JPH11228577A - 高純度スピログリコールの製造方法 - Google Patents
高純度スピログリコールの製造方法Info
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- JPH11228577A JPH11228577A JP10028480A JP2848098A JPH11228577A JP H11228577 A JPH11228577 A JP H11228577A JP 10028480 A JP10028480 A JP 10028480A JP 2848098 A JP2848098 A JP 2848098A JP H11228577 A JPH11228577 A JP H11228577A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた光学特性、耐熱性及び耐衝撃性を有す
る新規な共重合ポリカーボネート樹脂及びその製造方法
を提供すること。 【解決手段】 特定の芳香族ジヒドロキシ化合物、特定
の脂肪族ジヒドロキシ化合物および炭酸ジエステルから
合成される芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂
およびこの製造方法。
る新規な共重合ポリカーボネート樹脂及びその製造方法
を提供すること。 【解決手段】 特定の芳香族ジヒドロキシ化合物、特定
の脂肪族ジヒドロキシ化合物および炭酸ジエステルから
合成される芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂
およびこの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はスピログリコールを
精製して高純度の３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，
１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキ
サスピロ［５．５］ウンデカンを製造する方法に関する
ものである。３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−
ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ［５．５］ウンデカンは下記の化学構造を有し、本
明細書では以下、この化合物をスピログリコールとい
う。
精製して高純度の３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，
１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキ
サスピロ［５．５］ウンデカンを製造する方法に関する
ものである。３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−
ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ［５．５］ウンデカンは下記の化学構造を有し、本
明細書では以下、この化合物をスピログリコールとい
う。
【化３】
【０００２】スピログリコールは、ウレタン、エステ
ル、チオール、エーテル化合物等の低分子化合物の合成
原料として、また、ポリウレタン、ポリエステル、ポリ
エーテルポリオール、ポリカーボネート、エポキシ樹脂
等の高分子化合物の重合原料として、更には合成潤滑
油、架橋剤、反応性希釈剤、可塑剤、接着剤、改質剤、
酸化防止剤、光安定剤等の原料として、また光硬化性、
耐薬品性、耐熱性、耐摩耗性、耐衝撃性樹脂の原料とし
て有用である。
ル、チオール、エーテル化合物等の低分子化合物の合成
原料として、また、ポリウレタン、ポリエステル、ポリ
エーテルポリオール、ポリカーボネート、エポキシ樹脂
等の高分子化合物の重合原料として、更には合成潤滑
油、架橋剤、反応性希釈剤、可塑剤、接着剤、改質剤、
酸化防止剤、光安定剤等の原料として、また光硬化性、
耐薬品性、耐熱性、耐摩耗性、耐衝撃性樹脂の原料とし
て有用である。
【０００３】中でも、スピログリコール、ビスフェノー
ル類、炭酸ジエステルの重縮合によって得られる共重合
ポリカーボネート樹脂は、透明性、光学物性バランスに
優れ、各種レンズ、プリズム、光ディスク基板などのプ
ラスチック光学材料として好適に利用できるものであ
る。
ル類、炭酸ジエステルの重縮合によって得られる共重合
ポリカーボネート樹脂は、透明性、光学物性バランスに
優れ、各種レンズ、プリズム、光ディスク基板などのプ
ラスチック光学材料として好適に利用できるものであ
る。
【０００４】
【従来の技術】スピログリコールは、ヒドロキシピバル
アルデヒドとペンタエリスリトールとのアセタール化反
応によって製造される。例えば、反応媒体にトルエン、
キシレンなどの溶媒を用いて共沸脱水しながら反応を行
う方法（米国特許第２９４５００８号）、濃塩酸にペン
タエリスリトールを溶解した後ヒドロキシピバルアルデ
ヒドを徐々に添加しながら反応を行う方法（特開昭４８
−９６５９０号）、反応媒体に水を用いる方法（米国特
許第３０９２６４０号）、反応媒体に有機溶媒を用いる
方法（特開平７−２１５９７９号）等が開示されてい
る。
アルデヒドとペンタエリスリトールとのアセタール化反
応によって製造される。例えば、反応媒体にトルエン、
キシレンなどの溶媒を用いて共沸脱水しながら反応を行
う方法（米国特許第２９４５００８号）、濃塩酸にペン
タエリスリトールを溶解した後ヒドロキシピバルアルデ
ヒドを徐々に添加しながら反応を行う方法（特開昭４８
−９６５９０号）、反応媒体に水を用いる方法（米国特
許第３０９２６４０号）、反応媒体に有機溶媒を用いる
方法（特開平７−２１５９７９号）等が開示されてい
る。
【０００５】しかしながら、いずれの方法によって得ら
れたスピログリコールも、未精製のまま原料として使用
すると製品の着色、物性低下等を引き起こす場合があ
る。中でも、未精製スピログリコール（以下、粗スピロ
グリコールと称する）をビスフェノール類および炭酸ジ
エステルとエステル交換反応させた場合、得られる共重
合ポリカーボネート樹脂が著しく着色するという難点が
あり、レンズ、光ディスク基板等の光学材料として外観
上好ましくない。
れたスピログリコールも、未精製のまま原料として使用
すると製品の着色、物性低下等を引き起こす場合があ
る。中でも、未精製スピログリコール（以下、粗スピロ
グリコールと称する）をビスフェノール類および炭酸ジ
エステルとエステル交換反応させた場合、得られる共重
合ポリカーボネート樹脂が著しく着色するという難点が
あり、レンズ、光ディスク基板等の光学材料として外観
上好ましくない。
【０００６】肉眼で識別困難な程度に着色の少ない共重
合ポリカーボネート樹脂を得るためには、粗スピログリ
コールを精製して用いる必要がある。精製法としては、
蒸留法、昇華法、再結晶法、溶媒抽出法等が代表的な精
製法である。しかし、蒸留法、昇華法、溶媒抽出法では
粗スピログリコールの精製が不十分で共重合ポリカーボ
ネート樹脂の着色を防ぎきれない。また、再結晶法で
は、メタノール、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド等の極性溶媒を用いることにより着色の少ない共
重合ポリカーボネート樹脂を与える高純度のスピログリ
コールを得ることが可能であるが、溶媒使用量が多い、
あるいはスピログリコール回収率が低い、あるいは多回
数の再結晶操作を要する等の難点があり、工業的に多大
の精製コストを要するという問題点を有する。かかる問
題点を解決するような、溶媒使用量が少なく、かつスピ
ログリコール回収率の高い再結晶溶媒系は見いだされて
いなかった。
合ポリカーボネート樹脂を得るためには、粗スピログリ
コールを精製して用いる必要がある。精製法としては、
蒸留法、昇華法、再結晶法、溶媒抽出法等が代表的な精
製法である。しかし、蒸留法、昇華法、溶媒抽出法では
粗スピログリコールの精製が不十分で共重合ポリカーボ
ネート樹脂の着色を防ぎきれない。また、再結晶法で
は、メタノール、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド等の極性溶媒を用いることにより着色の少ない共
重合ポリカーボネート樹脂を与える高純度のスピログリ
コールを得ることが可能であるが、溶媒使用量が多い、
あるいはスピログリコール回収率が低い、あるいは多回
数の再結晶操作を要する等の難点があり、工業的に多大
の精製コストを要するという問題点を有する。かかる問
題点を解決するような、溶媒使用量が少なく、かつスピ
ログリコール回収率の高い再結晶溶媒系は見いだされて
いなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術における上記したような課題を解決し、溶媒使用量
が少なく、かつスピログリコール回収率が高い再結晶溶
媒を提供することにある。
技術における上記したような課題を解決し、溶媒使用量
が少なく、かつスピログリコール回収率が高い再結晶溶
媒を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、スピログ
リコールの再結晶法による精製において、溶媒使用量が
少なく、かつスピログリコール回収率が高い再結晶溶媒
について鋭意検討を重ねた結果、酸アミドのアルキル置
換体（以下アミド化合物と称する。）と芳香族化合物と
からなる溶媒を再結晶溶媒として用いることにより上記
課題を解決しうることを見いだし本発明に到達した。
リコールの再結晶法による精製において、溶媒使用量が
少なく、かつスピログリコール回収率が高い再結晶溶媒
について鋭意検討を重ねた結果、酸アミドのアルキル置
換体（以下アミド化合物と称する。）と芳香族化合物と
からなる溶媒を再結晶溶媒として用いることにより上記
課題を解決しうることを見いだし本発明に到達した。
【０００９】すなわち、本発明は、下記一般式（１）で
示されるアミド化合物の少なくとも一種と下記一般式
（２）で示される芳香族化合物の少なくとも一種とから
なる溶媒を再結晶溶媒として用いることを特徴とするも
のである。
示されるアミド化合物の少なくとも一種と下記一般式
（２）で示される芳香族化合物の少なくとも一種とから
なる溶媒を再結晶溶媒として用いることを特徴とするも
のである。
【化４】
【化５】
【００１０】
【発明の実施の形態】上記式（１）で示されるアミド化
合物として、具体的には、ホルムアミド、アセトアミ
ド、プロピオンアミド、ブチルアミド、Ｎ−メチルホル
ムアミド、Ｎ−ブチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセト
アミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−メチ
ルエチルホルムアミド等が例示され、中でもＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが
好適に使用される。
合物として、具体的には、ホルムアミド、アセトアミ
ド、プロピオンアミド、ブチルアミド、Ｎ−メチルホル
ムアミド、Ｎ−ブチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセト
アミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−メチ
ルエチルホルムアミド等が例示され、中でもＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが
好適に使用される。
【００１１】上記式（２）で示される芳香族化合物とし
て、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリ
メチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、エチルベンゼ
ン、ジエチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ｎ−プロ
ピルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジ−ｎ−プロピ
ルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、ｎ−ブチルベン
ゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、モノクロロベン
ゼン、テトラリン等が例示され、中でもトルエン、キシ
レンが好適に使用される。
て、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリ
メチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、エチルベンゼ
ン、ジエチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ｎ−プロ
ピルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジ−ｎ−プロピ
ルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、ｎ−ブチルベン
ゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、モノクロロベン
ゼン、テトラリン等が例示され、中でもトルエン、キシ
レンが好適に使用される。
【００１２】本発明において用いられる溶媒は、上記ア
ミド化合物の少なくとも一種と芳香族化合物の少なくと
も一種とからなり、各々二種以上を混合して用いてもよ
い。
ミド化合物の少なくとも一種と芳香族化合物の少なくと
も一種とからなり、各々二種以上を混合して用いてもよ
い。
【００１３】本発明においては、上記アミド化合物と芳
香族化合物との重量比（芳香族化合物／アミド化合物）
が１０／９０〜９０／１０である混合溶媒を用いる。重
量比が１０／９０より小さい場合には、混合溶媒の使用
量が多くなり好ましくない。また、重量比が９０／１０
より大きい場合には、スピログリコールの回収率が低く
なるため、また不純物を十分にとりきれないため好まし
くない。より好ましい、アミド化合物と芳香族化合物と
の重量比は２０／８０〜８０／２０である。
香族化合物との重量比（芳香族化合物／アミド化合物）
が１０／９０〜９０／１０である混合溶媒を用いる。重
量比が１０／９０より小さい場合には、混合溶媒の使用
量が多くなり好ましくない。また、重量比が９０／１０
より大きい場合には、スピログリコールの回収率が低く
なるため、また不純物を十分にとりきれないため好まし
くない。より好ましい、アミド化合物と芳香族化合物と
の重量比は２０／８０〜８０／２０である。
【００１４】再結晶操作は、粗スピログリコールを混合
溶媒に加熱溶解後、冷却する公知の方法により実施され
る。
溶媒に加熱溶解後、冷却する公知の方法により実施され
る。
【００１５】溶解槽はジャケット、攪拌機付きの容器を
用いるのが好ましい。溶解槽材質はグラスライニング、
鉄、ステンレス鋼等安価な材質が用いられるが、鉄分の
混入を防ぐためにはグラスライニングもしくはステンレ
ス鋼が好ましい。
用いるのが好ましい。溶解槽材質はグラスライニング、
鉄、ステンレス鋼等安価な材質が用いられるが、鉄分の
混入を防ぐためにはグラスライニングもしくはステンレ
ス鋼が好ましい。
【００１６】溶解方法は、粗スピログリコールをアミド
系溶媒に加熱溶解後、芳香族炭化水素系溶媒を添加する
方法、あるいは粗スピログリコールを芳香族炭化水素系
溶媒に加熱懸濁させながらアミド系溶媒を添加する方
法、あるいは粗スピログリコールをあらかじめ調製した
混合溶媒に加熱溶解する方法がとられる。溶解後の溶液
温度は、再結晶収率を上げるためには５０〜１５０℃で
あることが好ましく、より好ましくは７０〜１１０℃で
ある。
系溶媒に加熱溶解後、芳香族炭化水素系溶媒を添加する
方法、あるいは粗スピログリコールを芳香族炭化水素系
溶媒に加熱懸濁させながらアミド系溶媒を添加する方
法、あるいは粗スピログリコールをあらかじめ調製した
混合溶媒に加熱溶解する方法がとられる。溶解後の溶液
温度は、再結晶収率を上げるためには５０〜１５０℃で
あることが好ましく、より好ましくは７０〜１１０℃で
ある。
【００１７】結晶の析出は、粗スピログリコールを完全
に溶解させた後、室温もしくは室温以下になるまで冷却
する方法により行う。冷却方法は、静置でも攪拌しなが
らでもよいが、工業操作上は攪拌しながらであることが
好ましい。冷媒は用いても用いなくてもよい。冷媒を用
いる場合には冷媒温度は−１０〜４０℃であることが好
ましい。冷却時間は結晶を充分析出させるためには２時
間以上であるのが好ましく、より好ましくは６時間以上
である。
に溶解させた後、室温もしくは室温以下になるまで冷却
する方法により行う。冷却方法は、静置でも攪拌しなが
らでもよいが、工業操作上は攪拌しながらであることが
好ましい。冷媒は用いても用いなくてもよい。冷媒を用
いる場合には冷媒温度は−１０〜４０℃であることが好
ましい。冷却時間は結晶を充分析出させるためには２時
間以上であるのが好ましく、より好ましくは６時間以上
である。
【００１８】混合溶媒使用量は、再結晶によって析出す
る粗スピログリコールのスラリー濃度が１０〜５０重量
％となるように選択する。スラリー濃度が１０％未満の
場合、再結晶１回あたりの粗スピログリコールの収量が
小さくなり効率が悪くなる。スラリー濃度が５０％を越
えると攪拌が困難になり、また、結晶同士の付着に伴う
母液抱き込みの量が多くなるため洗浄が困難になり好ま
しくない。
る粗スピログリコールのスラリー濃度が１０〜５０重量
％となるように選択する。スラリー濃度が１０％未満の
場合、再結晶１回あたりの粗スピログリコールの収量が
小さくなり効率が悪くなる。スラリー濃度が５０％を越
えると攪拌が困難になり、また、結晶同士の付着に伴う
母液抱き込みの量が多くなるため洗浄が困難になり好ま
しくない。
【００１９】結晶の濾過は、自然濾過、加圧濾過、減圧
濾過から選択される公知の方法により行われる。フィル
ターはメッシュが０．５〜２０μｍのものが好適に用い
られ、材質は紙、布、ガラス、テフロン、セラミックス
等が用いられる。得られたケーキは、母液を充分除去
し、結晶の純度を向上させるために洗浄することが望ま
しい。洗浄は、再結晶に用いた混合溶媒もしくは再結晶
に用いた混合溶媒より芳香族炭化水素系溶媒を多くした
貧溶媒を用い、再結晶に用いた溶媒量の１／２０〜２倍
の洗浄溶媒量で１〜５回行うのが好ましい。
濾過から選択される公知の方法により行われる。フィル
ターはメッシュが０．５〜２０μｍのものが好適に用い
られ、材質は紙、布、ガラス、テフロン、セラミックス
等が用いられる。得られたケーキは、母液を充分除去
し、結晶の純度を向上させるために洗浄することが望ま
しい。洗浄は、再結晶に用いた混合溶媒もしくは再結晶
に用いた混合溶媒より芳香族炭化水素系溶媒を多くした
貧溶媒を用い、再結晶に用いた溶媒量の１／２０〜２倍
の洗浄溶媒量で１〜５回行うのが好ましい。
【００２０】所望の純度のスピログリコールを得るため
に、上記の再結晶操作を２回以上繰り返してもよい。
に、上記の再結晶操作を２回以上繰り返してもよい。
【００２１】得られたケーキから乾燥操作により溶媒を
除去する。乾燥は、常圧乾燥もしくは真空乾燥で行わ
れ、常圧乾燥では乾燥温度８０〜１２０℃、真空乾燥で
は乾燥温度６０〜１００℃、１ｍｍＨｇの条件で行われ
る。乾燥機には、棚段型乾燥機、コニカル乾燥機等が用
いられる。スピログリコールと直接接触する部分の材質
は、グラスライニングもしくはステンレス鋼であること
が好ましい。
除去する。乾燥は、常圧乾燥もしくは真空乾燥で行わ
れ、常圧乾燥では乾燥温度８０〜１２０℃、真空乾燥で
は乾燥温度６０〜１００℃、１ｍｍＨｇの条件で行われ
る。乾燥機には、棚段型乾燥機、コニカル乾燥機等が用
いられる。スピログリコールと直接接触する部分の材質
は、グラスライニングもしくはステンレス鋼であること
が好ましい。
【００２２】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に何らの制約を受けるもの
ではない。なお、部は重量部を示し、スピログリコール
純度はガスクロマトグラフィーの単純面積百分率、重量
平均分子量（Ｍｗ）はＧＰＣによって測定したスチレン
換算分子量、ＹＩはイエローインデックスの略で着色の
度合いを示す（小さいほど着色が少ない）。
るが、本発明は以下の実施例に何らの制約を受けるもの
ではない。なお、部は重量部を示し、スピログリコール
純度はガスクロマトグラフィーの単純面積百分率、重量
平均分子量（Ｍｗ）はＧＰＣによって測定したスチレン
換算分子量、ＹＩはイエローインデックスの略で着色の
度合いを示す（小さいほど着色が少ない）。
【００２３】製造例（粗スピログリコールの合成） トリエチルアミンを触媒としてイソブチルアルデヒドと
ホルムアルデヒドとを反応させて得られたアルドール反
応生成液から６５℃、３００ｍｍＨｇの条件で未反応の
イソブチルアルデヒド、トリエチルアミンを留去し、ヒ
ドロキシピバルアルデヒド５７．８％を含有する反応液
を得た。このヒドロキシピバルアルデヒド液１２６０部
にペンタエリスリトール４６３部、３５％塩酸８０部お
よび水２５００部を添加し、反応温度８０〜８５℃、攪
拌速度４００ｒｐｍの一定条件下で３時間反応を行っ
た。反応終了後、スラリーを１０％炭酸水素ナトリウム
水溶液で中和し、濾過後ケーキを水１５００部で洗浄し
た。その後８０℃で１２時間真空乾燥を行い、粗スピロ
グリコール８４８部を得た（ペンタエリスリトール基準
収率８２．０％、純度９５．０％）。以下の実施例、比
較例ではすべてこの粗スピログリコールを用いた。
ホルムアルデヒドとを反応させて得られたアルドール反
応生成液から６５℃、３００ｍｍＨｇの条件で未反応の
イソブチルアルデヒド、トリエチルアミンを留去し、ヒ
ドロキシピバルアルデヒド５７．８％を含有する反応液
を得た。このヒドロキシピバルアルデヒド液１２６０部
にペンタエリスリトール４６３部、３５％塩酸８０部お
よび水２５００部を添加し、反応温度８０〜８５℃、攪
拌速度４００ｒｐｍの一定条件下で３時間反応を行っ
た。反応終了後、スラリーを１０％炭酸水素ナトリウム
水溶液で中和し、濾過後ケーキを水１５００部で洗浄し
た。その後８０℃で１２時間真空乾燥を行い、粗スピロ
グリコール８４８部を得た（ペンタエリスリトール基準
収率８２．０％、純度９５．０％）。以下の実施例、比
較例ではすべてこの粗スピログリコールを用いた。
【００２４】実施例１ 粗スピログリコール１００部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１００部、トルエン１００部よりなる混合溶媒
に添加し９７℃に加熱し溶解させた。これを室温で自然
放冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得られた
結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６．３
部、トルエン６．３部よりなる混合溶媒で４回洗浄した
後、８０℃で６時間真空乾燥した。回収された精製スピ
ログリコールは８６部、純度９９．０％であった。
ムアミド１００部、トルエン１００部よりなる混合溶媒
に添加し９７℃に加熱し溶解させた。これを室温で自然
放冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得られた
結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６．３
部、トルエン６．３部よりなる混合溶媒で４回洗浄した
後、８０℃で６時間真空乾燥した。回収された精製スピ
ログリコールは８６部、純度９９．０％であった。
【００２５】上記精製スピログリコール３０．４部、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２
２．８部、ジフェニルカーボネート４３．３部、炭酸水
素ナトリウム５＊１０−５部を攪拌機および留出装置付
きの反応器に仕込み窒素雰囲気下１８０℃に加熱し３０
分間攪拌した。その後、減圧度を１５０ｍｍＨｇに調整
すると同時に６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を
行い、４０分間その温度に保持してエステル交換反応を
行った。更に、７５℃／ｈｒの速度で２３５℃まで昇温
し、１０分間その温度で保持した後、１時間かけて減圧
度を１ｍｍＨｇ以下とした。合計６時間攪拌下反応を行
い、反応終了後反応器内部に窒素を吹き込み常圧に戻し
共重合ポリカーボネート樹脂を取り出した。Ｍｗ＝５７
０００であった。 この共重合ポリカーボネートを厚さ
３ｍｍ、直径４０ｍｍの円盤にプレス成形しＹＩ値を測
定したところ２．０８であり、肉眼で着色を識別するこ
とは困難であった。
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２
２．８部、ジフェニルカーボネート４３．３部、炭酸水
素ナトリウム５＊１０−５部を攪拌機および留出装置付
きの反応器に仕込み窒素雰囲気下１８０℃に加熱し３０
分間攪拌した。その後、減圧度を１５０ｍｍＨｇに調整
すると同時に６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を
行い、４０分間その温度に保持してエステル交換反応を
行った。更に、７５℃／ｈｒの速度で２３５℃まで昇温
し、１０分間その温度で保持した後、１時間かけて減圧
度を１ｍｍＨｇ以下とした。合計６時間攪拌下反応を行
い、反応終了後反応器内部に窒素を吹き込み常圧に戻し
共重合ポリカーボネート樹脂を取り出した。Ｍｗ＝５７
０００であった。 この共重合ポリカーボネートを厚さ
３ｍｍ、直径４０ｍｍの円盤にプレス成形しＹＩ値を測
定したところ２．０８であり、肉眼で着色を識別するこ
とは困難であった。
【００２６】実施例２ 粗スピログリコール１００部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド６５部、トルエン１５０部よりなる混合溶媒に
添加し１０４℃に加熱し溶解させた。これを室温で自然
放冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得られた
結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド４．０
部、トルエン９．４部よりなる混合溶媒で４回洗浄した
後、８０℃で１２時間真空乾燥した。回収された精製ス
ピログリコールは９１部、純度９９．２％であった。
トアミド６５部、トルエン１５０部よりなる混合溶媒に
添加し１０４℃に加熱し溶解させた。これを室温で自然
放冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得られた
結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド４．０
部、トルエン９．４部よりなる混合溶媒で４回洗浄した
後、８０℃で１２時間真空乾燥した。回収された精製ス
ピログリコールは９１部、純度９９．２％であった。
【００２７】上記精製スピログリコールを実施例１と全
く同様に反応させ、得られた共重合ポリカーボネート樹
脂（Ｍｗ＝５９４００）を全く同様の形状に成形してＹ
Ｉ値を測定したところ２．０４であり、肉眼で着色を識
別することは困難であった。。
く同様に反応させ、得られた共重合ポリカーボネート樹
脂（Ｍｗ＝５９４００）を全く同様の形状に成形してＹ
Ｉ値を測定したところ２．０４であり、肉眼で着色を識
別することは困難であった。。
【００２８】実施例３ 粗スピログリコール１００部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１００部、キシレン５０部よりなる混合溶媒に
添加し９９℃に加熱し溶解させた。これを室温で自然放
冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得られた結
晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６．３部、
キシレン３．１部よりなる混合溶媒で４回洗浄した後、
８０℃で６時間真空乾燥した。回収された精製スピログ
リコールは８２部、純度９８．８％であった。上記精製
スピログリコールを実施例１と全く同様に反応させ、得
られた共重合ポリカーボネート樹脂（Ｍｗ＝５９００
０）を全く同様の形状に成形してＹＩ値を測定したとこ
ろ２．１５であり、肉眼で着色を識別することは困難で
あった。。
ムアミド１００部、キシレン５０部よりなる混合溶媒に
添加し９９℃に加熱し溶解させた。これを室温で自然放
冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得られた結
晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６．３部、
キシレン３．１部よりなる混合溶媒で４回洗浄した後、
８０℃で６時間真空乾燥した。回収された精製スピログ
リコールは８２部、純度９８．８％であった。上記精製
スピログリコールを実施例１と全く同様に反応させ、得
られた共重合ポリカーボネート樹脂（Ｍｗ＝５９００
０）を全く同様の形状に成形してＹＩ値を測定したとこ
ろ２．１５であり、肉眼で着色を識別することは困難で
あった。。
【００２９】比較例１ 粗スピログリコール１００部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１００部、２−ブタノン１００部よりなる混合
溶媒に添加し９３℃に加熱し溶解させた。これを室温で
自然放冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得ら
れた結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６．
３部、２−ブタノン６．３部よりなる混合溶媒で４回洗
浄した後、８０℃で６時間真空乾燥した。回収された精
製スピログリコールは８８部、純度９８．５％であっ
た。上記精製スピログリコールを実施例１と全く同様に
反応させ、得られた共重合ポリカーボネート樹脂（Ｍｗ
＝５８８００）を全く同様の形状に成形してＹＩ値を測
定したところ３．１６であり、肉眼でもはっきりと着色
が認められた。
ムアミド１００部、２−ブタノン１００部よりなる混合
溶媒に添加し９３℃に加熱し溶解させた。これを室温で
自然放冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得ら
れた結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６．
３部、２−ブタノン６．３部よりなる混合溶媒で４回洗
浄した後、８０℃で６時間真空乾燥した。回収された精
製スピログリコールは８８部、純度９８．５％であっ
た。上記精製スピログリコールを実施例１と全く同様に
反応させ、得られた共重合ポリカーボネート樹脂（Ｍｗ
＝５８８００）を全く同様の形状に成形してＹＩ値を測
定したところ３．１６であり、肉眼でもはっきりと着色
が認められた。
【００３０】比較例３ 粗スピログリコール１００部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１２０部、酢酸エチル１００部よりなる混合溶
媒に添加し９５℃に加熱し溶解させた。これを室温で自
然放冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得られ
た結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７．５
部、酢酸エチル６．３部よりなる混合溶媒で４回洗浄し
た後、８０℃で６時間真空乾燥した。回収された精製ス
ピログリコールは８８部、純度９８．５％であった。
ムアミド１２０部、酢酸エチル１００部よりなる混合溶
媒に添加し９５℃に加熱し溶解させた。これを室温で自
然放冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得られ
た結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７．５
部、酢酸エチル６．３部よりなる混合溶媒で４回洗浄し
た後、８０℃で６時間真空乾燥した。回収された精製ス
ピログリコールは８８部、純度９８．５％であった。
【００３１】上記精製スピログリコールを実施例１と全
く同様に反応させ、得られた共重合ポリカーボネート樹
脂（Ｍｗ＝５５５００）を全く同様の形状に成形してＹ
Ｉ値を測定したところ３．００であり、肉眼でもはっき
りと着色が認められた。
く同様に反応させ、得られた共重合ポリカーボネート樹
脂（Ｍｗ＝５５５００）を全く同様の形状に成形してＹ
Ｉ値を測定したところ３．００であり、肉眼でもはっき
りと着色が認められた。
【００３２】比較例４ 粗スピログリコール１００部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１００部に添加し１０８℃に加熱し溶解させ
た。これを室温で自然放冷し、１２時間静置して結晶を
析出させた。得られた結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド６．３部で４回洗浄した後、８０℃で６時
間真空乾燥した。回収された精製スピログリコールは７
７部、純度９８．４％であった。上記精製スピログリコ
ールを実施例１と全く同様に反応させ、得られた共重合
ポリカーボネート樹脂（Ｍｗ＝５５７００）を全く同様
の形状に成形してＹＩ値を測定したところ３．２３であ
り、肉眼でもはっきりと着色が認められた。
ムアミド１００部に添加し１０８℃に加熱し溶解させ
た。これを室温で自然放冷し、１２時間静置して結晶を
析出させた。得られた結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド６．３部で４回洗浄した後、８０℃で６時
間真空乾燥した。回収された精製スピログリコールは７
７部、純度９８．４％であった。上記精製スピログリコ
ールを実施例１と全く同様に反応させ、得られた共重合
ポリカーボネート樹脂（Ｍｗ＝５５７００）を全く同様
の形状に成形してＹＩ値を測定したところ３．２３であ
り、肉眼でもはっきりと着色が認められた。
【００３３】比較例５ 粗スピログリコール４０部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド２０部、トルエン５００部よりなる混合溶媒に添
加し１０５℃に加熱し溶解させた。これを室温で自然放
冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。混合溶媒
は、アミド系極性溶媒量が１０％未満であるため全体量
が多くなりスラリー濃度は１０％以下となった。得られ
た結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１．３
部、トルエン３１．３部よりなる混合溶媒で４回洗浄し
た後、８０℃で６時間真空乾燥した。回収された精製ス
ピログリコールは３３部、純度９９．０％であった。
アミド２０部、トルエン５００部よりなる混合溶媒に添
加し１０５℃に加熱し溶解させた。これを室温で自然放
冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。混合溶媒
は、アミド系極性溶媒量が１０％未満であるため全体量
が多くなりスラリー濃度は１０％以下となった。得られ
た結晶を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１．３
部、トルエン３１．３部よりなる混合溶媒で４回洗浄し
た後、８０℃で６時間真空乾燥した。回収された精製ス
ピログリコールは３３部、純度９９．０％であった。
【００３４】上記精製スピログリコールを実施例１と全
く同様に反応させ、得られた共重合ポリカーボネート樹
脂（Ｍｗ＝５９０００）を全く同様の形状に成形してＹ
Ｉ値を測定したところ２．１０であり、肉眼で着色を識
別することは困難であった。。
く同様に反応させ、得られた共重合ポリカーボネート樹
脂（Ｍｗ＝５９０００）を全く同様の形状に成形してＹ
Ｉ値を測定したところ２．１０であり、肉眼で着色を識
別することは困難であった。。
【００３５】比較例６ 粗スピログリコール１６０部を、メタノール１５６０部
に添加し６０℃に加熱し溶解させた。これを室温で自然
放冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得られた
結晶を濾過し、メタノール１００部で４回洗浄した後、
６４℃で６時間真空乾燥した。回収された精製スピログ
リコールは６８部、純度９９．０％であった。
に添加し６０℃に加熱し溶解させた。これを室温で自然
放冷し、１２時間静置して結晶を析出させた。得られた
結晶を濾過し、メタノール１００部で４回洗浄した後、
６４℃で６時間真空乾燥した。回収された精製スピログ
リコールは６８部、純度９９．０％であった。
【００３６】上記精製スピログリコールを実施例１と全
く同様に反応させ、得られた共重合ポリカーボネート樹
脂（Ｍｗ＝５４９００）を全く同様の形状に成形してＹ
Ｉ値を測定したところ３．１９であり、肉眼でもはっき
りと着色が認められた。
く同様に反応させ、得られた共重合ポリカーボネート樹
脂（Ｍｗ＝５４９００）を全く同様の形状に成形してＹ
Ｉ値を測定したところ３．１９であり、肉眼でもはっき
りと着色が認められた。
【００３７】
【発明の効果】本発明により、着色性の不純物の少ない
スピログリコールが効率的に安価に得られるようにな
り、低分子化合物の合成原料から高分子化合物の合成原
料まで幅広い用途に利用可能となる。特に、スピログリ
コールとビスフェノール類と炭酸ジエステルとをエステ
ル交換反応させて得られる共重合ポリカーボネート樹脂
においては、着色が著しく低減されるため、各種レン
ズ、光ディスク基板などの外観、特に色調の重要視され
るプラスチック光学材料として幅広い用途に利用するこ
とが可能になる。
スピログリコールが効率的に安価に得られるようにな
り、低分子化合物の合成原料から高分子化合物の合成原
料まで幅広い用途に利用可能となる。特に、スピログリ
コールとビスフェノール類と炭酸ジエステルとをエステ
ル交換反応させて得られる共重合ポリカーボネート樹脂
においては、着色が著しく低減されるため、各種レン
ズ、光ディスク基板などの外観、特に色調の重要視され
るプラスチック光学材料として幅広い用途に利用するこ
とが可能になる。
Claims (4)
- 【請求項１】スピログリコールを、下記一般式（１）で
示される化合物の少なくとも一種と下記一般式（２）で
示される化合物の少なくとも一種とからなる溶媒に溶解
した後、再結晶化することを特徴とする高純度スピログ
リコールの製造方法。 【化１】 （Ｒ1 ，Ｒ2 およびＲ3 は各々水素原子または炭素数４
以下のアルキル基である。） 【化２】 （Ｒ4 は水素原子、ハロゲン原子または炭素数４以下の
アルキル基で環を形成していても良い。ｍは置換基数を
表し、０〜４の整数である。） - 【請求項２】スピログリコールが、３，９−ビス（２−
ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，
１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンである
請求項１記載の方法。 - 【請求項３】上記一般式（１）で示される化合物の少な
くとも１種と上記一般式（２）で示される化合物の少な
くとも１種との重量比〔（１）／（２）〕が２０／８０
〜８０／２０である請求項１記載の方法。 - 【請求項４】スピログリコールを５０〜１５０℃の溶媒
に溶解した後、冷却して再結晶化する請求項１記載の方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10028480A JPH11228577A (ja) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | 高純度スピログリコールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10028480A JPH11228577A (ja) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | 高純度スピログリコールの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11228577A true JPH11228577A (ja) | 1999-08-24 |
Family
ID=12249829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10028480A Pending JPH11228577A (ja) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | 高純度スピログリコールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11228577A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002161097A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-04 | Sumitomo Chem Co Ltd | ヒドロキシフェニルプロピオン酸エステルの製造方法 |
| US6623564B2 (en) | 2000-02-22 | 2003-09-23 | Panac Industries, Inc. | Method of recovering synthetic substrates |
| JP2005187425A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | スピログリコールの製造方法 |
| JP2011162604A (ja) * | 2010-02-05 | 2011-08-25 | Teijin Chem Ltd | 光弾性定数が低いポリカーボネート樹脂の製造方法 |
| US8110282B2 (en) * | 2005-08-18 | 2012-02-07 | Toray Industries, Inc. | Laminated film and molded body |
-
1998
- 1998-02-10 JP JP10028480A patent/JPH11228577A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6623564B2 (en) | 2000-02-22 | 2003-09-23 | Panac Industries, Inc. | Method of recovering synthetic substrates |
| JP2002161097A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-04 | Sumitomo Chem Co Ltd | ヒドロキシフェニルプロピオン酸エステルの製造方法 |
| JP2005187425A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | スピログリコールの製造方法 |
| US8110282B2 (en) * | 2005-08-18 | 2012-02-07 | Toray Industries, Inc. | Laminated film and molded body |
| US8404335B2 (en) | 2005-08-18 | 2013-03-26 | Toray Industries, Inc. | Laminated film and molded body |
| JP2011162604A (ja) * | 2010-02-05 | 2011-08-25 | Teijin Chem Ltd | 光弾性定数が低いポリカーボネート樹脂の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050204 |
|
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|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090121 |