JPH11235882A - レーザー感応性平版印刷版原版 - Google Patents
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Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】レーザーによる描画可能であり、不感脂化処理
を行なうことなく高いインキ反発性を有し、湿し水のコ
ントロール幅が広く、湿し水のIPAレス化が可能で、
印刷耐久性に優れたレーザー感応性平版印刷版原版を提
供する。 【解決手段】基板上に少なくとも親水性膨潤層と感熱硬
化層を隣接して備えた平版印刷版原版であって、その感
熱硬化層が、(a)光を吸収し熱を発生する物質、
(b)エチレン性不飽和基を有する化合物、(c)チオ
ール基を有する化合物、および(d)加熱によりラジカ
ルを発生する物質を含有する。
を行なうことなく高いインキ反発性を有し、湿し水のコ
ントロール幅が広く、湿し水のIPAレス化が可能で、
印刷耐久性に優れたレーザー感応性平版印刷版原版を提
供する。 【解決手段】基板上に少なくとも親水性膨潤層と感熱硬
化層を隣接して備えた平版印刷版原版であって、その感
熱硬化層が、(a)光を吸収し熱を発生する物質、
(b)エチレン性不飽和基を有する化合物、(c)チオ
ール基を有する化合物、および(d)加熱によりラジカ
ルを発生する物質を含有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版原版に
関するものであり、詳しくは製版工程においてはデジタ
ル処理された画像情報をレーザーを用いて描画すること
が可能であり、印刷工程においては不感脂化処理を行な
うことなく高いインキ反発性を有し、湿し水のコントロ
ール幅が広く、湿し水のIPA(イソプロパノール)レ
ス化が可能な新規なレーザー感応性平版印刷版原版に関
するものである。
関するものであり、詳しくは製版工程においてはデジタ
ル処理された画像情報をレーザーを用いて描画すること
が可能であり、印刷工程においては不感脂化処理を行な
うことなく高いインキ反発性を有し、湿し水のコントロ
ール幅が広く、湿し水のIPA(イソプロパノール)レ
ス化が可能な新規なレーザー感応性平版印刷版原版に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、平版印刷に供する版としては、親
水化処理されたアルミニウム基板上に親油性の感光層を
塗布し、フォトリソグラフィの技術により、画線部には
感光層を残存させ、非画線部には上記のアルミニウム基
板表面を露出せしめ、表面に湿し水層を形成してインキ
を反発することを利用して、インキ画像を形成する水あ
りPS版と、湿し水の代わりにシリコーンゴム層をイン
キ反発層として用いる水なしPS版、いわゆる水なし平
版が知られている。
水化処理されたアルミニウム基板上に親油性の感光層を
塗布し、フォトリソグラフィの技術により、画線部には
感光層を残存させ、非画線部には上記のアルミニウム基
板表面を露出せしめ、表面に湿し水層を形成してインキ
を反発することを利用して、インキ画像を形成する水あ
りPS版と、湿し水の代わりにシリコーンゴム層をイン
キ反発層として用いる水なしPS版、いわゆる水なし平
版が知られている。
【0003】水ありPS版は実用上優れた印刷版で、支
持体に通常砂目立てされたアルミニウム基板が用いら
れ、さらに必要に応じてこの砂目の表面を陽極酸化する
などの処理が施され、湿し水の保水性の向上と感光層に
対する接着性が補強されている。また、感光層の保存安
定性を得るために、アルミニウム基板の表面はフッ化ジ
ルコニウムやケイ酸ナトリウムなどによる化学処理が施
される場合が一般的である。
持体に通常砂目立てされたアルミニウム基板が用いら
れ、さらに必要に応じてこの砂目の表面を陽極酸化する
などの処理が施され、湿し水の保水性の向上と感光層に
対する接着性が補強されている。また、感光層の保存安
定性を得るために、アルミニウム基板の表面はフッ化ジ
ルコニウムやケイ酸ナトリウムなどによる化学処理が施
される場合が一般的である。
【0004】水ありPS版は、耐刷性や画像再現性など
の優れた印刷特性から広く使用されているが、その一方
で、水ありPS版はこのように製造工程が複雑であり、
その簡略化が望まれている。
の優れた印刷特性から広く使用されているが、その一方
で、水ありPS版はこのように製造工程が複雑であり、
その簡略化が望まれている。
【0005】特開平5−19460号公報には、ポリビ
ニルアルコール、架橋剤、酸化チタンなどの無機多孔質
材料からなる平版印刷版が開示されている。この印刷版
は、酸化チタンなどの無機多孔質を多量に含有すること
によりポリビニルアルコールの保水力の不足を補ってい
るが、そのため層自体が硬く、また実質的に膨潤できな
いためインキ反発性は必ずしも良好ではなく、耐刷性も
劣っていた。
ニルアルコール、架橋剤、酸化チタンなどの無機多孔質
材料からなる平版印刷版が開示されている。この印刷版
は、酸化チタンなどの無機多孔質を多量に含有すること
によりポリビニルアルコールの保水力の不足を補ってい
るが、そのため層自体が硬く、また実質的に膨潤できな
いためインキ反発性は必ずしも良好ではなく、耐刷性も
劣っていた。
【0006】これに対して、親水性膨潤層を備えた平版
印刷版は、例えば特開平8−282142号公報、特開
平8−282144号公報、特開平8−292558号
公報など出提案されている。この平版印刷版は、水に対
して高い割合で膨潤し層に水を蓄えることができる親水
性膨潤層を備えているため、不感脂化処理を施すことな
く高いインキ反発性を発現し、湿し水のコントロール幅
が広く、湿し水のIPAレス化が可能になるという特徴
を有している。
印刷版は、例えば特開平8−282142号公報、特開
平8−282144号公報、特開平8−292558号
公報など出提案されている。この平版印刷版は、水に対
して高い割合で膨潤し層に水を蓄えることができる親水
性膨潤層を備えているため、不感脂化処理を施すことな
く高いインキ反発性を発現し、湿し水のコントロール幅
が広く、湿し水のIPAレス化が可能になるという特徴
を有している。
【0007】また、水ありPS版の簡便な形態として、
紙などの支持体上に、トナーなどの画像受理層を設け、
電子写真技術を用いて画像形成し、非画像部をエッチ液
などで不感脂化処理して画像受理層をインキ反発層に変
換させて使用する直描型平版印刷原版が広く実用に供さ
れている。具体的には、耐水性支持体上に水溶性バイン
ダポリマ、無機顔料、耐水化剤等からなる画像受理層を
設けたものが一般的で、例えば、米国特許第25328
65号明細書、特公昭40−23581号公報、特開昭
48−9802号公報、特開昭57−205196号公
報、特開昭60−2309号公報、特開昭57−179
1号公報、特開昭57−15998号公報、特開昭57
−96900号公報、特開昭57−205196号公
報、特開昭63−166590号公報、特開昭63−1
66591号公報、特開昭63−317388号公報、
特開平1−114488号公報、特開平4−36786
8号公報などに提案されている。これらの直描型平版印
刷原版は、インキ反撥層に変換させる画像受理層とし
て、PVA、澱粉、ヒドロキシエチルセルロース、カゼ
イン、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、酢酸ビニル−
クロトン酸共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体な
どのような不感脂化処理する以前から親水性を示す水溶
性バインダポリマおよびアクリル系樹脂エマルジョン等
の水分散性ポリマ、シリカ、炭酸カルシウム等のような
無機顔料およびメラミン・ホルムアルデヒド樹脂縮合物
のような耐水化剤で構成されているものが提案されてい
る。このような直描型平版印刷原版は、いずれも画像受
理層をインキ反撥層に変換するために、不感脂化処理が
必須であり、処理なしではインキ反発性をほとんど示さ
なかったり、また印刷時に湿し水として特殊な薬剤を使
用する必要があった。
紙などの支持体上に、トナーなどの画像受理層を設け、
電子写真技術を用いて画像形成し、非画像部をエッチ液
などで不感脂化処理して画像受理層をインキ反発層に変
換させて使用する直描型平版印刷原版が広く実用に供さ
れている。具体的には、耐水性支持体上に水溶性バイン
ダポリマ、無機顔料、耐水化剤等からなる画像受理層を
設けたものが一般的で、例えば、米国特許第25328
65号明細書、特公昭40−23581号公報、特開昭
48−9802号公報、特開昭57−205196号公
報、特開昭60−2309号公報、特開昭57−179
1号公報、特開昭57−15998号公報、特開昭57
−96900号公報、特開昭57−205196号公
報、特開昭63−166590号公報、特開昭63−1
66591号公報、特開昭63−317388号公報、
特開平1−114488号公報、特開平4−36786
8号公報などに提案されている。これらの直描型平版印
刷原版は、インキ反撥層に変換させる画像受理層とし
て、PVA、澱粉、ヒドロキシエチルセルロース、カゼ
イン、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、酢酸ビニル−
クロトン酸共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体な
どのような不感脂化処理する以前から親水性を示す水溶
性バインダポリマおよびアクリル系樹脂エマルジョン等
の水分散性ポリマ、シリカ、炭酸カルシウム等のような
無機顔料およびメラミン・ホルムアルデヒド樹脂縮合物
のような耐水化剤で構成されているものが提案されてい
る。このような直描型平版印刷原版は、いずれも画像受
理層をインキ反撥層に変換するために、不感脂化処理が
必須であり、処理なしではインキ反発性をほとんど示さ
なかったり、また印刷時に湿し水として特殊な薬剤を使
用する必要があった。
【0008】これらのPS版は、原画フィルムなどを通
して露光、現像等のフォトリソグラフィ技術による製版
工程を経て刷版となるが、近年、これらに代替する技術
として、原画フィルムを用いることなく、レーザーを用
いてデジタル処理された画像情報を直接版面に描画する
レーザー感応性平版印刷版が提案されている。
して露光、現像等のフォトリソグラフィ技術による製版
工程を経て刷版となるが、近年、これらに代替する技術
として、原画フィルムを用いることなく、レーザーを用
いてデジタル処理された画像情報を直接版面に描画する
レーザー感応性平版印刷版が提案されている。
【0009】湿し水を必要とする水ありPS版をレーザ
ー感応型にする方法としては、He−NeやArレーザ
ーに感応する高感度フォトポリマを用いて直接描画する
タイプのものが多く提案されているが、これらは高感度
であるが故に、明室での版材の取扱ができず、また大規
模かつ高額な自動露光現像製版装置が必要であった。一
方、水なし平版印刷版をレーザー感応型にする方法とし
ては、例えば、DE−A2512038号公報には、親
油性面を担持するか、または、有する支持体上にニトロ
セルロースおよびカーボンブラックを含有する層および
非硬化シリコーン層が積層されたヒートモード記録材料
を用い、レーザーを用いて画像形成を行なった後、露光
部分のシリコーン層をナフサなどの溶剤を用いて溶解
し、他の部分のシリコーン層を硬化する方法が提案され
てる。しかしながら、この方法は、製版中の版材の取扱
が困難であり、かつ現像工程においてシリコーン層の硬
化工程が必要であり、また有機溶剤の使用が必須である
ことは環境問題の点から不都合なものであった。
ー感応型にする方法としては、He−NeやArレーザ
ーに感応する高感度フォトポリマを用いて直接描画する
タイプのものが多く提案されているが、これらは高感度
であるが故に、明室での版材の取扱ができず、また大規
模かつ高額な自動露光現像製版装置が必要であった。一
方、水なし平版印刷版をレーザー感応型にする方法とし
ては、例えば、DE−A2512038号公報には、親
油性面を担持するか、または、有する支持体上にニトロ
セルロースおよびカーボンブラックを含有する層および
非硬化シリコーン層が積層されたヒートモード記録材料
を用い、レーザーを用いて画像形成を行なった後、露光
部分のシリコーン層をナフサなどの溶剤を用いて溶解
し、他の部分のシリコーン層を硬化する方法が提案され
てる。しかしながら、この方法は、製版中の版材の取扱
が困難であり、かつ現像工程においてシリコーン層の硬
化工程が必要であり、また有機溶剤の使用が必須である
ことは環境問題の点から不都合なものであった。
【0010】またFR−A1473751号公報には、
親油性表面を有する基体上に、ニトロセルロース、カー
ボンブラック、およびシリコーンを有する層を用いたヒ
ートモード記録材料が提案されており、レーザーを用い
て画像形成を行なったのち、像形成部分は親油性に変換
される。しかしながら、この方法はインキ着肉部分のシ
リコーンが版面から除去されないため、インキ着肉性が
悪いものであった。
親油性表面を有する基体上に、ニトロセルロース、カー
ボンブラック、およびシリコーンを有する層を用いたヒ
ートモード記録材料が提案されており、レーザーを用い
て画像形成を行なったのち、像形成部分は親油性に変換
される。しかしながら、この方法はインキ着肉部分のシ
リコーンが版面から除去されないため、インキ着肉性が
悪いものであった。
【0011】また、米国特許第5379698号明細書
においては、金属薄膜を感熱層として用いるヒートモー
ド水なし平版印刷版が開示されている。この印刷版は、
感熱層がかなり薄いためにシャープな画像が得られ、印
刷版の解像度という面では有利であるが、基材と感熱層
との接着性が悪く印刷中に非画線部の感熱層が剥離しイ
ンキが付着して印刷物上で欠点となるという問題点があ
った。
においては、金属薄膜を感熱層として用いるヒートモー
ド水なし平版印刷版が開示されている。この印刷版は、
感熱層がかなり薄いためにシャープな画像が得られ、印
刷版の解像度という面では有利であるが、基材と感熱層
との接着性が悪く印刷中に非画線部の感熱層が剥離しイ
ンキが付着して印刷物上で欠点となるという問題点があ
った。
【0012】また、米国特許第5353705号明細書
においては、ニトロセルロースおよびカーボンブラック
からなるレーザー感応層上に、ポリビニルアルコールを
インキ反発性層として積層したヒートモード記録材料が
提案されている。しかしながら、そのインキ反撥性は湿
し水供給下でも極めて不十分なものであった。
においては、ニトロセルロースおよびカーボンブラック
からなるレーザー感応層上に、ポリビニルアルコールを
インキ反発性層として積層したヒートモード記録材料が
提案されている。しかしながら、そのインキ反撥性は湿
し水供給下でも極めて不十分なものであった。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、レーザ
ーを用いてデジタル処理された画像情報を直接版面に描
画可能であり、従来の水ありPS版よりも印刷時の湿し
水のコントロール幅が広く、湿し水のIPAレス化が可
能で、また不感脂化処理するなどの複雑な製版工程を経
ることなく高いインキ反発性を有し、印刷耐久性に優れ
たレーザー感応性平版印刷版原版を開発すべく鋭意検討
を行ない、基板上に少なくとも親水性膨潤層とレーザー
感応性感熱硬化層を備えた平版印刷版の、感熱硬化層に
特定の化合物を用いることによって所期の目的が達成可
能であることを見出し本発明に到達した。
ーを用いてデジタル処理された画像情報を直接版面に描
画可能であり、従来の水ありPS版よりも印刷時の湿し
水のコントロール幅が広く、湿し水のIPAレス化が可
能で、また不感脂化処理するなどの複雑な製版工程を経
ることなく高いインキ反発性を有し、印刷耐久性に優れ
たレーザー感応性平版印刷版原版を開発すべく鋭意検討
を行ない、基板上に少なくとも親水性膨潤層とレーザー
感応性感熱硬化層を備えた平版印刷版の、感熱硬化層に
特定の化合物を用いることによって所期の目的が達成可
能であることを見出し本発明に到達した。
【0014】本発明の目的は、製版工程においてはデジ
タル処理された画像情報をレーザーを用いて描画するこ
とが可能であり、印刷工程においては不感脂化処理を行
なうことなく高いインキ反発性を有し、湿し水のコント
ロール幅が広く、湿し水のIPA(イソプロパノール)
レス化が可能な新規なレーザー感応性平版印刷版原版を
提供することにある。
タル処理された画像情報をレーザーを用いて描画するこ
とが可能であり、印刷工程においては不感脂化処理を行
なうことなく高いインキ反発性を有し、湿し水のコント
ロール幅が広く、湿し水のIPA(イソプロパノール)
レス化が可能な新規なレーザー感応性平版印刷版原版を
提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成せんとするものであって、本発明のレーザー感応性平
版印刷版原版は、次の構成を有するものである。
成せんとするものであって、本発明のレーザー感応性平
版印刷版原版は、次の構成を有するものである。
【0016】(1)基板上に少なくとも親水性膨潤層と
感熱硬化層を隣接して備えた平版印刷版原版であって、
感熱層が、(a)光を吸収し熱を発生する物質、(b)
エチレン性不飽和基を有する化合物、(c)チオール基
を有する化合物および(d)加熱によりラジカルを発生
する物質を含有することを特徴とするレーザー感応性平
版印刷版原版。
感熱硬化層を隣接して備えた平版印刷版原版であって、
感熱層が、(a)光を吸収し熱を発生する物質、(b)
エチレン性不飽和基を有する化合物、(c)チオール基
を有する化合物および(d)加熱によりラジカルを発生
する物質を含有することを特徴とするレーザー感応性平
版印刷版原版。
【0017】(2)上記(b)エチレン性不飽和基を含
有する化合物が、1分子中にエチレン性不飽和基を2個
以上有する化合物であることを特徴とする上記(1)記
載のレーザー感応性平版印刷版原版。
有する化合物が、1分子中にエチレン性不飽和基を2個
以上有する化合物であることを特徴とする上記(1)記
載のレーザー感応性平版印刷版原版。
【0018】(3)上記(c)チオール基を有する化合
物が、1分子中にチオール基を2個以上有する化合物で
あることを特徴とする上記(1)または(2)記載のレ
ーザー感応性平版印刷版原版。
物が、1分子中にチオール基を2個以上有する化合物で
あることを特徴とする上記(1)または(2)記載のレ
ーザー感応性平版印刷版原版。
【0019】(4)上記感熱硬化層が、(f)エポキシ
化合物を含有することを特徴とする上記(1)〜(3)
記載のレーザー感応性平版印刷版原版。
化合物を含有することを特徴とする上記(1)〜(3)
記載のレーザー感応性平版印刷版原版。
【0020】(5)上記(b)エチレン性不飽和基を有
する化合物が、さらに水酸基を有することを特徴とする
(1)〜(4)記載のレーザー感応性平版印刷版原版。
する化合物が、さらに水酸基を有することを特徴とする
(1)〜(4)記載のレーザー感応性平版印刷版原版。
【0021】(6)上記感熱硬化層が(e)加熱により
酸を発生する物質を含有することを特徴とする上記
(1)〜(5)記載のレーザー感応性平版印刷版原版。
酸を発生する物質を含有することを特徴とする上記
(1)〜(5)記載のレーザー感応性平版印刷版原版。
【0022】(7)上記(a)光を吸収し熱を発生する
物質が、700〜1100nmの波長域に吸収を有する
ことを特徴とする上記(1)〜(6)記載のレーザー感
応性平版印刷版原版。
物質が、700〜1100nmの波長域に吸収を有する
ことを特徴とする上記(1)〜(6)記載のレーザー感
応性平版印刷版原版。
【0023】
【発明の実施の形態】本発明の平版印刷版原版から得ら
れる平版印刷版は、不感脂化処理を行なうことなく高い
インキ反発性を有し、湿し水のコントロール幅が広く、
IPAなどを用いない湿し水で印刷が可能で、レーザー
により画像形成を行なうことができる印刷耐久性に優れ
た平版印刷版である。
れる平版印刷版は、不感脂化処理を行なうことなく高い
インキ反発性を有し、湿し水のコントロール幅が広く、
IPAなどを用いない湿し水で印刷が可能で、レーザー
により画像形成を行なうことができる印刷耐久性に優れ
た平版印刷版である。
【0024】本発明の印刷版原版から得られる平版印刷
版がこのような優れた特徴を有する理由は、高い水膨潤
率で膨潤可能な親水性膨潤層が存在すること、およびレ
ーザー照射により感熱硬化層が親水性膨潤層に強く接着
して強固な画線部が形成されること、によるものと考え
られる。
版がこのような優れた特徴を有する理由は、高い水膨潤
率で膨潤可能な親水性膨潤層が存在すること、およびレ
ーザー照射により感熱硬化層が親水性膨潤層に強く接着
して強固な画線部が形成されること、によるものと考え
られる。
【0025】さらに詳細な理由づけは必ずしも明確では
ないが、高い割合で水を含んだ重合体はそれ自体が油性
インキ反発性が高く、非常に薄い湿し水層であってもそ
の表面に安定に存在せしめることができるため、不感脂
化処理を行なうことなく高いインキ反発性を有し、湿し
水のコントロール幅が広く、IPAなどを用いない湿し
水で印刷が可能であると推察される。さらに、親水性膨
潤層を有する平版印刷版の非画線部と画線部は、印刷時
に繰り返し圧力やインキの引き剥がし力を受けるが、高
い水膨潤率で膨潤した親水性膨潤層がこのような力を分
散、吸収するために非画線部が印刷耐久性に優れてい
る。
ないが、高い割合で水を含んだ重合体はそれ自体が油性
インキ反発性が高く、非常に薄い湿し水層であってもそ
の表面に安定に存在せしめることができるため、不感脂
化処理を行なうことなく高いインキ反発性を有し、湿し
水のコントロール幅が広く、IPAなどを用いない湿し
水で印刷が可能であると推察される。さらに、親水性膨
潤層を有する平版印刷版の非画線部と画線部は、印刷時
に繰り返し圧力やインキの引き剥がし力を受けるが、高
い水膨潤率で膨潤した親水性膨潤層がこのような力を分
散、吸収するために非画線部が印刷耐久性に優れてい
る。
【0026】また、このように高い割合で膨潤する親水
性膨潤層にレーザー光の助けを借りて画像形成を行な
い、特定の物質からなる感熱硬化層を親水性膨潤層に接
着させることによって、この硬化した感熱硬化層が、イ
ンキ着肉層として印刷時の何十万回にわたる圧力やイン
キの引き剥がし力に耐える印刷耐久性を発現させるもの
と推察される。
性膨潤層にレーザー光の助けを借りて画像形成を行な
い、特定の物質からなる感熱硬化層を親水性膨潤層に接
着させることによって、この硬化した感熱硬化層が、イ
ンキ着肉層として印刷時の何十万回にわたる圧力やイン
キの引き剥がし力に耐える印刷耐久性を発現させるもの
と推察される。
【0027】そこでまず、本発明の感熱硬化層について
説明する。
説明する。
【0028】本発明の感熱硬化層は、(a)光を吸収し
熱を発生する物質、(b)エチレン性不飽和基を有する
化合物、(c)チオール基を有する化合物および(d)
加熱によりラジカルを発生する物質を必須成分として含
有する。
熱を発生する物質、(b)エチレン性不飽和基を有する
化合物、(c)チオール基を有する化合物および(d)
加熱によりラジカルを発生する物質を必須成分として含
有する。
【0029】本発明の平版印刷版原版はレーザー光を照
射することにより画像を形成させることから、(a)光
を吸収して熱を発生する化合物としては、レーザー光を
吸収するものであればどのような物質でも使用すること
ができる。本発明の印刷版製版時に使用するレーザー光
の波長は、紫外域、可視域および赤外域のどの領域の波
長でも使用することができるが、使用するレーザー光の
波長に合わせた吸収域を有する、光を吸収して熱を発生
する物質を使用する必要がある。これらの中でも本発明
で使用されるレーザー光としては、赤外域の波長のレー
ザー光が好ましい。
射することにより画像を形成させることから、(a)光
を吸収して熱を発生する化合物としては、レーザー光を
吸収するものであればどのような物質でも使用すること
ができる。本発明の印刷版製版時に使用するレーザー光
の波長は、紫外域、可視域および赤外域のどの領域の波
長でも使用することができるが、使用するレーザー光の
波長に合わせた吸収域を有する、光を吸収して熱を発生
する物質を使用する必要がある。これらの中でも本発明
で使用されるレーザー光としては、赤外域の波長のレー
ザー光が好ましい。
【0030】したがって、赤外域に吸収域を有する化合
物が本発明の光を吸収し熱を発生する物質として好まし
いといえる。具体的には、最大吸収波長が好ましくは7
00nmから1100nmの範囲にある、シアニン系色
素、アズレニウム系色素、スクアリリウム系色素、クロ
コニウム系色素、アゾ系分散染料、ビスアゾスチルベン
系色素、ナフトキノン系色素、キノンイミン系色素、キ
ノンジイミン系色素、メチン系色素、トリスアゾ色素、
ピリリウム色素、アミニウム色素、クマリン系色素、ア
ントラキノン系色素、ペリレン系色素、フタロシアニン
系色素、ナフタロシアニン金属錯体系色素、ジチオール
ニッケル錯体系色素、インドアニリン金属錯体色素、分
子間型CT色素、ベンゾチオピラン系スピロピラン等の
赤外または近赤外吸収染料等が挙げられる。
物が本発明の光を吸収し熱を発生する物質として好まし
いといえる。具体的には、最大吸収波長が好ましくは7
00nmから1100nmの範囲にある、シアニン系色
素、アズレニウム系色素、スクアリリウム系色素、クロ
コニウム系色素、アゾ系分散染料、ビスアゾスチルベン
系色素、ナフトキノン系色素、キノンイミン系色素、キ
ノンジイミン系色素、メチン系色素、トリスアゾ色素、
ピリリウム色素、アミニウム色素、クマリン系色素、ア
ントラキノン系色素、ペリレン系色素、フタロシアニン
系色素、ナフタロシアニン金属錯体系色素、ジチオール
ニッケル錯体系色素、インドアニリン金属錯体色素、分
子間型CT色素、ベンゾチオピラン系スピロピラン等の
赤外または近赤外吸収染料等が挙げられる。
【0031】また、カラーインデックス名でいうところ
のアシッドファーストブラック、アシッドブラック、ダ
イレクトブラック、アゾイックブラック、バットブラッ
ク、ディスパースブラック、ソルベントブラック、リア
クティブブラックおよびクロムブラック等の黒色染料も
挙げられる。
のアシッドファーストブラック、アシッドブラック、ダ
イレクトブラック、アゾイックブラック、バットブラッ
ク、ディスパースブラック、ソルベントブラック、リア
クティブブラックおよびクロムブラック等の黒色染料も
挙げられる。
【0032】染料としては、その染着様式から酸性染
料、塩基性染料、直接染料、分散染料、反応性染料、油
溶性染料等に大別され、そのいずれであってもよいが
゛、本発明では染料としては、黒色染料が好ましい。好
ましい黒色染料としては、酸性染料および塩基性染料が
挙げられる。酸性染料としては、クロム、銅、コバルト
などの金属錯塩系アゾ染料が、また塩基性染料としては
アミノ基または第四級アンモニウム塩などの置換アミノ
基を有するポリメチン染料、アゾ染料、アゾメチン染
料、アントラキノン系染料、トリフェニルメタン染料な
どが特に好ましい。
料、塩基性染料、直接染料、分散染料、反応性染料、油
溶性染料等に大別され、そのいずれであってもよいが
゛、本発明では染料としては、黒色染料が好ましい。好
ましい黒色染料としては、酸性染料および塩基性染料が
挙げられる。酸性染料としては、クロム、銅、コバルト
などの金属錯塩系アゾ染料が、また塩基性染料としては
アミノ基または第四級アンモニウム塩などの置換アミノ
基を有するポリメチン染料、アゾ染料、アゾメチン染
料、アントラキノン系染料、トリフェニルメタン染料な
どが特に好ましい。
【0033】これら黒色染料の中でもニグロシン系色素
が好ましく使用することができる。これらニグロシン系
色素の具体例としては、C.I.Solvent Black 7として標
記されているもの、具体的にはNigrosine Base;N(Natio
nal Aniline Div. Alliee Chemical & Dry Corp製)、Ni
grosine BaseNB(Williams Ltd.製)、Nigrosine BaseGB
(Farbenfabriken Bayer A.G.製)、Nigrosine BaseLK(Ba
dische Anilin & SodaFabrik A.G.製)、C.I.Acid Black
2として標記されているものとしては、OrientNigrosin
e BR,OZ(オリエント化学工業(株)製)、Nigrosine Ba
se NB conc(住友化学工業(株)製)、Nigrosine WLA(Fa
rbenfabriken Bayer A.G.製)等が挙げられる。
が好ましく使用することができる。これらニグロシン系
色素の具体例としては、C.I.Solvent Black 7として標
記されているもの、具体的にはNigrosine Base;N(Natio
nal Aniline Div. Alliee Chemical & Dry Corp製)、Ni
grosine BaseNB(Williams Ltd.製)、Nigrosine BaseGB
(Farbenfabriken Bayer A.G.製)、Nigrosine BaseLK(Ba
dische Anilin & SodaFabrik A.G.製)、C.I.Acid Black
2として標記されているものとしては、OrientNigrosin
e BR,OZ(オリエント化学工業(株)製)、Nigrosine Ba
se NB conc(住友化学工業(株)製)、Nigrosine WLA(Fa
rbenfabriken Bayer A.G.製)等が挙げられる。
【0034】金属錯塩系アゾ染料の具体例としては、ア
イゼンスピロンブラックBNH、MH、RLH、BH
を、また塩基性染料の具体例としてはアイゼンカチロン
ブラックSBH、BXH、SH、NH、MH、AWH、
KBH(以上すべて保土ヶ谷化学工業(株))などが挙
げられる。
イゼンスピロンブラックBNH、MH、RLH、BH
を、また塩基性染料の具体例としてはアイゼンカチロン
ブラックSBH、BXH、SH、NH、MH、AWH、
KBH(以上すべて保土ヶ谷化学工業(株))などが挙
げられる。
【0035】また、顔料としては黒色顔料が好ましく、
具体的にはカーボンブラック、アニリンブラック、鉄
黒、チタンブラックの他、顔料と樹脂を混合分散させた
ピグメントレジンカラー(顔料樹脂捺染剤)などが挙げ
られる。カーボンブラックとしては、その原料によりガ
スブラック、アセチレンブラック、オイルブラックに大
別され、その製造法によりチャネルブラック、ファーネ
スブラック、アセチレンブラックなどに大別されるがそ
のいずれも使用できる。ピグメントレジンカラーとして
は、油中水滴型(W/O型)と水中油滴型(O/W型)
に大別される。W/O型は、顔料を樹脂の溶剤溶液中に
分散させた油中分散ペーストと希釈剤としてのW/O型
エマルション(エクステンダー)からなる。一方、O/
W型は、顔料を界面活性剤(分散剤)と安定剤で水中に
分散させたカラーベースとこの顔料を非着色物に固着さ
せるO/W樹脂エマルション(バインダー)と以上2者
を希釈し捺染適性を付与するためのO/Wエマルション
の3成分からなる。いずれのピグメントレジンカラーで
あっても特に限定されない。
具体的にはカーボンブラック、アニリンブラック、鉄
黒、チタンブラックの他、顔料と樹脂を混合分散させた
ピグメントレジンカラー(顔料樹脂捺染剤)などが挙げ
られる。カーボンブラックとしては、その原料によりガ
スブラック、アセチレンブラック、オイルブラックに大
別され、その製造法によりチャネルブラック、ファーネ
スブラック、アセチレンブラックなどに大別されるがそ
のいずれも使用できる。ピグメントレジンカラーとして
は、油中水滴型(W/O型)と水中油滴型(O/W型)
に大別される。W/O型は、顔料を樹脂の溶剤溶液中に
分散させた油中分散ペーストと希釈剤としてのW/O型
エマルション(エクステンダー)からなる。一方、O/
W型は、顔料を界面活性剤(分散剤)と安定剤で水中に
分散させたカラーベースとこの顔料を非着色物に固着さ
せるO/W樹脂エマルション(バインダー)と以上2者
を希釈し捺染適性を付与するためのO/Wエマルション
の3成分からなる。いずれのピグメントレジンカラーで
あっても特に限定されない。
【0036】また、チタン等の金属粉末も好ましい化合
物として挙げられるこれら光熱変換物質の中でも、赤外
または近赤外吸収染料、黒色染料、黒色顔料が好ましく
使用される。
物として挙げられるこれら光熱変換物質の中でも、赤外
または近赤外吸収染料、黒色染料、黒色顔料が好ましく
使用される。
【0037】本発明における(a)光を吸収し熱を発生
する物質の感熱硬化層内おける割合は、固形分ベースで
好ましくは3〜70重量%、より好ましくは5〜50重
量%である。70重量%を超えると各層の本来の機能が
著しく低下し、黒色物質の割合が3重量%未満では、レ
ーザー感応性が不十分である。
する物質の感熱硬化層内おける割合は、固形分ベースで
好ましくは3〜70重量%、より好ましくは5〜50重
量%である。70重量%を超えると各層の本来の機能が
著しく低下し、黒色物質の割合が3重量%未満では、レ
ーザー感応性が不十分である。
【0038】次に、本発明の(b)エチレン性不飽和基
を有する化合物としては、エチレン性不飽和基を分子中
に有する化合物であれば特に限定されないが、エチレン
性不飽和基がアクリロイル基あるいはメタクリロイル
基、ビニル基、アリル基である化合物が好ましい。ま
た、エチレン性不飽和基を有する化合物としては、1分
子中にエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物を用
いることが好ましい。
を有する化合物としては、エチレン性不飽和基を分子中
に有する化合物であれば特に限定されないが、エチレン
性不飽和基がアクリロイル基あるいはメタクリロイル
基、ビニル基、アリル基である化合物が好ましい。ま
た、エチレン性不飽和基を有する化合物としては、1分
子中にエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物を用
いることが好ましい。
【0039】1分子中にエチレン性不飽和基を2個以上
有する化合物としては、公知の化合物を全て使用するこ
とができるが、特に好ましい化合物は、1分子中にアク
リロイル基あるいはメタクリロイル基を2個以上有する
化合物であり、その具体例としては以下のものが挙げら
れる。また以下□□□□(メタ)アクリレートと記載す
るのは□□□□アクリレートおよび□□□□メタクリレ
ートを意味する。
有する化合物としては、公知の化合物を全て使用するこ
とができるが、特に好ましい化合物は、1分子中にアク
リロイル基あるいはメタクリロイル基を2個以上有する
化合物であり、その具体例としては以下のものが挙げら
れる。また以下□□□□(メタ)アクリレートと記載す
るのは□□□□アクリレートおよび□□□□メタクリレ
ートを意味する。
【0040】(い)1分子中に水酸基を2個以上有する
化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸とのエステル
化物:1分子中に水酸基を2個以上有する化合物の具体
例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオー
ル、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオー
ル、2−ブテン−1,4−ジオール、5−ヘキセン−
1,2−ジオール、7−オクテン−1,2−ジオール、
3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、ヒドロキ
ノン、ジヒドロキシアントラキノン、ジヒドロキシベン
ゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、ビスフェノールA、ビスフェ
ノールS、フェノールホルムアルデヒドノボラック樹
脂、レゾール樹脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、
ピロガロールアセトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合
体および共重合体、グリセリン、ジグリセリン、トリメ
チロールプロパン、1,2,4−ブタントリオール、ペ
ンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビ
トール、ソルビタン、ポリビニルアルコール、セルロー
スおよびその誘導体、ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートの重合体および共重合体などが挙げられる。
化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸とのエステル
化物:1分子中に水酸基を2個以上有する化合物の具体
例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオー
ル、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオー
ル、2−ブテン−1,4−ジオール、5−ヘキセン−
1,2−ジオール、7−オクテン−1,2−ジオール、
3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、ヒドロキ
ノン、ジヒドロキシアントラキノン、ジヒドロキシベン
ゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、ビスフェノールA、ビスフェ
ノールS、フェノールホルムアルデヒドノボラック樹
脂、レゾール樹脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、
ピロガロールアセトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合
体および共重合体、グリセリン、ジグリセリン、トリメ
チロールプロパン、1,2,4−ブタントリオール、ペ
ンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビ
トール、ソルビタン、ポリビニルアルコール、セルロー
スおよびその誘導体、ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートの重合体および共重合体などが挙げられる。
【0041】これらの1分子中に水酸基を2個以上有す
る化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸は、公知の
方法によりエステル化させて目的とする(メタ)アクリ
レート化合物を得ることができる。
る化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸は、公知の
方法によりエステル化させて目的とする(メタ)アクリ
レート化合物を得ることができる。
【0042】(ろ)1分子中にエポキシ基を2個以上有
するエポキシ化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸
との反応物:本発明の感熱層に好ましく使用できるエポ
キシ化合物としては、1分子中に水酸基を2個以上有す
る化合物にエピハロヒドリンを反応させることにより得
られるエポキシ化合物が挙げられる。
するエポキシ化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸
との反応物:本発明の感熱層に好ましく使用できるエポ
キシ化合物としては、1分子中に水酸基を2個以上有す
る化合物にエピハロヒドリンを反応させることにより得
られるエポキシ化合物が挙げられる。
【0043】これらエポキシ化合物とアクリル酸あるい
はメタクリル酸を公知の方法で反応で反応させることに
より目的とする(メタ)アクリレート化合物を得ること
ができる。
はメタクリル酸を公知の方法で反応で反応させることに
より目的とする(メタ)アクリレート化合物を得ること
ができる。
【0044】(は)1分子中にアミノ基を2個以上有す
る化合物とグリシジル(メタ)アクリレートとの反応
物:1分子中にアミノ基を2個以上有する化合物として
は下記の一般式(1)で示されるポリアミンが挙げられ
る。
る化合物とグリシジル(メタ)アクリレートとの反応
物:1分子中にアミノ基を2個以上有する化合物として
は下記の一般式(1)で示されるポリアミンが挙げられ
る。
【0045】R1HN−A−NHR2 (1) (式中、R1とR2は、水素原子、炭素数1〜20の置換
または無置換のアルキル基、置換または無置換のフェニ
ル基、置換または無置換のアラルキル基であり、それぞ
れ同一であっても異なっていてもよい。置換基として
は、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、水酸
基、アリール基などが挙げられる。好ましくは、水素原
子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、sec −ブチル基、ヒドロキシメチ
ル基、ヒドロキシプロピル基、クロロメチル基、ブロモ
メチル基、フェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、p
−ブロモフェニル基、p−トリル基、o−トリル基、ベ
ンジル基などが挙げられる。また、Aは、2価の連結基
を示し、具体的には、−(A1)p−(A2)q−で示さ
れる。式中A1 は、炭素数1〜20の置換または無置換
の環式または非環式のアルキレン、置換または無置換の
フェニレンで置換基としては、炭素数1〜6のアルキル
基、ハロゲン原子、水酸基、アリール基などが挙げられ
る。A2は、−O−B1−、−S−B2−、−NH−B3
−、−CO−O−B4−、−SO2−NH−B5−で、B
1、B2、B3、B4、B5は、上記のA1と同じものを示
す。pは1以上の整数、qは0または1以上の整数を示
す。) 一般式(1)で示される2価以上のアミノ化合物の具体
例としては、ジオキシエチレンジアミン、トリオキシエ
チレンジアミン、テトラオキシエチレンジアミン、ペン
タオキシエチレンジアミン、ヘキサオキシエチレンジア
ミン、ペプタオキシエチレンジアミン、オクタオキシエ
チレンジアミン、ノナオキシエチレンジアミン、デカオ
キシエチレンジアミン、トリトリアコンタオキシエチレ
ンジアミン、モノオキシプロピレンジアミン、ジオキシ
プロピレンジアミン、トリオキシプロピレンジアミン、
テトラオキシエチレンジアミン、ペンタオキシプロピレ
ンジアミン、ヘキサオキシプロピレンジアミン、ヘプタ
オキシプロピレンジアミン、オクタオキシプロピレンジ
アミン、ノナオキシプロピレンジアミン、デカオキシプ
ロピレンジアミン、トリトリアコンタオキシプロピレン
ジアミン、ポリメチレンジアミン、ポリエーテルジアミ
ン、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミ
ン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエチレン
テトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレ
ンヘキサミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチ
ルアミノプロピルアミン、置換ポリアミン等の脂肪族族
ポリアミン化合物や、m−キシリレンジアミン、テトラ
クロル−p−キシリレンジアミン等の芳香環を有する脂
肪族ポリアミン化合物、メンタンジアミン、N−アミノ
エチルピペラジン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、
イソホロンジアミン等の脂環族ポリアミン、m−フェニ
レンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル、4,4’
−メチレンジアニリン、ジアミノジフェニルスルホン、
ベンジジン、4,4’−ビス(o−トルイジン)、4,
4’−チオジアニリン、o−フェニレンジアミン、ジア
ニシジン、メチレンビス(o−クロロアニリン)、2,
4−トルエンジアミン、ビス(3,4−ジアミノフェニ
ル)スルホン、ジアミノジトリスルホン、4−クロロ−
o−フェニレンジアミン、4−メトキシ−6−メチル−
m−フェニレンジアミン、m−アミノベンジルアミン等
の芳香族ポリアミン化合物やジシアンジアミド、アジピ
ン酸ジヒドラジドが挙げられる。
または無置換のアルキル基、置換または無置換のフェニ
ル基、置換または無置換のアラルキル基であり、それぞ
れ同一であっても異なっていてもよい。置換基として
は、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、水酸
基、アリール基などが挙げられる。好ましくは、水素原
子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、sec −ブチル基、ヒドロキシメチ
ル基、ヒドロキシプロピル基、クロロメチル基、ブロモ
メチル基、フェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、p
−ブロモフェニル基、p−トリル基、o−トリル基、ベ
ンジル基などが挙げられる。また、Aは、2価の連結基
を示し、具体的には、−(A1)p−(A2)q−で示さ
れる。式中A1 は、炭素数1〜20の置換または無置換
の環式または非環式のアルキレン、置換または無置換の
フェニレンで置換基としては、炭素数1〜6のアルキル
基、ハロゲン原子、水酸基、アリール基などが挙げられ
る。A2は、−O−B1−、−S−B2−、−NH−B3
−、−CO−O−B4−、−SO2−NH−B5−で、B
1、B2、B3、B4、B5は、上記のA1と同じものを示
す。pは1以上の整数、qは0または1以上の整数を示
す。) 一般式(1)で示される2価以上のアミノ化合物の具体
例としては、ジオキシエチレンジアミン、トリオキシエ
チレンジアミン、テトラオキシエチレンジアミン、ペン
タオキシエチレンジアミン、ヘキサオキシエチレンジア
ミン、ペプタオキシエチレンジアミン、オクタオキシエ
チレンジアミン、ノナオキシエチレンジアミン、デカオ
キシエチレンジアミン、トリトリアコンタオキシエチレ
ンジアミン、モノオキシプロピレンジアミン、ジオキシ
プロピレンジアミン、トリオキシプロピレンジアミン、
テトラオキシエチレンジアミン、ペンタオキシプロピレ
ンジアミン、ヘキサオキシプロピレンジアミン、ヘプタ
オキシプロピレンジアミン、オクタオキシプロピレンジ
アミン、ノナオキシプロピレンジアミン、デカオキシプ
ロピレンジアミン、トリトリアコンタオキシプロピレン
ジアミン、ポリメチレンジアミン、ポリエーテルジアミ
ン、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミ
ン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエチレン
テトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレ
ンヘキサミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチ
ルアミノプロピルアミン、置換ポリアミン等の脂肪族族
ポリアミン化合物や、m−キシリレンジアミン、テトラ
クロル−p−キシリレンジアミン等の芳香環を有する脂
肪族ポリアミン化合物、メンタンジアミン、N−アミノ
エチルピペラジン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、
イソホロンジアミン等の脂環族ポリアミン、m−フェニ
レンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル、4,4’
−メチレンジアニリン、ジアミノジフェニルスルホン、
ベンジジン、4,4’−ビス(o−トルイジン)、4,
4’−チオジアニリン、o−フェニレンジアミン、ジア
ニシジン、メチレンビス(o−クロロアニリン)、2,
4−トルエンジアミン、ビス(3,4−ジアミノフェニ
ル)スルホン、ジアミノジトリスルホン、4−クロロ−
o−フェニレンジアミン、4−メトキシ−6−メチル−
m−フェニレンジアミン、m−アミノベンジルアミン等
の芳香族ポリアミン化合物やジシアンジアミド、アジピ
ン酸ジヒドラジドが挙げられる。
【0046】また、2−メチルイミダゾール、2−エチ
ル−4−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾー
ル、2,4−ジメチルイミダゾールなども好ましいアミ
ノ化合物の例として挙げられる。さらに、上記のポリア
ミンとカルボン酸を両末端がアミノ基となるように反応
させたポリアミドアミンも挙げることができる。
ル−4−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾー
ル、2,4−ジメチルイミダゾールなども好ましいアミ
ノ化合物の例として挙げられる。さらに、上記のポリア
ミンとカルボン酸を両末端がアミノ基となるように反応
させたポリアミドアミンも挙げることができる。
【0047】これら1分子中にアミノ基を2個以上有す
る化合物とグリシジル(メタ)アクリレートは、公知の
方法により反応させて目的とする(メタ)アクリレート
化合物を得ることができる。
る化合物とグリシジル(メタ)アクリレートは、公知の
方法により反応させて目的とする(メタ)アクリレート
化合物を得ることができる。
【0048】(に)1分子中にアミノ基を2個以上有す
る化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸との反応
物:前項に記載の1分子中にアミノ基を2個以上有する
化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸を公知の方法
で反応させることにより目的とする(メタ)アクリレー
ト化合物を得ることができる。
る化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸との反応
物:前項に記載の1分子中にアミノ基を2個以上有する
化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸を公知の方法
で反応させることにより目的とする(メタ)アクリレー
ト化合物を得ることができる。
【0049】(ほ)1分子中にカルボキシル基を2個以
上有する化合物とグリシジル(メタ)アクリレートとの
反応物:1分子中にカルボキシル基を2個以上有する化
合物の具体例としては、以下のものが挙げられるが本発
明はこれらに限定されない。
上有する化合物とグリシジル(メタ)アクリレートとの
反応物:1分子中にカルボキシル基を2個以上有する化
合物の具体例としては、以下のものが挙げられるが本発
明はこれらに限定されない。
【0050】マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、チオリン
ゴ酸、ラセミ酸、クエン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、
マレイン酸、フマール酸、イタコン酸、ダイマー酸等の
2価の有機カルボン酸、トリメリット酸等の3価の有機
カルボン酸、3,9−ビス(2カルボキシアルキル)
2,4,8,10−テトラオキサスピロウンデカン等が
挙げられる。
ゴ酸、ラセミ酸、クエン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、
マレイン酸、フマール酸、イタコン酸、ダイマー酸等の
2価の有機カルボン酸、トリメリット酸等の3価の有機
カルボン酸、3,9−ビス(2カルボキシアルキル)
2,4,8,10−テトラオキサスピロウンデカン等が
挙げられる。
【0051】また、未加硫ゴムのカルボキシ変性物も用
いることができる。具体的には、天然ゴム、ブタジエ
ン、イソプレン、スチレン、アクリロニトリル、アクリ
ル酸エステル、より選ばれた単独重合体又は共重合体の
カルボキシ変性物であり、例えばカルボキシ変性ポリブ
タジエン、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合
体、カルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体、カルボキシ変性メチルメタクリレート−ブタジエ
ン共重合体等が挙げられる。
いることができる。具体的には、天然ゴム、ブタジエ
ン、イソプレン、スチレン、アクリロニトリル、アクリ
ル酸エステル、より選ばれた単独重合体又は共重合体の
カルボキシ変性物であり、例えばカルボキシ変性ポリブ
タジエン、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合
体、カルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体、カルボキシ変性メチルメタクリレート−ブタジエ
ン共重合体等が挙げられる。
【0052】さらに、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールにより上記の多価カルボン酸をエス
テル化反応させた化合物も用いることができる。これら
の化合物は、両末端にカルボキシル基を有することが好
ましい。
ロピレングリコールにより上記の多価カルボン酸をエス
テル化反応させた化合物も用いることができる。これら
の化合物は、両末端にカルボキシル基を有することが好
ましい。
【0053】これら1分子中にカルボキシル基を2個以
上有する化合物とグリシジル(メタ)アクリレートを、
公知の方法で反応させることにより目的とする(メタ)
アクリレート化合物を得ることができる。
上有する化合物とグリシジル(メタ)アクリレートを、
公知の方法で反応させることにより目的とする(メタ)
アクリレート化合物を得ることができる。
【0054】(へ)1分子中にカルボキシル基を2個以
上有する化合物とヒドロキシ(メタ)アクリレートとの
エステル化物:1分子中にカルボキシル基を2個以上有
する化合物としては、前項に記載のものを挙げることが
できる。これら1分子中にカルボキシル基を2個以上有
する化合物とヒドロキシ(メタ)アクリレートは公知方
法で反応させて目的とする(メタ)アクリレート化合物
を得ることができる。
上有する化合物とヒドロキシ(メタ)アクリレートとの
エステル化物:1分子中にカルボキシル基を2個以上有
する化合物としては、前項に記載のものを挙げることが
できる。これら1分子中にカルボキシル基を2個以上有
する化合物とヒドロキシ(メタ)アクリレートは公知方
法で反応させて目的とする(メタ)アクリレート化合物
を得ることができる。
【0055】これらの中でも親水性膨潤層と感熱層の接
着性の観点から(メタ)アクリレート化合物は水酸基を
有することが好ましく、具体的には上述の(い)、
(ろ)、(は)、(ほ)項に記載の(メタ)アクリレー
ト化合物が好ましい。
着性の観点から(メタ)アクリレート化合物は水酸基を
有することが好ましく、具体的には上述の(い)、
(ろ)、(は)、(ほ)項に記載の(メタ)アクリレー
ト化合物が好ましい。
【0056】さらに、1分子中にエチレン性不飽和基を
2個以上有する化合物としては既述の化合物以外にも以
下のものを好ましく使用することができる。
2個以上有する化合物としては既述の化合物以外にも以
下のものを好ましく使用することができる。
【0057】(イ)アリルウレタン類:多価イソシアネ
ートとアリルアルコールをアリル基が1分子中に2個以
上存在するように付加反応させた生成物が挙げられる。
ートとアリルアルコールをアリル基が1分子中に2個以
上存在するように付加反応させた生成物が挙げられる。
【0058】多価イソシネートとしては、以下のものを
挙げることができるが本発明はこれらに限定されない。
パラフェニレンジイソシアネ−ト、2,4−または2,
6−トルイレンジイソシアネ−ト(TDI)、4,4−
ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリジ
ンジイソシアネート(TODI)、キシリレンジイソシ
アネート(XDI)、水素化キシリレンジイソシアネー
ト、シクロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレン
ジイソシアネート(MXDI)、ヘキサメチレンジイソ
シアネート(HDIあるいはHMDI)、リジンジイソ
シアネート(LDI)(別名2,6−ジイソシアネート
メチルカプロエート)、水素化MDI(H12MDI)
(別名4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシ
アネート))、水素化TDI(HTDI)(別名メチル
シクロヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネート)、
水素化XDI(H6XDI)(別名1,3−(イソシア
ナートメチル)シクロヘキサン)、イソホロンジイソシ
アネート(IPDI)、ジフェニルエーテルイソシアネ
ート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(T
MDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、
ポリメチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸
ジイソシアネート(DDI)、トリフェニルメタントリ
イソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チ
オフォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシア
ネート、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,
11−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソ
シアネートー4ーイソシアネートメチルオクタン、1,
3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロ
ヘプタントリイソシアネート等やポリイソシアネート類
の重合体等が挙げられる。
挙げることができるが本発明はこれらに限定されない。
パラフェニレンジイソシアネ−ト、2,4−または2,
6−トルイレンジイソシアネ−ト(TDI)、4,4−
ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリジ
ンジイソシアネート(TODI)、キシリレンジイソシ
アネート(XDI)、水素化キシリレンジイソシアネー
ト、シクロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレン
ジイソシアネート(MXDI)、ヘキサメチレンジイソ
シアネート(HDIあるいはHMDI)、リジンジイソ
シアネート(LDI)(別名2,6−ジイソシアネート
メチルカプロエート)、水素化MDI(H12MDI)
(別名4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシ
アネート))、水素化TDI(HTDI)(別名メチル
シクロヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネート)、
水素化XDI(H6XDI)(別名1,3−(イソシア
ナートメチル)シクロヘキサン)、イソホロンジイソシ
アネート(IPDI)、ジフェニルエーテルイソシアネ
ート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(T
MDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、
ポリメチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸
ジイソシアネート(DDI)、トリフェニルメタントリ
イソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チ
オフォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシア
ネート、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,
11−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソ
シアネートー4ーイソシアネートメチルオクタン、1,
3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロ
ヘプタントリイソシアネート等やポリイソシアネート類
の重合体等が挙げられる。
【0059】あるいは、これらイソシアネート化合物と
ポリオールとをイソシアネート基が残存するような比率
で反応させた化合物もイソシアネート化合物として使用
できる。この際使用するこのできるポリオールとしては
前項で記載したポリオールを挙げることができる。
ポリオールとをイソシアネート基が残存するような比率
で反応させた化合物もイソシアネート化合物として使用
できる。この際使用するこのできるポリオールとしては
前項で記載したポリオールを挙げることができる。
【0060】(ロ)アリルエステル類:多価カルボン酸
またはその酸無水物とアリルアルコールとをアリル基が
1分子中に2個以上存在するようにエステル化反応させ
た生成物が挙げられる。多価カルボン酸とアリルアルコ
ールは公知の方法によりエステル化させ、目的とするア
リルエステル類を得ることができる。
またはその酸無水物とアリルアルコールとをアリル基が
1分子中に2個以上存在するようにエステル化反応させ
た生成物が挙げられる。多価カルボン酸とアリルアルコ
ールは公知の方法によりエステル化させ、目的とするア
リルエステル類を得ることができる。
【0061】この際使用される多価カルボン酸の具体例
としては、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、ラセミ酸、
クエン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペ
リン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ール酸、イタコン酸、ダイマー酸等の2価のカルボン
酸、トリメリット酸等の3価のカルボン酸、3,9−ビ
ス(2−カルボキシアルキル)−2,4,8,10−テ
トラオキサスピロウンデカン等が挙げられる。
としては、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、ラセミ酸、
クエン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペ
リン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ール酸、イタコン酸、ダイマー酸等の2価のカルボン
酸、トリメリット酸等の3価のカルボン酸、3,9−ビ
ス(2−カルボキシアルキル)−2,4,8,10−テ
トラオキサスピロウンデカン等が挙げられる。
【0062】また、未加硫ゴムのカルボキシ変性物も用
いることができる。具体的には天然ゴム、ブタジエン、
イソプレン、スチレン、アクリロニトリル、アクリル酸
エステルより選ばれた単独重合体または共重合体のカル
ボキシ変性物であり、例えばカルボキシ変性ポリブタジ
エン、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合体、
カルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジエン共重合
体、カルボキシ変性メチルメタクリレート−ブタジエン
共重合体等が挙げられる。
いることができる。具体的には天然ゴム、ブタジエン、
イソプレン、スチレン、アクリロニトリル、アクリル酸
エステルより選ばれた単独重合体または共重合体のカル
ボキシ変性物であり、例えばカルボキシ変性ポリブタジ
エン、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合体、
カルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジエン共重合
体、カルボキシ変性メチルメタクリレート−ブタジエン
共重合体等が挙げられる。
【0063】酸無水物の具体例としては、無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水酪酸、無水マレイン酸、無水シト
ラコン酸、無水クロトン酸、無水フタル酸等が挙げられ
る。
水プロピオン酸、無水酪酸、無水マレイン酸、無水シト
ラコン酸、無水クロトン酸、無水フタル酸等が挙げられ
る。
【0064】(ハ)ビニルエーテル類:ポリオールとア
セチレンとの付加反応あるいはポリオールとビニルエー
テルとのエーテル交換反応により、ビニル基を1分子中
に2個以上存在するように反応させた生成物が挙げられ
る。この際ポリオールとしては、前項で記載したポリオ
ールを使用することができる。これらポリオールは公知
の方法によりアセチレンと付加反応させて目的とするビ
ニルエーテル類を得ることができる。
セチレンとの付加反応あるいはポリオールとビニルエー
テルとのエーテル交換反応により、ビニル基を1分子中
に2個以上存在するように反応させた生成物が挙げられ
る。この際ポリオールとしては、前項で記載したポリオ
ールを使用することができる。これらポリオールは公知
の方法によりアセチレンと付加反応させて目的とするビ
ニルエーテル類を得ることができる。
【0065】また、上記のポリオールとメチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテルを公知の方法によりエー
テル交換反応させることによっても目的とするビニルエ
ーテル類を得ることができる。
ーテル、エチルビニルエーテルを公知の方法によりエー
テル交換反応させることによっても目的とするビニルエ
ーテル類を得ることができる。
【0066】ビニルエーテル類の具体例としては、ジプ
ロピレングリコールジビニルエーテル、トリエチレング
リコールジビニルエーテル、m−フェニレンビス(エチ
レングリコール)ジビニルエーテル等が挙げられるが、
本発明はこれらに限定されない。
ロピレングリコールジビニルエーテル、トリエチレング
リコールジビニルエーテル、m−フェニレンビス(エチ
レングリコール)ジビニルエーテル等が挙げられるが、
本発明はこれらに限定されない。
【0067】これらの1分子中にエチレン性不飽和基を
2個以上有する化合物はそれぞれ単独で使用しても良い
し2種類以上を混合して使用することもできる。
2個以上有する化合物はそれぞれ単独で使用しても良い
し2種類以上を混合して使用することもできる。
【0068】これらの1分子中にエチレン性不飽和基を
2個以上有する化合物の中でも感光層に柔軟性を付与し
印刷版の耐刷性を向上させる目的でアリルウレタン類、
ウレタンアクリレートが好ましく、更に親水性膨潤層と
の接着性の観点からエポキシアクリレートを併用するこ
とが好ましい。
2個以上有する化合物の中でも感光層に柔軟性を付与し
印刷版の耐刷性を向上させる目的でアリルウレタン類、
ウレタンアクリレートが好ましく、更に親水性膨潤層と
の接着性の観点からエポキシアクリレートを併用するこ
とが好ましい。
【0069】本発明における(b)エチレン性不飽和基
を有する化合物の感熱硬化層内における割合は、固形分
ベースで好ましくは5〜70重量%、より好ましくは1
0〜80重量%である。80重量%を超えると各層の本
来の機能が著しく低下し、5重量%未満ではレーザー感
応性が不十分である。次に、本発明の感熱硬化層に使用
する(c)チオール基を有する化合物について説明す
る。チオール基を有する化合物としては、1分子中に少
なくとも1つのチオール基を有する化合物であれば特に
限定されないが 、1分子中にチオール基を2個以上有
する化合物を用いることが好ましい。
を有する化合物の感熱硬化層内における割合は、固形分
ベースで好ましくは5〜70重量%、より好ましくは1
0〜80重量%である。80重量%を超えると各層の本
来の機能が著しく低下し、5重量%未満ではレーザー感
応性が不十分である。次に、本発明の感熱硬化層に使用
する(c)チオール基を有する化合物について説明す
る。チオール基を有する化合物としては、1分子中に少
なくとも1つのチオール基を有する化合物であれば特に
限定されないが 、1分子中にチオール基を2個以上有
する化合物を用いることが好ましい。
【0070】1分子中にチオール基を2個以上有する化
合物としては、公知のジチオール、ポリチオールを使用
することができるが、より好ましい化合物の具体例とし
ては以下のものが挙げられる。
合物としては、公知のジチオール、ポリチオールを使用
することができるが、より好ましい化合物の具体例とし
ては以下のものが挙げられる。
【0071】(1)脂肪族炭化水素を主鎖とするジチオ
ール類:メタンジチオール、エタンジチオール、プロパ
ンジチオール、ブタンジチオール、ヘプタンジチオー
ル、ヘキサンジチオール、オクタンジチオール、ノナン
ジチオール、デカンジチオール、ウンデカンジチオー
ル、ドデカンジチオール、トリデカンジチオール、テト
ラデカンジチオール、ヘプタデカンジチオール、ヘキサ
デカンジチオール、オクタデカンジチオール、4,8−
ジチアウンデカン−1,11−ジチオール、ビス(2−
メルカプトエチル)スルフィド、1,3−ジヒドロキシ
−2−プロピル−2´,3´−ジメルカプトプロピルエ
ーテル、2,3−ジヒドロキシプロピル−2´,3´−
ジメルカプトプロピルエーテル、2,6−ジメチルオク
タン−2,6−ジチオール、2,6−ジメチルオクタン
−3,7−ジチオール、3,3,−ジメチルブタン−
2,2−ジチオール、2,2−ジメチルプロパン−1,
3−ジチオール、3,4−ジメトキシブタン−1,2−
ジチオール、3,4−ジメルカプトブタノール、2,3
−ジメルカプト−1−プロパノール、1,3−ジメルカ
プト−2−プロパノール、1,2−ジメルカプト−1,
3−ブタンジオール、1,2−ジメルカプトプロピルメ
チルエーテル、2,3−ジメルカプトプロピルメチルエ
ーテル、2,3−ジメルカプトプロピル−2´,3´−
ジメトキシプロピルエーテル、3,5,5−トリメチル
ヘキサン−1,1−ジチオール、3,4,5−トリメト
キシペンタン−1,2−ジチオール、ネオペンタンテト
ラチオール、ビス(11−メルカプトウンデシル)スル
フィド、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ビ
ス(18−メルカプトオクタデシル)スルフィド、ビス
(8−メルカプトオクチル)スルフィド、ビス(10−
メルカプトデシル)スルフィド、ビス(12−メルカプ
トデシル)スルフィド、ビス(9−メルカプトノニル)
スルフィド、ビス(4−メルカプトブチル)スルフィ
ド、ビス(3−メルカプトプロピル)スルフィド、ビス
(6−メルカプトヘキシル)スルフィド、ビス(7−メ
ルカプトヘプチル)スルフィド、ビス(5−メルカプト
ペンチル)スルフィド、2,2−ビス(メルカプトメチ
ル)−1,3−プロパンジチオール。
ール類:メタンジチオール、エタンジチオール、プロパ
ンジチオール、ブタンジチオール、ヘプタンジチオー
ル、ヘキサンジチオール、オクタンジチオール、ノナン
ジチオール、デカンジチオール、ウンデカンジチオー
ル、ドデカンジチオール、トリデカンジチオール、テト
ラデカンジチオール、ヘプタデカンジチオール、ヘキサ
デカンジチオール、オクタデカンジチオール、4,8−
ジチアウンデカン−1,11−ジチオール、ビス(2−
メルカプトエチル)スルフィド、1,3−ジヒドロキシ
−2−プロピル−2´,3´−ジメルカプトプロピルエ
ーテル、2,3−ジヒドロキシプロピル−2´,3´−
ジメルカプトプロピルエーテル、2,6−ジメチルオク
タン−2,6−ジチオール、2,6−ジメチルオクタン
−3,7−ジチオール、3,3,−ジメチルブタン−
2,2−ジチオール、2,2−ジメチルプロパン−1,
3−ジチオール、3,4−ジメトキシブタン−1,2−
ジチオール、3,4−ジメルカプトブタノール、2,3
−ジメルカプト−1−プロパノール、1,3−ジメルカ
プト−2−プロパノール、1,2−ジメルカプト−1,
3−ブタンジオール、1,2−ジメルカプトプロピルメ
チルエーテル、2,3−ジメルカプトプロピルメチルエ
ーテル、2,3−ジメルカプトプロピル−2´,3´−
ジメトキシプロピルエーテル、3,5,5−トリメチル
ヘキサン−1,1−ジチオール、3,4,5−トリメト
キシペンタン−1,2−ジチオール、ネオペンタンテト
ラチオール、ビス(11−メルカプトウンデシル)スル
フィド、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ビ
ス(18−メルカプトオクタデシル)スルフィド、ビス
(8−メルカプトオクチル)スルフィド、ビス(10−
メルカプトデシル)スルフィド、ビス(12−メルカプ
トデシル)スルフィド、ビス(9−メルカプトノニル)
スルフィド、ビス(4−メルカプトブチル)スルフィ
ド、ビス(3−メルカプトプロピル)スルフィド、ビス
(6−メルカプトヘキシル)スルフィド、ビス(7−メ
ルカプトヘプチル)スルフィド、ビス(5−メルカプト
ペンチル)スルフィド、2,2−ビス(メルカプトメチ
ル)−1,3−プロパンジチオール。
【0072】(2)芳香族、複素環を主鎖とするジチオ
ール類:9,10−アントラセンジメタンチオール、
1,3−ジフェニルプロパン−2,2−ジチオール、
2,4−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、4,
5−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、4,4´
−ジメルカプトビフェニル、4,4´−ジメルカプトビ
ベンジル、2,4−ジ(p−メルカプトフェニル)ペン
タン、2,5−トルエンジチオール、3,4−トルエン
ジチオール、1,4−ナフタレンジチール、1,5−ナ
フタレンジチオール、2,6−ナフタレンジチオール、
2,7−ナフタレンジチオール、1,1,−ビス(メル
カプトメチル)シクロヘキサン、フェニルメタン−1,
1−ジチオール、4−tert−ブチルシクロヘキサン
−1,1−ジチオール、1,2−ベンゼンジチオール、
1,3−ベンゼンジチオール、1,4−ベンゼンジチオ
ール、1,3,5−ベンゼントリチオール。
ール類:9,10−アントラセンジメタンチオール、
1,3−ジフェニルプロパン−2,2−ジチオール、
2,4−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、4,
5−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、4,4´
−ジメルカプトビフェニル、4,4´−ジメルカプトビ
ベンジル、2,4−ジ(p−メルカプトフェニル)ペン
タン、2,5−トルエンジチオール、3,4−トルエン
ジチオール、1,4−ナフタレンジチール、1,5−ナ
フタレンジチオール、2,6−ナフタレンジチオール、
2,7−ナフタレンジチオール、1,1,−ビス(メル
カプトメチル)シクロヘキサン、フェニルメタン−1,
1−ジチオール、4−tert−ブチルシクロヘキサン
−1,1−ジチオール、1,2−ベンゼンジチオール、
1,3−ベンゼンジチオール、1,4−ベンゼンジチオ
ール、1,3,5−ベンゼントリチオール。
【0073】(3)ポリオールとカルボキシル基を有す
るチオール化合物のエステル化物:カルボキシル基を有
するチオールとしては、メルカプト酢酸、チオグリコー
ル酸、α−メルカプトプロピオン酸、β−メルカプトプ
ロピオン酸、4−メルカプト酪酸、メルカプトウンデシ
ル酸、o−メルカプト安息香酸、p−メルカプト安息香
酸が挙げられる。
るチオール化合物のエステル化物:カルボキシル基を有
するチオールとしては、メルカプト酢酸、チオグリコー
ル酸、α−メルカプトプロピオン酸、β−メルカプトプ
ロピオン酸、4−メルカプト酪酸、メルカプトウンデシ
ル酸、o−メルカプト安息香酸、p−メルカプト安息香
酸が挙げられる。
【0074】ポリオールとしては、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレングリコ
ール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、p−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
A、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等を
挙げることが出来る。
ル、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレングリコ
ール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、p−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
A、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等を
挙げることが出来る。
【0075】さらに、ポリプロピレングリコール、ポリ
エチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、
エチレンオキサイドープロピレンオキサイド共重合体、
テトラヒドロフランーエチレンオキサイド共重合体、テ
トラヒドロフランープロピレンオキサイド共重合体等
を、また、ポリエステルジオールとしてはポリエチレン
アジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキサメ
チレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、ポリ
ヘキサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチレン
ヘキサメチレンアジペート等を、また、ポリーεーカプ
ロラクトンジオール、ポリヘキサメチレンカーボネート
ジオール、ポリテトラメチレンアジペート、ソルビトー
ル、メチルグルコジット、シュクローズ等も挙げること
ができる。また、種々の含燐ポリオール、ハロゲン含有
ポリオールなどもポリオールとして使用できる。
エチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、
エチレンオキサイドープロピレンオキサイド共重合体、
テトラヒドロフランーエチレンオキサイド共重合体、テ
トラヒドロフランープロピレンオキサイド共重合体等
を、また、ポリエステルジオールとしてはポリエチレン
アジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキサメ
チレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、ポリ
ヘキサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチレン
ヘキサメチレンアジペート等を、また、ポリーεーカプ
ロラクトンジオール、ポリヘキサメチレンカーボネート
ジオール、ポリテトラメチレンアジペート、ソルビトー
ル、メチルグルコジット、シュクローズ等も挙げること
ができる。また、種々の含燐ポリオール、ハロゲン含有
ポリオールなどもポリオールとして使用できる。
【0076】これらのポリオールとカルボキシル基を有
するチオール化合物は全ての組み合わせで使用すること
ができ、公知の方法によりエステル化反応させて目的と
する化合物を得ることができる。
するチオール化合物は全ての組み合わせで使用すること
ができ、公知の方法によりエステル化反応させて目的と
する化合物を得ることができる。
【0077】また、上記の一分子中にチオール基を2個
以上有する化合物のなかでも、本発明の感熱層に柔軟性
を付与し印刷版の耐刷性を向上させる目的から、脂肪族
炭化水素を主鎖とするジチオールおよびポリオールとカ
ルボキシル基を有するチオール化合物のエステル化物が
好ましく、さらに好ましくはトリメチロールプロパンま
たはペンタエリスリトールとチオグリコール酸またはβ
−メルカプトプロピオン酸の組み合わせによるエステル
化物あるいはこれらの混合物が好ましい。
以上有する化合物のなかでも、本発明の感熱層に柔軟性
を付与し印刷版の耐刷性を向上させる目的から、脂肪族
炭化水素を主鎖とするジチオールおよびポリオールとカ
ルボキシル基を有するチオール化合物のエステル化物が
好ましく、さらに好ましくはトリメチロールプロパンま
たはペンタエリスリトールとチオグリコール酸またはβ
−メルカプトプロピオン酸の組み合わせによるエステル
化物あるいはこれらの混合物が好ましい。
【0078】本発明の(c)チオール基を有する化合物
の感熱層内における割合は、固形分ベースで好ましくは
5〜80重量%、より好ましくは10〜80重量%であ
る。80重量%を超えると各層の本来の機能が著しく低
下し、5重量%未満では レーザー感応性が不十分であ
る。
の感熱層内における割合は、固形分ベースで好ましくは
5〜80重量%、より好ましくは10〜80重量%であ
る。80重量%を超えると各層の本来の機能が著しく低
下し、5重量%未満では レーザー感応性が不十分であ
る。
【0079】次に、本発明でに使用される、(d)加熱
によりラジカルを発生させる物質について説明する。
によりラジカルを発生させる物質について説明する。
【0080】加熱によりラジカルを発生させる物質とし
ては、公知の化合物を全て使用することができる。具体
的には、有機過酸化物、アゾ化合物およびスルフィド類
などが挙げられる。
ては、公知の化合物を全て使用することができる。具体
的には、有機過酸化物、アゾ化合物およびスルフィド類
などが挙げられる。
【0081】有機過酸化物としては、未露光の印刷版原
版の保存安定性の観点から半減期1分となるための分解
温度が120℃以上のものが好ましい。このような有機
化酸化物の具体例としては、2,4−ジクロロベンゾイ
ルパーオキサイド、クミルパーオキシオクトエート、ア
セチルパーオキサイド、サクシン酸パーオキサイド、t
−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサノエート)、m
−トルオリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイ
ド、t−ブチルパーオキシソブチレート、1,1−ビス
(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシク
ロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シ
クロヘキサン、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−
ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシ
3,5,5−トリメチルヘキサノエート、シクロヘキサ
ノンパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアリルカー
ボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネ
ート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパー
オキシ)ヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキ
シ)オクタン、t−ブチルパーオキシアセテート、2,
2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブチル
ペーオキシベンゾエート、n−ブチル−4,4−ビス
(t−ブチルパーオキシ)バレレート、ジt−ブチルパ
ーオキシイソフタレート、メチルエチルケトンパーオキ
サイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、α,
α’−ビス(t−ブチルパーオキシ−m−イソプロピ
ル)ベンゼン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジイ
ソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジt−ブ
チルパーオキサイド、p−メンタンヒドロパーオキサイ
ド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオ
キシ)ヘキシン、1,1,3,3−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−
2,5−ジハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパ
ーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド等が
挙げられる。
版の保存安定性の観点から半減期1分となるための分解
温度が120℃以上のものが好ましい。このような有機
化酸化物の具体例としては、2,4−ジクロロベンゾイ
ルパーオキサイド、クミルパーオキシオクトエート、ア
セチルパーオキサイド、サクシン酸パーオキサイド、t
−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサノエート)、m
−トルオリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイ
ド、t−ブチルパーオキシソブチレート、1,1−ビス
(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシク
ロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シ
クロヘキサン、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−
ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシ
3,5,5−トリメチルヘキサノエート、シクロヘキサ
ノンパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアリルカー
ボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネ
ート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパー
オキシ)ヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキ
シ)オクタン、t−ブチルパーオキシアセテート、2,
2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブチル
ペーオキシベンゾエート、n−ブチル−4,4−ビス
(t−ブチルパーオキシ)バレレート、ジt−ブチルパ
ーオキシイソフタレート、メチルエチルケトンパーオキ
サイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、α,
α’−ビス(t−ブチルパーオキシ−m−イソプロピ
ル)ベンゼン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジイ
ソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジt−ブ
チルパーオキサイド、p−メンタンヒドロパーオキサイ
ド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオ
キシ)ヘキシン、1,1,3,3−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−
2,5−ジハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパ
ーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド等が
挙げられる。
【0082】アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイ
ソブチルニトリル、2−フェニラゾ−2,4−ジメチル
−4−メトキシバレロニトリル、2−シアノ−2−プロ
ピルアゾホルムアミド、1,1−アゾビスシクロヘキサ
ン−1−カルボニトリル、1,1’−アゾビス(1−ア
セトキシ−1−フェニレタン)、2,2’−アゾビス
(2−アミドブタン)ジヒドロクロライド等が挙げられ
る。
ソブチルニトリル、2−フェニラゾ−2,4−ジメチル
−4−メトキシバレロニトリル、2−シアノ−2−プロ
ピルアゾホルムアミド、1,1−アゾビスシクロヘキサ
ン−1−カルボニトリル、1,1’−アゾビス(1−ア
セトキシ−1−フェニレタン)、2,2’−アゾビス
(2−アミドブタン)ジヒドロクロライド等が挙げられ
る。
【0083】スルフィド類の具体例としては公知のモノ
スルフィド類、ジスルフィド類、テトラメチルチウラム
ジスルフィド等が挙げられる。
スルフィド類、ジスルフィド類、テトラメチルチウラム
ジスルフィド等が挙げられる。
【0084】これら加熱によりラジカルを発生させる物
質の中でも、有機過酸化物が好ましい。
質の中でも、有機過酸化物が好ましい。
【0085】本発明の(d)加熱によりラジカルを発生
させる物質の感熱層内の割合は、固形分に対して好まし
くは0.1〜10重量%、より好ましくは0.1〜7重
量%である。10重量%を超えると各層の本来の機能が
低下し、0.1重量%未満ではレーザー感応性が不十分
である。
させる物質の感熱層内の割合は、固形分に対して好まし
くは0.1〜10重量%、より好ましくは0.1〜7重
量%である。10重量%を超えると各層の本来の機能が
低下し、0.1重量%未満ではレーザー感応性が不十分
である。
【0086】さらに本発明の感熱層は、(e)加熱によ
り酸を発生する物質を含有することが好ましい。加熱に
より発生する酸により感熱層の熱硬化反応が促進され、
結果として印刷版原版の感度を向上させることができ
る。これら加熱により酸を発生する物質の具体例として
は、以下のものが挙げられるが本発明はこれらに限定さ
れない。
り酸を発生する物質を含有することが好ましい。加熱に
より発生する酸により感熱層の熱硬化反応が促進され、
結果として印刷版原版の感度を向上させることができ
る。これら加熱により酸を発生する物質の具体例として
は、以下のものが挙げられるが本発明はこれらに限定さ
れない。
【0087】(1)オニウム塩:ヨーヂニウム塩、スル
ホニウム塩、ホスホニウム塩、ピリジウム塩、ジアゾニ
ウム塩等を挙げることができる。好ましくは、ジフェニ
ルヨードニウムトリフレート、ジフェニルヨードニウム
ピレンスルホネート、ジフェニルヨードニウムドデシル
ベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリ
フレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、トリフェニルスルホニウムナフタレンス
ルホネート、(ヒドロキシフェニル)ベンジルメチルス
ルホニウムトルエンスルホネート等である。
ホニウム塩、ホスホニウム塩、ピリジウム塩、ジアゾニ
ウム塩等を挙げることができる。好ましくは、ジフェニ
ルヨードニウムトリフレート、ジフェニルヨードニウム
ピレンスルホネート、ジフェニルヨードニウムドデシル
ベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリ
フレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、トリフェニルスルホニウムナフタレンス
ルホネート、(ヒドロキシフェニル)ベンジルメチルス
ルホニウムトルエンスルホネート等である。
【0088】(2)ハロゲン含有化合物:ハロアルキル
基含有ヘテロ環状化合物、ハロアルキル基含有炭化水素
化合物等を挙げることができる。具体的にはハロゲンを
含有するアセトフェノン化合物、ピロン化合物、トリア
ジン化合物、オキサゾール化合物などを挙げることがで
きる。好ましくは、フェニル−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、メトキシフェニル−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、ナフチル−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、1,1−ビス(4
−クロロフェニル)−2,2,2−トリクロロエタン、
トリクロロアセトフェノン、デシルクロリド(2−クロ
ロ−2−フェニルアセトフェノン)等が挙げられる。
基含有ヘテロ環状化合物、ハロアルキル基含有炭化水素
化合物等を挙げることができる。具体的にはハロゲンを
含有するアセトフェノン化合物、ピロン化合物、トリア
ジン化合物、オキサゾール化合物などを挙げることがで
きる。好ましくは、フェニル−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、メトキシフェニル−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、ナフチル−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、1,1−ビス(4
−クロロフェニル)−2,2,2−トリクロロエタン、
トリクロロアセトフェノン、デシルクロリド(2−クロ
ロ−2−フェニルアセトフェノン)等が挙げられる。
【0089】(3)スルホン化合物:β−ケトスルホ
ン、β−スルホニルスルホンおよびそれらのα−ジアゾ
化合物等を挙げることができる。好ましくはフェナシル
フェニルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、トリ
ボロモメチルフェニルスルホン、ビス(フェニルスルホ
ニル)メタン、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタ
ン等である。
ン、β−スルホニルスルホンおよびそれらのα−ジアゾ
化合物等を挙げることができる。好ましくはフェナシル
フェニルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、トリ
ボロモメチルフェニルスルホン、ビス(フェニルスルホ
ニル)メタン、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタ
ン等である。
【0090】(4)スルホネート化合物:アルキルスル
ホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、ア
リールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙
げることができる。好ましくは、ベンゾイントシレー
ト、ピロガロールのトリストリフレート、ニトロベンジ
ル−9,10−ジエトキシアントラセン−2−スルホネ
ート、2,6−ジニトロベンジルスルホナートエステ
ル、o−ニトロベンジルスルホナートエステル等であ
る。その他、N−イミドイルエステル、ピロガロールエ
ステル、ニトロベンジルエステル、α−スルホニルオキ
シケトン、トリス(トリクロロメチル)トリアジンなど
も挙げられる。
ホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、ア
リールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙
げることができる。好ましくは、ベンゾイントシレー
ト、ピロガロールのトリストリフレート、ニトロベンジ
ル−9,10−ジエトキシアントラセン−2−スルホネ
ート、2,6−ジニトロベンジルスルホナートエステ
ル、o−ニトロベンジルスルホナートエステル等であ
る。その他、N−イミドイルエステル、ピロガロールエ
ステル、ニトロベンジルエステル、α−スルホニルオキ
シケトン、トリス(トリクロロメチル)トリアジンなど
も挙げられる。
【0091】これら加熱により酸を発生する物質の中に
は、可視光や紫外線によっても分解し酸を発生する物質
がある。このような光で分解する化合物の場合には、感
熱層中に該化合物が感じる波長域を吸収する染料を添加
することにより明室での曝光耐性を持たせることができ
る。また、上述の黒色染料を使用する場合には、一般的
に黒色染料は可視光、紫外線領域まで吸収域を有するた
め他の染料を使用しなくとも曝光耐性を持たせることが
できる。
は、可視光や紫外線によっても分解し酸を発生する物質
がある。このような光で分解する化合物の場合には、感
熱層中に該化合物が感じる波長域を吸収する染料を添加
することにより明室での曝光耐性を持たせることができ
る。また、上述の黒色染料を使用する場合には、一般的
に黒色染料は可視光、紫外線領域まで吸収域を有するた
め他の染料を使用しなくとも曝光耐性を持たせることが
できる。
【0092】本発明の(e)加熱により酸を発生する物
質の感熱層内における割合は、固形分に対して好ましく
は0.1〜10重量%、より好ましくは0.1〜7重量
%である。10重量%を超えると各層の本来の機能が著
しく低下し、0.1重量%未満ではレーザー感応性が低
いものとなる。
質の感熱層内における割合は、固形分に対して好ましく
は0.1〜10重量%、より好ましくは0.1〜7重量
%である。10重量%を超えると各層の本来の機能が著
しく低下し、0.1重量%未満ではレーザー感応性が低
いものとなる。
【0093】本発明の感熱層は上記の化合物に加えて、
バインダーポリマを含有することが好ましい。バインダ
ーポリマとしては、有機溶剤に可溶でかつフィルム形成
能のあるものであれば特に制限は受けないが、印刷版の
耐刷性の観点から該ポリマのガラス転移温度(Tg)が
0℃以下のポリマ、コポリマを用いることが好ましく、
更にTgが−30℃以下のポリマを用いることが好まし
い。
バインダーポリマを含有することが好ましい。バインダ
ーポリマとしては、有機溶剤に可溶でかつフィルム形成
能のあるものであれば特に制限は受けないが、印刷版の
耐刷性の観点から該ポリマのガラス転移温度(Tg)が
0℃以下のポリマ、コポリマを用いることが好ましく、
更にTgが−30℃以下のポリマを用いることが好まし
い。
【0094】ガラス転移温度Tg(glass transition
temperature)とは、無定型高分子材料の物性がガラ
ス状態からゴム状態に(またはその逆に)変化する転移
点(温度)のことをいう。転移点を中心とする比較的狭
い温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、
熱含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸物性も大き
く変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積
(比容)−温度曲線、熱分析(DSC、DTA等)によ
る熱含量測定、屈折率、こわさのような物質全体として
の性質を測定するものと、力学的(動的粘弾性等)およ
び誘電的損失正接、NMRスペクトルのような分子運動
を反映する量を測定するものとがある。習慣的にはディ
ラトメーター(dilatometer)を用いて、試料の体積を
温度を上げながら測定し、体積(比容)−温度曲線の勾
配が急に変化する点として決定される。 本発明におい
て形態保持の機能を果たすバインダーポリマーとして
は、有機溶媒により希釈可能であり、かつフィルム形成
能のあるものであればいずれも使用可能である。バイン
ダーポリマの具体例として下記のものが挙げられるが、
本発明はこれらの例に限定されない。
temperature)とは、無定型高分子材料の物性がガラ
ス状態からゴム状態に(またはその逆に)変化する転移
点(温度)のことをいう。転移点を中心とする比較的狭
い温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、
熱含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸物性も大き
く変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積
(比容)−温度曲線、熱分析(DSC、DTA等)によ
る熱含量測定、屈折率、こわさのような物質全体として
の性質を測定するものと、力学的(動的粘弾性等)およ
び誘電的損失正接、NMRスペクトルのような分子運動
を反映する量を測定するものとがある。習慣的にはディ
ラトメーター(dilatometer)を用いて、試料の体積を
温度を上げながら測定し、体積(比容)−温度曲線の勾
配が急に変化する点として決定される。 本発明におい
て形態保持の機能を果たすバインダーポリマーとして
は、有機溶媒により希釈可能であり、かつフィルム形成
能のあるものであればいずれも使用可能である。バイン
ダーポリマの具体例として下記のものが挙げられるが、
本発明はこれらの例に限定されない。
【0095】(1)ビニルポリマ類:以下に示すような
単量体およびそれらの誘導体から得られるポリマ、およ
びコポリマ。例えば、エチレン、プロピレン,1−ブテ
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリ
ル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸n−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アアクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリ
ル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒド
ロキシプロピル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、
アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、ポリエチレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル
(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロキシエチ
ル水素ナフタレート、2−(メタ)アクリロキシエチル
水素サクシネート、アクリルアミド、N−メチロールア
クリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジル
メタクリレート、アクリルニトリル、スチレン、ビニル
トルエン、イソブテン、3−メチル−1−ブテン、ブチ
ルビニルエーテル、N−ビニルカルバゾール、メチルビ
ニルケトン、ニトロエチレン、α−シアニアクリル酸メ
チル、ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリ
レート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピ
ル)エーテル、グリセリンやトリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン等の多官能アルコールにエチレン
オキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メ
タ)アアクリレート化したもの、およびこれらの誘導体
を重合、共重合させて得られるポリマ、コポリマをバイ
ンダーポリマとして使用することができる。
単量体およびそれらの誘導体から得られるポリマ、およ
びコポリマ。例えば、エチレン、プロピレン,1−ブテ
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリ
ル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸n−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アアクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリ
ル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒド
ロキシプロピル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、
アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、ポリエチレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル
(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロキシエチ
ル水素ナフタレート、2−(メタ)アクリロキシエチル
水素サクシネート、アクリルアミド、N−メチロールア
クリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジル
メタクリレート、アクリルニトリル、スチレン、ビニル
トルエン、イソブテン、3−メチル−1−ブテン、ブチ
ルビニルエーテル、N−ビニルカルバゾール、メチルビ
ニルケトン、ニトロエチレン、α−シアニアクリル酸メ
チル、ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリ
レート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピ
ル)エーテル、グリセリンやトリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン等の多官能アルコールにエチレン
オキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メ
タ)アアクリレート化したもの、およびこれらの誘導体
を重合、共重合させて得られるポリマ、コポリマをバイ
ンダーポリマとして使用することができる。
【0096】ガラス転移温度が0℃以下のビニル系ポリ
マの具体例としては、例えば、次に示すようなポリマが
挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
マの具体例としては、例えば、次に示すようなポリマが
挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
【0097】(a)ポリオレフィン類:具体例としては
ポリ(1−ブテン)、ポリ(5−シクロヘキシル−1−
ペンテン)、ポリ(1−デセン)、ポリ(1,1−ジク
ロロエチレン)、ポリ(1,1−ジメチルブタン)、ポ
リ(1,1−ジメチルプロパン)、ポリ(1−ドデセ
ン)、ポリエチレン、ポリ(1−ヘプテン)、ポリ(1
−ヘキセン)、ポリメチレン、ポリ(6−メチル−1−
ヘプテン)、ポリ(5−メチル−1−ヘキセン)、ポリ
(2−メチルプロパン)、ポリ(1−ノメン)、ポリ
(1−オクテン)、ポリ(1−ペンテン)、ポリ(5−
フェニル−1−ペンテン)、ポリプロピレン、ポリイソ
ブチレン、ポリ(1−ブテン)、ポリ(ビニルブチルエ
ーテル)、ポリ(ビニルエチルエーテル)、ポリ(ビニ
ルイソブチルエーテル)、ポリ(ビニルメチルエーテ
ル)等が挙げられる。
ポリ(1−ブテン)、ポリ(5−シクロヘキシル−1−
ペンテン)、ポリ(1−デセン)、ポリ(1,1−ジク
ロロエチレン)、ポリ(1,1−ジメチルブタン)、ポ
リ(1,1−ジメチルプロパン)、ポリ(1−ドデセ
ン)、ポリエチレン、ポリ(1−ヘプテン)、ポリ(1
−ヘキセン)、ポリメチレン、ポリ(6−メチル−1−
ヘプテン)、ポリ(5−メチル−1−ヘキセン)、ポリ
(2−メチルプロパン)、ポリ(1−ノメン)、ポリ
(1−オクテン)、ポリ(1−ペンテン)、ポリ(5−
フェニル−1−ペンテン)、ポリプロピレン、ポリイソ
ブチレン、ポリ(1−ブテン)、ポリ(ビニルブチルエ
ーテル)、ポリ(ビニルエチルエーテル)、ポリ(ビニ
ルイソブチルエーテル)、ポリ(ビニルメチルエーテ
ル)等が挙げられる。
【0098】(b)ポリスチレン類:具体例としてはポ
リ(4−[(2−ブトキシエトキシ)メチル]スチレ
ン)、ポリ(4−デシルスチレン)、ポリ(4−ドデシ
ルスチレン)、ポリ[4−(2−エトキシエトキシメチ
ル)スチレン]、ポリ[4−(ヘキソキシメチル)スチ
レン]、ポリ(4−ヘキシルスチレン)、ポリ(4−ノ
ニルスチレン)、ポリ[4−(オクトキシメチル)スチ
レン]、ポリ(4−オクチルスチレン)、ポリ(4−テ
トラデシルスチレン)等が挙げられる。
リ(4−[(2−ブトキシエトキシ)メチル]スチレ
ン)、ポリ(4−デシルスチレン)、ポリ(4−ドデシ
ルスチレン)、ポリ[4−(2−エトキシエトキシメチ
ル)スチレン]、ポリ[4−(ヘキソキシメチル)スチ
レン]、ポリ(4−ヘキシルスチレン)、ポリ(4−ノ
ニルスチレン)、ポリ[4−(オクトキシメチル)スチ
レン]、ポリ(4−オクチルスチレン)、ポリ(4−テ
トラデシルスチレン)等が挙げられる。
【0099】(c)アクリル酸エステルポリマおよびメ
タクリル酸エステルポリマ:具体例としてはポリ(ブチ
ルアクリレート)、ポリ(sec−ブチルアクリレー
ト)、ポリ(tert−ブチルアクリレート)、ポリ
[2−(2−シアノエチルチオ)エチルアクリレー
ト]、ポリ[3−(2−シアノエチルチオ)プロピルア
クリレート]、ポリ[2−(シアノメチルチオ)エチル
アクリレート]、ポリ[6−(シアノメチルチオ)ヘキ
シルアクリレート]、ポリ[2−(3−シアノプロピル
チオ)エチルアクリレート]、ポリ(2−エトキシエチ
ルアクリレート)、ポリ(3−エトキシプロピルアクリ
レート)、ポリ(エチルアクリレート)、ポリ(2−エ
チルブチルアクリレート)、ポリ(2−エチルヘキシル
アクリレート)、ポリ(5−エチル−2−ノニルアクリ
レート)、ポリ(2−エチルチオエチルアクリレー
ト)、ポリ(3−エチルチオプロピルアクリレート)、
ポリ(ヘプチルアクリレート)、ポリ(2−ヘプチルア
クリレート)、ポリ(ヘキシルアクリレート)、ポリ
(イソブチルアクリレート)、ポリ(イソプロピルアク
リレート)、ポリ(2−メトキシエチルアクリレー
ト)、ポリ(3−メトキシプロピルアクリレート)、ポ
リ(2−メチルブチルアクリレート)、ポリ(3−メチ
ルブチルアクリレート)、ポリ(2−メチル−7−エチ
ル−4−ウンデシルアクリレート)、ポリ(2−メチル
ペンチルアクリレエート)、ポリ(4−メチル−2−ペ
ンチルアクリレート)、ポリ(4−メチルチオブチルア
クリレート)、ポリ(2−メチルチオエチルアクリレー
ト)、ポリ(3−メチルチオプロピルアクリレート)、
ポリ(ノニルアクリレート)、ポリ(オクチルアクリレ
ート)、ポリ(2−オクチルアクリレート)ポリ(3−
ペンチルアクリレート)、ポリ(プロピルアクリレー
ト)、ポリ(ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ
(ヒドロキシプロピルアクリレート)等が挙げられる。
タクリル酸エステルポリマ:具体例としてはポリ(ブチ
ルアクリレート)、ポリ(sec−ブチルアクリレー
ト)、ポリ(tert−ブチルアクリレート)、ポリ
[2−(2−シアノエチルチオ)エチルアクリレー
ト]、ポリ[3−(2−シアノエチルチオ)プロピルア
クリレート]、ポリ[2−(シアノメチルチオ)エチル
アクリレート]、ポリ[6−(シアノメチルチオ)ヘキ
シルアクリレート]、ポリ[2−(3−シアノプロピル
チオ)エチルアクリレート]、ポリ(2−エトキシエチ
ルアクリレート)、ポリ(3−エトキシプロピルアクリ
レート)、ポリ(エチルアクリレート)、ポリ(2−エ
チルブチルアクリレート)、ポリ(2−エチルヘキシル
アクリレート)、ポリ(5−エチル−2−ノニルアクリ
レート)、ポリ(2−エチルチオエチルアクリレー
ト)、ポリ(3−エチルチオプロピルアクリレート)、
ポリ(ヘプチルアクリレート)、ポリ(2−ヘプチルア
クリレート)、ポリ(ヘキシルアクリレート)、ポリ
(イソブチルアクリレート)、ポリ(イソプロピルアク
リレート)、ポリ(2−メトキシエチルアクリレー
ト)、ポリ(3−メトキシプロピルアクリレート)、ポ
リ(2−メチルブチルアクリレート)、ポリ(3−メチ
ルブチルアクリレート)、ポリ(2−メチル−7−エチ
ル−4−ウンデシルアクリレート)、ポリ(2−メチル
ペンチルアクリレエート)、ポリ(4−メチル−2−ペ
ンチルアクリレート)、ポリ(4−メチルチオブチルア
クリレート)、ポリ(2−メチルチオエチルアクリレー
ト)、ポリ(3−メチルチオプロピルアクリレート)、
ポリ(ノニルアクリレート)、ポリ(オクチルアクリレ
ート)、ポリ(2−オクチルアクリレート)ポリ(3−
ペンチルアクリレート)、ポリ(プロピルアクリレー
ト)、ポリ(ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ
(ヒドロキシプロピルアクリレート)等が挙げられる。
【0100】ガラス転移温度0℃以下のポリメタクリレ
ート類としては、ポリ(エチルアクリレート)、ポリ
(ブチルアクリレート)、ポリ(デシルメタクリレー
ト)、ポリ(ドデシルメタクリレート)、ポリ(2−エ
チルヘキシルメタクリレート)、ポリ(オクタデシルメ
タクリレート)、ポリ(オクチルメタクリレート)、ポ
リ(テトラデシルメタクリレート)、ポリ(n−ヘキシ
ルメタクリレート)、ポリ(ラウリルメタクリレー
ト)、またこれらのポリマーと他のアクリルポリマーと
のコポリマー等が挙げられる。
ート類としては、ポリ(エチルアクリレート)、ポリ
(ブチルアクリレート)、ポリ(デシルメタクリレー
ト)、ポリ(ドデシルメタクリレート)、ポリ(2−エ
チルヘキシルメタクリレート)、ポリ(オクタデシルメ
タクリレート)、ポリ(オクチルメタクリレート)、ポ
リ(テトラデシルメタクリレート)、ポリ(n−ヘキシ
ルメタクリレート)、ポリ(ラウリルメタクリレー
ト)、またこれらのポリマーと他のアクリルポリマーと
のコポリマー等が挙げられる。
【0101】(2)未加硫ゴム:天然ゴム、(NR)
や、ブタジエン、イソプレン、スチレン、アクリロニト
リル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルより
選ばれた単独重合体又は共重合体であり、例えばポリブ
タジエン(BR)、スチレン−ブタジエン共重合体(S
BR)、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合
体、ポリイソプレン(NR)、ポリイソブチレン、ポリ
クロロプレン(CR)、ポリネオプレン、アクリル酸エ
ステル−ブタジエン共重合体、メタクリル酸エステル−
ブタジエン共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニ
トリル共重合体(ANM)、イソブチレン−イソプレン
共重合体(IIR)、アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体(NBR)、カルボキシ変性アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−クロロプレン
共重合体、アクリロニトリル−イソプレン共重合体、エ
チレン−プロピレン共重合体(EPM、EPDM)、ビ
ニルピリジン−スチレン−ブタジエン共重合体、スチレ
ン−イソプレン共重合体などの未加硫ゴムが挙げられ
る。
や、ブタジエン、イソプレン、スチレン、アクリロニト
リル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルより
選ばれた単独重合体又は共重合体であり、例えばポリブ
タジエン(BR)、スチレン−ブタジエン共重合体(S
BR)、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合
体、ポリイソプレン(NR)、ポリイソブチレン、ポリ
クロロプレン(CR)、ポリネオプレン、アクリル酸エ
ステル−ブタジエン共重合体、メタクリル酸エステル−
ブタジエン共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニ
トリル共重合体(ANM)、イソブチレン−イソプレン
共重合体(IIR)、アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体(NBR)、カルボキシ変性アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−クロロプレン
共重合体、アクリロニトリル−イソプレン共重合体、エ
チレン−プロピレン共重合体(EPM、EPDM)、ビ
ニルピリジン−スチレン−ブタジエン共重合体、スチレ
ン−イソプレン共重合体などの未加硫ゴムが挙げられ
る。
【0102】また、ポリ(1,3−ブタジエン)、ポリ
(2−クロロ−1,3−ブタジエン)、ポリ(2−デシ
ル−1,3−ブタジエン)、ポリ(2,3−ジメチル−
1,3−ブタジエン)、ポリ(2−エチル−1,3−ブ
タジエン)、ポリ(2−ヘプチル−1,3−ブタジエ
ン)、ポリ(2−イソプロピル−1,3−ブタジエ
ン)、ポリ(2−メチル−1,3−ブタジエン)、クロ
ロスルホン化ポリエチレン、環化ゴム等が挙げられる。
(2−クロロ−1,3−ブタジエン)、ポリ(2−デシ
ル−1,3−ブタジエン)、ポリ(2,3−ジメチル−
1,3−ブタジエン)、ポリ(2−エチル−1,3−ブ
タジエン)、ポリ(2−ヘプチル−1,3−ブタジエ
ン)、ポリ(2−イソプロピル−1,3−ブタジエ
ン)、ポリ(2−メチル−1,3−ブタジエン)、クロ
ロスルホン化ポリエチレン、環化ゴム等が挙げられる。
【0103】また、これらゴム類の変性物、例えばエポ
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマとのブレンド物もまたバ
インダーポリマとして使用できる。
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマとのブレンド物もまたバ
インダーポリマとして使用できる。
【0104】(3)ポリオキシド類(ポリエーテル
類):トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオ
キシド、2,3−エポキシブタン、3,4−エポキシブ
テン、2,3−エポキシペンタン、1,2−エポキシヘ
キサン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプ
タン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、2
−フェニル−1,2−エポキシプロパン、テトラメチル
エチレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒ
ドリン、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、n−ブチルグリシジルエーテル、1,4−
ジクロロ−2,3−エポキシブタン、2,3−エポキシ
プロピオンアルデヒド、2,3−エポキシ−2−メチル
プロピオンアルデヒド、2,3−エポキシジエチルアセ
タールなどの開環重合によるポリマ、コポリマ等が挙げ
られる。
類):トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオ
キシド、2,3−エポキシブタン、3,4−エポキシブ
テン、2,3−エポキシペンタン、1,2−エポキシヘ
キサン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプ
タン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、2
−フェニル−1,2−エポキシプロパン、テトラメチル
エチレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒ
ドリン、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、n−ブチルグリシジルエーテル、1,4−
ジクロロ−2,3−エポキシブタン、2,3−エポキシ
プロピオンアルデヒド、2,3−エポキシ−2−メチル
プロピオンアルデヒド、2,3−エポキシジエチルアセ
タールなどの開環重合によるポリマ、コポリマ等が挙げ
られる。
【0105】ガラス転移温度0℃以下のポリオキシド類
の具体例としては、例えばポリアセトアルデヒド、ポリ
(ブタジエンオキシド)、ポリ(1−ブテンオキシ
ド)、ポリ(ドデセンオキシド)、ポリ(エチレンオキ
シド)、ポリ(イソブテンオキシド)、ポリホルムアル
デヒド、ポリ(プロピレンオキシド)、ポリ(テトラメ
チレンオキシド)、ポリ(トリメチレンオキシド)等が
挙げられる。
の具体例としては、例えばポリアセトアルデヒド、ポリ
(ブタジエンオキシド)、ポリ(1−ブテンオキシ
ド)、ポリ(ドデセンオキシド)、ポリ(エチレンオキ
シド)、ポリ(イソブテンオキシド)、ポリホルムアル
デヒド、ポリ(プロピレンオキシド)、ポリ(テトラメ
チレンオキシド)、ポリ(トリメチレンオキシド)等が
挙げられる。
【0106】(4)ポリエステル類:以下に示すような
多価アルコールと多価カルボン酸の重縮合により得られ
るポリエステル、多価アルコールと多価カルボン酸無水
物の重合により得られるポリエステル、ラクトンの開環
重合などにより得られるポリエステル、およびこれら多
価アルコール、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水
物、およびラクトンの混合物より得られるポリエステル
等が挙げられる。
多価アルコールと多価カルボン酸の重縮合により得られ
るポリエステル、多価アルコールと多価カルボン酸無水
物の重合により得られるポリエステル、ラクトンの開環
重合などにより得られるポリエステル、およびこれら多
価アルコール、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水
物、およびラクトンの混合物より得られるポリエステル
等が挙げられる。
【0107】多価アルコールの具体例としては、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパ
ンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレ
ングリコール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘ
キサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、トリエチレング
リコール、p−キシレングリコール、水素化ビスフェノ
ールA、ビスフェノールヒドロキシプロピルエーテル、
グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタ
エリトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等
が挙げられる。
ングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパ
ンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレ
ングリコール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘ
キサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、トリエチレング
リコール、p−キシレングリコール、水素化ビスフェノ
ールA、ビスフェノールヒドロキシプロピルエーテル、
グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタ
エリトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等
が挙げられる。
【0108】多価カルボン酸および多価カルボン酸無水
物の具体例としては無水フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロ
ル無水フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無
水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリッ
ト酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無
水ピロメリット酸等が挙げられる。
物の具体例としては無水フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロ
ル無水フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無
水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリッ
ト酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無
水ピロメリット酸等が挙げられる。
【0109】ラクトンとしては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトン等が挙げられる。
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトン等が挙げられる。
【0110】ガラス転移温度0℃以下のポリエステルの
具体例としては、例えばポリ[1,4−(2−ブテン)
セバケート]、[1,4−(2−ブチン)セバケー
ト]、ポリ(デカメチレナジペイト)、ポリ(エチレン
アジペイト)、ポリ(オキシジエチレンアジペイト)、
ポリ(オキシジエチレンアゼラエイト)、ポリ(オキシ
ジエチレンドデカンジエイト)、ポリ(オキシジエチレ
ングルタレイト)、ポリ(オキシジエチレンヘプチルマ
ロネイト)、ポリ(オキシジエチレンノニルマロネイ
ト)、ポリ(オキシジエチレンオクタデカンジエイ
ト)、ポリ(オキシジエチンオキザレイト)、ポリ(オ
キシジエチレンペンチルマロネイト)、ポリ(オキシジ
エチレンピメレイト)、ポリ(オキシジエチレンプロピ
ルマロネイト)、ポリ(オキシジエチレンセバケー
ト)、ポリ(オキシジエチレンスベレイト)、ポリ(オ
キシエチレンスクシネイト)、ポリ(ペンタメチレンア
ジペイト)、ポリ(テトラメチレンアジペイト)、ポリ
(テトラメチレンセバケート)、ポリ(トリメチレンア
ジペイト)等が挙げられる。
具体例としては、例えばポリ[1,4−(2−ブテン)
セバケート]、[1,4−(2−ブチン)セバケー
ト]、ポリ(デカメチレナジペイト)、ポリ(エチレン
アジペイト)、ポリ(オキシジエチレンアジペイト)、
ポリ(オキシジエチレンアゼラエイト)、ポリ(オキシ
ジエチレンドデカンジエイト)、ポリ(オキシジエチレ
ングルタレイト)、ポリ(オキシジエチレンヘプチルマ
ロネイト)、ポリ(オキシジエチレンノニルマロネイ
ト)、ポリ(オキシジエチレンオクタデカンジエイ
ト)、ポリ(オキシジエチンオキザレイト)、ポリ(オ
キシジエチレンペンチルマロネイト)、ポリ(オキシジ
エチレンピメレイト)、ポリ(オキシジエチレンプロピ
ルマロネイト)、ポリ(オキシジエチレンセバケー
ト)、ポリ(オキシジエチレンスベレイト)、ポリ(オ
キシエチレンスクシネイト)、ポリ(ペンタメチレンア
ジペイト)、ポリ(テトラメチレンアジペイト)、ポリ
(テトラメチレンセバケート)、ポリ(トリメチレンア
ジペイト)等が挙げられる。
【0111】(5)ポリウレタン類:以下に示すポリイ
ソシアネート類と多価アルコールより得られるポリルレ
タンも、バインダーポリマとして使用することができ
る。多価アルコールとしては、上記ポリエステルの項で
述べた多価アルコール類及び下記の多価アルコール類、
これら多価アルコールとポリエステルの項で述べた多価
カルボン酸の重縮合で得られる両末端が水酸基であるよ
うなポリエステルポリオール、上記ラクトン類より得ら
れる重合ポリエステルポリオール、ポリカーボネートジ
オール、プロピレンオキシドやテトラヒドロフランの開
環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエーテルポ
リオール、あるいは水酸基を有する(メタ)アクリル単
量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体である
アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオールなどが
挙げられる。
ソシアネート類と多価アルコールより得られるポリルレ
タンも、バインダーポリマとして使用することができ
る。多価アルコールとしては、上記ポリエステルの項で
述べた多価アルコール類及び下記の多価アルコール類、
これら多価アルコールとポリエステルの項で述べた多価
カルボン酸の重縮合で得られる両末端が水酸基であるよ
うなポリエステルポリオール、上記ラクトン類より得ら
れる重合ポリエステルポリオール、ポリカーボネートジ
オール、プロピレンオキシドやテトラヒドロフランの開
環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエーテルポ
リオール、あるいは水酸基を有する(メタ)アクリル単
量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体である
アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオールなどが
挙げられる。
【0112】イソシアネート類としてはパラフェニレン
ジイソシアネート、2,4−または2,6−トルイレン
ジイソシアネート(TDI)、4,4−ジフェニルメタ
ンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイソシアネ
ート(TODI)、キシリレンジイソシアネート(XD
I)、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘキ
サンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネー
ト(MXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(H
DIあるいはHMDI)、リジンジイソシアネート(L
DI)(別名4,4’−メチレンビス(シクロヘキシル
イソシアネート))、水素化TDI(HTDI)(別名
メチルシクロヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネー
ト)、水素化XDI(H6XDI)(別名1,3−(イ
ソシアナートメチル)シクロヘキサン)、イソホロンジ
イソシアネート(IPDI)、ジフェニルエーテルイソ
シアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト(TMDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、ダイ
マー酸ジイソシアネート(DDI)、トリフェニルメタ
ントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニ
ル)チオフォスフェート、テトラメチルキシリレンジイ
ソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、
1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,8
−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチルオクタ
ン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、
ビシクロヘプタントリイソシアネート等やポリイソシア
ネート類の多価アルコールアダクト体、あるいはポリイ
ソシアネート類の重合体が挙げられる。
ジイソシアネート、2,4−または2,6−トルイレン
ジイソシアネート(TDI)、4,4−ジフェニルメタ
ンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイソシアネ
ート(TODI)、キシリレンジイソシアネート(XD
I)、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘキ
サンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネー
ト(MXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(H
DIあるいはHMDI)、リジンジイソシアネート(L
DI)(別名4,4’−メチレンビス(シクロヘキシル
イソシアネート))、水素化TDI(HTDI)(別名
メチルシクロヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネー
ト)、水素化XDI(H6XDI)(別名1,3−(イ
ソシアナートメチル)シクロヘキサン)、イソホロンジ
イソシアネート(IPDI)、ジフェニルエーテルイソ
シアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト(TMDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、ダイ
マー酸ジイソシアネート(DDI)、トリフェニルメタ
ントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニ
ル)チオフォスフェート、テトラメチルキシリレンジイ
ソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、
1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,8
−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチルオクタ
ン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、
ビシクロヘプタントリイソシアネート等やポリイソシア
ネート類の多価アルコールアダクト体、あるいはポリイ
ソシアネート類の重合体が挙げられる。
【0113】上記ポリエステルの項で述べたもの以外の
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキサイド−プロピレンオキサ
イド共重合体、テトラヒドロフラン−プロピレンオキサ
イド共重合体を、また、ポリエステルジオールとしては
ポリエチレンアジペート、ポリプロピレンアジペート、
ポリヘキサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジ
ペート、ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、
ポリエチレンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポ
リ−ε−カプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレン
カーボネートジオール、ポリテトラメチレンアジペー
ト、ソルビトール、メチルグルコジット、シュクローズ
等を挙げることができる。
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキサイド−プロピレンオキサ
イド共重合体、テトラヒドロフラン−プロピレンオキサ
イド共重合体を、また、ポリエステルジオールとしては
ポリエチレンアジペート、ポリプロピレンアジペート、
ポリヘキサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジ
ペート、ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、
ポリエチレンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポ
リ−ε−カプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレン
カーボネートジオール、ポリテトラメチレンアジペー
ト、ソルビトール、メチルグルコジット、シュクローズ
等を挙げることができる。
【0114】また、各種の含燐ポリオール、ハロゲン含
有ポリオールなどもポリオールとして使用することがで
きる。
有ポリオールなどもポリオールとして使用することがで
きる。
【0115】上記のイソシアネート類とポリオールは公
知の方法により反応させて目的とするポリウレタンを得
ることができ、これらのポリウレタンは一般的にガラス
転移温度0℃以下であり本発明に使用することができ
る。
知の方法により反応させて目的とするポリウレタンを得
ることができ、これらのポリウレタンは一般的にガラス
転移温度0℃以下であり本発明に使用することができ
る。
【0116】(6)ポリアミド類:以下に示すモノマー
類のコポリマーが挙げられる。モノマー類としては、ε
−カプロラクタム、ω−ラウロラクタム、ω−アミノウ
ンデカン酸、ヘキサメチレンジアミン、4,4−ビス−
アミノシクロヘキシルメタン、2,4,4−トリメチル
ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、グリコ
ール類、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデ
カンニ酸等が挙げられる。
類のコポリマーが挙げられる。モノマー類としては、ε
−カプロラクタム、ω−ラウロラクタム、ω−アミノウ
ンデカン酸、ヘキサメチレンジアミン、4,4−ビス−
アミノシクロヘキシルメタン、2,4,4−トリメチル
ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、グリコ
ール類、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデ
カンニ酸等が挙げられる。
【0117】さらに詳しく説明すると、ポリアミドは一
般に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに
大別される。水溶性ポリアミドとしては、例えば、特開
昭48−72250号公報に示されるような3,5−ジ
カルボキシベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合
することによって得られるスルホン酸基またはスルホネ
ート基を含有するポリアミド、特開昭49−43465
号公報に示されているような分子中にエーテル結合を持
つジカルボン酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうち
いずれか1種類を共重合して得られるエーテル結合を有
するポリアミド、特開昭50−7605号公報に示され
ているようなN,N’−ジ(γ−アミノプロピル)ピペ
ラジン等を共重合して得られる塩基性窒素を含有するポ
リアミドおよびこれらのポリアミドをアクリル酸等で四
級化したポリアミド、特開昭55−74537号公報で
提案されている分子量150〜1500のポリエーテル
セグメントを含有する共重合ポリアミド、およびα−
(N,N’−ジアルキルアミノ)−ε−カプロラクタム
の開環重合またはα−(N,N’−ジアルキルアミノ)
−ε−カプロラクタムとε−カプロラクタムの開環共重
合で得られたポリアミド等が挙げられる。
般に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに
大別される。水溶性ポリアミドとしては、例えば、特開
昭48−72250号公報に示されるような3,5−ジ
カルボキシベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合
することによって得られるスルホン酸基またはスルホネ
ート基を含有するポリアミド、特開昭49−43465
号公報に示されているような分子中にエーテル結合を持
つジカルボン酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうち
いずれか1種類を共重合して得られるエーテル結合を有
するポリアミド、特開昭50−7605号公報に示され
ているようなN,N’−ジ(γ−アミノプロピル)ピペ
ラジン等を共重合して得られる塩基性窒素を含有するポ
リアミドおよびこれらのポリアミドをアクリル酸等で四
級化したポリアミド、特開昭55−74537号公報で
提案されている分子量150〜1500のポリエーテル
セグメントを含有する共重合ポリアミド、およびα−
(N,N’−ジアルキルアミノ)−ε−カプロラクタム
の開環重合またはα−(N,N’−ジアルキルアミノ)
−ε−カプロラクタムとε−カプロラクタムの開環共重
合で得られたポリアミド等が挙げられる。
【0118】また、アルコール可溶性ポリアミドとして
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω−アミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマーだけで
なくコポリマー、ブロックポリマー等も使用できる。代
表的な例としては、ナイロン3、4、5、6、8、1
1、12、13、66、610、6/10、13/1
3、メタキシリレンジアミンとアジピン酸からのポリア
ミド、トリメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソ
ホロンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ε−カ
プロラクタム/アジピン酸/ヘキサメチレンジアミン/
4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリ
アミド、ε−カプロラクタム/アジピン酸/ヘキサメチ
レンジアミン/2,4,4’−トリメチルヘキサメチレ
ンジアミン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム/ア
ジピン酸/ヘキサメチレンジアミン/イソホロンジアミ
ン共重合ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリ
アミド、それらのN−メチロール、N−アルコキシメチ
ル誘導体も使用できる。
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω−アミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマーだけで
なくコポリマー、ブロックポリマー等も使用できる。代
表的な例としては、ナイロン3、4、5、6、8、1
1、12、13、66、610、6/10、13/1
3、メタキシリレンジアミンとアジピン酸からのポリア
ミド、トリメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソ
ホロンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ε−カ
プロラクタム/アジピン酸/ヘキサメチレンジアミン/
4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリ
アミド、ε−カプロラクタム/アジピン酸/ヘキサメチ
レンジアミン/2,4,4’−トリメチルヘキサメチレ
ンジアミン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム/ア
ジピン酸/ヘキサメチレンジアミン/イソホロンジアミ
ン共重合ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリ
アミド、それらのN−メチロール、N−アルコキシメチ
ル誘導体も使用できる。
【0119】以上のポリアミドは単独あるいは混合して
本発明のプライマー層に使用することができる。
本発明のプライマー層に使用することができる。
【0120】ガラス転移温度0℃以下のポリアミドとし
ては、分子量150〜1500のポリエーテルセグメン
トを含有する共重合ポリアミド、より具体的には末端に
アミノ基を有しポリエーテルセグメント部分の分子量が
150〜1500であるポリオキシエチレンと脂肪族ジ
カルボン酸またはジアミンとから成る構成単位を30〜
70重量%含有するところの共重合ポリアミドが挙げら
れるが本発明はこれらに限定されない。
ては、分子量150〜1500のポリエーテルセグメン
トを含有する共重合ポリアミド、より具体的には末端に
アミノ基を有しポリエーテルセグメント部分の分子量が
150〜1500であるポリオキシエチレンと脂肪族ジ
カルボン酸またはジアミンとから成る構成単位を30〜
70重量%含有するところの共重合ポリアミドが挙げら
れるが本発明はこれらに限定されない。
【0121】これらのバインダーポリマとなりうるポリ
マは単独で用いてもよく、また数種のポリマを混合して
使用することもできる。
マは単独で用いてもよく、また数種のポリマを混合して
使用することもできる。
【0122】上記のポリマの中でも本発明の感熱層に好
ましく用いることができるポリマとしては、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好ま
しい。
ましく用いることができるポリマとしては、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好ま
しい。
【0123】これら基板と感熱層の接着性を強固にする
と共に基板が金属などのように熱伝導が比較的高い物質
を使用する場合には断熱効果の目的で、基板と感熱層の
間に断熱層を設けることが好ましい。
と共に基板が金属などのように熱伝導が比較的高い物質
を使用する場合には断熱効果の目的で、基板と感熱層の
間に断熱層を設けることが好ましい。
【0124】本発明で使用する断熱層は、次の条件を満
たすことが必要である。すなわち、基板と感熱層とをよ
く接着し、経時において安定であること、さらに現像
液、印刷時に使用する溶剤に対する耐溶剤性が良いこと
である。また、断熱層には、感熱層が熱反応を起こす際
の熱を基板へ拡散させないための熱的な絶縁層としての
役割もある。このような条件を満たすものとして、特公
昭61−54219号公報に示されるようなエポキシ樹
脂を含むものの他、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹
脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリアミド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾ
グアナミン樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチレン―
酢酸ビニル共重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリアク
リロニトリル―ブタジエン共重合体、ポリエーテル樹
脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ミルクカゼイン、ゼ
ラチン等を使用することができる。これらの樹脂は単独
であるいは二種以上混合して用いることができる。ま
た、感熱層と類似の組成物を光硬化したものを使用して
もよい。
たすことが必要である。すなわち、基板と感熱層とをよ
く接着し、経時において安定であること、さらに現像
液、印刷時に使用する溶剤に対する耐溶剤性が良いこと
である。また、断熱層には、感熱層が熱反応を起こす際
の熱を基板へ拡散させないための熱的な絶縁層としての
役割もある。このような条件を満たすものとして、特公
昭61−54219号公報に示されるようなエポキシ樹
脂を含むものの他、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹
脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリアミド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾ
グアナミン樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチレン―
酢酸ビニル共重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリアク
リロニトリル―ブタジエン共重合体、ポリエーテル樹
脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ミルクカゼイン、ゼ
ラチン等を使用することができる。これらの樹脂は単独
であるいは二種以上混合して用いることができる。ま
た、感熱層と類似の組成物を光硬化したものを使用して
もよい。
【0125】これらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
等を単独で、あるいは2種以上を混合して用いることが
好ましい。
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
等を単独で、あるいは2種以上を混合して用いることが
好ましい。
【0126】また、上記断熱層を構成するアンカー剤と
しては、例えばシランカップリング剤等の、公知の接着
剤を用いることができ、また含燐化合物、有機チタネー
ト等も有効である。
しては、例えばシランカップリング剤等の、公知の接着
剤を用いることができ、また含燐化合物、有機チタネー
ト等も有効である。
【0127】さらに塗工性を改良する目的で、界面活性
剤を添加することも任意である。
剤を添加することも任意である。
【0128】また、この断熱層中に白色顔料等の添加剤
を含有させて検版性を向上させることが好ましい。
を含有させて検版性を向上させることが好ましい。
【0129】上記の断熱層を形成するための組成物は、
DMF、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、ジオキサン等の適当な有機溶剤に溶解させることに
よって組成物溶液として調整される。かかる組成物溶液
を基板上に均一に塗布し必要な温度で必要な時間加熱す
ることにより、断熱層が形成される。
DMF、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、ジオキサン等の適当な有機溶剤に溶解させることに
よって組成物溶液として調整される。かかる組成物溶液
を基板上に均一に塗布し必要な温度で必要な時間加熱す
ることにより、断熱層が形成される。
【0130】断熱層の厚さは被覆層にして0.5〜50
g/m2 が好ましく、より好ましくは1〜10g/m2
である。厚さが0.5g/m2よりも薄いと基板表面の
形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果が劣り、50g
/m2よりも厚いと経済的見地から不利となるので上記
の範囲が好ましい。
g/m2 が好ましく、より好ましくは1〜10g/m2
である。厚さが0.5g/m2よりも薄いと基板表面の
形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果が劣り、50g
/m2よりも厚いと経済的見地から不利となるので上記
の範囲が好ましい。
【0131】さらに本発明の感熱層には、レーザー光の
波長以外の領域に吸収を有する染料、公知の重合禁止
剤、酸、レベリング剤、界面活性剤および可塑剤等を、
必要に応じて任意に添加することができる。
波長以外の領域に吸収を有する染料、公知の重合禁止
剤、酸、レベリング剤、界面活性剤および可塑剤等を、
必要に応じて任意に添加することができる。
【0132】さらに本発明の感熱層には、レーザー光の
波長以外の領域に吸収を有する染料、公知の重合禁止
剤、酸、レベリング剤、界面活性剤、可塑剤等を必要に
応じて任意に添加することができる。
波長以外の領域に吸収を有する染料、公知の重合禁止
剤、酸、レベリング剤、界面活性剤、可塑剤等を必要に
応じて任意に添加することができる。
【0133】本発明の感熱硬化層は、(f)エポキシ化
合物を含有することが好ましい。本発明の感熱硬化層に
使用するエポキシ化合物としては、特に限定されないが
多官能エポキシ化合物を使用するが特に好ましい。
合物を含有することが好ましい。本発明の感熱硬化層に
使用するエポキシ化合物としては、特に限定されないが
多官能エポキシ化合物を使用するが特に好ましい。
【0134】本発明の(f)エポキシ化合物の感光層内
での割合は、固形分ベースで30重量%以下が好まく用
いられる。30重量%を超えるとレーザー感応性が低下
する傾向を示す。
での割合は、固形分ベースで30重量%以下が好まく用
いられる。30重量%を超えるとレーザー感応性が低下
する傾向を示す。
【0135】これらの組成物は公知の有機溶媒に希釈し
感熱層溶液として調製し使用することが好ましい。
感熱層溶液として調製し使用することが好ましい。
【0136】上記の感熱層を形成するための組成物は、
DMF、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、ジオキサン、エチルセロソルブ等の適当な有機溶剤
に溶解させることによって組成物溶液として調整され
る。かかる組成物溶液を公知の方法により基板上に均一
に塗布し、必要な温度で必要な時間加熱することによ
り、感熱硬化層が形成される。
DMF、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、ジオキサン、エチルセロソルブ等の適当な有機溶剤
に溶解させることによって組成物溶液として調整され
る。かかる組成物溶液を公知の方法により基板上に均一
に塗布し、必要な温度で必要な時間加熱することによ
り、感熱硬化層が形成される。
【0137】感熱層の厚さは、被覆層にして0.1〜1
0g/m2 が好ましく、より好ましくは1〜7g/m2
である。厚さが0.1g/m2よりも薄いと印刷版の耐
刷性が低下する傾向にあり好ましくなく、10g/m2
よりも厚いと希釈溶剤を揮散させるために時間がかかり
生産性の点で不利となるので上記の範囲が好ましい。
0g/m2 が好ましく、より好ましくは1〜7g/m2
である。厚さが0.1g/m2よりも薄いと印刷版の耐
刷性が低下する傾向にあり好ましくなく、10g/m2
よりも厚いと希釈溶剤を揮散させるために時間がかかり
生産性の点で不利となるので上記の範囲が好ましい。
【0138】次に、本発明の親水性膨潤層について説明
する。
する。
【0139】本発明に用いられる親水性膨潤層は、親水
性ポリマを成分として含有する。本発明でいう親水性と
は、水に対して実質的に不溶でかつ水膨潤性を示す性質
を意味し、公知の親水性ポリマを基板上に塗布または転
写などにより積層し、公知の方法を用いて架橋または疑
似架橋し、水に不溶化せしめて水膨潤性とした親水性膨
潤層が用いられる。
性ポリマを成分として含有する。本発明でいう親水性と
は、水に対して実質的に不溶でかつ水膨潤性を示す性質
を意味し、公知の親水性ポリマを基板上に塗布または転
写などにより積層し、公知の方法を用いて架橋または疑
似架橋し、水に不溶化せしめて水膨潤性とした親水性膨
潤層が用いられる。
【0140】ここでいう親水性ポリマとしては、公知の
水溶性ポリマ(水に完全に溶解するものを意味する)、
疑似水溶性ポリマ(両親媒性を意味し、マクロには水に
溶解するがミクロには非溶解部分を含むものを意味す
る)、水膨潤性ポリマ(水に膨潤するが溶解しないもの
を意味する)が挙げられる。すなわち、通常の使用条件
下で水を吸着または吸収するポリマを意味し、水に溶け
るかあるいは水に膨潤するポリマを意味する。
水溶性ポリマ(水に完全に溶解するものを意味する)、
疑似水溶性ポリマ(両親媒性を意味し、マクロには水に
溶解するがミクロには非溶解部分を含むものを意味す
る)、水膨潤性ポリマ(水に膨潤するが溶解しないもの
を意味する)が挙げられる。すなわち、通常の使用条件
下で水を吸着または吸収するポリマを意味し、水に溶け
るかあるいは水に膨潤するポリマを意味する。
【0141】本発明において親水性ポリマとしては、公
知の親水性ポリマを使用することができ、これには動物
系ポリマ、植物系ポリマおよび合成系ポリマがある。例
えば、「Functional Monomers」
(Y.Nyquist著、Dekker)、「水溶性高
分子」(中村著、化学工業社)、「水溶性高分子 水分
散型樹脂の最新加工・改質技術と用途開発 総合技術資
料集」(経営開発センター出版部)、「新・水溶性ポリ
マの応用と市場」(シーエムシー)などに記載の水溶性
ポリマが挙げられる。具体例を以下に示す。
知の親水性ポリマを使用することができ、これには動物
系ポリマ、植物系ポリマおよび合成系ポリマがある。例
えば、「Functional Monomers」
(Y.Nyquist著、Dekker)、「水溶性高
分子」(中村著、化学工業社)、「水溶性高分子 水分
散型樹脂の最新加工・改質技術と用途開発 総合技術資
料集」(経営開発センター出版部)、「新・水溶性ポリ
マの応用と市場」(シーエムシー)などに記載の水溶性
ポリマが挙げられる。具体例を以下に示す。
【0142】(A)天然高分子類:デンプン−アクリロ
ニトリル系グラフト重合体加水分解物、デンプン−アク
リル酸系グラフト重合体、デンプン−スチレンスルフォ
ン酸系グラフト重合体、デンプン−ビニルスルフォン酸
系グラフト重合体、デンプン−アクリルアミド系グラフ
ト重合体、カルボキシル化メチルセルロース、メチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、キサントゲン酸セルロース、
セルロース−アクリロニトリル系グラフト重合体、セル
ロース−スチレンスルフォン酸系グラフト重合体、カル
ボキシメチルセルロース系架橋体、ヒアルロン酸、アガ
ロース、コラーゲン、ミルクカゼイン、酸カゼイン、レ
ンネットカゼイン、アンモニアカゼイン、カリ化カゼイ
ン、ホウ砂カゼイン、グルー、ゼラチン、グルテン、大
豆蛋白、アルギン酸塩、アルギン酸アンモニウム、アル
ギン酸カリウム、アルギン酸ナトリウムアラビヤガム、
トラガカントガム、カラヤガム、グアールガム、ロカス
トビーンガム、アイリッシュモス、大豆レシチン、ペク
チン酸、澱粉、カルボキシル化澱粉、寒天、デキストリ
ン、マンナンなど。
ニトリル系グラフト重合体加水分解物、デンプン−アク
リル酸系グラフト重合体、デンプン−スチレンスルフォ
ン酸系グラフト重合体、デンプン−ビニルスルフォン酸
系グラフト重合体、デンプン−アクリルアミド系グラフ
ト重合体、カルボキシル化メチルセルロース、メチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、キサントゲン酸セルロース、
セルロース−アクリロニトリル系グラフト重合体、セル
ロース−スチレンスルフォン酸系グラフト重合体、カル
ボキシメチルセルロース系架橋体、ヒアルロン酸、アガ
ロース、コラーゲン、ミルクカゼイン、酸カゼイン、レ
ンネットカゼイン、アンモニアカゼイン、カリ化カゼイ
ン、ホウ砂カゼイン、グルー、ゼラチン、グルテン、大
豆蛋白、アルギン酸塩、アルギン酸アンモニウム、アル
ギン酸カリウム、アルギン酸ナトリウムアラビヤガム、
トラガカントガム、カラヤガム、グアールガム、ロカス
トビーンガム、アイリッシュモス、大豆レシチン、ペク
チン酸、澱粉、カルボキシル化澱粉、寒天、デキストリ
ン、マンナンなど。
【0143】(B)合成高分子類:ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンオキサイド、ポリ(エチレンオキサイ
ド−CO−プロピレンオキサイド)、水性ウレタン樹
脂、水溶性ポリエステル、ヒドロキシエチル (メタ)
アクリレート系ポリマ(以下の説明で(メタ)□□□□
とあるのは、□□□□またはメタ□□□□を略したもの
である。)、ポリ(ビニルメチルエーテル−CO−無水
マレイン酸)、無水マレイン酸系共重合体、ビニルピロ
リドン系共重合体、ポリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート系架橋重合体、ポリプロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート系架橋重合体、ポリ(N−ビニ
ルカルボン酸アミド)、N−ビニルカルボン酸アミド共
重合体、など。
ル、ポリエチレンオキサイド、ポリ(エチレンオキサイ
ド−CO−プロピレンオキサイド)、水性ウレタン樹
脂、水溶性ポリエステル、ヒドロキシエチル (メタ)
アクリレート系ポリマ(以下の説明で(メタ)□□□□
とあるのは、□□□□またはメタ□□□□を略したもの
である。)、ポリ(ビニルメチルエーテル−CO−無水
マレイン酸)、無水マレイン酸系共重合体、ビニルピロ
リドン系共重合体、ポリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート系架橋重合体、ポリプロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート系架橋重合体、ポリ(N−ビニ
ルカルボン酸アミド)、N−ビニルカルボン酸アミド共
重合体、など。
【0144】なお、上記の親水性ポリマは発明の効果を
損わない範囲で、柔軟性を付与したり、親水性を制御す
る目的から置換基が異なるモノマや共重合成分を、1種
または2種以上を適宜混合して用いることが可能であ
る。
損わない範囲で、柔軟性を付与したり、親水性を制御す
る目的から置換基が異なるモノマや共重合成分を、1種
または2種以上を適宜混合して用いることが可能であ
る。
【0145】本発明に好ましく用いられる親水性ポリマ
の具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらの例に限定
されるものではない。
の具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらの例に限定
されるものではない。
【0146】(1)マレイン酸または無水マレイン酸、
マレイン酸アミドもしくはマレイン酸イミドなどのマレ
イン酸誘導体とエチレン、プロピレン、ブチレン、イソ
ブチレンまたはジイソブチレンなどの炭素数が2〜12
好ましくは炭素数2〜8の直鎖または分岐状のα−オレ
フィンとの共重合体と、アルカリ金属化合物、アルカリ
土類金属化合物、アンモニア、アミンとの反応物の架橋
体。
マレイン酸アミドもしくはマレイン酸イミドなどのマレ
イン酸誘導体とエチレン、プロピレン、ブチレン、イソ
ブチレンまたはジイソブチレンなどの炭素数が2〜12
好ましくは炭素数2〜8の直鎖または分岐状のα−オレ
フィンとの共重合体と、アルカリ金属化合物、アルカリ
土類金属化合物、アンモニア、アミンとの反応物の架橋
体。
【0147】(2)マレイン酸またはその誘導体とスチ
レン、酢酸ビニル、メチルビニルエーテル、アクリル酸
エステル、メタクリル酸エステルまたはアクリロニトリ
ルなどのビニルまたはビニリデン化合物との共重合体
と、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、ア
ンモニア、アミンとの反応物の架橋体。
レン、酢酸ビニル、メチルビニルエーテル、アクリル酸
エステル、メタクリル酸エステルまたはアクリロニトリ
ルなどのビニルまたはビニリデン化合物との共重合体
と、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、ア
ンモニア、アミンとの反応物の架橋体。
【0148】(3)アクリル酸またはメタクリル酸と前
記(2)のビニルまたはビニリデン化合物との共重合体
と、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、ア
ンモニア、アミンとの反応物の架橋体。
記(2)のビニルまたはビニリデン化合物との共重合体
と、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、ア
ンモニア、アミンとの反応物の架橋体。
【0149】特公昭58−37027号公報などに開示
されているポリオキシアルキレン系の親水性ポリマ、特
開昭60−104106号公報などに開示されているポ
リビニルピロリドン、スルフォン酸基を親水性基とする
ポリスチレンスルフォン酸、アクリルアミドメチルプロ
パンスルフォン酸共重合体などの架橋体、特開昭60−
42416号公報などに開示されている水酸基、アミノ
基を有する親水性ポリマにポリイソシアネートを架橋さ
せて得られるポリウレタン樹脂などが挙げられる。
されているポリオキシアルキレン系の親水性ポリマ、特
開昭60−104106号公報などに開示されているポ
リビニルピロリドン、スルフォン酸基を親水性基とする
ポリスチレンスルフォン酸、アクリルアミドメチルプロ
パンスルフォン酸共重合体などの架橋体、特開昭60−
42416号公報などに開示されている水酸基、アミノ
基を有する親水性ポリマにポリイソシアネートを架橋さ
せて得られるポリウレタン樹脂などが挙げられる。
【0150】次に、親水性ポリマの架橋方法について説
明する。
明する。
【0151】親水性膨潤層は、既述の親水性ポリマの少
なくとも1種以上を必要に応じて架橋または疑似架橋
し、基板上に積層形成される。架橋には、親水性ポリマ
の有する反応性官能基を用いて架橋反応することにより
行なわれる。架橋反応は、共有結合性の架橋であって
も、イオン結合性の架橋であってもよい。
なくとも1種以上を必要に応じて架橋または疑似架橋
し、基板上に積層形成される。架橋には、親水性ポリマ
の有する反応性官能基を用いて架橋反応することにより
行なわれる。架橋反応は、共有結合性の架橋であって
も、イオン結合性の架橋であってもよい。
【0152】架橋反応に用いられる化合物としては、架
橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられ、ポリエ
ポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリ(メ
タ)アクリル化合物、ポリメルカプト化合物、ポリアル
コキシシリル化合物、多価金属塩化合物、ポリアミン化
合物、アルデヒド化合物、ポリビニル化合物、ヒドラジ
ンなどが挙げられ、該架橋反応は公知の触媒を添加し、
反応を促進することが行なわれる。
橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられ、ポリエ
ポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリ(メ
タ)アクリル化合物、ポリメルカプト化合物、ポリアル
コキシシリル化合物、多価金属塩化合物、ポリアミン化
合物、アルデヒド化合物、ポリビニル化合物、ヒドラジ
ンなどが挙げられ、該架橋反応は公知の触媒を添加し、
反応を促進することが行なわれる。
【0153】架橋性を有する公知の多官能性化合物の具
体例としては、下記の化合物が挙げられる。
体例としては、下記の化合物が挙げられる。
【0154】(1)昇華硫黄、硫化水素を酸化して生成
させる副生硫黄、硫化水素を湿式で酸化して生成するコ
ロイド硫黄など:また、加熱すると分解して硫黄を発生
するジチオモルフォリン、チオプラストテトラメチルチ
ウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフ
ィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドなど
のチウラム系化合物、ピペリジンペンタメチレンチオカ
ルバメート、ピペコリンピペコリルジチオカルバメー
ト、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウムなどのジチ
オカルバメート系化合物、イソプロピルキサントゲン酸
ナトリウム、ブチルキサントゲン酸亜鉛などのキサンテ
ート化合物、チオウレア、チオカルバニリドなどのチオ
ウレア化合物、ジフェニルグアニジンなどのチアゾール
の亜鉛塩、メルカプトベンゾチアゾールのナトリウム
塩、ジベンゾチアジルジスルフィド、メルカプトベンゾ
チアゾールのシクロヘキシルアミン塩などのチアゾール
系化合物など。
させる副生硫黄、硫化水素を湿式で酸化して生成するコ
ロイド硫黄など:また、加熱すると分解して硫黄を発生
するジチオモルフォリン、チオプラストテトラメチルチ
ウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフ
ィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドなど
のチウラム系化合物、ピペリジンペンタメチレンチオカ
ルバメート、ピペコリンピペコリルジチオカルバメー
ト、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウムなどのジチ
オカルバメート系化合物、イソプロピルキサントゲン酸
ナトリウム、ブチルキサントゲン酸亜鉛などのキサンテ
ート化合物、チオウレア、チオカルバニリドなどのチオ
ウレア化合物、ジフェニルグアニジンなどのチアゾール
の亜鉛塩、メルカプトベンゾチアゾールのナトリウム
塩、ジベンゾチアジルジスルフィド、メルカプトベンゾ
チアゾールのシクロヘキシルアミン塩などのチアゾール
系化合物など。
【0155】(2)ブチルアルデヒド−モノブチルアミ
ン縮合物、ブチルアルデヒド−アニリン縮合物、ヘプタ
アルデヒド−アニリン反応物、塩エチル−ホルムアルデ
ヒド−アンモニア反応物などのアルデヒドアミン系化合
物、酸化亜鉛、テルリウム、セレニウム、炭酸ジルコニ
ウムアンモニアや、ベンゾイルパーオキシド、ジクミル
パーオキシドなどの有機過酸化物など:さらに架橋促進
剤としては、炭酸亜鉛、ステアリン酸、オレイン酸、ラ
ウリン酸、ステアリン酸亜鉛、ジブチルアンモニウムオ
レエート、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、ジエチレングリコールなどが挙げられる。
ン縮合物、ブチルアルデヒド−アニリン縮合物、ヘプタ
アルデヒド−アニリン反応物、塩エチル−ホルムアルデ
ヒド−アンモニア反応物などのアルデヒドアミン系化合
物、酸化亜鉛、テルリウム、セレニウム、炭酸ジルコニ
ウムアンモニアや、ベンゾイルパーオキシド、ジクミル
パーオキシドなどの有機過酸化物など:さらに架橋促進
剤としては、炭酸亜鉛、ステアリン酸、オレイン酸、ラ
ウリン酸、ステアリン酸亜鉛、ジブチルアンモニウムオ
レエート、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、ジエチレングリコールなどが挙げられる。
【0156】(3)ポリエポキシ化合物、フェノール樹
脂(炭化水素置換フェノールを含むフェノール類とホル
ムアルデヒドのポリ縮合物)、フェノール樹脂のグリシ
ジルエーテル化物、尿素樹脂、ポリアミン、メラミン樹
脂、ベンゾグアナミン樹脂、酸無水物など:ポリエポキ
シ化合物の具体例としては、グリセリンポリグリシジル
エーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ソルビト
ールポリグリシジルエーテル、ビスフェノール類もしく
はそれらの水素添加物とエピハロヒドリンとのポリ縮合
物、などが挙げられる。ポリアミンの具体例としては、
エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレ
ンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ヘキサメチ
レンジアミン、プロピレンジアミン、ポリエチレンイミ
ン、ポリアミドアミンなどが挙げられる。
脂(炭化水素置換フェノールを含むフェノール類とホル
ムアルデヒドのポリ縮合物)、フェノール樹脂のグリシ
ジルエーテル化物、尿素樹脂、ポリアミン、メラミン樹
脂、ベンゾグアナミン樹脂、酸無水物など:ポリエポキ
シ化合物の具体例としては、グリセリンポリグリシジル
エーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ソルビト
ールポリグリシジルエーテル、ビスフェノール類もしく
はそれらの水素添加物とエピハロヒドリンとのポリ縮合
物、などが挙げられる。ポリアミンの具体例としては、
エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレ
ンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ヘキサメチ
レンジアミン、プロピレンジアミン、ポリエチレンイミ
ン、ポリアミドアミンなどが挙げられる。
【0157】(4)ポリイソシアネート化合物など:ポ
リイソシアネート化合物の例としては、トリレンジイソ
シアネート、ジフェニルメタンイソシアネート、液状ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフ
ェニルイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
ナフタリン−1,5−ジイソシアネート、シクロヘキサ
ンフェニレンジイソシアネート、イソプロピルベンゼン
−2,4−ジイソシアネート、などの芳香族イソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、デカメチレン
ジイソシアネートなどの脂肪族イソシアネート、シクロ
ヘキシルジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
トなどの脂環族ジイソシアネート、またポリプロピレン
グリコール/トリレンジイソシアネート付加反応物など
が挙げられる。
リイソシアネート化合物の例としては、トリレンジイソ
シアネート、ジフェニルメタンイソシアネート、液状ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフ
ェニルイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
ナフタリン−1,5−ジイソシアネート、シクロヘキサ
ンフェニレンジイソシアネート、イソプロピルベンゼン
−2,4−ジイソシアネート、などの芳香族イソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、デカメチレン
ジイソシアネートなどの脂肪族イソシアネート、シクロ
ヘキシルジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
トなどの脂環族ジイソシアネート、またポリプロピレン
グリコール/トリレンジイソシアネート付加反応物など
が挙げられる。
【0158】(5)シラン化合物:メチルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、3−ク
ロロプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリス
(メチルエチルケトオキシム)シラン、メチルトリス
(メチルエチルケトオキシム)シラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、など。
シラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、3−ク
ロロプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリス
(メチルエチルケトオキシム)シラン、メチルトリス
(メチルエチルケトオキシム)シラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、など。
【0159】(6)チタネート化合物:テトラエチルオ
ルトシリケート、ビス(ジオクチルパイロホスフェー
ト)エチレンチタネート、イソプロピルトリアクタノイ
ルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロ
イルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアク
リルチタネート、イソプロピル(ジオクチルホスフェー
ト)チタネート)、イソプロピルトリクミルフェニルチ
タネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチルアミノ
エチル)チタネート、ジクミルフェニルオキシアセテー
トチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネー
ト、イソプロピルトリインステアロイルチタネート、イ
ソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネー
ト、イソプロピルトリス(ジオクチルホスフェート)チ
タネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスフ
ァイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリジシ
ルホスファイト)チタネート、テトラ(2、2ージアリ
ルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシルホス
ファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェ
ート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチル
パイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、な
ど。
ルトシリケート、ビス(ジオクチルパイロホスフェー
ト)エチレンチタネート、イソプロピルトリアクタノイ
ルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロ
イルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアク
リルチタネート、イソプロピル(ジオクチルホスフェー
ト)チタネート)、イソプロピルトリクミルフェニルチ
タネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチルアミノ
エチル)チタネート、ジクミルフェニルオキシアセテー
トチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネー
ト、イソプロピルトリインステアロイルチタネート、イ
ソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネー
ト、イソプロピルトリス(ジオクチルホスフェート)チ
タネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスフ
ァイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリジシ
ルホスファイト)チタネート、テトラ(2、2ージアリ
ルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシルホス
ファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェ
ート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチル
パイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、な
ど。
【0160】(7)アルデヒド化合物:ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ブチルア
ルデヒド、グリオキサール、グルタルアルデヒド、テレ
フタルアルデヒド、など。
ド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ブチルア
ルデヒド、グリオキサール、グルタルアルデヒド、テレ
フタルアルデヒド、など。
【0161】これらの架橋剤は単独または2種以上を混
合して使用することが可能である。分散媒としては主と
して水が用いられるが、必要に応じて公知の有機溶剤を
添加することが可能である。
合して使用することが可能である。分散媒としては主と
して水が用いられるが、必要に応じて公知の有機溶剤を
添加することが可能である。
【0162】また、本発明の親水性膨潤層を形成する方
法としては、水溶液系で、必要に応じて架橋剤を添加す
る方法が、均質な架橋構造の形成しインキ反発性を向上
させる点から好ましい。
法としては、水溶液系で、必要に応じて架橋剤を添加す
る方法が、均質な架橋構造の形成しインキ反発性を向上
させる点から好ましい。
【0163】したがって、本発明で用いられる架橋剤と
しては、水溶性の多官能性化合物を用いることが特に好
ましい。すなわち、水溶性のポリエポキシ化合物、ポリ
アミン化合物、メラミン化合物、アルデヒド化合物など
を用いることが好ましい。
しては、水溶性の多官能性化合物を用いることが特に好
ましい。すなわち、水溶性のポリエポキシ化合物、ポリ
アミン化合物、メラミン化合物、アルデヒド化合物など
を用いることが好ましい。
【0164】また、水および水と混合する有機溶媒中に
エマルジョンとして存在する架橋剤も好ましい。
エマルジョンとして存在する架橋剤も好ましい。
【0165】また、本発明で用いられる親水性膨潤層
は、以下の方法にしたがって算出される吸水量、吸水
率、初期弾性率および水膨潤率の値が特定の範囲にある
ことが好ましい。
は、以下の方法にしたがって算出される吸水量、吸水
率、初期弾性率および水膨潤率の値が特定の範囲にある
ことが好ましい。
【0166】まず、吸水率は次式で示される。
【0167】吸水率(%)=吸水量(g/m2)/親水
性膨潤層厚さ(g/m2)×100 ここで、吸水量とは次の定義にしたがった値を意味し、
それぞれの値は下記の測定方法で測定される。
性膨潤層厚さ(g/m2)×100 ここで、吸水量とは次の定義にしたがった値を意味し、
それぞれの値は下記の測定方法で測定される。
【0168】吸水量(g/m2)=WWET −WDRY WDRY :乾燥状態における重量(g/m2) WWET :水中に25℃×10分間浸漬した後の重量(g
/m2) [吸水量の測定方法]測定しようとする平版印刷版の非
画線部を所定面積に裁断し、25℃の精製水中に浸漬す
る。10分間浸漬した後、印刷版の親水性膨潤層表面お
よび裏面に付着した余分の液体を「ハイゼガーゼ」(コ
ットン布:旭化成工業(株)製)にて素速く拭き取り、
その印刷版の膨潤重量WWET を秤量する。その後、印刷
版を60℃のオーブンにて約30分間乾燥し、乾燥重量
WDRY を秤量する。
/m2) [吸水量の測定方法]測定しようとする平版印刷版の非
画線部を所定面積に裁断し、25℃の精製水中に浸漬す
る。10分間浸漬した後、印刷版の親水性膨潤層表面お
よび裏面に付着した余分の液体を「ハイゼガーゼ」(コ
ットン布:旭化成工業(株)製)にて素速く拭き取り、
その印刷版の膨潤重量WWET を秤量する。その後、印刷
版を60℃のオーブンにて約30分間乾燥し、乾燥重量
WDRY を秤量する。
【0169】本発明の親水性膨潤層からなる非画線部の
吸水量は、インキ反発性および形態保持性の観点から1
〜50g/m2であることが好ましく、2〜40g/m
2 、さらに3〜30g/m2であることがさらに好まし
い。親水性膨潤層からなる非画線部の吸水量が、1g/
m2未満ではインキ反発性が不十分になり印刷時に地汚
れが発生し易く、一方吸水量が50g/m2を超えると
形態保持性が著しく低下する傾向を示す。
吸水量は、インキ反発性および形態保持性の観点から1
〜50g/m2であることが好ましく、2〜40g/m
2 、さらに3〜30g/m2であることがさらに好まし
い。親水性膨潤層からなる非画線部の吸水量が、1g/
m2未満ではインキ反発性が不十分になり印刷時に地汚
れが発生し易く、一方吸水量が50g/m2を超えると
形態保持性が著しく低下する傾向を示す。
【0170】本発明で用いられる親水性膨潤層の吸水率
は、10〜2000%で好ましく用いることが可能であ
るが、インキ反発性および形態保持性の観点から、より
好ましくは50〜1700%、さらに好ましくは50〜
700%である。吸水率が10%未満になると、インキ
反発性が極端に低下する傾向にあり、また塗工時にピン
ホ−ルなどの欠陥が生じ易くなる。また、2000%よ
り大きくなると形態保持性が極端に低下する傾向にあ
る。
は、10〜2000%で好ましく用いることが可能であ
るが、インキ反発性および形態保持性の観点から、より
好ましくは50〜1700%、さらに好ましくは50〜
700%である。吸水率が10%未満になると、インキ
反発性が極端に低下する傾向にあり、また塗工時にピン
ホ−ルなどの欠陥が生じ易くなる。また、2000%よ
り大きくなると形態保持性が極端に低下する傾向にあ
る。
【0171】本発明でいう親水性膨潤層厚さとは、基板
上に塗設された乾燥させた平版印刷版原版の親水性膨潤
層の塗布層を剥離し、重量法によって測定した値を意味
する。親水性膨潤層厚さは次式の定義に従い、下記の測
定方法に従って測定する。
上に塗設された乾燥させた平版印刷版原版の親水性膨潤
層の塗布層を剥離し、重量法によって測定した値を意味
する。親水性膨潤層厚さは次式の定義に従い、下記の測
定方法に従って測定する。
【0172】 親水性膨潤層厚さ(g/m2 )=(W−W0 )/α W:平版印刷版原版の乾燥重量(g) W0 :上記Wから親水性膨潤層を剥離脱落した後の乾燥
重量(g) α:感光性平版印刷版原版の測定面積(m2 ) [親水性膨潤層厚さの測定方法]測定しようとする平版
印刷版原版を所定面積αに裁断した後、60℃のオーブ
ンにて約30分間乾燥し、乾燥重量Wを秤量する。その
後、該原版を精製水に浸漬し、親水性膨潤層を膨潤さ
せ、スクレーパーなどを用いてその膨潤層を剥離脱落さ
せる。親水性膨潤層を剥離脱落させた原版を再度60℃
のオーブンにて約30分間乾燥し、乾燥重量W0 を秤量
する。
重量(g) α:感光性平版印刷版原版の測定面積(m2 ) [親水性膨潤層厚さの測定方法]測定しようとする平版
印刷版原版を所定面積αに裁断した後、60℃のオーブ
ンにて約30分間乾燥し、乾燥重量Wを秤量する。その
後、該原版を精製水に浸漬し、親水性膨潤層を膨潤さ
せ、スクレーパーなどを用いてその膨潤層を剥離脱落さ
せる。親水性膨潤層を剥離脱落させた原版を再度60℃
のオーブンにて約30分間乾燥し、乾燥重量W0 を秤量
する。
【0173】本発明で用いられる親水性膨潤層厚さは、
0.1〜100g/m2 で用いることが可能であるが、
インキ反撥性および形態保持性の観点から、好ましくは
0.2〜10g/m2 である。その厚みが0.1g/m
2 未満になると、インキ反発性が極端に低下する傾向に
あり、また塗工時にピンホ−ルなどの欠陥が生じ易くな
る。また10g/m2 以上は水膨潤時の形態保持性が劣
化する傾向にあり経済的にも不利である。
0.1〜100g/m2 で用いることが可能であるが、
インキ反撥性および形態保持性の観点から、好ましくは
0.2〜10g/m2 である。その厚みが0.1g/m
2 未満になると、インキ反発性が極端に低下する傾向に
あり、また塗工時にピンホ−ルなどの欠陥が生じ易くな
る。また10g/m2 以上は水膨潤時の形態保持性が劣
化する傾向にあり経済的にも不利である。
【0174】本発明の親水性膨潤層は、ゴム弾性を有す
ることが好ましい。すなわち、以下の方法により算出し
た親水性膨潤層の初期弾性率が特定の範囲内にあること
が好ましい。
ることが好ましい。すなわち、以下の方法により算出し
た親水性膨潤層の初期弾性率が特定の範囲内にあること
が好ましい。
【0175】[初期弾性率の測定方法]平版印刷版の非
画線部に対応した部分と同一組成の溶液をテフロンシャ
ーレ上に展開し、60℃×24時間乾燥させる。得られ
た乾燥硬化膜は、剃刀刃などを用いて、長さ40mm、
幅1.95mm、厚み約0.2mmの短冊状のテストピ
ースに裁断する。
画線部に対応した部分と同一組成の溶液をテフロンシャ
ーレ上に展開し、60℃×24時間乾燥させる。得られ
た乾燥硬化膜は、剃刀刃などを用いて、長さ40mm、
幅1.95mm、厚み約0.2mmの短冊状のテストピ
ースに裁断する。
【0176】得られたテストピースを、測定前に25℃
で50%RHの環境下にて24時間以上放置し、調湿し
た後、厚みをマイクロゲージにて測定し、下記の引張条
件で初期弾性率を測定する。データ処理は、JIS K
6301に準じて行なう。
で50%RHの環境下にて24時間以上放置し、調湿し
た後、厚みをマイクロゲージにて測定し、下記の引張条
件で初期弾性率を測定する。データ処理は、JIS K
6301に準じて行なう。
【0177】・引張速度:200mm/分 ・チャック間距離:20mm ・繰返し回数:4回 ・測定機:「RTM−100」((株)オリエンテック
製) 親水性膨潤層の初期弾性率は、0.01〜10kgf/
mm2の範囲内にあることが、インキ反発性および形態
保持性の観点から好ましく、0.01〜5kgf/mm
2の範囲がより好ましく、0.01〜2kgf/mm2の
範囲がさらに好ましい。初期弾性率が0.01kgf/
mm2未満の場合は、親水性膨潤層の形態保持性が低下
し、印刷の耐久性が劣り、初期弾性率が10kgf/m
m2よりも大きくなるとインキ反発性が極端に低下する
傾向を示す。
製) 親水性膨潤層の初期弾性率は、0.01〜10kgf/
mm2の範囲内にあることが、インキ反発性および形態
保持性の観点から好ましく、0.01〜5kgf/mm
2の範囲がより好ましく、0.01〜2kgf/mm2の
範囲がさらに好ましい。初期弾性率が0.01kgf/
mm2未満の場合は、親水性膨潤層の形態保持性が低下
し、印刷の耐久性が劣り、初期弾性率が10kgf/m
m2よりも大きくなるとインキ反発性が極端に低下する
傾向を示す。
【0178】本発明で用いられる親水性膨潤層は以下の
方法にしたがって算出される水膨潤率が特定の範囲であ
ることが好ましい。水膨潤率(%)は、次式で示され
る。
方法にしたがって算出される水膨潤率が特定の範囲であ
ることが好ましい。水膨潤率(%)は、次式で示され
る。
【0179】 水膨潤率(%)=(ΘWET−ΘDRY)/ΘDRY ×100 ΘDRY :乾燥状態における非画線部からなる親水性膨潤
層の厚み(μm) ΘWET :膨潤状態における非画線部からなる親水性膨潤
層の厚み(μm) [水膨潤率の測定方法(A)]測定しようとする平版印
刷版の非画線部を含む部位が断面となるように切削して
切片を作製する。この切片を常温にて1昼夜真空乾燥し
た後、光学顕微鏡にて当該部位の親水性膨潤層厚さを観
察し、これをΘDRY(μm)とする。なお、光学顕微鏡
観察は23℃、20%RHの環境下において手早く行な
う。
層の厚み(μm) ΘWET :膨潤状態における非画線部からなる親水性膨潤
層の厚み(μm) [水膨潤率の測定方法(A)]測定しようとする平版印
刷版の非画線部を含む部位が断面となるように切削して
切片を作製する。この切片を常温にて1昼夜真空乾燥し
た後、光学顕微鏡にて当該部位の親水性膨潤層厚さを観
察し、これをΘDRY(μm)とする。なお、光学顕微鏡
観察は23℃、20%RHの環境下において手早く行な
う。
【0180】さらに、この平版印刷版切片に過剰の水滴
を載せ、親水性膨潤層が十分に水膨潤した状態で断面を
光学顕微鏡観察し、当該部位の親水性膨潤層厚さを読み
とり、これをΘWET(μm)とする。
を載せ、親水性膨潤層が十分に水膨潤した状態で断面を
光学顕微鏡観察し、当該部位の親水性膨潤層厚さを読み
とり、これをΘWET(μm)とする。
【0181】[水膨潤率の測定方法(B)]測定しよう
とする平版印刷版の非画線部をOsO4水溶液の雰囲気
下に1昼夜さらしてOsO4により親水性膨潤層を固定
した後、所定の部位が断面となるようにミクロトームで
切削して超薄切片を作製する。この切片を透過型電子顕
微鏡(TEM)にて1〜5万倍程度の倍率で当該部位の
親水性膨潤層厚さを観察し、これをΘDRY(μm)とす
る。
とする平版印刷版の非画線部をOsO4水溶液の雰囲気
下に1昼夜さらしてOsO4により親水性膨潤層を固定
した後、所定の部位が断面となるようにミクロトームで
切削して超薄切片を作製する。この切片を透過型電子顕
微鏡(TEM)にて1〜5万倍程度の倍率で当該部位の
親水性膨潤層厚さを観察し、これをΘDRY(μm)とす
る。
【0182】一方、測定しようとする平版印刷版を、O
sO4水溶液に2〜3日浸漬し親水性膨潤層を水膨潤状
態で固化/固定する。所定の部位が断面となるようにミ
クロトームで切削して超薄切片を作製し、この切片を透
過型電子顕微鏡(TEM)にて1〜5万倍程度の倍率で
当該部位の親水性膨潤層厚さを読みとり、これをΘWE T
(μm)とする。
sO4水溶液に2〜3日浸漬し親水性膨潤層を水膨潤状
態で固化/固定する。所定の部位が断面となるようにミ
クロトームで切削して超薄切片を作製し、この切片を透
過型電子顕微鏡(TEM)にて1〜5万倍程度の倍率で
当該部位の親水性膨潤層厚さを読みとり、これをΘWE T
(μm)とする。
【0183】本発明の親水性膨潤層からなる非画線部
(インキ反発部分)の水膨潤率は、インキ反発性および
形態保持性の観点から100〜1000%であることが
好ましく、500〜1700%、さらに好ましくは50
〜700%の範囲であることがより好ましい。水膨潤率
が10%未満になると非画線部のインキ反発性が低下
し、一方非画線部の水膨潤率が2000%を越える場合
には該非画線部の形態保持性が低いため印刷時に該非画
線部が損傷を受け易くなる。
(インキ反発部分)の水膨潤率は、インキ反発性および
形態保持性の観点から100〜1000%であることが
好ましく、500〜1700%、さらに好ましくは50
〜700%の範囲であることがより好ましい。水膨潤率
が10%未満になると非画線部のインキ反発性が低下
し、一方非画線部の水膨潤率が2000%を越える場合
には該非画線部の形態保持性が低いため印刷時に該非画
線部が損傷を受け易くなる。
【0184】本発明の親水性膨潤層には疎水性ポリマを
用いてもよい。疎水性ポリマとしては、水性エマルジョ
ンから主として構成されたものが好ましく用いられる。
用いてもよい。疎水性ポリマとしては、水性エマルジョ
ンから主として構成されたものが好ましく用いられる。
【0185】本発明にいう水性エマルジョンとは、微細
なポリマ粒子と必要に応じてその粒子を包囲する保護層
からなる粒子を水中に分散させた疎水性ポリマ懸濁水溶
液を意味する。
なポリマ粒子と必要に応じてその粒子を包囲する保護層
からなる粒子を水中に分散させた疎水性ポリマ懸濁水溶
液を意味する。
【0186】すなわち、基本的に分散質としてのポリマ
粒子と必要に応じて形成される保護層からなるエマルジ
ョン粒子と分散媒としての希釈水溶液から構成される自
己乳化または強制乳化水溶液を意味する。本発明で用い
られる水性エマルジョンの具体例としては、ビニルポリ
マ系ラテックス、共役ジエンポリマ系ラテックスおよび
水性または水分散ポリウレタン樹脂などが挙げられる。
粒子と必要に応じて形成される保護層からなるエマルジ
ョン粒子と分散媒としての希釈水溶液から構成される自
己乳化または強制乳化水溶液を意味する。本発明で用い
られる水性エマルジョンの具体例としては、ビニルポリ
マ系ラテックス、共役ジエンポリマ系ラテックスおよび
水性または水分散ポリウレタン樹脂などが挙げられる。
【0187】これらの水性エマルジョンの中でも本発明
に特に好ましく用いられる疎水性ポリマとしてはスチレ
ン/ブタジエン系、アクリロニトリル/ブタジエン系、
メタクリル酸メチル/ブタジエン系、クロロプレン系な
どの共役ジエン系化合物を含有するラテックスが挙げら
れる。
に特に好ましく用いられる疎水性ポリマとしてはスチレ
ン/ブタジエン系、アクリロニトリル/ブタジエン系、
メタクリル酸メチル/ブタジエン系、クロロプレン系な
どの共役ジエン系化合物を含有するラテックスが挙げら
れる。
【0188】本発明の親水性膨潤層は、上記の親水性ポ
リマと疎水性ポリマを混合し、必要に応じて架橋または
擬似架橋し、基板上に積層形成してもよい。架橋には親
水性ポリマおよび疎水性ポリマが有する反応性官能基を
用いて架橋反応することが好ましい。架橋反応は、共有
結合性の架橋であっても、イオン結合性の架橋であって
もよい。
リマと疎水性ポリマを混合し、必要に応じて架橋または
擬似架橋し、基板上に積層形成してもよい。架橋には親
水性ポリマおよび疎水性ポリマが有する反応性官能基を
用いて架橋反応することが好ましい。架橋反応は、共有
結合性の架橋であっても、イオン結合性の架橋であって
もよい。
【0189】本発明の親水性膨潤層を構成する親水性ポ
リマと疎水性ポリマを混合する方法としては、3本ロー
ルなどのロールミキサ、ニーダーなど混合機を用いて混
練りする方法、ホモジナイザー、ボールミルなどのディ
スパーサーを用いて湿式混合分散する方法など、塗料や
パテを製造する際に用いられる公知の方法で好ましく混
合される。
リマと疎水性ポリマを混合する方法としては、3本ロー
ルなどのロールミキサ、ニーダーなど混合機を用いて混
練りする方法、ホモジナイザー、ボールミルなどのディ
スパーサーを用いて湿式混合分散する方法など、塗料や
パテを製造する際に用いられる公知の方法で好ましく混
合される。
【0190】また本発明の親水性膨潤層を形成する方法
としては、疎水性ポリマとして水性のエマルジョンを好
ましく用いることから、水溶液系で各成分(親水性ポリ
マ、疎水性ポリマなど)を混合し、必要に応じて架橋剤
が添加される方法が、均質な構造を実現しインキ反発性
を向上させる点から好ましい。
としては、疎水性ポリマとして水性のエマルジョンを好
ましく用いることから、水溶液系で各成分(親水性ポリ
マ、疎水性ポリマなど)を混合し、必要に応じて架橋剤
が添加される方法が、均質な構造を実現しインキ反発性
を向上させる点から好ましい。
【0191】従って、用いられる架橋剤としては、水溶
性の多官能性化合物を用いることが特に好ましい。すな
わち、水溶性のポリエポキシ化合物、ポリアミン化合
物、メラミン化合物などを用いることが好ましい。
性の多官能性化合物を用いることが特に好ましい。すな
わち、水溶性のポリエポキシ化合物、ポリアミン化合
物、メラミン化合物などを用いることが好ましい。
【0192】本発明で用いられる親水性膨潤層には上記
した親水性ポリマ、疎水性ポリマおよび必要に応じて加
えられる架橋剤の他にも、ゴム組成物において通常添加
される公知の老化防止剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止
剤、紫外線吸収剤、染料、顔料および可塑剤などを添加
することが可能である。
した親水性ポリマ、疎水性ポリマおよび必要に応じて加
えられる架橋剤の他にも、ゴム組成物において通常添加
される公知の老化防止剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止
剤、紫外線吸収剤、染料、顔料および可塑剤などを添加
することが可能である。
【0193】また下層との接着性向上などの目的から、
公知のシランカップリング剤やイソシアネート化合物、
触媒などを添加したり、また基板との間に接着層を設け
ることも可能である。
公知のシランカップリング剤やイソシアネート化合物、
触媒などを添加したり、また基板との間に接着層を設け
ることも可能である。
【0194】また本発明で用いられる親水性膨潤層に
は、染料や顔料、pH指示薬、ロイコ染料、界面活性
剤、有機酸などの各種添加剤を微量添加することも可能
である。
は、染料や顔料、pH指示薬、ロイコ染料、界面活性
剤、有機酸などの各種添加剤を微量添加することも可能
である。
【0195】本発明に用いられる平版印刷版の基板とし
ては、通常の平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印
刷時に加わる荷重に耐えうるものである必要がある以外
には一切制限を受けない。代表的な基板としては、アル
ミニウム、銅、鉄、などの金属板、ポリエステルフィル
ムやポリプロピレンフィルムなどのプラスチックフィル
ムあるいはコート紙、ゴムシートなどが挙げられる。ま
た、これらの基板は上記の素材が複合されたものであっ
てもよい。
ては、通常の平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印
刷時に加わる荷重に耐えうるものである必要がある以外
には一切制限を受けない。代表的な基板としては、アル
ミニウム、銅、鉄、などの金属板、ポリエステルフィル
ムやポリプロピレンフィルムなどのプラスチックフィル
ムあるいはコート紙、ゴムシートなどが挙げられる。ま
た、これらの基板は上記の素材が複合されたものであっ
てもよい。
【0196】また、基板表面には、検版性向上や接着性
向上の目的から、電気化学的処理や酸塩基処理、コロナ
放電処理など各種の表面処理を施すことができる。
向上の目的から、電気化学的処理や酸塩基処理、コロナ
放電処理など各種の表面処理を施すことができる。
【0197】また、これらの基板上には接着性向上やハ
レーション防止の目的からコーティングなどを施してプ
ライマー層を形成し、基板とすることも可能である。本
発明で用いられるプライマー層として、例えば、特公昭
61−54219号公報に示されるようなエポキシ樹脂
を含むものの他、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、
アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リアミド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾグアナ
ミン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体、ポリエーテル樹脂、ポリ
エーテルスルホン樹脂、ミルクカゼイン、ゼラチン等が
挙げられる。これらの樹脂は単独であるいは2種以上混
合して用いることができる。
レーション防止の目的からコーティングなどを施してプ
ライマー層を形成し、基板とすることも可能である。本
発明で用いられるプライマー層として、例えば、特公昭
61−54219号公報に示されるようなエポキシ樹脂
を含むものの他、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、
アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リアミド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾグアナ
ミン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体、ポリエーテル樹脂、ポリ
エーテルスルホン樹脂、ミルクカゼイン、ゼラチン等が
挙げられる。これらの樹脂は単独であるいは2種以上混
合して用いることができる。
【0198】これらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
を単独であるいは2種以上混合して用いることが好まし
い。また、上記プライマー層を構成するアンカー剤とし
ては、例えば、シランカップリング剤などの、公知の接
着剤を用いることができ、有機チタネートなども有効で
ある。
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
を単独であるいは2種以上混合して用いることが好まし
い。また、上記プライマー層を構成するアンカー剤とし
ては、例えば、シランカップリング剤などの、公知の接
着剤を用いることができ、有機チタネートなども有効で
ある。
【0199】さらに、塗工性を改良する目的で、界面活
性剤を添加することも任意である。上記のプライマー層
を形成するための組成物は、DMF、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、ジオキサン等の適当な有
機溶剤に溶解させることによって組成物溶液として調整
される。かかる組成物溶液を基板上に均一に塗布し必要
な温度で必要な時間加熱することにより、プライマー層
が形成される。
性剤を添加することも任意である。上記のプライマー層
を形成するための組成物は、DMF、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、ジオキサン等の適当な有
機溶剤に溶解させることによって組成物溶液として調整
される。かかる組成物溶液を基板上に均一に塗布し必要
な温度で必要な時間加熱することにより、プライマー層
が形成される。
【0200】プライマ−層の厚さは0.5〜50g/m
2 が好ましく、より好ましくは1〜10g/m2 であ
る。厚さが0.5g/m2 よりも薄いと基板表面の形態
欠陥および化学的悪影響の遮断効果がおとり、50g/
m2 よりも厚いと経済的見地から不利となるので上記の
範囲が好ましい。
2 が好ましく、より好ましくは1〜10g/m2 であ
る。厚さが0.5g/m2 よりも薄いと基板表面の形態
欠陥および化学的悪影響の遮断効果がおとり、50g/
m2 よりも厚いと経済的見地から不利となるので上記の
範囲が好ましい。
【0201】次に、本発明のレーザー感応性平版印刷版
原版の製版方法について説明する。本発明においてレー
ザー感応性とは、ヒートモードで画像形成が可能なこと
を意味する。すなわち、レーザーが照射された部位は、
親水性膨潤層が溶媒不溶化し、かつ親水性膨潤層の下層
と接着して非画線部(印刷時に湿し水膜が形成され、イ
ンキ反発部となる)を形成し、一方レーザーが未照射の
部位は適切な溶媒に溶解させて除去することにより親水
性膨潤層の下層が露出して画線部(印刷時に湿し水が付
着せず、インキ着肉部となる)となる。このような溶媒
としては、有機溶媒、水、またはこれらの混合物を挙げ
ることができる。現像時の臭気の問題や廃棄処理などの
取り扱い性の問題から、親水性膨潤層のレーザー未照射
部を溶解させる溶媒は水であることが好ましい。
原版の製版方法について説明する。本発明においてレー
ザー感応性とは、ヒートモードで画像形成が可能なこと
を意味する。すなわち、レーザーが照射された部位は、
親水性膨潤層が溶媒不溶化し、かつ親水性膨潤層の下層
と接着して非画線部(印刷時に湿し水膜が形成され、イ
ンキ反発部となる)を形成し、一方レーザーが未照射の
部位は適切な溶媒に溶解させて除去することにより親水
性膨潤層の下層が露出して画線部(印刷時に湿し水が付
着せず、インキ着肉部となる)となる。このような溶媒
としては、有機溶媒、水、またはこれらの混合物を挙げ
ることができる。現像時の臭気の問題や廃棄処理などの
取り扱い性の問題から、親水性膨潤層のレーザー未照射
部を溶解させる溶媒は水であることが好ましい。
【0202】本発明のレーザー感応性平版印刷版原版
は、レーザーを用いて像にしたがって露光することによ
り印刷版が得られる。好ましく使用されるレーザーに
は、例えば、半導体レーザー、YAGレーザー、アルゴ
ンイオンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、ヘリウム
−カドミウムレーザーおよび炭酸ガスレーザーなどがあ
り、特に限定されないが、本発明では赤外線タイプのレ
ーザー例えば半導体レーザーが好ましい。パワー出力と
しては、40〜50000mWのパワー出力のレーザー
が好ましく用いられる。なかでも、ヒートモード記録を
効率よく行なう点から、500〜30000mWの半導
体レーザーが好ましく用いられる。通常1回のレーザー
照射によって形成されるインキ反発性の凸部の直径は3
〜100μm程度である。
は、レーザーを用いて像にしたがって露光することによ
り印刷版が得られる。好ましく使用されるレーザーに
は、例えば、半導体レーザー、YAGレーザー、アルゴ
ンイオンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、ヘリウム
−カドミウムレーザーおよび炭酸ガスレーザーなどがあ
り、特に限定されないが、本発明では赤外線タイプのレ
ーザー例えば半導体レーザーが好ましい。パワー出力と
しては、40〜50000mWのパワー出力のレーザー
が好ましく用いられる。なかでも、ヒートモード記録を
効率よく行なう点から、500〜30000mWの半導
体レーザーが好ましく用いられる。通常1回のレーザー
照射によって形成されるインキ反発性の凸部の直径は3
〜100μm程度である。
【0203】次に、本発明のレーザー感応性平版印刷版
原版から得られた印刷版を用いた印刷方法について説明
する。
原版から得られた印刷版を用いた印刷方法について説明
する。
【0204】本発明のレーザー感応性平版印刷版原版を
用いた平版印刷には、公知の平版印刷機が用いられる。
すなわち、オフセットおよび直刷り方式の枚葉および輪
転印刷機などが用いられる。
用いた平版印刷には、公知の平版印刷機が用いられる。
すなわち、オフセットおよび直刷り方式の枚葉および輪
転印刷機などが用いられる。
【0205】本発明の平版印刷版原版にレーザー光線に
より描画し、溶媒により親水性膨潤層の可溶部を溶解・
除去して画像形成した後、これらを平版印刷機の版胴に
装着する。その版面には接触するインキ着けローラーか
らインキが供給される。その版面上の親水性膨潤層を有
する非画線部は、湿し水供給装置から供給される湿し水
によって膨潤し、インキを反発する。一方、画線部分は
インキを受容し、オフセットブランケット胴表面または
被印刷体表面にインキを供給して印刷画像を形成する。
より描画し、溶媒により親水性膨潤層の可溶部を溶解・
除去して画像形成した後、これらを平版印刷機の版胴に
装着する。その版面には接触するインキ着けローラーか
らインキが供給される。その版面上の親水性膨潤層を有
する非画線部は、湿し水供給装置から供給される湿し水
によって膨潤し、インキを反発する。一方、画線部分は
インキを受容し、オフセットブランケット胴表面または
被印刷体表面にインキを供給して印刷画像を形成する。
【0206】本発明の画像形成方法により描画した、親
水性膨潤層を備えた平版印刷版を印刷する際に使用され
る湿し水は、通常の平版印刷において使用されるエッチ
液を用いることも可能であるが、添加物を一切添加しな
い純水を使用することができる。
水性膨潤層を備えた平版印刷版を印刷する際に使用され
る湿し水は、通常の平版印刷において使用されるエッチ
液を用いることも可能であるが、添加物を一切添加しな
い純水を使用することができる。
【0207】以下、実施例により本発明をさらに詳しく
説明する。
説明する。
【0208】
【実施例】(合成例1)1リットルの4ツ口セパラブル
フラスコに攪拌棒、温度計および窒素導入管を装着し、
これにN−ビニルアセトアミド100gを、280gの
脱イオン水に溶解した水溶液を仕込んだ。窒素ガスを約
10分間導入して、溶存酸素を追い出し、液温度を30
℃に上昇させ、重合開始剤として2,2’−アゾビス−
2−アミノプロパン二塩酸塩の5%水溶液を20g添加
し、約10時間重合反応を行なった。得られた各重合体
の粘度は、B型粘度計(0.2%水溶液:30℃、回転
数20rpm)で測定した結果、235cpsであっ
た。
フラスコに攪拌棒、温度計および窒素導入管を装着し、
これにN−ビニルアセトアミド100gを、280gの
脱イオン水に溶解した水溶液を仕込んだ。窒素ガスを約
10分間導入して、溶存酸素を追い出し、液温度を30
℃に上昇させ、重合開始剤として2,2’−アゾビス−
2−アミノプロパン二塩酸塩の5%水溶液を20g添加
し、約10時間重合反応を行なった。得られた各重合体
の粘度は、B型粘度計(0.2%水溶液:30℃、回転
数20rpm)で測定した結果、235cpsであっ
た。
【0209】(合成例2)酢酸ビニル60gとアクリル
酸メチル40gに、重合開始剤としてベンゾイルパーオ
キシド0.5gを計量し、これらを、分散安定剤として
の部分ケン化ポリビニルアルコール3gとNaCl10
gを含む水300ml中に分散させた。
酸メチル40gに、重合開始剤としてベンゾイルパーオ
キシド0.5gを計量し、これらを、分散安定剤として
の部分ケン化ポリビニルアルコール3gとNaCl10
gを含む水300ml中に分散させた。
【0210】この分散液を65℃で6時間撹拌し、懸濁
重合を行なった。得られた共重合体のアクリル酸メチル
成分は、NMRスペクトルから同定した結果48モル%
であった。また30℃におけるベンゼン溶液中での極限
粘度は2.10であった。
重合を行なった。得られた共重合体のアクリル酸メチル
成分は、NMRスペクトルから同定した結果48モル%
であった。また30℃におけるベンゼン溶液中での極限
粘度は2.10であった。
【0211】次に、その共重合体8.6gを200gの
メタノールと10gの水および5NのNaOH40ml
からなるケン化反応液中に添加し撹拌懸濁させ、25℃
で1時間ケン化反応を行なった後、温度を65℃に昇温
し、さらに5時間ケン化反応させた。
メタノールと10gの水および5NのNaOH40ml
からなるケン化反応液中に添加し撹拌懸濁させ、25℃
で1時間ケン化反応を行なった後、温度を65℃に昇温
し、さらに5時間ケン化反応させた。
【0212】得られたケン化反応物をメタノールで十分
に洗浄し、凍結乾燥した。これのケン化度は98.3モ
ル%であり、赤外吸収スペクトルの測定の結果、340
0cm-1付近にブロードな−OH基に帰属される吸収
が、また1570cm-1に−COO-基に帰属される強
い吸収が確認された。
に洗浄し、凍結乾燥した。これのケン化度は98.3モ
ル%であり、赤外吸収スペクトルの測定の結果、340
0cm-1付近にブロードな−OH基に帰属される吸収
が、また1570cm-1に−COO-基に帰属される強
い吸収が確認された。
【0213】(実施例1)厚さ0.24mmの脱脂した
アルミ板(住友軽金属(株)製)に、下記のプライマー
層塗布液を塗布した後、200℃で2分間、加熱硬化し
て1.5g/m2の厚みを有するインキ着肉層を塗設し
た。
アルミ板(住友軽金属(株)製)に、下記のプライマー
層塗布液を塗布した後、200℃で2分間、加熱硬化し
て1.5g/m2の厚みを有するインキ着肉層を塗設し
た。
【0214】<プライマー層塗布液(重量部)> (1)エポキシ・フェノール樹脂「カンコート90t−
25−3094」(関西ペイント(株)製):15重量
部 (2)ビクトリアピュアーブルーBOHナフタレンスル
ホン酸:0.1重量部 (3)ジメチルホルムアミド:85重量部 次に、下記組成の感熱硬化層塗布液を塗布した後、13
0℃で1分間加熱処理して2g/m2の厚みを有する感
熱硬化層を塗設した。
25−3094」(関西ペイント(株)製):15重量
部 (2)ビクトリアピュアーブルーBOHナフタレンスル
ホン酸:0.1重量部 (3)ジメチルホルムアミド:85重量部 次に、下記組成の感熱硬化層塗布液を塗布した後、13
0℃で1分間加熱処理して2g/m2の厚みを有する感
熱硬化層を塗設した。
【0215】 <感熱硬化層塗布液(重量部)> (1)ヘキサメチレンジイソシアネート/エチレングリコール/アリルアルコー ルをモル比3/2/2で反応させて得られたアリルウレタン化合物: 50重量部 (2)エポキシアクリレート「DA−314」(長瀬化成(株)製): 15 重量部 (3)ペンタエリスリトールテトラチオグリコール: 25重量部 (4)赤外線吸収染料「PA−1005」(三井東圧化学(株)製): 5重量部 (5)ベンゾイルパーオキサイド: 2重量部 (6)有機過酸化物「パーヘキサ3M」(日本油脂(株)製): 3 重量部 (7)メチルエチルケトン: 100重量部 (8)1,4−ジオキサン: 300重量部 次に、下記の親水性膨潤層塗布液を塗布した後、120
℃で20分間加熱処理して3g/m2 の厚みを有する親
水性膨潤層を塗設した。吸水率と水膨潤率の測定を行な
ったところ、それぞれ300%、350%であった。
℃で20分間加熱処理して3g/m2 の厚みを有する親
水性膨潤層を塗設した。吸水率と水膨潤率の測定を行な
ったところ、それぞれ300%、350%であった。
【0216】 <親水性膨潤層塗布液(重量部)> (1)合成例1の共重合体: 90重量部 (2)水溶性メラミンホルムアルデヒド樹脂: 10重量部 (3)エタノール: 100重量部 (4)精製水: 800重量部 得られたレーザー感応性平版印刷版原版の表面に、半導
体レーザーを下記の条件で照射した。この印刷版原版を
水で約1分間水洗し、放置、風乾して刷版を得た。レー
ザー照射に対応した部分では、親水性膨潤層が残存し、
未照射部は親水性膨潤層が完全に溶出してインキ着肉層
が露出していた。
体レーザーを下記の条件で照射した。この印刷版原版を
水で約1分間水洗し、放置、風乾して刷版を得た。レー
ザー照射に対応した部分では、親水性膨潤層が残存し、
未照射部は親水性膨潤層が完全に溶出してインキ着肉層
が露出していた。
【0217】・レーザー出力:1W(830nm) ・スポット径:6μm ・パルス幅:10μsec 得られた刷版を、枚葉オフセット印刷機「スプリント2
5:小森コーポレーション(株)製」に装着した後、湿
し水として市販の精製水を供給しながら、上質紙(6
2.5kg/菊)を用いて印刷した。
5:小森コーポレーション(株)製」に装着した後、湿
し水として市販の精製水を供給しながら、上質紙(6
2.5kg/菊)を用いて印刷した。
【0218】約1000枚の印刷を行なった時点で、各
刷版にインキ汚れは発生せず、十分にコントラストを有
する明瞭な印刷物が得られた。
刷版にインキ汚れは発生せず、十分にコントラストを有
する明瞭な印刷物が得られた。
【0219】また、耐擦り性テストにおいても、版面に
全く傷が見られず、耐擦り性テストのレベルは○であっ
た。
全く傷が見られず、耐擦り性テストのレベルは○であっ
た。
【0220】耐擦り性の評価は、以下の方法で行なっ
た。
た。
【0221】<耐擦り性テスト>6×6cmに切った三
角巾用白布を3枚重ね、その上に5×5×2.5cmの
直方体(鉄製、約500g)を載せ、精製水で示した刷
版を500往復擦った。テスト後の版面を目視観察し
て、版面に全く傷がない場合を○、版面に少し傷が見ら
れる場合(少部数の印刷なら使用可能なレベル)を△、
版面に剥がれが見られる場合を×とした。
角巾用白布を3枚重ね、その上に5×5×2.5cmの
直方体(鉄製、約500g)を載せ、精製水で示した刷
版を500往復擦った。テスト後の版面を目視観察し
て、版面に全く傷がない場合を○、版面に少し傷が見ら
れる場合(少部数の印刷なら使用可能なレベル)を△、
版面に剥がれが見られる場合を×とした。
【0222】(実施例2)厚さ0.24mmの脱脂した
アルミ板(住友軽金属(株)製)に、下記のプライマー
層塗布液を塗布した後、200℃×2分間、加熱硬化し
て1.5g/m2の厚みを有するインキ着肉層を塗設し
た。
アルミ板(住友軽金属(株)製)に、下記のプライマー
層塗布液を塗布した後、200℃×2分間、加熱硬化し
て1.5g/m2の厚みを有するインキ着肉層を塗設し
た。
【0223】 <プライマー層塗布液(重量部)> (1)エポキシ・フェノール樹脂「カンコート90t−25−3094」 (関西ペイント(株)製): 15重量部 (2)ビクトリアピュアーブルーBOHナフタレンスルホン酸:0.1重量部 (3)ジメチルホルムアミド: 85重量部 次に、下記の親水性膨潤層塗布液を塗布した後、180
℃で20分間加熱処理して2g/m2 の厚みを有する親
水性膨潤層を塗設した。吸水率と水膨潤率の測定を行な
ったところ、それぞれ300%、350%であった。
℃で20分間加熱処理して2g/m2 の厚みを有する親
水性膨潤層を塗設した。吸水率と水膨潤率の測定を行な
ったところ、それぞれ300%、350%であった。
【0224】 <親水性膨潤層塗布液(重量部)> (1)合成例2の共重合体 90重量部 (2)グリオキサール 10重量部 (3)エタノール 100重量部 (4)精製水 800重量部 次に、下記組成の感熱硬化層塗布液を塗布した後、12
0℃で3分間加熱処理して3g/m2の厚みを有する感
熱硬化層を塗設した。
0℃で3分間加熱処理して3g/m2の厚みを有する感
熱硬化層を塗設した。
【0225】 <感熱硬化層塗布液(重量部)> (1)アジピン酸とヘキサン−1、6−ジオール、2、2ージメチルプロパン− 1,3−ジオールとのポリエステルポリオールとイソホロンジイソシアネ ートとの反応によって得られたポリウレタン: 60重量部 (2)ヘキサメチレンジイソシアネート/エチレングリコール/アリルアルコー ルをモル比3/2/2で反応させて得られたアリルウレタン化合物: 70重量部 (3)エポキシアクリレート「DA−314」(長瀬化成(株)製): 20重 量部 (4)ペンタエリスリトールテトラチオグリコール: 37重量部 (5)赤外線吸収染料「PA−1005」(三井東圧化学(株)製): 5 重量部 (6)ベンゾイルパーオキサイド: 2重量部 (7)有機過酸化物「パーヘキサ3M」(日本油脂(株)製): 3重量部 (8)ジフェニルヨードニウムトリフレート: 3重量部 (9)メチルエチルケトン: 100重量部 (10)1,4−ジオキサン: 250重量部 得られたレーザー感応性平版印刷版原版の表面に、半導
体レーザーを下記の条件で照射した。この印刷版原版を
下記の組成を有する現像液を含浸させた現像パッド(3
M社製)で軽く擦って現像を行ない、放置、風乾して刷
版を得た。
体レーザーを下記の条件で照射した。この印刷版原版を
下記の組成を有する現像液を含浸させた現像パッド(3
M社製)で軽く擦って現像を行ない、放置、風乾して刷
版を得た。
【0226】レーザー照射に対応した部分では、感熱硬
化層が残存し、未照射部は感熱硬化層が完全に溶出して
親水性膨潤層が露出していた。
化層が残存し、未照射部は感熱硬化層が完全に溶出して
親水性膨潤層が露出していた。
【0227】・レーザー出力:1W(830nm) ・スポット径:6μm ・パルス幅:10μsec 得られた刷版を、枚葉オフセット印刷機「スプリント2
5:小森コーポレーション(株)製」に装着し、湿し水
として市販の精製水を供給しながら、上質紙(62.5
kg/菊)を用いて印刷した。
5:小森コーポレーション(株)製」に装着し、湿し水
として市販の精製水を供給しながら、上質紙(62.5
kg/菊)を用いて印刷した。
【0228】約1000枚の印刷を行なった時点で、各
刷版にインキ汚れは発生せず、十分にコントラストを有
する明瞭な印刷物が得られた。また、耐擦り性テストに
おいても、版面に全く傷が見られず、耐擦り性テストの
レベルは○であった。
刷版にインキ汚れは発生せず、十分にコントラストを有
する明瞭な印刷物が得られた。また、耐擦り性テストに
おいても、版面に全く傷が見られず、耐擦り性テストの
レベルは○であった。
【0229】(実施例3)実施例2に用いた平版印刷版
と通常のPS版(FNS;富士写真フィルム(株)製)
を露光、現像処理して刷版としたものを、同じ版胴に装
着し、湿し水として市販の精製水を供給しながら実施例
2と同様にして印刷を行なった。
と通常のPS版(FNS;富士写真フィルム(株)製)
を露光、現像処理して刷版としたものを、同じ版胴に装
着し、湿し水として市販の精製水を供給しながら実施例
2と同様にして印刷を行なった。
【0230】湿し水の供給量を標準条件から増量した場
合、PS版を用いた部分では、画線部のインキ濃度が極
端に低下し、いわゆる「水負け」によるインキの着肉不
良が発生した。一方、実施例2に用いた平版印刷版を用
いた部分では、着肉不良の程度が軽微であった。
合、PS版を用いた部分では、画線部のインキ濃度が極
端に低下し、いわゆる「水負け」によるインキの着肉不
良が発生した。一方、実施例2に用いた平版印刷版を用
いた部分では、着肉不良の程度が軽微であった。
【0231】また、湿し水の供給量を標準条件から減量
した場合、PS版を用いた部分では、全面にインキ汚れ
が発生した。一方、実施例1に用いた平版印刷版を用い
た部分では、良好な印刷物が得られた。なお、湿し水の
供給量は印刷機のダイヤル目盛り値にて相対的に比較し
た。評価結果を表1に示す。
した場合、PS版を用いた部分では、全面にインキ汚れ
が発生した。一方、実施例1に用いた平版印刷版を用い
た部分では、良好な印刷物が得られた。なお、湿し水の
供給量は印刷機のダイヤル目盛り値にて相対的に比較し
た。評価結果を表1に示す。
【0232】
【表1】
【0233】
【発明の効果】本発明によれば、レーザーによる描画が
可能であり、また印刷工程においてはインキ反発性が高
く、湿し水の許容幅が広く、純水を湿し水として良好な
印刷画像を得ることができるので湿し水のIPAレス化
が可能であり、さらに印刷耐久性にも優れているレーザ
ー感応性平版印刷版が得られる。
可能であり、また印刷工程においてはインキ反発性が高
く、湿し水の許容幅が広く、純水を湿し水として良好な
印刷画像を得ることができるので湿し水のIPAレス化
が可能であり、さらに印刷耐久性にも優れているレーザ
ー感応性平版印刷版が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/11 501 G03F 7/11 501
Claims (7)
- 【請求項1】 基板上に少なくとも親水性膨潤層と感熱
硬化層を隣接して備えた平版印刷版原版であって、該感
熱硬化層が、(a)光を吸収し熱を発生する物質、
(b)エチレン性不飽和基を有する化合物、(c)チオ
ール基を有する化合物および(d)加熱によりラジカル
を発生する物質を含有することを特徴とするレーザー感
応性平版印刷版原版。 - 【請求項2】 前記(b)エチレン性不飽和基を含有す
る化合物が、1分子中にエチレン性不飽和基を2個以上
有する化合物であることを特徴とする請求項1記載のレ
ーザー感応性平版印刷版原版。 - 【請求項3】 前記(c)チオール基を有する化合物
が、1分子中にチオール基を2個以上有する化合物であ
ることを特徴とする請求項1または2記載のレーザー感
応性平版印刷版原版。 - 【請求項4】 前記感熱硬化層が(f)エポキシ化合物
を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに
記載のレーザー感応性平版印刷版原版。 - 【請求項5】 前記(b)エチレン性不飽和基を有する
化合物が、さらに水酸基を有する化合物であることを特
徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のレーザー感応
性平版印刷版原版。 - 【請求項6】 前記感熱硬化層が(e)加熱により酸を
発生する物質を含有することを特徴とする請求項1〜5
のいずれかに記載のレーザー感応性平版印刷版原版。 - 【請求項7】 前記(a)光を吸収し熱を発生する物質
が、700〜1100nmの波長域に吸収を有すること
を特徴とする請求項1〜6記載のレーザー感応性平版印
刷版原版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4068298A JPH11235882A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | レーザー感応性平版印刷版原版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4068298A JPH11235882A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | レーザー感応性平版印刷版原版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11235882A true JPH11235882A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=12587318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4068298A Pending JPH11235882A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | レーザー感応性平版印刷版原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11235882A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006309122A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| JP2007148164A (ja) * | 2005-11-29 | 2007-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ネガ型平版印刷版 |
| JP2008101149A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | Inoac Corp | 紫外線硬化発泡体 |
| JP2009051889A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Inoac Corp | 紫外線硬化発泡シート |
| JP2009262370A (ja) * | 2008-04-23 | 2009-11-12 | Asahi Kasei E-Materials Corp | レーザー彫刻用印刷原版およびその製造に用いる樹脂組成物 |
| JP2018158560A (ja) * | 2017-03-24 | 2018-10-11 | 東洋紡株式会社 | レーザー彫刻用凸版印刷原版 |
-
1998
- 1998-02-23 JP JP4068298A patent/JPH11235882A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006309122A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| JP2007148164A (ja) * | 2005-11-29 | 2007-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ネガ型平版印刷版 |
| JP2008101149A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | Inoac Corp | 紫外線硬化発泡体 |
| JP2009051889A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Inoac Corp | 紫外線硬化発泡シート |
| JP2009262370A (ja) * | 2008-04-23 | 2009-11-12 | Asahi Kasei E-Materials Corp | レーザー彫刻用印刷原版およびその製造に用いる樹脂組成物 |
| JP2018158560A (ja) * | 2017-03-24 | 2018-10-11 | 東洋紡株式会社 | レーザー彫刻用凸版印刷原版 |
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