JPH11223803A - セル基板及びセル基板の製造方法 - Google Patents
セル基板及びセル基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH11223803A JPH11223803A JP4103498A JP4103498A JPH11223803A JP H11223803 A JPH11223803 A JP H11223803A JP 4103498 A JP4103498 A JP 4103498A JP 4103498 A JP4103498 A JP 4103498A JP H11223803 A JPH11223803 A JP H11223803A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- liquid crystal
- cell substrate
- sealing material
- introduction port
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 シール材の液晶導入口近傍の分断面の品質を
向上することができ、歩留まりの高いセル基板及びセル
基板の製造方法を提供する。 【解決手段】 液晶導入口１３Ａの両側のシール材１３
にそれぞれ３つずつ突出部１３Ｂが等間隔に形成されて
いる。この突出部１３Ｂは、シール材１３の液晶導入口
１３Ａの両側にスクライブラインに先端が至るが形成さ
れているため、スクライブラインに応力を集中させるこ
とにより、突出部１３Ｂの先端がベース基板に対して１
２Ａ、１２Ｂに対して力点として作用するため、スクラ
イブラインで確実に分断することが可能となり、品質の
良好な分断面を形成することができる。このため、歩留
まりよくセル基板１１を形成することが可能となる。
向上することができ、歩留まりの高いセル基板及びセル
基板の製造方法を提供する。 【解決手段】 液晶導入口１３Ａの両側のシール材１３
にそれぞれ３つずつ突出部１３Ｂが等間隔に形成されて
いる。この突出部１３Ｂは、シール材１３の液晶導入口
１３Ａの両側にスクライブラインに先端が至るが形成さ
れているため、スクライブラインに応力を集中させるこ
とにより、突出部１３Ｂの先端がベース基板に対して１
２Ａ、１２Ｂに対して力点として作用するため、スクラ
イブラインで確実に分断することが可能となり、品質の
良好な分断面を形成することができる。このため、歩留
まりよくセル基板１１を形成することが可能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はセル基板に関し、
さらに詳しくは、透明基板がスクライブ／ブレーク法に
よって分割、形成されるセル基板に関する。
さらに詳しくは、透明基板がスクライブ／ブレーク法に
よって分割、形成されるセル基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、図５に示すようなセル基板（液晶
セル）１が知られている。このセル基板１は、対向面側
にそれぞれ電極（図示省略する）が形成された２枚のガ
ラス基板２ａ、２ｂを数μｍのギャップを介して対向配
置させ、両ガラス基板２ａ、２ｂ間に表示領域を周回す
るようにシール材３を介在させて両ガラス基板２ａ、２
ｂを接着固定した構成を有している。そして、両ガラス
基板２ａ、２ｂとシール材３とで形成される空隙４に液
晶（図示省略する）を封止した液晶表示素子の基板とし
て用いられる。なお、液晶は、シール材３の一部に、ガ
ラス基板２ａ、２ｂの一側縁より外側に突出するように
形成した液晶導入口３Ａから注入されるようになってい
る。
セル）１が知られている。このセル基板１は、対向面側
にそれぞれ電極（図示省略する）が形成された２枚のガ
ラス基板２ａ、２ｂを数μｍのギャップを介して対向配
置させ、両ガラス基板２ａ、２ｂ間に表示領域を周回す
るようにシール材３を介在させて両ガラス基板２ａ、２
ｂを接着固定した構成を有している。そして、両ガラス
基板２ａ、２ｂとシール材３とで形成される空隙４に液
晶（図示省略する）を封止した液晶表示素子の基板とし
て用いられる。なお、液晶は、シール材３の一部に、ガ
ラス基板２ａ、２ｂの一側縁より外側に突出するように
形成した液晶導入口３Ａから注入されるようになってい
る。
【０００３】このようなセル基板１は、図６に示すよう
に、複数が、面積の広い２枚の合わせ基板２Ａ、２Ｂに
形成され、個々のセル基板１とするためにはスクライブ
ライン（図中破線で示す）５に沿って、スクライブ／ブ
レーク法により切断することにより分割形成されてい
る。ところで、アルカリガラスを基板に用いたアクティ
ブマトリクス型の液晶表示素子では、ガラスからのアル
カリ成分が、液晶に混入して劣化させたり、薄膜トラン
ジスタ（ＴＦＴ）性能に悪影響する懸念があった。 そ
して、基板上にＴＦＴの形成の際のガラス自体の熱収縮
を抑える目的、またパターニングの際に用いる酸やアル
カリに対する耐薬品性の配慮から、基板Ｂには、耐薬品
性や耐熱性に優れた無アルカリガラスが選択されてい
た。
に、複数が、面積の広い２枚の合わせ基板２Ａ、２Ｂに
形成され、個々のセル基板１とするためにはスクライブ
ライン（図中破線で示す）５に沿って、スクライブ／ブ
レーク法により切断することにより分割形成されてい
る。ところで、アルカリガラスを基板に用いたアクティ
ブマトリクス型の液晶表示素子では、ガラスからのアル
カリ成分が、液晶に混入して劣化させたり、薄膜トラン
ジスタ（ＴＦＴ）性能に悪影響する懸念があった。 そ
して、基板上にＴＦＴの形成の際のガラス自体の熱収縮
を抑える目的、またパターニングの際に用いる酸やアル
カリに対する耐薬品性の配慮から、基板Ｂには、耐薬品
性や耐熱性に優れた無アルカリガラスが選択されてい
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、合わせ
た基板２Ａ、２Ｂから個々のセル基板１に分割する際
に、シール材３の液晶導入口３Ａが形成されている分断
部分の品質は、液晶導入口３Ａとその両側とで差がみら
れ、割りしろが狭い場合、液晶導入口３Ａの両側の分断
面の品質低下により、歩留まりが低下するという問題が
あった。特に、このような問題は、無アルカリガラスを
基板２Ａ、２Ｂに使用した場合に発生し易い。上記した
問題を解決することが要望されている。
た基板２Ａ、２Ｂから個々のセル基板１に分割する際
に、シール材３の液晶導入口３Ａが形成されている分断
部分の品質は、液晶導入口３Ａとその両側とで差がみら
れ、割りしろが狭い場合、液晶導入口３Ａの両側の分断
面の品質低下により、歩留まりが低下するという問題が
あった。特に、このような問題は、無アルカリガラスを
基板２Ａ、２Ｂに使用した場合に発生し易い。上記した
問題を解決することが要望されている。
【０００５】この発明の課題は、シール材の液晶導入口
近傍の分断面の品質低下を防止した歩留まりの高いセル
基板及びセル基板の製造方法を得るにはどのような手段
を講じればよいかという点にある。
近傍の分断面の品質低下を防止した歩留まりの高いセル
基板及びセル基板の製造方法を得るにはどのような手段
を講じればよいかという点にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
少なくとも一方が透明な、相対向する基板どうしの間
に、表示領域を周回するようにシール材が介在され、該
シール材の一部に液晶導入口が突出して形成されたセル
基板であって、前記液晶導入口の側方に位置する前記シ
ール材に、外側に向けて突出し、かつ先端が前記基板の
周縁近傍に位置するように延在された突出部が形成され
ていることを特徴とする。請求項２記載の発明は、前記
ガラス基板が、無アルカリガラスでなることを特徴とす
る。
少なくとも一方が透明な、相対向する基板どうしの間
に、表示領域を周回するようにシール材が介在され、該
シール材の一部に液晶導入口が突出して形成されたセル
基板であって、前記液晶導入口の側方に位置する前記シ
ール材に、外側に向けて突出し、かつ先端が前記基板の
周縁近傍に位置するように延在された突出部が形成され
ていることを特徴とする。請求項２記載の発明は、前記
ガラス基板が、無アルカリガラスでなることを特徴とす
る。
【０００７】請求項１記載の発明では、液晶導入口の両
側のシール材に、外側に向けて突出する突出部が形成さ
れているため、基板をスクライブ／ブレーク法で分断す
る際に、シール材の突出部の先端が力点として作用して
分断を容易かつ確実にすることができる。このため、基
板の周縁の分断面の品質を向上することができる。特
に、請求項２記載の発明では、無アルカリガラスを基板
に用いるアクティブマトリクス型のセル基板の歩留まり
を向上することが可能になる。
側のシール材に、外側に向けて突出する突出部が形成さ
れているため、基板をスクライブ／ブレーク法で分断す
る際に、シール材の突出部の先端が力点として作用して
分断を容易かつ確実にすることができる。このため、基
板の周縁の分断面の品質を向上することができる。特
に、請求項２記載の発明では、無アルカリガラスを基板
に用いるアクティブマトリクス型のセル基板の歩留まり
を向上することが可能になる。
【０００８】請求項３記載の発明は、請求項１又は２の
いずれかに記載のセル基板であって、前記突出部が、前
記基板の周縁に沿って複数、形成されていることを特徴
とする。
いずれかに記載のセル基板であって、前記突出部が、前
記基板の周縁に沿って複数、形成されていることを特徴
とする。
【０００９】請求項３記載の発明では、複数のシール材
の突出部が基板の周縁（スクライブライン）に沿って形
成されているため、基板をシール材の突出部の先端を力
点として分断することで分断面の品質を向上することが
できる。請求項４記載の発明は、少なくとも一方が透明
な一対の相対向する基板どうしの間に、表示領域を周回
するシール材が介在されたセル基板の製造方法であっ
て、前記シール材は、液晶を導入する液晶導入口及び分
割ラインに沿って突出した突出部を構成し、前記基板を
基板部材の分割により形成する際に、前記分割ラインに
沿って分割することを特徴とするセル基板の製造方法。
請求項４記載の発明によれば、前記基板を基板部材の分
割により形成する際に、シール材の突出部が分割ライン
に沿って形成されているので、良好に分割することがで
き、歩留まりを向上することができる。
の突出部が基板の周縁（スクライブライン）に沿って形
成されているため、基板をシール材の突出部の先端を力
点として分断することで分断面の品質を向上することが
できる。請求項４記載の発明は、少なくとも一方が透明
な一対の相対向する基板どうしの間に、表示領域を周回
するシール材が介在されたセル基板の製造方法であっ
て、前記シール材は、液晶を導入する液晶導入口及び分
割ラインに沿って突出した突出部を構成し、前記基板を
基板部材の分割により形成する際に、前記分割ラインに
沿って分割することを特徴とするセル基板の製造方法。
請求項４記載の発明によれば、前記基板を基板部材の分
割により形成する際に、シール材の突出部が分割ライン
に沿って形成されているので、良好に分割することがで
き、歩留まりを向上することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、この発明に係るセル基板及
びその製造方法の詳細を図面に示す実施形態に基づいて
説明する。図１は本実施形態の複数のセル基板１１を、
２枚のベース基板１２Ａ、１２Ｂに作り込んだ状態を示
す平面説明図であり、図２はベース基板１２Ａ、１２Ｂ
を切断してセル基板１１を分断した状態を示す平面説明
図である。
びその製造方法の詳細を図面に示す実施形態に基づいて
説明する。図１は本実施形態の複数のセル基板１１を、
２枚のベース基板１２Ａ、１２Ｂに作り込んだ状態を示
す平面説明図であり、図２はベース基板１２Ａ、１２Ｂ
を切断してセル基板１１を分断した状態を示す平面説明
図である。
【００１１】本実施形態のセル基板１１は、透明な無ア
ルカリガラスでなる面積の大きい２枚のベース基板１２
Ａ、１２Ｂに複数のセル基板１１を作成したものをスク
ライブ／ブレーク法により分断したものである。ベース
基板１２Ａ、１２Ｂの対応する各素子形成領域には、周
知の通り、図示しない共通電極、画素電極や、スイッチ
ング素子としてのＴＦＴや、配向膜などが形成されてい
る。また、両ベース基板１２Ａ、１２Ｂの相対向する面
に形成された配向膜どうしの間に、それぞれのセル基板
１１の表示領域を周回するように、シール材１３が形成
されている。このシール材１３は、図１に示すように、
ベース基板１２Ａ、１２Ｂのそれぞれの素子形成領域を
区画する矩形状のスクライブライン（図中破線で示す）
１４の一側縁（Ｃ３）の略中央から突出するように液晶
導入口１３Ａが形成されている。この液晶導入口１３Ａ
の両側方のシール材１３の外壁には、先端がスクライブ
ライン１４の一側縁（Ｃ３）に至るように膨出する突出
部１３Ｂが、間欠的に複数、形成されている。なお、本
実施形態では、突出部１３Ｂどうしの間隔を３〜６ｍｍ
程度に設定し、液晶導入口１３Ａから最も近い突出部１
３Ｂまでの距離を３ｍｍ以上としている。
ルカリガラスでなる面積の大きい２枚のベース基板１２
Ａ、１２Ｂに複数のセル基板１１を作成したものをスク
ライブ／ブレーク法により分断したものである。ベース
基板１２Ａ、１２Ｂの対応する各素子形成領域には、周
知の通り、図示しない共通電極、画素電極や、スイッチ
ング素子としてのＴＦＴや、配向膜などが形成されてい
る。また、両ベース基板１２Ａ、１２Ｂの相対向する面
に形成された配向膜どうしの間に、それぞれのセル基板
１１の表示領域を周回するように、シール材１３が形成
されている。このシール材１３は、図１に示すように、
ベース基板１２Ａ、１２Ｂのそれぞれの素子形成領域を
区画する矩形状のスクライブライン（図中破線で示す）
１４の一側縁（Ｃ３）の略中央から突出するように液晶
導入口１３Ａが形成されている。この液晶導入口１３Ａ
の両側方のシール材１３の外壁には、先端がスクライブ
ライン１４の一側縁（Ｃ３）に至るように膨出する突出
部１３Ｂが、間欠的に複数、形成されている。なお、本
実施形態では、突出部１３Ｂどうしの間隔を３〜６ｍｍ
程度に設定し、液晶導入口１３Ａから最も近い突出部１
３Ｂまでの距離を３ｍｍ以上としている。
【００１２】本実施形態では、液晶導入口１３Ａの両側
のシール材１３にそれぞれ３つずつ突出部１３Ｂが等間
隔に形成されたものであり、液晶導入口１３Ａが形成さ
れたシール材１３の一側縁（１辺）にわたって突出部１
３Ｂが略均等に配置された形状となっている。
のシール材１３にそれぞれ３つずつ突出部１３Ｂが等間
隔に形成されたものであり、液晶導入口１３Ａが形成さ
れたシール材１３の一側縁（１辺）にわたって突出部１
３Ｂが略均等に配置された形状となっている。
【００１３】このように、ベース基板１２Ａ、１２Ｂの
スクライブライン１４でスクライブ／ブレーク法により
分断することにより、図２に示すようなセル基板１１が
形成される。このとき、図１に示したベース基板１２Ａ
は、シール材１３の周囲近傍に沿って分断されて基板１
２ａとなるが、ベース基板１２Ｂは液晶駆動用ＩＣ搭載
領域を備えるためシール材１３の２辺からやや外側位置
で分断されて、図２に示すように面積の広い基板１２ｂ
となる。
スクライブライン１４でスクライブ／ブレーク法により
分断することにより、図２に示すようなセル基板１１が
形成される。このとき、図１に示したベース基板１２Ａ
は、シール材１３の周囲近傍に沿って分断されて基板１
２ａとなるが、ベース基板１２Ｂは液晶駆動用ＩＣ搭載
領域を備えるためシール材１３の２辺からやや外側位置
で分断されて、図２に示すように面積の広い基板１２ｂ
となる。
【００１４】次に、図１に示したベース基板１２Ａ、１
２Ｂをスクライブ／ブレーク法で分断する場合の手順の
一例を説明する。まず、図１に示すように、ベース基板
１２Ａ、１２Ｂともに、分断ラインＣ１で分断を行う。
その後、分断ラインＣ２に沿って分断を行って、個々の
セル基板１１に分断する。その後、ベース基板１２Ａ側
のみを図３に一点鎖線で示すように分断を行って基板１
２ａを形成する。さらに、図３に示すようにベース基板
１２Ｂ側の液晶導入口１３Ａが形成された部分のスクラ
イブライン１４と重なる分断ラインＣ３に沿って分断を
行うことによりセル基板１１を形成する。図４は図３の
Ａ−Ａ断面図である。なお、このように形成されたセル
基板１１に対して、適宜偏光板などを配置する工程を経
ることにより、完全に液晶表示装置を製造することが可
能となる。
２Ｂをスクライブ／ブレーク法で分断する場合の手順の
一例を説明する。まず、図１に示すように、ベース基板
１２Ａ、１２Ｂともに、分断ラインＣ１で分断を行う。
その後、分断ラインＣ２に沿って分断を行って、個々の
セル基板１１に分断する。その後、ベース基板１２Ａ側
のみを図３に一点鎖線で示すように分断を行って基板１
２ａを形成する。さらに、図３に示すようにベース基板
１２Ｂ側の液晶導入口１３Ａが形成された部分のスクラ
イブライン１４と重なる分断ラインＣ３に沿って分断を
行うことによりセル基板１１を形成する。図４は図３の
Ａ−Ａ断面図である。なお、このように形成されたセル
基板１１に対して、適宜偏光板などを配置する工程を経
ることにより、完全に液晶表示装置を製造することが可
能となる。
【００１５】本実施形態のセル基板１１では、シール材
１３の液晶導入口１３Ａの両側にスクライブラインに先
端が至る突出部１３Ｂが形成されているため、スクライ
ブラインに応力を集中させることにより、シール材１３
の突出部１３Ｂが力点として作用するため、スクライブ
ラインで確実に分断することが可能となり、品質の良好
な分断面を形成することができる。このため、歩留まり
よくセル基板１１を形成することが可能となる。また、
液晶導入口１３Ａは分断ラインＣ３及び突出部１３Ｂよ
り突出しているので、液晶の入った液晶だめの液面に接
触しやすく真空注入しやすい。このため、突出部１３Ｂ
が液晶に接触しにくいようになっているので、液晶注入
時に液晶が突出部１３Ｂから回り込んでセルを汚すこと
がない。
１３の液晶導入口１３Ａの両側にスクライブラインに先
端が至る突出部１３Ｂが形成されているため、スクライ
ブラインに応力を集中させることにより、シール材１３
の突出部１３Ｂが力点として作用するため、スクライブ
ラインで確実に分断することが可能となり、品質の良好
な分断面を形成することができる。このため、歩留まり
よくセル基板１１を形成することが可能となる。また、
液晶導入口１３Ａは分断ラインＣ３及び突出部１３Ｂよ
り突出しているので、液晶の入った液晶だめの液面に接
触しやすく真空注入しやすい。このため、突出部１３Ｂ
が液晶に接触しにくいようになっているので、液晶注入
時に液晶が突出部１３Ｂから回り込んでセルを汚すこと
がない。
【００１６】以上、実施形態について説明したが、本発
明はこれに限定されるものではなく、構成の要旨に付随
する各種の変更が可能である。例えば、上記した実施形
態では、シール材１３の液晶導入口１３Ａの両側に３つ
ずつ突出部１３Ｂを形成したが、液晶導入口１３Ａが形
成されたシール材１３の縁部に１つ以上の突出部が形成
されている構成であればよい。また、上記した実施形態
では、シール材１３に形成した突出部１３Ｂの先端がス
クライブラインに一致するように形成されているが、突
出部１３Ｂの先端とスクライブラインとの間の距離が
０．１ｍｍ以内であればスクライブ／ブレーク法により
品質の良好な分断面を得ることが可能である。
明はこれに限定されるものではなく、構成の要旨に付随
する各種の変更が可能である。例えば、上記した実施形
態では、シール材１３の液晶導入口１３Ａの両側に３つ
ずつ突出部１３Ｂを形成したが、液晶導入口１３Ａが形
成されたシール材１３の縁部に１つ以上の突出部が形成
されている構成であればよい。また、上記した実施形態
では、シール材１３に形成した突出部１３Ｂの先端がス
クライブラインに一致するように形成されているが、突
出部１３Ｂの先端とスクライブラインとの間の距離が
０．１ｍｍ以内であればスクライブ／ブレーク法により
品質の良好な分断面を得ることが可能である。
【００１７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、この発
明によれば、シール材の液晶導入口近傍の分断面の品質
を向上することができ、歩留まりの高いセル基板を得る
効果を奏する。
明によれば、シール材の液晶導入口近傍の分断面の品質
を向上することができ、歩留まりの高いセル基板を得る
効果を奏する。
【図１】本発明に係るセル基板の実施形態を示す、ベー
ス基板から分断する前の状態を示す平面説明図。
ス基板から分断する前の状態を示す平面説明図。
【図２】本実施形態のセル基板の平面図。
【図３】本実施形態のセル基板の製造過程を示す平面説
明図。
明図。
【図４】図４のＡ−Ａ断面図。
【図５】従来のセル基板を示す平面説明図。
【図６】従来のセル基板の製造過程を示す平面説明図。
【符号の説明】 １１ セル基板 １２Ａ、１２Ｂ ベース基板 １３ シール材 １３Ａ 液晶導入口 １３Ｂ 突出部 １４ スクライブライン Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３ 分断ライン
Claims (4)
- 【請求項１】 少なくとも一方が透明な一対の相対向す
る基板どうしの間に、表示領域を周回するようにシール
材が介在され、該シール材の一部に液晶導入口が突出し
て形成されたセル基板であって、 前記液晶導入口の側方に位置する前記シール材に、外側
に向けて突出し、かつ先端が前記基板の周縁近傍に位置
するように延在された突出部が形成されていることを特
徴とするセル基板。 - 【請求項２】 前記基板は、無アルカリガラスでなるこ
とを特徴とする請求項１記載のセル基板。 - 【請求項３】 前記突出部は、前記基板の周縁に沿って
複数、形成されていることを特徴とする請求項１又は２
のいずれかに記載のセル基板。 - 【請求項４】 少なくとも一方が透明な一対の相対向す
る基板どうしの間に、表示領域を周回するシール材が介
在されたセル基板の製造方法であって、 前記シール材は、液晶を導入する液晶導入口及び分割ラ
インに沿って突出した突出部を構成し、 前記基板を基板部材の分割により形成する際に、前記分
割ラインに沿って分割することを特徴とするセル基板の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4103498A JPH11223803A (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | セル基板及びセル基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4103498A JPH11223803A (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | セル基板及びセル基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11223803A true JPH11223803A (ja) | 1999-08-17 |
Family
ID=12597126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4103498A Pending JPH11223803A (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | セル基板及びセル基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11223803A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1316292C (zh) * | 2000-09-07 | 2007-05-16 | 精工爱普生株式会社 | 液晶盒间隙调整装置、加压封装装置及液晶显示装置的制造方法 |
-
1998
- 1998-02-09 JP JP4103498A patent/JPH11223803A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1316292C (zh) * | 2000-09-07 | 2007-05-16 | 精工爱普生株式会社 | 液晶盒间隙调整装置、加压封装装置及液晶显示装置的制造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8189156B2 (en) | Display panel comprising at least one scribe mark formed of thinnest conductive member | |
| KR970066671A (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| CN101046585B (zh) | 液晶单元集合体及液晶单元的制造方法 | |
| JPS63279228A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP4011924B2 (ja) | 液晶表示パネル | |
| US7911576B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display device | |
| KR100698042B1 (ko) | 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
| JPH06289429A (ja) | 薄膜トランジスタパネル | |
| TW200530659A (en) | Photoelectric device and its manufacture, substrate cutting method and substrates for photoelectric devices | |
| KR100490553B1 (ko) | 평판형 표시장치의 제조방법 및 이 방법을 이용한 박형평판 표시장치. | |
| JP3747760B2 (ja) | 液晶セルの製造方法 | |
| JP4102913B2 (ja) | 液晶表示パネルとその製造方法 | |
| JP3853946B2 (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示装置 | |
| JP2000147446A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
| KR100446966B1 (ko) | 액정 표시장치 | |
| KR100268011B1 (ko) | 액정표시소자제조방법 | |
| KR20000025751A (ko) | 액정표시장치의 제조방법 | |
| JPH0695131A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JPH11337952A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JPH08146452A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2768326B2 (ja) | 液晶表示パネル及びその製造方法 | |
| JP3131877B2 (ja) | 液晶パネルの製造方法 | |
| JP2001083532A (ja) | 液晶素子 | |
| JP2974309B1 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH08201836A (ja) | 液晶表示装置 |