ［式中、ＤＹＥ+ は、一価のシアニン色素陽イオンを表
し、ｎは２以上の整数を表し、Ｘn-はｎ価の多価陰イオ
ンを表す。］

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザー光を用いて
情報の記録および再生を行うことができるヒートモード
型の光情報記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光により一回限りの情報の記録が
可能な光情報記録媒体（光ディスク）は、追記型ＣＤあ
るいはＣＤ−Ｒとも称されており、ＣＤあるいはＣＤ−
ＲＯＭの作製に比べて情報の記録を簡単に行うことがで
きるという利点を有している。ＣＤ−Ｒからなる光情報
記録媒体の代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機
色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、
さらに樹脂製の保護層をこの順に積層したものである。
そしてこの光情報記録媒体への情報の書き込み（記録）
は、近赤外域のレーザ光（通常７８０ｎｍ付近の波長の
レーザ光）を照射することにより行われ、色素記録層の
照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理
的あるいは化学的な変化（例えば、ピットの生成）が生
じてその光学的特性を変えることにより情報が記録され
る。一方、情報の読み取り（再生）も通常、記録用のレ
ーザ光と同じ波長のレーザ光を照射することにより行わ
れ、色素記録層の光学的特性が変化した部位（ピットな
どの生成による記録部分）と変化しない部位（未記録部
分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生
される。
【０００３】ＣＤ−Ｒは、シアニン色素やフタロシアニ
ン色素等が用いられているが、シアニン色素はフタロシ
アニンに比較して、感度が高い等の優れた点がある反
面、紫外線で分解しやすく、耐光性が低いという問題も
ある。さらに、特に高温度高湿度下に保存しておくと記
録層面に析出し易いという問題もあった。シアニン色素
を使用したＣＤ−Ｒでは、このような問題を解決するた
めに、バインダーを使用して耐光性等の問題を解決する
ことが行われている。
【０００４】一方、特公平５−７４１５９号公報には、
バインダーを含有した色素の記録薄膜は、その反射率が
極めて低く、情報の記録再生効率に乏しいものであった
ので、バインダーを含まない色素からなる記録薄膜を形
成することが提案されている。 ところが、バインダー
を含まない記録薄膜は、記録薄膜の基板への密着力が乏
しく、繰り返し使用時の信頼性に劣るものであった。
【０００５】また、特公平１−２８７１７号公報には、
再記録可能な光情報媒体の記録層に光吸収染料または顔
料と熱可塑性樹脂としてポリウレタン樹脂（Ｍｎ≦３０
０００）を含むものである。そして、ピット形成後に記
録層を再度加熱融解させ、平坦にすることでピットを消
去し、再記録を可能とするために使用されるものであ
り、光情報記録媒体の情報記録層のバインダーとして使
用して記録層の特性を改善する点については記載されて
いない。また、同様に特開平７−２２０３０４号公報に
は、有機ポリイソシアネートと特定のポリオールからな
るポリウレタンと光吸収剤からなり、記録用レーザー光
によるポリウレタンの熱膨張痕によって情報を記録する
再記録可能な光記録媒体が記載されているが、光情報記
録媒体の情報記録層のバインダーとして使用して記録層
の特性を改善する点については記載されていない。本発
明は、初期特性に優れるだけでなく、高温高湿度あるい
は温湿度変化の大きい環境等の激しい環境下に保存した
場合でも記録再生特性が低下することなく、品質の安定
したすなわち、保存耐久性がさらに向上した光情報記録
媒体に関するものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、初期特性に
優れるだけでなく、高温高湿度あるいは温湿度変化の大
きい環境等の激しい環境下に保存した場合でも記録再生
特性が低下することなく、品質の安定したすなわち、保
存耐久性がさらに向上した光情報記録媒体に関するもの
であり、また、透明基板と特定のシアニン系色素を主成
分とする記録層との密着性が高く、信頼性に優れた光記
録情報媒体であって、高温高湿度下での色素の析出を防
止し、高温高湿度下での保存後の品質の安定性が優れた
光記録情報媒体を提供することを課題とするものであ
り、また消衰係数ｋ（複素屈折率の虚数部分）を低下さ
せ、記録層表面での反射率を向上させることにより、記
録再生特性に優れた光記録情報媒体を提供するものであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明基板上に
光照射により信号の記録が可能な色素記録層、更にその
上に金属反射層を有するヒートモード型の光情報記録媒
体において、該色素記録層は下記一般式（１）で表され
るシアニン色素、およびシクロヘキサンジメタノール系
ポリエステルポリウレタン樹脂を含有する光情報記録媒
体である。 ［ＤＹＥ+ ］n Ｘn- （１） ［式中、ＤＹＥ+ は、一価のシアニン色素陽イオンを表
し、ｎは２以上の整数を表し、Ｘn-はｎ価の多価陰イオ
ンを表す。］ また、シアニン色素が下記一般式（２）または一般式
（２Ａ）で表される化合物である前記の光情報記録媒体
である。一般式（２）
【０００８】
【化３】
【０００９】式（２）中、ＺａおよびＺｂは各々独立
に、５員もしくは６員の含窒素複素環を完成するために
必要な原子群を表し、Ｒ1およびＲ2は各々独立に、アル
キル基またはアリール基を表し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5および
Ｒ6は各々独立にアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｌ
4およびＬ5は各々独立に置換または無置換のメチン基を
表し（ただし、Ｌ1〜Ｌ5上に置換基がある場合には互い
に連結して環を形成しても良い）、ｊは０、１または２
を表し、ｋは０または１を表し、Ｘn-はｎ価の多価陰イ
オンを表し、そしてｎは２以上の整数を表す。 一般式（２Ａ）
【００１０】
【化４】
【００１１】式（２Ａ）中、Ｚ1およびＺ2は各々独立
に、インドレニン核もしくはベンゾインドレニン核を完
成するために必要な原子群を表し、Ｒ1およびＲ2は各々
独立に、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ3、
Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は各々独立にアルキル基を表し、
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｌ4およびＬ5は各々独立に、置換また
は無置換のメチン基を表し（ただし、Ｌ1〜Ｌ5上に置換
基がある場合には互いに連結して環を形成しても良
い）、ｊは０、１または２を表し、ｋは０または１を表
し、Ｘn-はｎ価の多価陰イオンを表し、そしてｎは２以
上の整数を表す。
【００１２】また、シクロヘキサンジメタノール系ポリ
エステルポリウレタン樹脂が、 （Ａ）：１，４−シクロヘキサンジメタノールと少なく
ともアジピン酸、アゼライン酸および１，１２−ドデカ
ン酸から選ばれる２塩基酸とからなる末端にＯＨ基を有
し、水酸基価が５０から２５０のポリエステルと （Ｂ）：エチレングリコール、プロピレングリコール、
１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、
１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，４−シクロヘキサンジメタノールおよびヒドロ
キノンジ（β−ヒドロキシエチル）エーテルから少なく
とも１種以上選ばれ、ポリエステルと鎖延長剤を併せて
水酸基価１３０から３００の鎖延長剤と、 （Ｃ）：（Ａ）と（Ｂ）とのモル比で等量の脂肪族ある
いは芳香族ジイソシアネートからなる前記の光情報記録
媒体である。
【００１３】また、シクロヘキサンジメタノール系ポリ
エステルポリウレタン樹脂が、１，４−シクロヘキサン
ジメタノールとアジピン酸、アゼライン酸とからなるポ
リエステルと鎖延長剤として、１，４−ブタンジオー
ル、または１，４−シクロヘキサンジメタノールの少な
くともいずれかを含むもの、およびジフェニルメタンジ
イソシアネートからなる前記の光情報記録媒体である。
シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリウレタ
ン樹脂のガラス転移温度が３０℃から１６０℃である前
記の光情報記録媒体である。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明は、記録再生特性が優れる
だけでなく、高温高湿度環境下での保存耐久性にも優れ
る実用特性に優れた光情報記録媒体を提供するものであ
る。従来、追記型光ディスク（いわゆるＣＤ−Ｒ）の色
素を主体とする記録層にバインダー、樹脂等を添加した
ものは、反射率が低下し、再生信号出力が低く、感度も
低いものであり、このため記録層には色素以外のバイン
ダー、添加剤等を極力添加しない光情報記録媒体を作製
することが提案されていた。しかし、バインダー、樹脂
等を添加しない記録層は、基板との密着力が低く、さら
に反射層、保護層を記録層の上に積層しても、高温高湿
度の環境下では記録層色素が湿度の影響を受け、結晶化
し、記録再生特性に悪影響を与え、甚だしい場合には記
録再生ができなくなることが生じる。また、バインダ
ー、樹脂を添加した場合でも従来公知のバインダー、樹
脂では溶剤溶解性、色素との相溶性等に乏しくさらに耐
光性が低いなどの欠点を有している。
【００１５】本発明者らは、記録層に色素、褪色防止剤
の他にシクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリ
ウレタン樹脂を添加することにより、基板と記録層との
密着強度、高温高湿下での保存耐久性、耐光性が優れる
光情報記録媒体を得られることを見いだしたものであ
る。さらに、色素を主体とする記録層にバインダー・樹
脂成分といわれる有機化合物を添加すると記録層の屈折
率が低下し、反射率が低下することが一般的であった
が、驚くべきことにシクロヘキサンジメタノール系ポリ
エステルポリウレタン樹脂を添加すると、屈折率（複素
屈折率の実数部分）も低下するが、消衰係数（複素屈折
率の虚数部分）が低下することにより媒体としては記録
再生に使用されるレーザ光に対して高い反射率を示すこ
とが分かった。よって、記録層にシクロヘキサンジメタ
ノール系ポリエステルポリウレタン樹脂を添加すること
により実用特性に優れた光情報記録媒体が得られること
がわかった。
【００１６】本発明で使用されるシクロヘキサンジメタ
ノール系ポリエステルポリウレタン樹脂は公知の方法で
製造できる。例えば「ポリウレタン樹脂ハンドブック」
日刊工業新聞社、１９８７年刊）に記載の方法におい
て、シクロヘキサンジメタノールを構成成分するポリエ
ステルジオールおよび必要に応じ鎖延長剤およびジイソ
シアネートによって製造することができる。本発明で使
用されるシクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポ
リウレタン樹脂のポリウレタン部分にシクロヘキサンジ
メタノールと組み合わせて使用される２塩基酸としては
アジピン酸、アゼライン酸、１，１２−ドデカノエート
酸が単独あるいは混合して使用できる。なかでもアジピ
ン酸とアゼライン酸の混合物を使用することが特に好ま
しい。
【００１７】また、ポリエステルジオールの水酸基価は
５０〜２５０の範囲が好ましい。
【００１８】本発明で使用されるシクロヘキサンジメタ
ノール系ポリエステルポリウレタン樹脂を構成する鎖延
長剤としてはエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオー
ル、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオ
ール、１，４−シクロヘキサンジメタノールおよびヒド
ロキノンジ（β−ヒドロキシルエチル）エーテルが単独
あるいは混合して使用できる。なかでも、１，４−ブタ
ンジオール単独かあるいは１，４−ブタンジオールおよ
び１，４−シクロヘキサンポリエステルジオールと鎖延
長剤と併せた水酸基価は１３０〜３００の範囲が好まし
い。シクロヘキサンジメタノールを混合使用するがこと
が特に好ましい。
【００１９】本発明で使用されるシクロヘキサンジメタ
ノール系ポリエステルポリウレタン樹脂を構成するジイ
ソシアネートとしてはヘキサメチレンジイソシアネー
ト、トリジンジイソシアネート、イソホロンジイソシア
ネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４
−キシリレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソ
シアネート、トルイジンジイソシアネート、２，４−ト
リレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシア
ネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−フェニレン
ジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネー
ト等の脂肪族ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネー
トのいずれも使用できる。なかでも４，４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネートが好ましい。
【００２０】本発明で使用されるシクロヘキサンジメタ
ノール系ポリエステルポリウレタン樹脂のガラス転移温
度は３０℃〜１６０℃の範囲が好ましく、より好ましく
は４０℃〜１６０℃の範囲である。３０℃未満では高温
・高湿下での記録後保存中にピット形状が変化し再生特
性が劣化する。１６０℃を超えると熱変形しにくく記録
時にレーザ光照射量がより必要になり、感度低下の原因
になる。本発明で使用されるシクロヘキサンジメタノー
ル系ポリエステルポリウレタン樹脂の分子量は４００〜
２０００００の範囲が好ましい。なかでも５００００〜
１５００００の範囲が好ましい。４００未満では記録層
中で移動しやすく、高温、高湿下での記録後保存中にピ
ット形状が変化し、再生特性が劣化する。２０００００
以上では粘度が高く、塗布時に厚みムラ等の原因にな
る。
【００２１】また、本発明で使用されるシクロヘキサン
ジメタノール系ポリエステルポリウレタン樹脂の添加量
は、色素に対する重量比で０．５／１００〜２００／１
００が好ましい。重量比で０．５／１００未満では効果
が見られず、重量比が２００／１００を超えると記録層
の反射率が低下し、記録再生特性が低下する。
【００２２】本発明の光情報記録媒体に好適なシアニン
色素は、一般式（１）で表されるシアニン色素である。 ［ＤＹＥ+ ］n Ｘn- （１） ＤＹＥで表されるシアニン色素陽イオンは、陰イオン性
の置換基を有することのない１価の陽イオンを表す。ま
たＸn-は、ｎ価の陰イオンを表し、ｎは２以上の整数を
表す。即ち、Ｘn-は、２価以上の多価陰イオンを表す。
Ｘn-で表される多価陰イオンは、無機の陰イオンであっ
ても有機の陰イオンであっても良い。
【００２３】無機の多価陰イオンの例としては、硫酸イ
オン、リン酸イオン、リン酸水素イオン、タングストリ
ン酸イオンなどのヘテロポリ酸イオンが挙げられる。有
機の多価陰イオンの例としては、カルボン酸イオン（例
えば、コハク酸イオン、マレイン酸イオン、フマル酸イ
オン、テレフタル酸イオン）、芳香族ジスルホン酸イオ
ン（例、ベンゼン−１，３−ジスルホン酸イオン、３，
３’−ビフェニルジスルホン酸イオン、ナフタレン−
１，５−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−１，６−ジ
スルホン酸イオン、ナフタレン−２，６−ジスルホン酸
イオン、１−メチルナフタレン−２，６−ジスルホン酸
イオン、ナフタレン−２，７−ジスルホン酸イオン、ナ
フタレン−２，８−ジスルホン酸イオン、２−ナフトー
ル−６，８−ジスルホン酸イオン、１，８−ジヒドロキ
シナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオン、１，５−
ジヒドロキシナフタレン−２，６−ジスルホン酸イオ
ン）、芳香族トリスルホン酸イオン（例、ナフタレン−
１，３，５−トリスルホン酸イオン、ナフタレン−１，
３，６−トリスルホン酸イオン、ナフタレン−１，３，
７−トリスルホン酸イオン、１−ナフトール−３，６，
８−トリスルホン酸イオン、２−ナフトール−３，６，
８−トリスルホン酸イオン）、芳香族テトラスルホン酸
イオン（例、ナフタレン−１，３，５，７−テトラスル
ホン酸イオン）、脂肪族ポリスルホン酸イオン（例、ブ
タン−１，４−ジスルホン酸イオン、シクロヘキサン−
１，４−ジスルホン酸イオン）、ポリ硫酸モノエステル
（例、プロピレングリコール−１，２−ジスルフェー
ト、ポリビニルアルコールポリ硫酸エステルイオン）な
どが挙げられる。本発明において、Ｘn-は、２〜４価の
陰イオンであることが好ましく、更に好ましくは、２又
は３価の陰イオンであり、特に２価の陰イオンである。
【００２５】本発明で使用するシアニン色素化合物は、
下記一般式（２）で表される化合物であることが好まし
い。 一般式（２）
【００２６】
【化５】
【００２７】一般式（２）において、Ｚａ及びＺｂは各
々独立に、５員もしくは６員の含窒素複素環を完成する
ために必要な原子群を表す。Ｒ1 及びＲ2 は各々独立
に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｌ1 、Ｌ2 、
Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 は各々独立に、置換又は無置換のメ
チン基を表す。またＬ1 〜Ｌ5 上に置換基を有する場合
には互いに連結して環を形成しても良い。ｊは０、１又
は２を表し、ｋは０又は１を表す。Ｘn-は、ｎ価の多価
陰イオンを表し、ｎは２以上の整数を表す。
【００２８】Ｚa及びＺbで表される５員もしくは６員の
含窒素複素環（核）としては、例えば、チアゾール核、
ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、チアゾリン
核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナフトオ
キサゾール核、オキサゾリン核、セレナゾール核、ベン
ゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、セレナゾリ
ン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、ナフト
テルラゾール核、テルラゾリン核、イミダゾール核、ベ
ンゾイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、ピリジン
核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔４，５−
ｂ〕キノキサリン核、オキサジアゾール核、チアジアゾ
ール核、テトラゾール核、及びピリミジン核などを挙げ
ることができる。これらの中では、ベンゾチアゾール
核、イミダゾール核、ナフトイミダゾール核、キノリン
核、イソキノリン核、イミダゾ〔４，５−ｂ〕キノキサ
リン核、チアジアゾール核、テトラゾール核、及びピリ
ミジン核が好ましい。これらの環には、更にベンゼン
環、ナフトキノン環が縮合していても良い。
【００２９】上記の５員又は６員の含窒素複素環は置換
基を有していても良い。好ましい置換基あるいは原子の
例としては、ハロゲン原子、置換又は無置換のアルキル
基、アリール基を挙げることができる。ハロゲン原子と
しては、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素原子
数１〜６の直鎖状のアルキル基が好ましい。またアルキ
ル基の置換基の例としては、メトキシ基のようなアルコ
キシ基、メチルチオ基のようなアルキルチオ基を挙げる
ことができる。アリール基としては、フェニルが好まし
い。
【００３０】上記Ｒ1 およびＲ2 で表されるアルキル基
は置換基を有していてもよく、好ましくは炭素原子数１
〜１８（更に好ましくは１〜８、特に１〜６）の直鎖
状、環状、もしくは分枝状のアルキル基である。Ｒ1 お
よびＲ2 で表されるアリール基は置換基を有していても
良く、好ましくは炭素原子数６〜１８の置換基を有して
いても良いアリール基である。Ｒ1 およびＲ2 で表され
るアルキル基またはアリール基の有する好ましい置換基
の例としては、以下のものを挙げることができる。炭素
原子数６〜１８の置換又は無置換のアリール基（例え
ば、フェニル、クロロフェニル、アニシル、トルイル、
２，４−ジ−ｔ−アミル、１−ナフチル）、アルケニル
基（例えば、ビニル、２−メチルビニル）、アルキニル
基（例えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェ
ニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル
基、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチ
ロイル、ピバロイル）、アルコキシ基（例えば、メトキ
シ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキ
シ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキ
ルチオ基（例えば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジル
チオ、３−メトキシプロピルチオ）、アリールチオ基
（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、
アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ブ
タンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えば、ベ
ンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原
子数１〜１０のカルバモイル基、炭素原子数１〜１０の
アミド基、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基、炭素
原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基
（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、
イミダゾリル、ピラゾリルなどの複素芳香族環、ピロリ
ジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオ
ピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘ
テロ環）。
【００３１】本発明において、上記Ｒ1 およびＲ2 は、
それぞれ無置換の直鎖状のアルキル基、あるいはアルコ
キシ基（特に、メトキシ）又はアルキルチオ基（特に、
メチルチオ）で置換された直鎖状のアルキル基であるこ
とが好ましく、直鎖状のアルキル基の炭素原子数は１〜
８個であることが好ましく、より好ましくは、炭素原子
数１〜６であり、特に好ましくは、炭素原子数１〜４で
ある。
【００３２】Ｌ1 〜Ｌ5 で表されるメチン基は、置換基
を有していても良い。好ましい置換基の例としては、炭
素原子数１〜１８のアルキル基、アラルキル基、および
前記Ｒ1 およびＲ2 で表されるアルキル基またはアリー
ル基の有する好ましい置換基の例として挙げたものを挙
げることができる。これらの中では、メチル基などのア
ルキル基、フェニル基等のアリール基、塩素、臭素など
のハロゲン原子、ベンジル基等のアラルキル基が好まし
い。なかでも特に好ましいのはメチル基である。 本発
明においては、ｊが２でｋが０である場合、あるいは
ｊ、ｋが、各々独立に０又は１である場合が好ましい。
【００３３】上記Ｌ1 〜Ｌ5 上の置換基は互いに連結し
て環を形成しても良い。好ましい環員数は５員環または
６員環であり、これらの環が２個以上縮合していても良
い。連結位置は、形成されるメチン鎖の数によって異な
る。例えば、Ｌ1 〜Ｌ5 で形成されるメチン鎖がペンタ
メチン鎖の場合には、その好ましい連結位置は、Ｌ1と
Ｌ3 、Ｌ2 とＬ4 、及びＬ3 とＬ5 である。また二重縮
合環を形成する場合の連結位置は、Ｌ1 とＬ3 とＬ5 で
ある。またこの場合、Ｌ1 とＲ1 、Ｌ5 とＲ2、更にＬ3
とＲ2 は互いに連結して環を形成していても良く、そ
の環員数は好ましくは５員環または６員環である。本発
明においては、Ｌ1 〜Ｌ5 上の置換基で形成される環
は、シクロヘキセン環であることが好ましい。
【００３４】Ｘn-及びｎは、それぞれ前記一般式（１）
において説明したＸn-及びｎと同義である。一般式
（２）において、Ｘn-は、前記芳香族ジスルホン酸イオ
ン又は芳香族トリスルホン酸イオンであることが好まし
い。更に好ましくは、ベンゼン−１，３−ジスルホン酸
イオン、３，３’−ビフェニルジスルホン酸イオン、ナ
フタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−
１，６−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，６−ジ
スルホン酸イオン、１−メチルナフタレン−２，６−ジ
スルホン酸イオン、ナフタレン−２，７−ジスルホン酸
イオン、ナフタレン−２，８−ジスルホン酸イオン、２
−ナフトール−６，８−ジスルホン酸イオン、１，８−
ジヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオ
ン、１，５−ジヒドロキシナフタレン−２，６−ジスル
ホン酸イオンであり、特に、ナフタレン−１，５−ジス
ルホン酸イオン、ナフタレン−１，６−ジスルホン酸イ
オン、ナフタレン−２，６−ジスルホン酸イオン、１−
メチルナフタレン−２，６−ジスルホン酸イオン、ナフ
タレン−２，７−ジスルホン酸イオン、又はナフタレン
−２，８−ジスルホン酸イオンであり、最も好ましいも
のは、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸イオンであ
る。
【００３５】本発明で使用するシアニン色素化合物は、
下記一般式（２Ａ）で表される化合物であることが好ま
しい。 一般式（２Ａ）
【００３６】
【化６】
【００３７】一般式（２Ａ）において、Ｚ1 及びＺ2 は
インドレニン核もしくはベンゾインドレニン核を完成す
るために必要な原子群を表す。Ｒ1 及びＲ2 は各々独立
に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 及びＲ6 は各々独立に、アルキル基を表す。Ｌ1 、
Ｌ2 、Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 は各々独立に、置換又は無置
換のメチン基を表す。またＬ1 〜Ｌ5 上に置換基を有す
る場合には、互いに連結して環を形成しても良い。ｊは
０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表す。Ｘn-は、ｎ
価の多価陰イオンを表し、ｎは２以上の整数を表す。
【００３８】上記Ｚ1 及びＺ2 で表されるインドレニン
核もしくはベンゾインドレニン核は、置換基を有してい
ても良い。置換基（原子）としては、ハロゲン原子、又
はアリール基を挙げることができる。ハロゲン原子とし
ては、塩素原子が好ましい。またアリール基としては、
フェニルが好ましい。
【００３９】上記Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 で表され
るアルキル基は、好ましくは炭素原子数１〜１８の直鎖
状、分岐状、あるいは環状のアルキル基である。またＲ
3 とＲ4 、及びＲ5 とＲ6 はそれぞれ連結して環を形成
しても良い。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 で表されるア
ルキル基は、置換基を有していても良い。置換基として
好ましいものは、前記Ｒ1 およびＲ2 で表されるアルキ
ル基またはアリール基の有する好ましい置換基の例とし
て挙げたものを挙げることができる。本発明において
は、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 で表されるアルキル基
は、それぞれ炭素原子数１〜６の直鎖状の無置換のアル
キル基（特に、メチル、エチル）であることが好まし
い。
【００４０】一般式（２Ａ）において、Ｒ1 及びＲ2 、
Ｌ1 、Ｌ2 、Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 、ｊ及びｋ、そしてＸ
n-及びｎは、それぞれ一般式（２）において説明したそ
れらと同じ意味を表す。またそれらの好ましい例示も前
記一般式（２）において説明したものと同じである。
【００４１】以下に、本発明に係る一般式（１）（一般
式（２）又は（２Ａ）で表される化合物を含む）で表さ
れる化合物の好ましい具体例を挙げる。
【００４２】
【化７】
【００４３】
【化８】
【００４４】
【化９】
【００４５】
【化１０】
【００４６】
【化１１】
【００４７】
【化１２】
【００４８】
【化１３】
【００４９】本発明に係る上記一般式（１）で表される
化合物は、単独で用いても良いし、あるいはまた二種以
上を併用しても良い。なお、本発明に係る一般式（１）
で表される化合物は、既に公知の下記の文献の記載を参
考にして容易に合成することができる。
【００５０】これらの文献としては、たとえば、エフ・
エム・ハーマー著「ザ・シアニン・ダイズ・アンド・リ
レイテッド・コンパウンズ５（インターサイエンス・パ
ブリシャーズ、Ｎ．Ｙ．１９６４年）５５頁以降；ニコ
ライ・チュチュルコフ、ユルゲン・ファビアン、アキム
・メールホルン、フィリッツ・ディエツ、アリア・タジ
エール（Nikolai Tyutyulkov, Jurgen Fabian, Achim U
lehlhorn, Fritz Dietz, Alia Tadjer）共著「ポリメチ
ン・ダイズ」、セントクリメント・オーリズキ・ユニバ
シティ・プレス、ソフィア（St. Kliment Ohridski Uni
versity Press,Sophia ）、２３頁ないし３８頁；デー
・エム・スターマー（D.M.Sturmer ）著、「ヘテロサイ
クリック、コンパウンズ−スペシャル・トピックス・イ
ン・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Heterocyclic
Compounds-Special topics in heterocyclic chemistr
y ）」、第１８章、第１４節、第４８２〜５１５頁、ジ
ョン・ウィリー・アンド・サンズ（John Wiley & Sons
）社、ニューヨーク、ロンドン、（１９７７年刊）；
「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウン
ズ（Rodd's Chemistry of Carbon Compounds）」、（2n
d.Ed.vol.IV,part B,１９７７年刊）、第１５章、第３
６９〜４２２頁、（2nd.Ed.vol.IV,part B, １９８５年
刊）、第１５章、第２６７〜２９６頁、エルスバイヤー
・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク（Elsv
ier Science Public Company Inc. ）、ニューヨークな
どが挙げられる。
【００５１】多価の陰イオンを対イオンとして導入する
手法は、まず適当な溶剤に１価の対イオンを有するシア
ニン色素を溶かし、これに多価の酸またはその塩の溶液
を添加し、更に必要に応じて色素を溶解しにくい溶剤を
添加して、多価イオンを対イオンとするシアニン色素の
結晶を析出せしめる方法が最も簡便でかつ大量の合成に
適している。その他の方法としては、イオン交換樹脂を
用いて対イオンを交換する方法が挙げられる。また、本
発明の光情報記録媒体の光情報記録層は、前記の一般式
（１）で表されるシアニン色素と、退色防止剤として、
下記の一般式（Ａ１）及び式（Ａ２）で表される化合物
を含有しているものであっても良い。
【００５２】
【化１４】
【００５３】上記一般式（Ａ１）において、Ｒ11、Ｒ12
は各々独立に炭化水素基を表す。炭化水素基は、炭素数
１〜１８（更に好ましくは、１〜１０、特に１〜６）の
直鎖状、分枝鎖状、又は環状の、無置換のアルキル基が
好ましい。更に好ましくは、炭素数１〜１０（更に好ま
しくは炭素数１〜６）の直鎖状又は分枝鎖状の無置換の
アルキル基であり、これらの例としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、te
rt−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル及びデシル
を挙げることができる。一般式（Ａ１）で表される化合
物の好ましい具体例を以下に記載する。
【００５４】
【化１５】
【００５５】上記一般式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表さ
れる化合物は、それぞれ単独で使用して良いし、あるい
は併用しても良い。本発明の光情報記録媒体は、例え
ば、以下に述べるような方法により製造することができ
る。
【００５６】基板は、従来の光情報記録媒体の基板とし
て用いられている各種の材料から任意に選択することが
できる。基板材料としては、例えばガラス、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系
樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンおよ
びポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそ
れらを併用しても良い。なお、これらの材料はフィルム
状としてまたは剛性のある基板として使うことができ
る。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格
などの点からポリカーボネートが好ましい。
【００５７】記録層が設けられる側の基板表面には、平
面性の改善、接着力の向上および記録層の防止の目的
で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては
たとえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸−メ
タクリル酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合
体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、スチレン−ビニルトルエン共重合体、クロルスル
ホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニ
ル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミ
ド、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸
ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート等の高分子物質、およびシランカップリン
グ剤などの表面改質剤を挙げることができる。
【００５８】下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピ
ンコート、ディップコート、エクストルージョンコート
などの塗布法により基板表面に塗布することにより形成
することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜
２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍ
の範囲である。
【００５９】基板（または下塗層）上には、トラッキン
グ用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（グル
ーブ）が形成されていることが好ましい。このグルーブ
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形あるい
は押出成形する際に直接基板上に形成されることが好ま
しい。
【００６０】またグルーブ形成を、グルーブ層を設ける
ことにより行ってもよい。グルーブ層の材料としては、
アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル
およびテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマ
ー（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用
いることができる。
【００６１】グルーブ層の形成は、例えば、まず精密に
作られた母型（スタンパ）上に上記のアクリル酸エステ
ルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこ
の塗布液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介
して紫外線を照射するにより塗布層を硬化させて基板と
塗布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離す
ることにより得ることができる。
【００６２】グルーブ層の層厚は一般に、０．０５〜１
００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの
範囲である。グルーブの深さは１０〜３００ｎｍの範囲
にあることが好ましく、またその半値幅は、０．２〜
０．９μｍの範囲にあることが好ましい。またグルーブ
層の深さを１５０〜２００ｎｍの範囲にすることにより
反射率を殆ど低下させることなく感度を向上させること
ができ、特に好ましい。従って、このような深いグルー
ブの基板に色素の記録層および光反射層が形成された光
ディスクは、高い感度を有することから、低いレーザー
パワーでも記録が可能となり、これにより安価な半導体
レーザの使用が可能となる、あるいは半導体レーザの使
用寿命を延ばすことができる等の利点を有する。
【００６３】このような基体上に色素記録層が設けられ
る。色素記録層の形成は、前記色素、エーテル基を有す
るビスフェノール系化合物、及び前記の退色防止剤、更
に所望により結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、
次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成した
のち乾燥することにより行なうことができる。
【００６４】前記一般式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表さ
れる化合物の使用量は、シアニン色素の量に対して、通
常０．１〜５０重量％の範囲であり、好ましくは、０．
５〜４５重量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０重量
％の範囲、特に５〜２５重量％の範囲である。
【００６５】色素層塗布液の溶剤としては、酢酸ブチ
ル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン
などのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタ
ン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホル
ムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水
素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン
などのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソ
プロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコール
などのアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどの
グリコールエーテル類などを挙げることができる。上記
溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独または二種
以上を適宜併用することができる。
【００６６】塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収
剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添
加してもよい。結合剤の例としては、例えば、ゼラチ
ン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムな
どの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水
素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができ
る。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合
剤の使用量は、色素に対して一般に０．０１〜５０倍量
（重量比）の範囲にあり、好ましくは、０．１〜５倍量
（重量比）の範囲にある。
【００６７】このようにして調製される塗布液の濃度は
一般に０．０１〜１０重量％の範囲にあり、好ましくは
０．１〜５重量％の範囲にある。塗布方法としては、ス
プレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート
法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン
印刷法などを挙げることができる。記録層は単層でも重
層でもよい。記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの
範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にあ
る。また、記録層は基板の片面のみならず両面に設けら
れていてもよい。
【００６８】上記記録層の上には、情報の再生時におけ
る反射率の向上の目的で、光反射層が設けられる。光反
射層の材料である光反射性物質は、レーザ光に対する反
射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、
Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、
Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ
ｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓ
ｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を
挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、
Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステ
ンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよい
し、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用
いてもよい。特に好ましくはＡｕである。
【００６９】光反射層は、例えば、上記光反射性物質を
蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングする
ことにより記録層の上に形成することができる。光反射
層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲にあ
り、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましく
は５０〜３００ｎｍの範囲である。また記録層の厚さ
（Ｒａ）と光反射層の厚さ（Ｒｂ）との比（層厚比）
は、通常０．０１≦Ｒａ／Ｒｂ≦５０（好ましくは、
０．０５≦Ｒａ／Ｒｂ≦４０、更に好ましくは、０．０
８≦Ｒａ／Ｒｂ≦２５、特に好ましくは、０．０８≦Ｒ
ａ／Ｒｂ≦１５）の範囲である。
【００７０】光反射層の上には、記録層などを物理的お
よび化学的に保護する目的で保護層を設ける。この保護
層は、基板の記録層が設けられていない側にも耐傷性、
耐湿性を高める目的で設けることもできる。保護層に用
いられる材料の例としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ2 、ＭｇＦ
2 、ＳｎＯ2 、Ｓｉ3 Ｎ4 等の無機物質、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等の有機物質を挙
げることができる。保護層は、例えば、プラスチックの
押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層上
及び／または基板上に積層することにより形成すること
ができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等
の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解し
て塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥す
ることによっても形成することができる。紫外線硬化性
樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解し
て塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、紫外線光
を照射して硬化させることによっても形成することがで
きる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防
止剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加
してもよい。保護層の層厚は一般には０．１〜１００μ
ｍの範囲にある。
【００７１】本発明の光情報記録媒体は、上述した構成
からなる単板であってもよいが、あるいは更に上記構成
を有する二枚の基板を記録層が内側となるように向い合
わせ、接着剤等を用いて接合することにより、貼り合せ
タイプの光情報記録媒体とすることもできる。あるいは
また、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記
構成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリ
ング状外側スペーサとを介して接合することにより、エ
アーサンドイッチタイプの光情報記録媒体とすることが
もきる。本発明の光情報記録媒体は上記のような方法で
製造することができる。
【００７２】このようにして得られる光情報記録媒体
は、特に耐光性に優れた光ディスクであり、また、高い
反射率を示すため、市販のＣＤプレーヤで再生すること
ができる。本発明の光情報記録方法は、上記光情報記録
媒体を用いて、例えば、次のように行われる。まず、光
情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場合は
１．２〜１．８ｍ／秒）または定角速度にて回転させな
がら、基板側から半導体レーザー光などの記録用の光を
照射する。この光の照射により、記録層と反射層との界
面に空洞を形成するか、基板が肉盛り変形する、あるい
は記録層に変色、会合状態の変化等により屈折率が変化
することにより情報が記録されると考えられる。空洞の
形成は、記録層または反射層の変形、あるいは両層の変
形を伴って形成される。記録光としては５００ｎｍ〜８
５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザービー
ムが用いられる。用いられるレ−ザ−ビ−ム波長は好ま
しくは５００ｎｍ以上、８００ｎｍ以下である。特に、
ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体においては、７７０〜７９
０ｎｍの範囲の波長が適している。上記のように記録さ
れた情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線
速度で回転させながら半導体レーザ光を基板側から照射
して、その反射光を検出することにより行うことができ
る。
【００７３】
【実施例】以下に、本発明の実施例を示し、本発明を説
明する。実施例中の「部」の表示は特に断らない限り
「重量部」を示す。 実施例１ （化合物１−４で示されるシアニン色素の合成）前記化
合物１−４の陰イオン部がパラトルエンスルホン酸イオ
ンである化合物を前述のように常法により合成した。こ
の化合物２６．８ｇ（０．０４モル）と４００ｍｌのメ
タノールとを室温で混合し、５０℃に加温して溶解させ
た。その後、この溶液にナフタレン−１，５−ジスルホ
ン酸７．２ｇ（０．０２モル）を加え、５０℃で１時間
撹拌した。冷却した後、生じた結晶を濾取し、５０℃で
６時間乾燥させ、シアニン色素を得た。上記で得たシア
ニン色素と該色素１００重量部に対して１０重量部のシ
クロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリウレタン
樹脂（モートン社製 商品名：モルセンＣＡ１３９）お
よび該色素１００重量部に対して１０重量部の前記式
（Ａ１−１）で示される褪色防止剤とを２，２，３，３
−テトラフルオロプロパノールに溶解して記録層形成用
塗布液を調製した。この塗布液の濃度は２．７重量％で
あった。
【００７４】この塗布液を表面にスパイラル状のプレグ
ルーブ（トラックピッチ：１．６μｍ、プレグルーブ
幅：０．４μｍ、プレグルーブの深さ：０．１６μｍ）
が射出成型により形成されたポリカーボネート（帝人
製：パンライトＡＤ５５０３）からなる直径：１２０ｍ
ｍ、厚さ：１．２ｍｍの基板のプレグルーブ側の表面
に、回転数３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍまで変化させ
ながらスピンコートにより塗布し、プレグルーブ内の底
部からの厚さが２００ｎｍの色素記録層を形成した。次
に、色素記録層に金をスパッタリングして光反射層を形
成した。更に光反射層上に紫外線硬化性樹脂（大日本イ
ンキ化学工業製 ＳＤ−２２０）を回転数を３００ｒｐ
ｍ〜４０００ｒｐｍまで変化させながらスピンコートに
より塗布した。塗布後、その上から高圧水銀灯により紫
外線を照射して層厚８μｍの保護層を形成した。以上の
工程により、基板、色素記録層、光反射層および保護層
からなる本発明のＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体を製造し
た。
【００７５】実施例２〜６ シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリウレタ
ン樹脂の添加量を該色素に対して表１に記載した様に変
更した点を除き実施例１と同様の方法で実施例２〜６の
光情報記録媒体を作製した。
【００７６】比較例１ シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリウレタ
ン樹脂を添加しなかった点を除き実施例１と同様の方法
で比較例１の光情報記録媒体を作製した。
【００７７】比較例２〜５ シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリウレタ
ン樹脂を表１に記載した化合物に変更した点を除き実施
例１と同様の方法で比較例２〜５の光情報記録媒体を作
製し、以下に記載の測定方法によって評価した。
【００７８】
【表１】 色素 バインダー 評価結果 種類 種類 Ｔｇ 対色素 反射率 保存耐久性 耐光性 (℃) 添加量 （％） フ゛ロックエラー 3Tシ゛ッター フ゛ロックエラー (重量部) (個/秒) (n秒) (個/秒) 実施例１ １-４ CA139 50 １ ６８．０ ４６ １６ ３９ 実施例２ １-４ CA139 50 ５ ６９．５ １６ １３ ２４ 実施例３ １-４ CA139 50 １０ ７０．５ １０ １０ ２１ 実施例４ １-４ CA139 50 １５ ７１．５ ２６ １４ ３０ 実施例５ １-４ CA139 50 ５０ ７４．５ ３９ １６ ４３ 実施例６ １-４ CA139 50 １００ ７６．５ ５７ ２１ ４７ 比較例１ １-４ --- -- 無添加 ６４．５ １３０ ３３ ７６ 比較例２ １-４ ウレタン1 65 １０ ６９．０ １５６ ４２ ８２ 比較例３ Ｉ-４ ウレタン2 23 １０ ６６．５ １７０ ３９ ７４ 比較例４ Ｉ-４ アセタール 110 １０ ６７．０ １８０ ３３ ７６ 比較例５ Ｉ-４ DAC 195 １０ ６６．５ 脱色し測定不能 認識せず
【００７９】 表におけるバインダーの組成 ＣＡ１３９：シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリウレタン樹脂（商 品名：モルセン） 組成：シクロヘキサンジメタノール／１，４−ブタンジオール／ア ジピン酸／アゼライン酸／フェニルメタンジイソシアネート ＝０．８／１．７／１．２／０．２／１ 分子量：１０００００ ウレタン１：ポリウレタン樹脂 組成：ネオペンチルグリコール／エチレングリコール／プロピレン グリコール／フタル酸／フェニルメタンジイソシアネート ＝３．２／２．８／１０／３／１ 分子量：４００００ ウレタン２：ポリウレタン樹脂 組成：ネオペンチルグリコール／カプロラクトン／フタル酸／フェ ニルメタンジイソシアネート＝０．９／２．６／０．３／１ 分子量：５００００ アセタール：ポリビニルアセタール樹脂 組成：ポリビニルアセテート／ビニルアセテート／ビニルアルコー ル共重合体 分子量：８００００ ＤＡＣ ：セルロースジアセテート 分子量：１７００００
【００８０】測定方法 （１）反射率 得られた試料の未記録部の反射率（波長７８０ｎｍ）を
ＣＤ−Ｒディスクテスター（パルステック工業製ＯＭＴ
−２０００）を用いて測定した。 （２）保存耐久性 得られた試料を波長７８０ｎｍ、線速度１．２ｍ／秒で
３ＴのＥＦＭ信号をレーザーパワーを４ｍＷ〜９ｍＷま
で変化させて記録した。その後、９０℃、９０％ＲＨの
環境条件下で４８時間保存した。保存後の試料に対して
ＣＤ−Ｒディスクテスター（パルステック社製ＯＭＴ−
２０００）を用いて最適パワーでの記録特性（ブロック
エラーおよび３Ｔジッター）を調べ、保存耐久性を評価
した。 （３）耐光性 耐候試験機（スガ試験器製フェードメーター）を使用
し、照射光量：３３５Ｗ／ｍ2 、ブラックパネル温度：
３５℃、湿度７５％ＲＨの条件で２４時間基板面から照
射し、照射後の試料に対してＣＤ−Ｒディスクテスター
（パルステック社製ＯＭＴ−２０００）を用いて最適パ
ワーでの記録特性（ブロックエラー）を調べ、保存耐久
性を評価した。なお、表において「認識せず」とはＣＤ
−Ｒディスクテスターで、記録媒体として認識されなか
ったことを示している。
【００８１】
【発明の効果】記録層に特定のシアニン色素とシクロヘ
キサンジメタノール系ポリエステルポリウレタン樹脂を
含有した本発明光情報記録媒体は、基板との密着力、記
録再生時に使用されるレーザー光に対する反射率が向上
し、さらに高温高湿度環境下に保存した後においても良
好な記録再生特性を維持しており、実用的な性能が優れ
た光情報記録媒体が得られる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 透明基板上に光照射により信号の記録が
    可能な色素記録層、更にその上に金属反射層を有するヒ
    ートモード型の光情報記録媒体において、該色素記録層
    は下記一般式（１）で表されるシアニン色素、およびシ
    クロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリウレタン
    樹脂を含有することを特徴とする光情報記録媒体。 ［ＤＹＥ+ ］n Ｘn- （１） ［式中、ＤＹＥ+ は、一価のシアニン色素陽イオンを表
    し、ｎは２以上の整数を表し、Ｘn-はｎ価の多価陰イオ
    ンを表す。］
  2. 【請求項２】 シアニン色素が下記一般式（２）または
    一般式（２Ａ）で表される化合物である請求項１記載の
    光情報記録媒体。一般式（２） 【化１】 式（２）中、ＺａおよびＺｂは各々独立に、５員もしく
    は６員の含窒素複素環を完成するために必要な原子群を
    表し、Ｒ1およびＲ2は各々独立に、アルキル基またはア
    リール基を表し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は各々独立に
    アルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｌ4およびＬ5は各
    々独立に置換または無置換のメチン基を表し（ただし、
    Ｌ1〜Ｌ5上に置換基がある場合には互いに連結して環を
    形成しても良い）、ｊは０、１または２を表し、ｋは０
    または１を表し、Ｘn-はｎ価の多価陰イオンを表し、そ
    してｎは２以上の整数を表す。一般式（２Ａ） 【化２】 式（２Ａ）中、Ｚ1およびＺ2は各々独立に、インドレニ
    ン核もしくはベンゾインドレニン核を完成するために必
    要な原子群を表し、Ｒ1およびＲ2は各々独立に、アルキ
    ル基またはアリール基を表し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6
    は各々独立にアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｌ4お
    よびＬ5は各々独立に、置換または無置換のメチン基を
    表し（ただし、Ｌ1〜Ｌ5上に置換基がある場合には互い
    に連結して環を形成しても良い）、ｊは０、１または２
    を表し、ｋは０または１を表し、Ｘn-はｎ価の多価陰イ
    オンを表し、そしてｎは２以上の整数を表す。
  3. 【請求項３】 シクロヘキサンジメタノール系ポリエス
    テルポリウレタン樹脂が、 （Ａ）：１，４−シクロヘキサンジメタノールと少なく
    ともアジピン酸、アゼライン酸および１，１２−ドデカ
    ン酸から選ばれる２塩基酸とからなる末端にＯＨ基を有
    し、水酸基価が５０から２５０のポリエステルと （Ｂ）：エチレングリコール、プロピレングリコール、
    １，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、
    １，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
    ル、１，４−シクロヘキサンジメタノールおよびヒドロ
    キノンジ（β−ヒドロキシエチル）エーテルから少なく
    とも１種以上選ばれ、ポリエステルと鎖延長剤を併せて
    水酸基価１３０から３００の鎖延長剤と、 （Ｃ）：（Ａ）と（Ｂ）とのモル比で等量の脂肪族ある
    いは芳香族ジイソシアネートからなることを特徴とする
    請求項１または２記載の光情報記録媒体。
  4. 【請求項４】 シクロヘキサンジメタノール系ポリエス
    テルポリウレタン樹脂が、１，４−シクロヘキサンジメ
    タノールとアジピン酸、アゼライン酸とからなるポリエ
    ステルと、鎖延長剤として、１，４−ブタンジオールま
    たは１，４−シクロヘキサンジメタノールの少なくとも
    いずれかを含むもの、およびジフェニルメタンジイソシ
    アネートからなることを特徴とする請求項１または２記
    載の光情報記録媒体。
  5. 【請求項５】 シクロヘキサンジメタノール系ポリエス
    テルポリウレタン樹脂のガラス転移温度が３０℃から１
    ６０℃である請求項１または２記載の光情報記録媒体。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002212454A (ja) * 2000-02-10 2002-07-31 Hayashibara Biochem Lab Inc シアニン色素
EP1125987A3 (en) * 2000-02-10 2003-11-12 Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo Cyanine dyes

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