JPH11157237A - 直描型水なし平版印刷版原版およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】感度、耐刷性の向上した直描型水なし平版印刷
版を提供する。 【解決手段】直描型水なし平版印刷版原版を、基板上
に、少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順
に積層してなる直描型水なし平版印刷版原版において、
該感熱層が光熱変換物質と１分子中にエチレン性不飽和
基を２個以上有する化合物、熱の作用でラジカルを発生
する化合物、紫外線の作用でラジカルを発生する化合物
を含有するものとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いずに
印刷が可能な水なし平版印刷版原版に関するものであ
り、特にレーザー光で直接製版できる直描型水なし平版
印刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。

【０００３】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザープリンタなどの出力システムの
急激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が
開発されている。

【０００４】これらの平版印刷版を製版方法から分類す
ると、レーザー光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層またはインキ着肉層を形
成する方法などが挙げられる。

【０００５】なかでも、レーザー光を用いる方法は解像
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。

【０００６】このレーザー光を用いる平版印刷版はさら
に、光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を
行って熱反応を起こさせるヒートモードの２つのタイプ
に分けられる。

【０００７】フォトンモードタイプとしては、 （１）フォトポリマーを用いた高感度ＰＳ版 （２）有機光導電体や酸化亜鉛を用いた電子写真式平版 （３）銀塩方式平版 （４）銀塩複合方式平版 （５）直描マスター等があり、ヒートモードタイプとし
ては、 （６）熱破壊方式平版 などが挙げられる。

【０００８】しかしながら、（１）の方式はレーザー光
源に主としてアルゴンイオンレーザーを使用しているた
め装置が大型となり、また印刷版も高感度のフォトポリ
マーを使用しているため、印刷版の取扱いに注意が必要
で、なおかつ保存安定性も低下しやすいといった欠点が
ある。

【０００９】（２）の電子写真式平版は、明室で取り扱
えるといった利点はあるが、感光層の帯電後２〜５分の
間で暗減衰が大きくなるため、帯電後短時間で露光現像
処理をする必要があり、大判サイズを高解像力で出力す
るのは難しい。

【００１０】（３）の銀塩方式平版は、さまざま波長の
レーザーに対応した印刷版が開発されているが、銀廃液
が出ることが問題となっており、また感度が高いため
に、取扱いに注意を要するといった問題もある。

【００１１】（４）の銀塩複合方式平版は、感光層上に
高感度ハロゲン化銀乳剤層を設けて上層のハロゲン化銀
乳剤層をアルゴンイオンレーザーで露光、現像後それを
マスクとしてさらに紫外線で露光、現像を行うものであ
る。しかし、この印刷版は露光、現像工程が２回あるた
め、印刷版の処理が複雑になるという問題がある。

【００１２】（５）の直描マスターは、直接印刷版にレ
ーザーで書き込むわけではないが、レーザープリンタで
形成されたトナー画像をインキ着肉部として、印刷版上
に転写するものである。しかし、印刷版の解像度という
面では、他の方式と比較して劣っている。

【００１３】以上のフォトンモードタイプに対して、
（６）の熱破壊方式は、明室で取り扱えるといった利点
があり、また光源となる半導体レーザーの急激な進歩に
よって、最近その有用性が見直されてきている。

【００１４】例えば、特開平６−１９９０６４号公報、
ＵＳＰ５３３９７３７号公報、ＵＳＰ５３５３７０５号
公報、ＥＰ０５８０３９３号公報、特開平６−５５７２
３号公報、ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８
５８０号公報、特開平７−１６４７７３号公報、特開平
６−１８６７５０号公報、特開平７−３０９００１号公
報、特開平９−１４６２６４号公報、特開平９−１４６
２６５号公報、特開平９−２３６９２７号公報、特開平
９−２４４２２８号公報にはレーザー光を光源として用
いる直描型水なし平版印刷版原版およびその製版方法な
どが記載されている。

【００１５】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱層は、
レーザー光吸収化合物として主としてカーボンブラック
を用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用し
ている。そしてこのカーボンブラックがレーザー光を吸
収することによって熱エネルギーに変換され、さらにそ
の熱で感熱層が破壊される。そして最終的に、現像によ
ってこの部分を除去することによって、表面のシリコー
ンゴム層が同時に剥離され、インキ着肉部となる。

【００１６】しかしながらこの印刷版は、感熱層を破壊
して画像を形成することから画線部のセルの深さが深く
なり、微少網点でのインキ着肉性が悪く、インキマイレ
ージが悪いという問題点があった。更に、感熱層を熱破
壊させ易くするために、架橋構造を形成しており印刷版
の耐刷性が劣るという問題もあった。感熱層を柔軟化さ
せると感度が極端に低下し、感熱層の柔軟化は困難であ
った。

【００１７】更にこの印刷版は感度が低く、感熱層を破
壊させるために高いレーザー光の強度が必要という問題
点もあった。

【００１８】特開平９−１４６２６４号公報では、光熱
変換層中にレーザー光を熱に変換する化合物、フィルム
形成能を有する高分子化合物、光重合開始剤、および光
重合可能なエチレン性不飽和化合物を有し、シリコーン
ゴム層形成後にエネルギー線による全面露光を施すこと
により光熱変換層と、シリコーンゴム層とを反応させた
ネガ型のレーザー感光性湿し水不要平版印刷版原版が提
案されている。

【００１９】この版材では、シリコーンゴム層塗布後に
全面露光を施すことにより、例えば小林らの文献（例え
ば、“印刷学会論文集，１８，１２８（１９７９）”や
“Ｊｏｕｒｎａｌ oｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｃ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ｖｏｌ．
６，ｐｐ．６５−６８”など）に示されている公知の機
構によりシリコーンゴム層と感光層との接着力を向上さ
せ、その結果として、画像再現性、耐傷性に優れた版材
を得ている。しかしながら、前述のように、感光層の柔
軟性と感度のトレードオフ的な関係は存在しており、特
に感度が低いという問題を有していた。

【００２０】特開平９−２３９９４２号公報では、レー
ザー感応層中に酸を発生する物質と、酸の作用で分解す
る高分子化合物を含有する剥離現像タイプの印刷版が提
案されているが、レーザー光照射の工程と加熱工程とい
う二つの工程が必要になり、また微細な網点の再現性が
悪いという剥離現像固有の問題が存在する。

【００２１】また、特に特開平６−５５７２３号公報、
ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８５８０号公
報では、光源としてＮｄ−ＹＡＧレーザーを用いている
ために、露光装置がかなり大がかりなものとなってしま
うといった、別の問題点もあった。

【００２２】その他、ＵＳＰ５３７９６９８号公報、特
開平７−３１４９３４号公報、特開平９−２３６９２７
号公報には、金属薄膜を感熱層として用いる直描型水な
し平版印刷版が記載されている。

【００２３】この印刷版材は、感熱層がかなり薄いため
に、非常にシャープな画像が得られ、印刷版の解像度と
いう面では有利であるが、基材と感熱層の接着性が悪く
印刷中に非画線部の感熱層が剥離し、インキが付着し印
刷物上で欠点となるという問題点があった。また、この
印刷版も感熱層を破壊させて画像を形成させることから
画線部のセルが深くなりインキ着肉性やインキマイレー
ジが劣るという問題点があった。

【００２４】以上のようなレーザー光を用いた平版印刷
版の他に、特に直描型水なし平版印刷版に関するものと
して、熱接着型の直描型水なし平版印刷版が考えられ
る。

【００２５】このタイプの版材は、レーザー光照射部の
シリコーンゴム層が選択的に残存し、非画線部として働
くものである。その機構としては、レーザー光照射によ
りシリコーンゴム層とレーザー感応層との接着力、ある
いはレーザー感応層とその下にある基板との接着力が何
らかの形で向上し、その結果として、未照射部のシリコ
ーンゴム層、あるいはシリコーンゴム層とレーザー感応
層がその後の処理により選択的に除去されるというもの
である。

【００２６】このようなタイプの版材としては、例えば
特開平９−６８７９４号公報、特開平９−８０７４５号
公報、特開平９−１２０１５７号公報、特開平９−１９
７６５９号公報などが提案されている。

【００２７】特開平９−１２０１５７号公報で提案され
ている版材は、レーザー光照射により発生した酸を触媒
として感光層の反応を進め、画像を再現するというもの
である。しかしながら、酸発生後、反応を進めるために
は、熱処理という工程が必要であった。さらに、酸発生
後から熱処理までの時間が画像再現性に影響を与えるた
め、画像再現性が不安定となるという問題を有してい
た。

【００２８】特開平９−８０７４５号公報、特開平９−
１９７６５９号公報で提案されている版材も、感光層中
に活性光線の照射で酸を発生しうる化合物および酸の存
在下で反応し得る結合を有する化合物が含まれており、
レーザー光照射後、発生した酸を用いて反応を進めるタ
イプであるため、上記と同様の問題を有していた。

【００２９】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の欠点に鑑み鋭意検討を行った結果、レーザー光照射
後の煩雑な工程を必要とせずともポジ型の直描型水なし
平版印刷版原版を得る技術を見出した。また、本発明の
技術を用いることで、感熱層を柔軟化できることから耐
刷性を向上できることを見出した。

【００３０】

【課題を解決するための手段】上記した本発明の目的
は、基板上に、少なくとも感熱層およびシリコーンゴム
層をこの順に積層してなる直描型水なし平版印刷版原版
において、該感熱層が光熱変換物質、１分子中にエチレ
ン性不飽和基を２個以上有する化合物、熱の作用でラジ
カルを発生する化合物、紫外線の作用でラジカルを発生
する化合物を含有することを特徴とする直描型水なし平
版印刷版原版によって達成することができる。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。

【００３２】まず、本発明の直描型水なし平版印刷版原
版に使用する基板について説明する。なお、本発明にお
いて直描型とは、露光時にネガあるいはポジのフィルム
を用いずに、印刷版上に直接記録ヘッドから、画像形成
を行うことを意味する。

【００３３】基板としては、寸法的に安定な板状物であ
れば、公知の金属、フィルム等のいずれも使用すること
ができる。この様な寸法的に安定な板状物としては、従
来印刷版の基板として使用されたもの等が好ましく挙げ
られる。かかる基板としては、紙、プラスチック（ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミ
ネ−トされた紙、アルミニウム（アルミニウム合金も含
む）、亜鉛、銅などの金属の板、セルロースアセテー
ト、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレン、ポリ
エステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポ
リプロピレン、ポリカ−ボネ−ト、ポリビニルアセタ−
ルなどのプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラ
ミネ−トもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフ
ィルムなどが挙げられる。

【００３４】これらのうち、アルミニウム板は寸法的に
著しく安定であり、しかも安価であるので特に好まし
い。また、軽印刷用の基板として用いられているポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムも好ましく使用される。

【００３５】これら基板と感熱層の接着性を強固にする
と共に、基板が金属などのように熱伝導が比較的高い物
質を使用する場合には断熱効果の目的で、基板と感熱層
の間に断熱層を設けることが好ましい。このような断熱
層により、感熱層が熱反応を起こす際の熱が基板へ拡散
するのを防止することができる。

【００３６】断熱層を設ける場合、本発明においては、
次の条件を満たすことが必要である。すなわち、基板と
感熱層とをよく接着し、経時において安定であること、
さらに現像液、印刷時に使用する溶剤に対する耐溶剤性
が高いことである。

【００３７】このような条件を満たすものとして、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、尿素樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、カゼイ
ン、ゼラチン等を含むものが挙げられる。これらの樹脂
は単独であるいは二種以上混合して用いることができ
る。また、これらの樹脂と類似の組成物を硬化したもの
を使用してもよい。

【００３８】これらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
等を単独で、あるいは２種以上を混合して用いることが
好ましい。

【００３９】また、この断熱層中に顔料、染料等の添加
剤を含有させて検版性を向上させることが好ましい。

【００４０】断熱層の厚さは被覆層にして０．５〜５０
ｇ／ｍ² が、基板表面の形態欠陥を防止し化学的悪影響
を遮断する効果や経済性の点から好ましく、より好まし
くは１〜１０ｇ／ｍ²である。

【００４１】次に基板に積層される感熱層について説明
する。

【００４２】本発明において感熱層は、少なくとも光熱
変換物質と加熱により硬化する化合物を含有することが
必要である。

【００４３】まず、（１）光熱変換物質について説明す
る。

【００４４】本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、
レーザー光を照射することにより画像を形成させるた
め、光熱変換物質を含有することが必要である。光熱変
換物質としてはレーザー光を吸収するものであれば特に
限定されない。この時、レーザー光の波長としては、紫
外域、可視域、赤外域のどの領域の波長であってもよ
く、使用するレーザー光の波長に合わせた吸収域を有す
る光熱変換物質を適宜選択して使用するとよい。

【００４５】例えばカーボンブラック、アニリンブラッ
ク、シアニンブラックなどの黒色顔料、フタロシアニ
ン、ナフタロシアニン系の緑色顔料、カーボングラファ
イト、鉄粉、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯
体、フェノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノ
ール系金属錯体、アリールアルミニウム金属塩類、結晶
水含有無機化合物、硫酸銅、硫化クロム、珪酸塩化合物
や、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化
鉄、酸化コバルト、酸化タングステンなどの金属酸化
物、これらの金属の水酸化物、硫酸塩、さらにビスマ
ス、スズ、テルル、鉄、アルミの金属粉などの添加剤を
添加することが好ましい。

【００４６】これらのなかでも、光熱変換率、経済性お
よび取り扱い性の面から、カーボンブラックが好まし
い。

【００４７】また上記の物質以外に、赤外線または近赤
外線を吸収する染料も、光熱変換物質として好ましく使
用される。

【００４８】これら染料としては４００ｎｍ〜１２００
ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する全ての染料が使用で
きるが、好ましい染料としては、エレクトロニクス用、
記録用色素であるシアニン系、フタロシアニン系、フタ
ロシアニン金属錯体系、ナフタロシアニン系、ナフタロ
シアニン金属錯体系、ジチオール金属錯体系、ナフトキ
ノン系、アントラキノン系、インドフェノール系、イン
ドアニリン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スク
ワリリウム系、クロコニウム系、ジフェニルメタン系、
トリフェニルメタン系、トリフェニルメタンフタリド
系、トリアリルメタン系、フェノチアジン系、フェノキ
サジン系、フルオラン系、チオフルオラン系、キサンテ
ン系、インドリルフタリド系、スピロピラン系、アザフ
タリド系、クロメノピラゾール系、ロイコオーラミン
系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、ジアザキサ
ンテン系、ビスラクトン系、フルオレノン系、モノアゾ
系、ケトンイミン系、ジズアゾ系、ポリメチン系、オキ
サジン系、ニグロシン系、ビスアゾ系、ビスアゾスチル
ベン系、ビスアゾオキサジアゾール系、ビスアゾフルオ
レノン系、ビスアゾヒドロキシペリノン系、アゾクロム
錯塩系、トリスアゾトリフェニルアミン系、チオインジ
ゴ系、ペリレン系、ニトロソ系、１：２型金属錯塩系、
分子間型ＣＴ系、キノリン系、キノフタロン系、フルキ
ド系の酸性染料、塩基性染料、色素、油溶性染料や、ト
リフェニルメタン系ロイコ色素、カチオン染料、アゾ系
分散染料、ベンゾチオピラン系スピロピラン、３，９−
ジブロモアントアントロン、インダンスロン、フェノー
ルフタレイン、スルホフタレイン、エチルバイオレッ
ト、メチルオレンジ、フルオレッセイン、メチルビオロ
ゲン、メチレンブルー、ジムロスベタインなどが挙げら
れる。

【００４９】これらのなかでも、エレクトロニクス用や
記録用の色素で、最大吸収波長が７００ｎｍ〜９００ｎ
ｍの範囲にある、シアニン系色素、アズレニウム系色
素、スクアリリウム系色素、クロコニウム系色素、アゾ
系分散色素、ビスアゾスチルベン系色素、ナフトキノン
系色素、アントラキノン系色素、ペリレン系色素、フタ
ロシアニン系色素、ナフタロシアニン金属錯体系色素、
ポリメチン系色素、ジチオールニッケル錯体系色素、イ
ンドアニリン金属錯体色素、分子間型ＣＴ色素、ベンゾ
チオピラン系スピロピラン、ニグロシン染料などが好ま
しく使用される。

【００５０】さらにこれらの染料のなかでも、モル吸光
度係数の大きなものが好ましく使用される。具体的には
ε＝１×１０⁴以上が好ましく、より好ましくは１×１
０⁵以上である。εが１×１０⁴より小さいと、感度の向
上効果が発現しにくいためである。

【００５１】これらの光熱変換物質は単独でも感度の向
上効果はあるが、２種以上を併用して用いることによっ
て、さらに感度を向上させることも可能である。

【００５２】これらの光熱変換物質の含有量は、全感熱
層組成物に対して０．１〜５０重量％が好ましく、より
好ましくは０．５〜３０重量％である。０．１重量％よ
りも少ない場合には感度の向上効果が見られず、５０重
量％よりも多い場合には印刷版の耐刷性が低下しやす
い。

【００５３】次に本発明において感熱層中に含まれる
（２）１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する
化合物の具体例としては、以下の（ａ）〜（ｉ）が挙げ
られる。なお以下、（メタ）アクリレートはアクリレー
トおよびメタクリレートを意味するものとする。

【００５４】（ａ）１分子中に水酸基を２個以上有する
化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸とのエステル
化物。

【００５５】１分子中に水酸基を２個以上有する化合物
の具体例としては、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオ
ール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオ
ール、２−ブテン−１，４−ジオール、５−ヘキセン−
１，２−ジオール、７−オクテン−１，２−ジオール、
３−メルカプト−１，２−プロパンジオール、ヒドロキ
ノン、ジヒドロキシアントラキノン、ジヒドロキシベン
ゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、ビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＳ、フェノールホルムアルデヒドノボラック樹
脂、レゾール樹脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、
ピロガロールアセトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合
体および共重合体、グリセリン、ジグリセリン、トリメ
チロールプロパン、１，２，４−ブタントリオール、ペ
ンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビ
トール、ソルビタン、ポリビニルアルコール、セルロー
スおよびその誘導体、ヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レートの重合体および共重合体などが挙げられる。

【００５６】これらの１分子中に水酸基を２個以上有す
る化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸は公知の方
法によりエステル化させて（メタ）アクリレート化合物
とし、使用することができる。

【００５７】また、エステル化反応させる際に好ましく
は、（メタ）アクリレート化合物が水酸基を有するよう
な比率で上記の化合物を仕込むことがシリコーンゴム層
と感熱層の接着性の観点から好ましく、更に好ましくは
水酸基が２個以上残るような比率にすることが好まし
い。

【００５８】（ｂ）１分子中にエポキシ基を２個以上有
するエポキシ化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸
との反応物。

【００５９】１分子中にエポキシ基を２個以上有するエ
ポキシ化合物としては、上記（ａ）項に記載された１分
子中に水酸基を２個以上有する化合物にエピハロヒドリ
ンを反応させることにより得られるエポキシ化合物が挙
げられる。

【００６０】これらエポキシ化合物とアクリル酸あるい
はメタクリル酸を公知の方法で反応で反応させることに
より（メタ）アクリレート化合物とし使用することがで
きる。

【００６１】（ｃ）１分子中にアミノ基を２個以上有す
る化合物とグリシジル（メタ）アクリレートとの反応
物。

【００６２】１分子中にアミノ基を２個以上有する化合
物としては下記の一般式（Ｉ）で示されるポリアミンが
挙げられる。

【００６３】

【化１】 式中、Ｒ１ 、Ｒ２ は水素原子、炭素数１〜２０の置
換または無置換のアルキル基、置換または無置換のフェ
ニル基、置換または無置換のアラルキル基であり、それ
ぞれ同一であっても異なっていてもよい。置換基として
は、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、水酸
基、アリール基などが挙げられる。好ましくは、水素原
子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、sec −ブチル基、ヒドロキシメチ
ル基、ヒドロキシプロピル基、クロロメチル基、ブロモ
メチル基、フェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、ｐ
−ブロモフェニル基、ｐ−トリル基、ｏ−トリル基、ベ
ンジル基などが挙げられる。

【００６４】Ａは２価の連結基を示し、具体的には一般
式−（Ａ１ ）ｐ −（Ａ２ ）ｑ−で示される。式中
Ａ１ は、炭素数１〜２０の置換または無置換の環式ま
たは非環式のアルキレン、置換または無置換のフェニレ
ンで置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基、ハロ
ゲン原子、水酸基、アリール基などが挙げられる。Ａ２
は、−Ｏ−Ｂ１ −、−Ｓ−Ｂ２ −、−ＮＨ−Ｂ３
−、−ＣＯ−Ｏ−Ｂ４ −、−ＳＯ２ −ＮＨ−Ｂ５
−であり、Ｂ１ 、Ｂ２ 、Ｂ３ 、Ｂ４、Ｂ５
は、上記のＡ１ と同一のものを示す。ｐは１以上の整
数、ｑは０または１以上の整数を示す。

【００６５】一般式（Ｉ）で示される１分子中にアミノ
基を２個以上有する化合物の具体例としては、ジオキシ
エチレンジアミン、トリオキシエチレンジアミン、テト
ラオキシエチレンジアミン、ペンタオキシエチレンジア
ミン、ヘキサオキシエチレンジアミン、ペプタオキシエ
チレンジアミン、オクタオキシエチレンジアミン、ノナ
オキシエチレンジアミン、デカオキシエチレンジアミ
ン、トリトリアコンタオキシエチレンジアミン、モノオ
キシプロピレンジアミン、ジオキシプロピレンジアミ
ン、トリオキシプロピレンジアミン、テトラオキシエチ
レンジアミン、ペンタオキシプロピレンジアミン、ヘキ
サオキシプロピレンジアミン、ヘプタオキシプロピレン
ジアミン、オクタオキシプロピレンジアミン、ノナオキ
シプロピレンジアミン、デカオキシプロピレンジアミ
ン、トリトリアコンタオキシプロピレンジアミン、ポリ
メチレンジアミン、ポリエーテルジアミン、ジエチレン
トリアミン、イミノビスプロピルアミン、ビス（ヘキサ
メチレン）トリアミン、トリエチレンテトラミン、テト
ラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、ジ
メチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピル
アミン、置換ポリアミン等の脂肪族ポリアミン化合物
や、ｍ−キシリレンジアミン、テトラクロル−ｐ−キシ
リレンジアミン等の芳香環を有する脂肪族ポリアミン化
合物、メンタンジアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジ
ン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジア
ミン等の脂環族ポリアミン、ｍ−フェニレンジアミン、
ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−メチレンジア
ニリン、ジアミノジフェニルスルホン、ベンジジン、
４，４’−ビス（ｏ−トルイジン）、４，４’−チオジ
アニリン、ｏ−フェニレンジアミン、ジアニシジン、メ
チレンビス（ｏ−クロロアニリン）、２，４−トルエン
ジアミン、ビス（３，４−ジアミノフェニル）スルホ
ン、ジアミノジトリスルホン、４−クロロ−ｏ−フェニ
レンジアミン、４−メトキシ−６−メチル−ｍ−フェニ
レンジアミン、ｍ−アミノベンジルアミン等の芳香族ポ
リアミン化合物やジシアンジアミド、アジピン酸ジヒド
ラジドが挙げられる。

【００６６】また、２−メチルイミダゾール、２−エチ
ル−４−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾー
ル、２，４−ジメチルイミダゾールなども挙げられる。

【００６７】更に、上記のポリアミンとカルボン酸を両
末端がアミノ基となるように反応させたポリアミドアミ
ンも挙げることができる。

【００６８】これら１分子中にアミノ基を２個以上有す
る化合物とグリシジル（メタ）アクリレートは公知の方
法により反応させて（メタ）アクリレート化合物とし使
用することができる。

【００６９】（ｄ）１分子中にアミノ基を２個以上有す
る化合物とアクリル酸あるいはメタクリル酸との反応
物。

【００７０】上記（ｃ）項に記載の１分子中にアミノ基
を２個以上有する化合物とアクリル酸あるいはメタクリ
ル酸を公知の方法で反応させて（メタ）アクリレート化
合物とし使用することができる。

【００７１】（ｅ）１分子中にカルボキシル基を２個以
上有する化合物とグリシジル（メタ）アクリレートとの
反応物。

【００７２】１分子中にカルボキシル基を２個以上有す
る化合物の具体例としては、マロン酸、コハク酸、リン
ゴ酸、チオリンゴ酸、ラセミ酸、クエン酸、グルタル
酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン
酸、セバシン酸、マレイン酸、フマール酸、イタコン
酸、ダイマー酸等の２価の有機カルボン酸、トリメリッ
ト酸等の３価の有機カルボン酸、３，９−ビス（２カル
ボキシアルキル）２，４，８，１０−テトラオキサスピ
ロウンデカン等が挙げられる。

【００７３】また、未加硫ゴムのカルボキシ変性物も用
いることが出来る。具体的には天然ゴム、ブタジエン、
イソプレン、スチレン、アクリロニトリル、アクリル酸
エステル、より選ばれた単独重合体又は共重合体のカル
ボキシ変性物であり、例えばカルボキシ変性ポリブタジ
エン、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合体、
カルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジエン共重合
体、カルボキシ変性メチルメタクリレート−ブタジエン
共重合体等が挙げられる。

【００７４】更に、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコールにより上記の多価カルボン酸をエステ
ル化反応させた化合物も用いることが出来る。該化合物
は両末端にカルボキシル基を有することが好ましい。

【００７５】これら１分子中にカルボキシル基を２個以
上有する化合物とグリシジル（メタ）アクリレートを公
知の方法で反応させて（メタ）アクリレート化合物とし
使用することができる。

【００７６】（ｆ）１分子中にカルボキシル基を２個以
上有する化合物とヒドロキシ（メタ）アクリレートとの
エステル化物。

【００７７】１分子中にカルボキシル基を２個以上有す
る化合物としては、上記（ｅ）項に記載のものを挙げる
ことができる。これら１分子中にカルボキシル基を２個
以上有する化合物とヒドロキシ（メタ）アクリレートは
公知方法で反応させて（メタ）アクリレート化合物とし
使用することができる。

【００７８】（ｇ）アリルウレタン類 多価イソシアネートとアリルアルコールをアリル基が１
分子中に２個以上存在するように付加反応させた生成物
が挙げられる。

【００７９】多価イソシネートの例としては、以下のも
のを挙げることができる。パラフェニレンジイソシアネ
−ト、２，４−または２，６−トルイレンジイソシアネ
−ト（ＴＤＩ）、４，４−ジフェニルメタンジイソシア
ネート（ＭＤＩ）、トリジンジイソシアネート（ＴＯＤ
Ｉ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、水素化
キシリレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシ
アネート、メタキシリレンジイソシアネート（ＭＸＤ
Ｉ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩあるい
はＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネート（ＬＤＩ）（別
名２，６−ジイソシアネートメチルカプロエート）、水
素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名４，４’−メチレンビ
ス（シクロヘキシルイソシアネート））、水素化ＴＤＩ
（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロヘキサン２，４（２，
６）ジイソシアネート）、水素化ＸＤＩ（Ｈ6ＸＤＩ）
（別名１，３−（イソシアナートメチル）シクロヘキサ
ン）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジフ
ェニルエーテルイソシアネート、トリメチルヘキサメチ
レンジイソシアネート（ＴＭＤＩ）、テトラメチルキシ
リレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイ
ソシアネ−ト、ダイマー酸ジイソシアネート（ＤＤ
Ｉ）、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス
（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テト
ラメチルキシリレンジイソシアネート、リジンエステル
トリイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイ
ソシアネート、１，８−ジイソシアネートー４ーイソシ
アネートメチルオクタン、１，３，６−ヘキサメチレン
トリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネ
ート等やポリイソシアネート類の重合体等が挙げられ
る。

【００８０】あるいは、これらイソシアネート化合物と
ポリオールとをイソシアネート基が残存するような比率
で反応させた化合物もイソシアネート化合物として使用
できる。この際使用するポリオールとしては、多価カル
ボン酸の重縮合で得られる両末端が水酸基であるような
ポリエステルポリオール、ラクトン類より得られる重合
ポリエステルポリオール、ポリカーボネートジオール、
プロピレンオキシドやテトラヒドロフランの開環重合や
エポキシ樹脂の変性で得られるポリエーテルポリオー
ル、あるいは水酸基を有する（メタ）アクリル単量体と
（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体であるアクリ
ルポリオール、ポリブタジエンポリオール、含燐ポリオ
ール、ハロゲン含有ポリオール等が挙げられる。

【００８１】（ｈ）アリルエステル類 多価カルボン酸またはその酸無水物とアリルアルコール
とをアリル基が１分子中に２個以上存在するようにエス
テル化反応させた生成物が挙げられる。多価カルボン酸
とアリルアルコールは公知の方法によりエステル化させ
アリルエステル類とすることができる。

【００８２】この際使用される多価カルボン酸の具体例
としては、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、ラセミ酸、
クエン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペ
リン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ール酸、イタコン酸、ダイマー酸等の２価のカルボン
酸、トリメリット酸等の３価のカルボン酸、３，９−ビ
ス（２カルボキシアルキル）２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロウンデカン等が挙げられる。

【００８３】また、未加硫ゴムのカルボキシ変性物も用
いることができる。具体的には天然ゴム、ブタジエン、
イソプレン、スチレン、アクリロニトリル、アクリル酸
エステルより選ばれた単独重合体または共重合体のカル
ボキシ変性物であり、例えばカルボキシ変性ポリブタジ
エン、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合体、
カルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジエン共重合
体、カルボキシ変性メチルメタクリレート−ブタジエン
共重合体等が挙げられる。

【００８４】酸無水物の具体例としては、無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水酪酸、無水マレイン酸、無水シト
ラコン酸、無水クロトン酸、無水フタル酸等が挙げられ
る。

【００８５】（ｉ）ビニルエーテル類 ポリオールとアセチレンとの付加反応あるいはポリオー
ルとビニルエーテルとのエーテル交換反応によりビニル
基を１分子中に２個以上存在するように反応させた生成
物が挙げられる。この際ポリオールとしては上記（ａ）
項で記載したポリオールを使用することができる。これ
らポリオールは公知の方法によりアセチレンと付加反応
させて目的とするビニルエーテル類を得ることができ
る。

【００８６】また、上記のポリオールとメチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテルを公知の方法によりエー
テル交換反応させることによってもビニルエーテル類を
得ることができる。

【００８７】ビニルエーテル類の具体例としては、ジプ
ロピレングリコールジビニルエーテル、トリエチレング
リコールジビニルエーテル、ｍ−フェニレンビス（エチ
レングリコール）ジビニルエーテル等が挙げられる。

【００８８】これらの１分子中にエチレン性不飽和基を
２個以上有する化合物は、それぞれ単独で使用しても良
いし２種類以上を混合して使用することもできる。

【００８９】また、シリコーンゴム層と感熱層の接着性
の観点からは水酸基を有することが好ましく、具体的に
は上述の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｅ）項に記載の
（メタ）アクリレート化合物が好ましい。

【００９０】さらに、画像形成性や耐刷性などの観点か
らは、アリルウレタン類、ポリウレタンアクリレート
類、ポリエステルアクリレート類などの比較的高分子量
の化合物が好ましい。分子量的には、約１０００以上の
もの、さらには約３０００以上のものを用いることが好
ましいといえる。

【００９１】感熱層の耐溶剤性などの観点からは、エチ
レン性不飽和基を３個以上有する化合物を用いることが
好ましく、具体的には、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールモノヒドロキシペンタアクリレート、トリスアクリ
ロイルオキシイソシアヌレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレ
タンプレポリマーなどが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。

【００９２】結果として、アリルウレタン類、ポリウレ
タンアクリレート類、ポリエステルアクリレート類など
の高分子量化合物に、エポキシアクリレート類などの水
酸基を有する化合物、さらには多官能化合物を併用する
ことが好ましい。

【００９３】次に（３）熱の作用でラジカルを発生させ
る化合物について説明する。

【００９４】熱に作用でラジカルを発生させる化合物と
しては、特に限定されないが、具体的には有機過酸化
物、アゾ化合物、スルフィド類などが挙げられる。

【００９５】有機過酸化物としては、未露光の印刷版原
版の保存安定性の観点から半減期１分となるための分解
温度が１２０℃以上のものが好ましい。このような有機
過酸化物の具体例としては、２，４−ジクロロベンゾイ
ルパーオキサイド、クミルパーオキシオクトエート、ア
セチルパーオキサイド、サクシン酸パーオキサイド、ｔ
−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）、ｍ
−トルオリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイ
ド、ｔ−ブチルパーオキシソブチレート、１，１−ビス
（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シ
クロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ−
ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシ
３，５，５−トリメチルヘキサノエート、シクロヘキサ
ノンパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアリルカー
ボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネ
ート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパー
オキシ）ヘキサン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキ
シ）オクタン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，
２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ−ブチル
ペーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル−４，４−ビス
（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジｔ−ブチルパ
ーオキシイソフタレート、メチルエチルケトンパーオキ
サイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−
２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、α，
α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−ｍ−イソプロピ
ル）ベンゼン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジイ
ソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジｔ−ブ
チルパーオキサイド、ｐ−メンタンヒドロパーオキサイ
ド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキシン、１，１，３，３−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−
２，５−ジハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパ
ーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド等が
挙げられる。

【００９６】アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイ
ソブチルニトリル、２−フェニラゾ−２，４−ジメチル
−４−メトキシバレロニトリル、２−シアノ−２−プロ
ピルアゾホルムアミド、１，１−アゾビスシクロヘキサ
ン−１−カルボニトリル、１，１’−アゾビス（１−ア
セトキシ−１−フェニレタン）、２，２’−アゾビス
（２−アミドブタン）ジヒドロクロライド等が挙げられ
る。

【００９７】スルフィド類の具体例としては公知のモノ
スルフィド類、ジスルフィド類、テトラメチルチウラム
ジスルフィド等が挙げられる。

【００９８】これら加熱によりラジカルを発生させる化
合物の中でも、有機過酸化物が好ましい。

【００９９】（４）紫外線の作用でラジカルを発生する
化合物としては、公知の光重合開始剤を挙げることがで
きる。

【０１００】具体的にはベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、４，４−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、キサ
ントン、アンスロンなどのベンゾフェノン誘導体、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテルなどのベンゾイン誘導体、ｐ−ベンゾキノン、
β−ナフトキノン、β−メチルアントラキノンなどのキ
ノン類、チオキサントン、２−クロルチオキサントン、
２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキ
サントンなどのチオキサントン類、ジエトキシアセトフ
ェノン、ベンジルジメチルケタール、２−ベンジル−２
−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブ
タノンなどのアセトフェノン誘導体、アシルフォスフィ
ンオキサイド、２−エチルアンスラキノン、１０−ブチ
ル−２−クロロアクリドン、９，１０−フェナンスレン
キノン、カンファーキノンなどが挙げられるがこれらに
限定されるものではない。

【０１０１】また、塩基性染料などの２分子性染料とト
リフェニルホウ素などの有機ホウ素化合物の組み合わせ
から選ばれる開始剤系も本発明に使用できる。このよう
な系の場合、染料の選択で開始剤が機能する波長を調整
可能であるため、（４）紫外線の作用でラジカルを発生
する化合物としてだけではなく、上記（３）の熱の作用
でラジカルを発生する化合物としても使用可能であるた
め好ましく用いることが出来る。

【０１０２】本発明において、感熱層がさらにバインダ
ーポリマを含有することが好ましい。この際、バインダ
ーポリマとしては、有機溶剤に可溶でかつフィルム形成
能のあるものであれば特に限定されないが、印刷版の耐
刷性の観点から、該ポリマのガラス転移温度（Ｔｇ）が
２０℃以下のポリマ、コポリマ、さらに好ましくはガラ
ス転移温度が０℃以下のポリマ、コポリマを用いること
が好ましい。

【０１０３】有機溶剤に可溶でかつフィルム形成能があ
り、さらに形態保持の機能をも果たすバインダーポリマ
の具体例として下記のものが挙げられる。

【０１０４】（Ａ）ビニルポリマ類 以下に示すような単量体およびそれらの誘導体から得ら
れるポリマ、およびコポリマ。

【０１０５】例えば、エチレン、プロピレン、スチレ
ン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、
（メタ）アクリル酸エチル、炭素数３〜５０の飽和およ
び不飽和炭化水素鎖を有する置換もしくは非置換の（メ
タ）アクリル酸エステル、マレイン酸、イタコン酸、ア
クリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセ
トンアクリルアミド、アクリルニトリル、ビニルトルエ
ン、イソブテン、３−メチル−１−ブテン、ブチルビニ
ルエーテル、Ｎ−ビニルカルバゾール、メチルビニルケ
トン、ニトロエチレン、ビニリデンシアニド、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アク
リロイルオキシプロピル）エーテル、グリセリンやトリ
メチロールエタン、トリメチロールプロパン等の多官能
アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイ
ドを付加させた後、（メタ）アクリレート化したもの、
およびこれらの誘導体を重合、共重合させて得られるポ
リマ、コポリマをバインダーポリマとして使用すること
ができる。

【０１０６】（Ｂ）未加硫ゴム 天然ゴム、（ＮＲ）や、ブタジエン、イソプレン、スチ
レン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体で
あり、例えばポリブタジエン（ＢＲ）、スチレン−ブタ
ジエン共重合体（ＳＢＲ）、カルボキシ変性スチレン−
ブタジエン共重合体、ポリイソプレン（ＮＲ）、ポリイ
ソブチレン、ポリクロロプレン（ＣＲ）、ポリネオプレ
ン、アクリル酸エステル−ブタジエン共重合体、メタク
リル酸エステル−ブタジエン共重合体、アクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体（ＡＮＭ）、イソブチ
レン−イソプレン共重合体（ＩＩＲ）、アクリロニトリ
ル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）、カルボキシ変性ア
クリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−イソプ
レン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体（ＥＰ
Ｍ、ＥＰＤＭ）、ビニルピリジン−スチレン−ブタジエ
ン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体などの未加
硫ゴムが挙げられる。

【０１０７】また、ポリ（１，３−ブタジエン）、ポリ
（２−クロロ−１，３−ブタジエン）、ポリ（２−デシ
ル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２，３−ジメチル−
１，３−ブタジエン）、ポリ（２−エチル−１，３−ブ
タジエン）、ポリ（２−ヘプチル−１，３−ブタジエ
ン）、ポリ（２−イソプロピル−１，３−ブタジエ
ン）、ポリ（２−メチル−１，３−ブタジエン）、クロ
ロスルホン化ポリエチレン、環化ゴム等が挙げられる。

【０１０８】また、これらゴム類の変性物、例えばエポ
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマとのブレンド物もまたバ
インダーポリマとして使用できる。

【０１０９】（Ｃ）ポリオキシド類（ポリエーテル類） トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、２，３−エポキシブタン、３，４−エポキシブテ
ン、２，３−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、２−
フェニル−１，２−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、１，４−ジ
クロロ−２，３−エポキシブタン、２，３−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシ−２−メチルプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシジエチルアセタ
ールなどの開環重合によるポリマ、コポリマ等が挙げら
れる。

【０１１０】（Ｄ）ポリエステル類 以下に示すような多価アルコールと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等が挙げられる。

【０１１１】多価アルコールの具体例としては、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパ
ンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブチレ
ングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘ
キサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、トリエチレング
リコール、ｐ−キシレングリコール、水素化ビスフェノ
ールＡ、ビスフェノールヒドロキシプロピルエーテル、
グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタ
エリトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等
が挙げられる。

【０１１２】多価カルボン酸および多価カルボン酸無水
物の具体例としては無水フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロ
ル無水フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無
水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリッ
ト酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無
水ピロメリット酸等が挙げられる。

【０１１３】ラクトンとしては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトン等が挙げられる。

【０１１４】（Ｅ）ポリウレタン類 以下に示すポリイソシアネート類と多価アルコールより
得られるポリウレタンもバインダーポリマとして使用す
ることができる。

【０１１５】多価アルコールとしては上記（Ｄ）の項で
述べた多価アルコール類及び下記の多価アルコール類、
これら多価アルコールと上記（Ｄ）項で述べた多価カル
ボン酸の重縮合で得られる両末端が水酸基であるような
ポリエステルポリオール、上記（Ｄ）で述べたラクトン
類より得られる重合ポリエステルポリオール、ポリカー
ボネートジオール、プロピレンオキシドやテトラヒドロ
フランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリ
エーテルポリオール、あるいは水酸基を有する（メタ）
アクリル単量体と（メタ）アクリル酸エステルとの共重
合体であるアクリルポリオール、ポリブタジエンポリオ
ールなどが挙げられる。

【０１１６】ポリイソシアネート類としてはパラフェニ
レンジイソシアネート、２，４−または２，６−トルイ
レンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４−ジフェニル
メタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイソシ
アネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネート
（ＸＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シク
ロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシ
アネート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネー
ト（ＬＤＩ）（別名４，４’−メチレンビス（シクロヘ
キシルイソシアネート））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）
（別名メチルシクロヘキサン２，４（２，６）ジイソシ
アネート）、水素化ＸＤＩ（Ｈ６ＸＤＩ）（別名１，３
−（イソシアナートメチル）シクロヘキサン）、イソホ
ロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテ
ルイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート（ＴＭＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソ
シアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネー
ト、ダイマー酸ジイソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェ
ニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネー
トフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシリ
レンジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネ
ート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート、
１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチル
オクタン、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシアネ
ート、ビシクロヘプタントリイソシアネート等やポリイ
ソシアネート類の多価アルコールアダクト体、あるいは
ポリイソシアネート類の重合体が挙げられる。

【０１１７】上記（Ｄ）項で述べたものに加え多価アル
コール類としては、ポリプロピレングリコール、ポリエ
チレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エ
チレンオキサイド−プロピレンオキサイド共重合体、テ
トラヒドロフラン−プロピレンオキサイド共重合体を、
また、ポリエステルポリオールとしてはポリエチレンア
ジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキサメチ
レンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、ポリヘ
キサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチレンヘ
キサメチレンアジペート等を、また、ポリ−ε−カプロ
ラクトンジオール、ポリヘキサメチレンカーボネートジ
オール、ポリテトラメチレンアジペート、ソルビトー
ル、メチルグルコジット、シュクローズ等を挙げること
ができる。

【０１１８】また、各種の含燐ポリオール、ハロゲン含
有ポリオールなどもポリオールとして使用することがで
きる。

【０１１９】上記のイソシアネート類とポリオールは公
知の方法により反応させて目的とするポリウレタンを得
ることができ、これらのポリウレタンは一般的にガラス
転移温度０℃以下であり本発明に好ましく使用すること
ができる。

【０１２０】（Ｆ）ポリアミド類 以下に示すモノマー類のコポリマーが挙げられる。

【０１２１】モノマー類としてはε−カプロラクタム、
ω−ラウロラクタム、ω−アミノウンデカン酸、ヘキサ
メチレンジアミン、４，４−ビス−アミノシクロヘキシ
ルメタン、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジア
ミン、イソホロンジアミン、グリコール類、イソフタル
酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンニ酸等が挙げら
れる。

【０１２２】例えば特開昭４８−７２２５０号公報に示
されるような３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸
ナトリウムなどを共重合することによって得られるスル
ホン酸基またはスルホネート基を含有するポリアミド、
特開昭４９−４３４６５号公報に示されているような分
子中にエーテル結合を持つジカルボン酸、ジアミン、あ
るいは環状アミドのうちいずれか１種類を共重合して得
られるエーテル結合を有するポリアミド、特開昭５０−
７６０５号公報に示されているようなＮ，Ｎ’−ジ（γ
−アミノプロピル）ピペラジン等を共重合して得られる
塩基性窒素を含有するポリアミドおよびこれらのポリア
ミドをアクリル酸等で四級化したポリアミド、特開昭５
５−７４５３７号公報で提案されている分子量１５０〜
１５００のポリエーテルセグメントを含有する共重合ポ
リアミド、およびα−（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルアミノ）
−ε−カプロラクタムの開環重合またはα−（Ｎ，Ｎ’
−ジアルキルアミノ）−ε−カプロラクタムとε−カプ
ロラクタムの開環共重合で得られたポリアミドなど。

【０１２３】また、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω−ア
ミノ酸、ラクタムあるいはこれらの誘導体から公知の方
法によって合成される線状ポリアミドが挙げられ、ホモ
ポリマーだけでなくコポリマー、ブロックポリマー等も
使用できる。代表的な例としては、ナイロン３、４、
５、６、８、１１、１２、１３、６６、６１０、６／１
０、１３／１３、メタキシリレンジアミンとアジピン酸
からのポリアミド、トリメチルヘキサメチレンジアミン
あるいはイソホロンジアミンとアジピン酸からのポリア
ミド、ε−カプロラクタム／アジピン酸／ヘキサメチレ
ンジアミン／４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタ
ン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム／アジピン酸
／ヘキサメチレンジアミン／２，４，４’−トリメチル
ヘキサメチレンジアミン共重合ポリアミド、ε−カプロ
ラクタム／アジピン酸／ヘキサメチレンジアミン／イソ
ホロンジアミン共重合ポリアミド、あるいはこれらの成
分を含むポリアミド、それらのＮ−メチロール、Ｎ−ア
ルコキシメチル誘導体も使用できる。

【０１２４】これらのバインダーの含有量は、全感熱層
組成物に対して５〜７０重量％が好ましく、より好まし
くは１０〜５０重量％である。含有量が５％よりも少な
いと耐刷性が低下しやすく、７０重量％よりも多いと感
度が低下しやすい。

【０１２５】上記各種バインダーポリマは単独で用いて
もよいし、また数種のポリマを混合して使用してもよ
い。

【０１２６】上記ポリマの中でも、特に、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマー、未加硫ゴムがバ
インダーポリマとして好ましい。

【０１２７】更に本発明において、感熱層には染料、重
合禁止剤、酸、レベリング剤、界面活性剤、可塑剤等を
必要に応じて任意に添加してもよい。

【０１２８】特に、下層の基板や断熱層との接着性を高
めるためにシランカップリング剤やチタンカップリング
剤などの各種カップリング剤を添加したり、あるいは上
層のシリコーンゴム層との初期接着性を高めるためにシ
ランカップリング剤や、水酸基含有化合物、不飽和基含
有化合物を添加することは極めて好ましく行われる。

【０１２９】このようにして得られる感熱層の物性に関
しては、得られる印刷版の印刷特性の観点から、その物
性が特定の範囲にあることが好ましい。この様な物性と
しては引張特性、その中でも引張時の初期弾性率を代表
として挙げることが出来る。具体的には、印刷版におけ
る感熱層の引張時の初期弾性率が７ｋｇｆ／ｍｍ²〜７
８ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲、さらには１０ｋｇｆ／ｍｍ²〜
６５ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲にあることが好ましい。

【０１３０】感熱層の初期弾性率を以上のような範囲に
設定することにより、印刷版としての特性、特に耐刷性
を向上させることが出来る。逆に、初期弾性率が７ｋｇ
ｆ／ｍｍ²未満である場合には画線部を形成する感熱層
がベタ着き易くなるため印刷時にヒッキーが発生し易く
なる。また、初期弾性率が７８ｋｇｆ／ｍｍ²以上であ
る場合には、印刷時に加わる繰り返し応力により感熱層
とシリコーンゴム層との接着界面で破壊が起こりやすく
なり、耐刷性低下の原因となるためである。

【０１３１】感熱層の厚さは、印刷版の耐刷性や希釈溶
剤を揮散させる生産性などの観点から０．１〜１０ｇ／
ｍ²である事が好ましく、より好ましくは１〜７ｇ／ｍ²
である。

【０１３２】次にシリコーンゴム層について説明する。
本発明において、シリコーンゴム層としては、従来の水
なし平版印刷版において使用されるシリコーンゴム組成
物からなるものが挙げられる。

【０１３３】具体的には線状オルガノポリシロキサン
（好ましくはジメチルポリシロキサン）をまばらに架橋
することにより得られるものが挙げられ、代表的なもの
として、次式（ＩＩ）に示すような繰り返し単位を有す
るものが挙げられる。

【０１３４】

【化２】 （ここでｎは２以上の整数である。Ｒは炭素数１〜１０
のアルキル、アリ−ル、あるいはシアノアルキル基であ
る。全体のＲの４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、Ｒの６０％以
上がメチル基であるものが好ましい。また、鎖末端もし
くは側鎖のかたちで分子鎖中に少なくとも一つ以上の水
酸基を有する。） シリコ−ンゴムとしてはオルガノポリシロキサン鎖のＲ
の一部がＨに置換されたものも使用できるが、特に本発
明においては、シリコ−ンゴム層に次に示すような縮合
型の架橋を行うシリコ−ンゴム（ＲＴＶ、ＬＴＶ型シリ
コ−ンゴム）を用いることが好ましい。すなわち、式
（ＩＩＩ）と式（ＩＶ）または式（Ｖ）で表される末端
基どうしの縮合によって架橋されるものである。この
時、系内に、さらに過剰の架橋剤を存在させてもよい。

【０１３５】

【化３】 （ここでＲは式ＩＩで説明したＲと同様のものを意味す
る。）

【化４】 （ここでＲは式ＩＩで説明したＲと同様のものを意味
し、Ｒ１ 、Ｒ２ は一価の低級アルキル基である。）

【化５】 （ここでＲは式ＩＩで説明したＲと同様のものを意味
し、Ａｃはアセチル基である。） このような縮合型の架橋を行う際、錫、亜鉛、鉛、カル
シウム、マンガンなどの金属カルボン酸塩、例えばラウ
リン酸ジブチル錫、錫（ＩＩ）オクトエ−ト、ナフテン
酸塩など、あるいは塩化白金酸のような触媒が添加され
てもよい。

【０１３６】これ以外にも、縮合型シリコ−ンゴム層の
組成物である水酸基含有オルガノポリシロキサン、加水
分解性官能基含有シラン（もしくはシロキサン）を添加
することも任意であり、またゴム強度を向上させる目的
で、シリカなどの公知の充填剤を添加させることも任意
である。

【０１３７】さらに、本発明においては上記した縮合型
シリコーンゴム層の他に、付加型のシリコーンゴム層と
することも可能である。

【０１３８】付加型シリコーンゴム層としては、厚み
０．５〜５０ｇ／ｍ２ 、好ましくは０．５〜１０ｇ／
ｍ２ であり、かつ紫外線が透過しうる透明性を有する
ものであればよい。

【０１３９】このような付加型シリコーンゴム層は、例
えば、分子中に少なくとも２個のビニル基を有するポリ
オルガノシロキサンと、分子中に少なくとも３個のＳｉ
Ｈ基を有するポリオルガノシロキサンおよび白金化合物
を適当な溶媒で希釈したものを、感熱層上に塗布し、加
熱乾燥して硬化させることによって形成することができ
る。

【０１４０】分子中に少なくとも２個以上のビニル基を
有するオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖末端、
中間のどちらかにビニル基を有するものが挙げられ、ア
ルケニル基以外の有機基として、置換もしくは非置換の
アルキル基、アリール基を有するものが好ましい。ま
た、微量の水酸基を含有していてもよい。

【０１４１】分子中に２個以上のビニル基を有するポリ
オルガノシロキサンの具体例としては以下のものが挙げ
られる。

【０１４２】両末端ビニル基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基の（メチルビニルシロキサン）（ジ
メチルシロキサン）共重合体、両末端ビニル基の（メチ
ルビニルシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合
体、両末端ビニル基のポリジメチルシロキサンの２分子
以上主鎖間をジメチレン架橋させた化合物、両末端メチ
ル基の（メチル１−ヘキセンシロキサン）（ジメチルシ
ロキサン）共重合体、両末端ビニル基の（メチル１−ヘ
キセンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体等
である。

【０１４３】これら分子中に２個以上のビニル基を有す
るポリオルガノシロキサンは、硬化後のゴム物性の点で
その分子量が５，０００以上であることが好ましく、更
に好ましくは１０，０００以上である。また、これらは
単独で使用することもできるし、複数の種類を任意の比
率で混合して使用することもできる。

【０１４４】分子中に少なくとも３個以上のＳｉＨ基を
有するポリオルガノシロキサンとしては分子鎖末端、中
間のいずれかにＳｉＨ基を有するものが挙げられ、Ｓｉ
Ｈ基以外の有機基として、置換もしくは非置換のアルキ
ル基、アリール基を有するものが好ましい。

【０１４５】分子中に少なくとも３個以上のＳｉＨ基を
有するポリオルガノシロキサンの具体例としては、以下
のものが挙げられる。

【０１４６】両末端ＳｉＨ基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基のポリメチルハイドロジェンシロキ
サン、両末端メチル基の（メチルハイドロジェンシロキ
サン）（ジメチルシロキサン）共重合体、両末端ＳｉＨ
基の（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシ
ロキサン）共重合体、環状ポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン等が挙げられる。

【０１４７】特に、本発明においては、これらのポリオ
ルガノシロキサンのＳｉＨ基数を分子量で除した値が
０．００１ｍｏｌ／ｇ以上のものが好ましく用いられ、
０．００２ｍｏｌ／ｇ以上がより好ましい。０．００１
ｍｏｌ／ｇ未満の場合は硬化速度の点で好ましくない。

【０１４８】また、これらのポリオルガノシロキサンは
単独で使用することもできるし、複数の種類を任意の比
率で混合して使用することもできる。

【０１４９】また、上記ビニル基含有ポリオルガノシロ
キサンと上記ＳｉＨ基含有ポリオルガノシロキサンの有
機基のうち、基数の６０％以上がメチル基であることが
インキ反撥性の向上の点で好ましい。

【０１５０】上記ビニル基含有ポリオルガノシロキサン
とＳｉＨ基含有ポリオルガノシロキサンを混合して使用
する際の比率としては、シリコーンゴム組成物中のビニ
ル基数を１とした場合にＳｉＨ基数が１．５〜１５とな
るような混合比率が好ましく、更に好ましくは１．５〜
１２が好ましい。

【０１５１】ビニル基数１に対するＳｉＨ基数が１．５
未満の場合であると、シリコーンゴム層の硬化性が低下
する傾向にあり、１５より大きい場合にはシリコーンゴ
ムが脆くなり耐摩耗性が低下する傾向があり好ましくな
い。

【０１５２】さらに付加型シリコーンゴム層に好ましく
用いられる白金化合物としては、特に限定されないが、
白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金
などが挙げられる。これらの中でもオレフィン配位白金
が好ましい。

【０１５３】また、付加型シリコーンゴム層の硬化速度
を制御する目的で、テトラシクロ（メチルビニル）シロ
キサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサン、
炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルなどの反応抑制剤を添加
することが好ましい。

【０１５４】本発明において好ましく用いられる付加型
シリコーンゴム層の組成の一般的な形態としては次のよ
うなものが挙げられる。

【０１５５】（１）１分子中にビニル基を少なくとも２
個以上有するポリオルガノシロキサン： １００重量部 （２）１分子中に少なくとも ＳｉＨ結合を３個以上有
するポリオルガノシロキサン ： ０．１〜１００００
重量部 （３）白金化合物 ： ０．００００１〜１０重量部 （４）反応抑制剤 ： ０．１〜１０重量部 （５）溶剤 ： １００〜４０００重量部 これらの組成物の他に、縮合型シリコーンゴム層の組成
物である水酸基含有オルガノポリシロキサン、加水分解
性官能基含有シラン（もしくはシロキサン）を添加して
もよく、またゴム強度を向上させる目的で、シリカなど
の公知の充填剤を添加してもよい。

【０１５６】また、本発明においてシリコーンゴム層は
上記組成物の他にシランカップリング剤を含有すること
が好ましい。

【０１５７】シランカップリング剤の具体例としては、
ビニルシラン、（メタ）アクリロイルシラン、エポキシ
シラン、アミノシラン、メルカプトシラン、クロロシラ
ン等公知のものが全て使用できるが、なかでも（メタ）
アクリロイルシラン、エポキシシラン、アミノシラン、
メルカプトシラン等が挙げられる。

【０１５８】これらの中でも特にエポキシシランが好ま
しい。エポキシシランの具体例としては、３−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、２―（３，４―エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等が挙
げられる。

【０１５９】これらのシランカップリング剤は、シリコ
ーンゴム層組成物の固形分に対し、０．１〜５重量％の
比率で使用することが好ましく、更に好ましくは０．５
〜３重量％である。

【０１６０】これらシリコーンゴム層の膜厚は０．５〜
５０ｇ／ｍ２が好ましく、さらに好ましくは０．５〜１
０ｇ／ｍ２である。膜厚が０．５ｇ／ｍ２よりも小さい
場合には印刷版のインキ反撥性が低下する傾向があり、
５０ｇ／ｍ２よりも大きい場合には、経済的見地から不
利である。

【０１６１】次に、本発明における直描型水なし平版印
刷版原版の製造方法および製版方法について説明する。

【０１６２】基板上に、リバースロールコーター、エア
ーナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、
メーヤバーコーターなどの通常のコーターあるいはホエ
ラーのような回転塗布装置を用い、必要に応じて断熱層
組成物を塗布し１００〜３００℃で数分間加熱し硬化さ
せた後、感熱層組成物を塗布し６０〜１５０℃で数十秒
から数分間加熱乾燥する。

【０１６３】この後、紫外線を含む光源を用いて空気中
で感熱層全面に紫外線を照射する。この時用いられる光
源としては、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、蛍光灯、半導体レーザー、ＹＡ
Ｇレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムネオン
レーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、発光ダイオー
ドなどが挙げられる。

【０１６４】感熱層に紫外線が照射されると、感熱層中
の（４）紫外線の作用でラジカルを発生する化合物がラ
ジカルを発生し、その結果、（２）１分子中にエチレン
性不飽和基を２個以上有する化合物が重合を開始する。
しかしながら、この反応は空気中の酸素の影響で阻害さ
れるため、感熱層内部（感熱層の基板側）にのみ特異的
に架橋構造が形成される。他方、感熱層の表層（感熱層
の空気に接している側）には未反応の（２）１分子中に
エチレン性不飽和基を２個以上有する化合物が残存する
こととなる。

【０１６５】この後、シリコーンゴム組成物を塗布し５
０〜１５０℃の温度で数分間熱処理してシリコーンゴム
層を得る。

【０１６６】場合によっては、前述の版面への全面露光
をこの後に行ってもよい。シリコーンゴム層は酸素を高
い濃度で透過させることが出来るため、シリコーンゴム
層を塗布した後に全面露光を行っても、空気中に感熱層
をさらした状態で露光を行ったのと同様の結果が得られ
る。

【０１６７】このようにして得られた版には、好ましく
は保護フィルムをラミネートするかあるいは、保護層を
形成する。保護フィルム、保護層の機能としては第一に
シリコーンゴム層の保護が挙げられる。第二には、レー
ザー光照射時の感熱層の反応に悪影響を及ぼす酸素を遮
断する事が挙げられる。

【０１６８】それ故、保護フィルムとしてはレーザー光
の照射を妨げることなく、かつ酸素透過性の低いものが
好ましい。このようなカバーフィルムの種類としては、
ポリエステルフィルム、ポリビニルアルコールフィル
ム、エチレン酢酸ビニル共重合体ケン化物フィルム、ポ
リ塩化ビニリデンフィルム、また各種金属を蒸着したフ
ィルムなどが挙げられる。

【０１６９】このようにして得られた直描型水なし平版
印刷版原版を、好ましくは保護フィルム上からレーザー
光で画像状に露光する。

【０１７０】本発明の製版露光工程で用いられるレーザ
ー光源としては、発光波長領域が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるものが用いられる。すなわち、アルゴ
ンイオン、クリプトンイオン、ヘリウム-ネオン、ヘリ
ウム-カドミウム、ルビー、ガラス、ＹＡＧ、チタンサ
ファイア、色素、窒素、金属蒸気、エキシマ、自由電
子、半導体などの各種レーザーが使用される。

【０１７１】これらの中でも本発明の印刷版原版を製版
する目的から、近赤外領域付近に発光波長領域が存在す
る半導体レーザーが好ましく、特に高出力半導体レーザ
ーが好ましく用いられる。

【０１７２】レーザー光が照射されると、感熱層中の
（１）光熱変換物質の作用により、感熱層の表層に残存
していた未反応の（２）１分子中にエチレン性不飽和基
を２個以上有する化合物が重合を行い、これらの結果、
シリコーンゴム層と感熱層の接着力が高くなる。

【０１７３】上記の方法で露光された直描型水なし平版
印刷版原版は、次に現像処理されるが、現像方法として
は、水または有機溶剤の存在もしくは非存在下での摩擦
処理により行われる。あるいは、保護フィルムを剥離す
ることによって印刷版上にパターンを形成する、いわゆ
る剥離現像によっても印刷版を作成することも可能であ
る。現像処理を行う場合に使用される現像液としては、
例えば、水や水に界面活性剤を添加したもの、さらには
水に下記の極性溶媒を添加したものや、脂肪族炭化水素
類（ヘキサン、ヘプタン、イソパラフィン系炭化水素な
ど）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレンなど）、
ハロゲン化炭化水素類（トリクレンなど）などの少なく
とも１種類からなる溶媒に、下記の極性溶媒を少なくと
も１種類添加したものが用いられる。

【０１７４】極性溶媒としては、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、エチレングリコールなどのア
ルコール類、エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテル、テトラヒドロフランな
どのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジア
セトンアルコールなどのケトン類、酢酸エチル、乳酸エ
チル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
トなどのエステル類、カプロン酸、２―エチルヘキサン
酸、オレイン酸などのカルボン酸などが挙げられる。

【０１７５】また、上記の現像液組成には、公知の界面
活性剤を添加することも自由に行われる。さらにアルカ
リ剤、例えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコ
ールアミン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウ
ムなどを添加することもできる。

【０１７６】これらの中で、好ましくは水あるいは水に
界面活性剤を添加したもの、さらにはアルカリを添加し
た水である。

【０１７７】また、これらの現像液にはクリスタルバイ
オレット、ビクトリピュアブルー、アストラゾンレッド
などの公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して現像と同時に画像部の染色化を行うことができる。

【０１７８】現像する際には、これらの現像液を、不織
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて、版面を拭き
取ることによって、現像することができる。

【０１７９】また、現像は、特開昭６３―１６３３５７
号公報に記載されているような自動現像機を用い、上記
の現像液で版面を前処理した後に水道水などでシャワー
しながら回転ブラシで版面を擦ることによって行うこと
も好ましい。

【０１８０】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。

【０１８１】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明する。

【０１８２】

【実施例】実施例１ 厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、３ｇ／
ｍ²の層を設けた。

【０１８３】（ａ）エポキシ・フェノール樹脂“カンコ
ート”９０Ｔ−２５−３０９４（関西ペイント（株）
製）：１５重量部 （ｂ）ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学工業
（株）製） ： ０．１重量部 （ｃ）ジメチルホルムアミド ： ８５重量部 次いで、この層上に次の組成を有する感熱層組成物を塗
布し、８０℃で１分間乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ²の感熱層
を設けた。

【０１８４】（ａ）ペンタオキシプロピレンジアミン／
グリシジルメタクリレート／メチルグリシジルエーテル
＝１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 ： ３０重量部 （ｂ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／メチルグリシジルエーテル＝１／２／２ｍｏｌ比
付加反応物 ： ３０重量部 （ｃ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 ：２重量部 （ｄ）“ビームセット”５０２（荒川化学工業（株）製
ポリウレタンアクリレート 分子量４２００） ２０
重量部 （ｅ）ＰＡ−１００５（赤外線吸収染料 三井東圧化学
（株）製）： ６重量部 （ｆ）ベンゾイルパーオキサイド ： ５重量部 （ｇ）“パーヘキサ”３Ｍ（有機過酸化物 日本油脂
（株）製） ： ５重量部 （ｈ）“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”６５１（Ｃｉｂａ Ｇｅｉ
ｇｙ（株）製 ベンジルジメチルケタール） ： ２重
量部 （ｉ）“ミヒラー氏ケトン”（保土谷化学（株）製
４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン） ： ５重
量部 （ｊ）ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学工業
（株）製）：０．５重量部 （ｋ）マレイン酸 ： ０．５重量部 （ｌ）プロピレングリコールモノメチルエーテル ：
６００重量部 （ｍ）テトラヒドロフラン ： ２００重量部 次いで、“アイドルフィン”２０００（岩崎電気（株）
製 メタルハライドランプ）を用いて、空気中で感熱層
全面に１１ｍＷ／ｃｍ²で６０秒間紫外線を照射した。

【０１８５】さらに、この感熱層の上に下記の組成を有
するシリコ−ンゴム組成物をバーコーターで塗布した
後、１１５℃で１分間湿熱硬化させて２．０μｍのシリ
コ−ンゴム層を設けた。

【０１８６】（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約
３５，０００、末端水酸基） ： １００重量部 （ｂ）エチルトリアセトキシシラン ： １４重量部 （ｃ）ジブチル錫ジアセテ−ト ： ０．１重量部 （ｄ）“アイソパ−Ｇ”（エクソン化学（株）製） ：
１２００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。

【０１８７】その後、この印刷版原版をＸ―Ｙテーブル
に装着した半導体レーザー（ＳＬＤ―３０４ＸＴ、出力
１Ｗ、波長８０９ｎｍ、ソニー（株）製）を用いて、ビ
ーム直径２０μｍ、露光時間１０μｓでパルス露光を行
った。この時、レーザー出力はＬＤパルス変調駆動装置
で任意に変化させた。

【０１８８】続いて、下記の組成を有する現像液を含浸
させた木綿パッドで擦り、現像を行ったところ、レーザ
ー照射部のシリコーンゴム層のみが選択的に残存した印
刷版が得られた。

【０１８９】（ａ）水 ： ７０重量部 （ｂ）ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシル
エーテル ： ３０重量部 得られた刷版を印刷機ＨＡＭＡＤＡ ＲＳ４６Ｌ（ハマ
ダ印刷機械（株）製）に取り付け、水なし平版用インキ
（ドライオカラーＮＳＩ 藍 大日本インキ化学工業
（株）製）を使用して上質紙に印刷を行い、非画線部の
シリコーンゴム層がピンホール状に剥離して紙面に汚れ
が発生するまでの印刷枚数を耐刷性の指標とした。

【０１９０】この時、印刷物において画像を再現できた
レーザー出力の最小の値（ｍＪ／ｃｍ²）を版材の製版
感度とした。

【０１９１】また、感熱層の初期弾性率は２１ｋｇｆ／
ｍｍ²であった。

【０１９２】比較例１ 実施例１において紫外線の作用でラジカルを発生する化
合物である（ｈ）“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”６５１と（ｉ）
“ミヒラー氏ケトン”を抜き、さらに感熱層全面への紫
外線照射を行わなかった以外は実施例１と全く同様に印
刷版原版を作製した。レーザー照射後、実施例１と同様
に現像を試みたところ、わずかに画像を再現する傾向は
認められるが、レーザー光照射部のシリコーンゴム層と
感熱層との接着力が充分でなく、現像途中においてシリ
コーンゴム層が脱落し、刷版を得ることが出来なかっ
た。

【０１９３】比較例２ 実施例１において紫外線の作用でラジカルを発生する化
合物である（ｈ）“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”６５１と（ｉ）
“ミヒラー氏ケトン”を抜いた以外は実施例１と全く同
様に印刷版原版を作製した。レーザー照射後、実施例１
と同様に現像を試みたところ、比較例１と同様に、わず
かに画像を再現する傾向は認められるものの、レーザー
光照射部のシリコーンゴム層と感熱層との接着力が充分
でなく、現像途中においてシリコーンゴム層が脱落し、
刷版を得ることが出来なかった。

【０１９４】実施例２ 実施例１で得られた第１層の上に、実施例１と同じ感熱
層を塗布乾燥し、さらに、実施例１と同じシリコーンゴ
ム層を塗布乾燥した。その後に、“アイドルフィン”２
０００（岩崎電気（株）製 メタルハライドランプ）を
用いて、空気中で感熱層とシリコーンゴム層全面に１１
ｍＷ／ｃｍ²で６０秒間紫外線を照射した。

【０１９５】さらに、実施例１と同様に、フィルムをラ
ミネートし、直描型印刷版原版を得た。得られた直描型
印刷版原版は実施例１と同様に、製版、評価した。

【０１９６】実施例３ 実施例１で得られた第１層の上に、下記の組成の感熱層
を乾燥膜厚２．５μｍになるように塗布し、８０℃で１
分間乾燥した。

【０１９７】感熱層組成 （ａ）“サンプレン”Ｔ−１３３１（ポリウレタン樹脂
三洋化成工業（株）製ガラス転移温度Ｔｇ：−３７
℃） ： ３０重量部 （ｂ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメ
タクリレート／メチルグリシジルエーテル＝１／３／１
ｍｏｌ比付加反応物 ： １５重量部 （ｃ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／メチルグリシジルエーテル＝１／２／２ｍｏｌ比
付加反応物 ： １５重量部 （ｄ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 ： ３重量部 （ｅ）“ネオマー”ＤＡ−６００（三洋化成工業（株）
製 ジペンタエリスルトールヘキサアクリレート） ５
重量部 （ｆ）“スピリットニグロシン”ＳＰ（DYE SPECIALITI
ES INC.製 赤外線吸収剤）： ５重量部 （ｇ）アゾイソブチロニトリル ： ５重量部 （ｈ）“パーヘキサ”３Ｍ（有機過酸化物 日本油脂
（株）製） ： ５重量部 （ｉ）“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”６５１（Ｃｉｂａ Ｇｅｉ
ｇｙ（株）製 ベンジルジメチルケタール） ： ２重
量部 （ｊ）“ミヒラー氏ケトン”（保土谷化学（株）製
４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン） ： ５重
量部 （ｋ）マレイン酸 ： ０．５重量部 （ｌ）プロピレングリコールモノメチルエーテル ：
６００重量部 （ｍ）テトラヒドロフラン ： ２００重量部 （ｎ）ジメチルホルムアミド ： ５０重量部 次いで、実施例１と同様に感熱層全面に紫外線を照射し
た後、下記の組成を有するシリコーンゴム層を乾燥膜厚
２．０μｍになるように塗布した。シリコーンゴム層の
乾燥条件は１２０℃、１分間とした。

【０１９８】シリコーンゴム層組成 （ａ）α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合
度７７０） ： １００重量部 （ｂ）ＨＭＳ−５０１（チッソ（株）製 両末端メチル
（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキ
サン）共重合体 ＳｉＨ基数／分子量＝０．６９mol/
g） ： ４重量部 （ｃ）オレフィン配位白金 ： ０．０２重量部 （ｄ）“ＢＹ２４−８０８”（ダウコーニングシリコー
ン（株）製 反応抑制剤） ： ０．３重量部 （ｅ）“アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製） ：
１０００重量部 さらに、実施例１と同様に、カバーフィルムをラミネー
トし、得られた印刷版原版についても実施例１と同様に
現像評価した。

【０１９９】また、感熱層の初期弾性率は１５ｋｇｆ／
ｍｍ²であった。

【０２００】比較例３ 実施例３の感熱層組成において、光熱変換物質である
（ｆ）“スピリットニグロシン”ＳＰを抜く以外は実施
例３と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製
し、実施例３と同様に評価を行ったところ、レーザー光
が照射されていない部分はもちろんの事、照射された部
分のシリコーンゴム層も現像により脱離し、版としても
画像を再現することが出来なかった。

【０２０１】実施例４ 実施例３における感熱層全面への紫外線照射を、真空中
で３秒間とした以外は実施例３と全く同様にして印刷版
原版を作製し、評価した。

【０２０２】比較例４ 実施例３の感熱層組成において、熱の作用でラジカルを
発生する化合物である（ｇ）アゾイソブチロニトリルと
（ｈ）パーヘキサ３Ｍを抜く以外は実施例３と全く同様
にして直描型水なし平版印刷版原版を作製し、実施例３
と同様に評価を行ったところ、レーザー光が照射されて
いない部分はもちろんの事、照射された部分のシリコー
ンゴム層も現像により脱離し、版としても画像を再現す
ることが出来なかった。

【０２０３】実施例５ 厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
“ルミラー”（東レ（株）製）の上に、下記の感熱層を
乾燥膜厚１．５μｍになるように塗布し、９０℃で１分
乾燥した。

【０２０４】感熱層組成 （ａ）ヘキサメチレンジイソシアネート／エチレングリ
コール／アリルアルコールをモル比３／２／２で反応さ
せて得られたアリルウレタン ： ３０重量部 （ｂ）デナコールアクリレートＤＡ−３１４（エポキシ
アクリレート 長瀬化成（株）製） ： １０重量部 （ｃ）“ＫＡＹＡＭＥＲ”ＰＭ−２（含リンモノマー
日本化薬（株）製） ：３重量部 （ｄ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸
収染料 日本化薬（株）製）： ６重量部 （ｅ）ベンゾイルパーオキサイド ： ２重量部 （ｆ）“パーブチル”Ｄ（有機過酸化物 日本油脂
（株）製） ： ４重量部 （ｇ）“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”６５１（Ｃｉｂａ Ｇｅｉ
ｇｙ（株）製 ベンジルジメチルケタール） ： ２重
量部 （ｈ）“ミヒラー氏ケトン”（保土谷化学（株）製
４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン） ： ５重
量部 （ｉ）メチルエチルケトン ： １００重量部 （ｊ）１，４−ジオキサン ： ４００重量部 次いで、下記組成のシリコーンゴム層を乾燥膜厚２．０
μｍになるように塗布し、１００℃で１分間乾燥し、さ
らに実施例１と同様に、空気中で感熱層とシリコーンゴ
ム層全面に１１ｍＷ／ｃｍ²で６０秒間紫外線を照射し
た。

【０２０５】さらに、市販のポリ塩化ビニリデン加工フ
ィルムとして旭化成工業（株）製の“サランラップ”を
ラミネートし、直描型印刷版原版を得た。

【０２０６】（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約
２５，０００、末端水酸基） ： １００重量部 （ｂ）エチルトリアセトキシシラン ： １２重量部 （ｃ）ジブチル錫ジアセテート ： ０．１重量部 （ｄ）３−アミノプロピルトリエトキシシラン ：
０．２重量部 （ｅ）“アイソパ−Ｇ”（エクソン化学（株）製） ：
１２００重量部 得られた直描型平版印刷版原版を、ワードプロセッサ
（東芝（株）製 “Ｒｕｐｏ”）を用いてサーマルヘッ
ドで印字した。

【０２０７】カバーフィルムを剥離した後、実施例１と
同様に現像処理したところ、印字部のシリコーンゴム層
のみが残存した印刷版が得られた。

【０２０８】比較例５ 実施例１において、感熱層組成物中から熱の作用でラジ
カルを発生する化合物である（ｅ）ベンゾイルパーオキ
サイドと（ｆ）“パーブチル”Ｄを抜いた以外は実施例
１と全く同様に印刷版原版を作製した。印字後、実施例
５と同様に現像を試みたところ、わずかに画像を再現す
る傾向は認められるが、印字部のシリコーンゴム層と感
熱層との接着力が充分でなく、現像途中においてシリコ
ーンゴム層が脱落し、刷版を得ることが出来なかった。

【０２０９】実施例６ 実施例５で得られた印刷版原版を、Ｘ−Ｙテーブルに装
着した半導体レーザー（ＳＬＤ―３０４ＸＴ、出力１
Ｗ、波長８０９ｎｍ、ソニー（株）製）に取り付け、実
施例１と同様にレーザー照射を行った。

【０２１０】カバーフィルムを剥離した後、水／ジエチ
レングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル：９
０／１０（重量部／重量部）の混合溶液に１分間浸漬
し、さらに精製水を浸した現像パッド（３Ｍ（株）製）
を用いて版面を摩擦したところ、レーザー光照射部のシ
リコーンゴム層のみが選択的に残存し、未照射部のシリ
コーンゴム層が脱離した印刷版が得られた。

【０２１１】実施例７ 厚さ０．１５ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、４ｇ／
ｍ²の断熱層を設けた。

【０２１２】（ａ）ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”
Ｐ２２Ｓ（日本ミラクトラン（株）製） ： １００重
量部 （ｂ）ブロックドイソシアネート“タケネートＢ８３
０”（武田薬品工業（株）製） ： ２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノール・尿素樹脂“ＳＪ９３７
２”（関西ペイント（株）製） ： ８重量部 （ｄ）ジブチル錫ジアセテート ： ０．５重量部 （ｅ）ジメチルホルムアミド ： ７２０重量部 次いで、この断熱層上に下記の組成を有する感熱層組成
物を塗布し、９０℃で１分間乾燥し、膜厚３ｇ／ｍ²の
感熱層を設けた。

【０２１３】感熱層組成 （ａ）“ゴーセノール”ＫＬ−０５（ポリビニルアルコ
ール 日本合成化学工業（株）製） ： ８重量部 （ｂ）“エポキシエステル”３００２Ａ（エポキシアク
リレート 共栄社化学（株）製） ： ２５重量部 （ｃ）“ニューフロンテイア”ＰＥＭ−１０００（ＰＥ
Ｇ＃１０００ジメタクリレート 分子量１１６６ 第一
工業製薬（株）製） ： １０重量部 （ｄ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／メチルグリシジルエーテル＝１／２／２ｍｏｌ比
付加反応物 ： １０重量部 （ｅ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸
収染料 日本化薬（株）製）： ６重量部 （ｆ）ベンゾイルパーオキサイド ： ４重量部 （ｇ）“パークミル”Ｄ（有機過酸化物 日本油脂
（株）製） ： ４重量部 （ｈ）ジエチルチオキサントン ： ３重量部 （ｉ）“ミヒラー氏ケトン”（保土谷化学（株）製
４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン） ： ５重
量部 （ｊ）エタノール ： ３００重量部 （ｋ）エチルセロソルブ ： ２００重量部 （ｌ）ジメチルホルムアミド ： ５０重量部 乾燥後、実施例１と同様に、空気中で感熱層全面に１１
ｍＷ／ｃｍ²で９０秒間紫外線を照射した。さらに、実
施例５と同じシリコーンゴム層を同様に塗布乾燥し、実
施例１と同じカバーフィルムをラミネートして、直描型
印刷版原版を得た。

【０２１４】得られた印刷版原版を実施例１と同様にレ
ーザー照射した後、４５℃の温水中に２分間浸漬し、さ
らに水を含ませた現像パッド（３Ｍ（株）製）で擦るこ
とにより現像を行った。

【０２１５】実施例８ 実施例７で得られた断熱層の上に下記の組成を有する感
熱層組成物を塗布し、８０℃で１分間乾燥し、膜厚２．
０ｇ／ｍ²の感熱層を設けた。

【０２１６】感熱層組成 （ａ）アジピン酸とヘキサン−１，６−ジオ−ル、２，
２−ジメチルプロパン−１，３−ジオ−ルとのポリエス
テルポリオ−ルとイソホロンジイソシアネ−トとの反応
によって得られたポリウレタン（ガラス転移温度Ｔｇ：
−４０℃） ：３０重量部 （ｂ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメ
タクリレート／メチルグリシジルエーテル＝１／３／１
ｍｏｌ比付加反応物 ： １５重量部 （ｃ）“Ａｃｔｉｌａｎｅ”１４０（芳香族ウレタンア
クリレート 分子量約５０００ 日本シイベルヘグナー
（株）製） ： ５重量部 （ｄ）“ネオマー”ＤＡ−６００（三洋化成工業（株）
製 ジペンタエリスルトールヘキサアクリレート） ：
５重量部 （ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 ： ５重量部 （ｆ）“スピリットニグロシン”ＳＰ（DYE SPECIALITI
ES INC.製 赤外線吸収剤）： ５重量部 （ｇ）アゾイソブチロニトリル ： ５重量部 （ｈ）“パーメンタ”Ｈ（有機過酸化物 日本油脂
（株）製） ： ５重量部 （ｉ）“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”６５１（Ｃｉｂａ Ｇｅｉ
ｇｙ（株）製 ベンジルジメチルケタール） ： ２重
量部 （ｊ）“ミヒラー氏ケトン”（保土谷化学（株）製
４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン） ： ５重
量部 （ｋ）トリブロモメチルフェニルスルホン ： ４重量
部 （ｌ）ビクトリアピュアブルーＢＯＨナフタレンスルフ
ォン酸塩 ： ０．５重量部 （ｍ）マレイン酸 ： ０．５重量部 （ｎ）プロピレングリコールモノメチルエーテル ：
８００重量部 感熱層全面に実施例７と同様に全面露光を行った後、実
施例７と同じシリコーンゴム層を塗布乾燥し、さらに実
施例７と同じカバーフィルムをラミネートし、直描型印
刷版原版を得た。

【０２１７】また、感熱層の初期弾性率は１１ｋｇｆ／
ｍｍ²であった。

【０２１８】得られた印刷版原版は実施例１と同様にレ
ーザー照射した後、実施例１と同様に現像、評価した。

【０２１９】実施例９ 実施例８における感熱層全面への紫外線露光秒数を３０
秒とした以外は実施例８と全く同様にして版を作製
し、、同様に評価した。

【０２２０】実施例１０ 実施例８における１分子中にエチレン性不飽和基を２個
以上有する化合物群（（ｂ）〜（ｅ））を下記に変更し
た以外は実施例８と全く同様にして版を作製し、同様に
評価した。

【０２２１】１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上
有する化合物 （ｂ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメ
タクリレート／メチルグリシジルエーテル＝１／３／１
ｍｏｌ比付加反応物 ： １５重量部 （ｃ）“Ａｃｔｉｌａｎｅ”１２０ＴＰ２５（芳香族ウ
レタンアクリレート 分子量約１６００ 日本シイベル
ヘグナー（株）製） ： ６重量部 （ｄ）“ネオマー”ＤＡ−６００（三洋化成工業（株）
製 ジペンタエリスルトールヘキサアクリレート） ：
４重量部 （ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 ： ５重量部 実施例１１ 実施例８の断熱層上に、実施例８における１分子中にエ
チレン性不飽和基を２個以上有する化合物群（（ｂ）〜
（ｅ））を下記に変更した以外は同様に感熱層を塗布
し、乾燥膜厚２．０ｇ／ｍ²の感熱層を得た。

【０２２２】１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上
有する化合物 （ｂ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメ
タクリレート／メチルグリシジルエーテル＝１／３／１
ｍｏｌ比付加反応物 ： １５重量部 （ｃ）“Ａｃｔｉｌａｎｅ”１２０ＴＰ２５（芳香族ウ
レタンアクリレート 分子量約１６００ 日本シイベル
ヘグナー（株）製） ： ６重量部 （ｄ）“ＭＡＴＲＩＭＩＤ”５２９２Ｂ（ビスフェノー
ルＡ型フェノール性水酸基含有ジビニル化合物 旭チバ
（株）製） ： １０重量部 （ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 ： ５重量部 さらに、この感熱層の上に下記の組成を有するシリコ−
ンゴム組成物をバーコーターで塗布した後、１１５℃で
１分間湿熱硬化させて２．０μｍのシリコ−ンゴム層を
設けた。

【０２２３】（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約
３５，０００、末端水酸基） ： １００重量部 （ｂ）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン ： ９重量部 （ｃ）ジブチル錫ジアセテ−ト ： ０．１重量部 （ｄ）“アイソパ−Ｇ”（エクソン化学（株）製） ：
１２００重量部 上記のようにして得られた積層板に、実施例８と同様に
カバーフィルムをラミネートし、直描型水なし平版印刷
版原版を得、実施例８と全く同様に評価した。

【０２２４】実施例１〜１１及び比較例１〜５の評価結
果を表１に示す。

【０２２５】

【表１】

【０２２６】

【発明の効果】本発明は感熱層中に光熱変換物質と１分
子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物、熱
の作用でラジカルを発生する化合物、紫外線の作用でラ
ジカルを発生する化合物を含有することで、感度や耐刷
性に優れたポジ型の直描型水なし平版印刷版原版を提供
することが出来る。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に、少なくとも感熱層およびシリコ
   ーンゴム層をこの順に積層してなる直描型水なし平版印
   刷版原版において、該感熱層が少なくとも （１）光熱変換物質 （２）１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する
   化合物 （３）熱の作用でラジカルを発生する化合物 （４）紫外線の作用でラジカルを発生する化合物 を含むことを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
2. 【請求項２】感熱層が架橋構造を有することを特徴とす
   る請求項１に記載の直描型水なし平版印刷版原版。
3. 【請求項３】１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上
   有する化合物が、水酸基を有することを特徴とする請求
   項１〜２のいずれか記載の直描型水なし平版印刷版原
   版。
4. 【請求項４】基板上に、少なくとも下記化合物を含有す
   る感熱層、およびシリコーンゴム層を、この順に少なく
   とも有する直描型水なし平版印刷版原版の製造方法にお
   いて、該感熱層を塗布乾燥後、紫外線を照射した後、シ
   リコーンゴム層を塗布する事を特徴とする直描型水なし
   平版印刷版原版の製造方法。 （１）光熱変換物質 （２）１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する
   化合物 （３）熱の作用でラジカルを発生する化合物 （４）紫外線の作用でラジカルを発生する化合物
5. 【請求項５】基板上に、少なくとも下記化合物を含有す
   る感熱層、およびシリコーンゴム層を、この順に少なく
   とも有する直描型水なし平版印刷版原版の製造方法にお
   いて、該感熱層および該シリコーンゴム層を塗布乾燥
   後、紫外線を照射する事を特徴とする直描型水なし平版
   印刷版原版の製造方法。 （１）光熱変換物質 （２）１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する
   化合物 （３）熱の作用でラジカルを発生する化合物 （４）紫外線の作用でラジカルを発生する化合物
6. 【請求項６】１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上
   有する化合物が、水酸基を有することを特徴とする請求
   項４〜５のいずれかに記載の直描型水なし平版印刷版原
   版の製造方法。