JPH11236370A - ６−（アリールカルボニル）−４−オキシモ−ジヒドロベンゾチオピラン除草剤およびそれらに有用な中間体の製造方法 - Google Patents
６−（アリールカルボニル）−４−オキシモ−ジヒドロベンゾチオピラン除草剤およびそれらに有用な中間体の製造方法Info
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- JPH11236370A JPH11236370A JP10297584A JP29758498A JPH11236370A JP H11236370 A JPH11236370 A JP H11236370A JP 10297584 A JP10297584 A JP 10297584A JP 29758498 A JP29758498 A JP 29758498A JP H11236370 A JPH11236370 A JP H11236370A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ６−（アリールカルボニル）−４−オキシイ
ミノ−ジヒドロベンゾチオピラン除草剤の製造における
中間体として有用な化合物を提供する。 【解決手段】 式Ｉ 具体的には、例えば
ミノ−ジヒドロベンゾチオピラン除草剤の製造における
中間体として有用な化合物を提供する。 【解決手段】 式Ｉ 具体的には、例えば
Description
【０００１】
【発明の背景】ジヒドロベンゾチオピラン化合物（チオ
クロマン（ｔｈｉｏｃｈｒｏｍａｎ））および４−オキ
ソ−ジヒドロベンゾチオピラン化合物（チオクロマノン
（ｔｈｉｏｃｈｒｏｍａｎｏｎｅ））、ならびにそれら
の４−オキシムおよび４−アルコキシム誘導体は、６−
（アリールカルボニル）チオクロマン除草剤の製造にお
ける有用な中間体である。該除草剤およびそれらの製造
方法は、米国特許第4,919,705号；同第5,468,722号およ
びＷＯ 95/13275に開示されている。６−（アリールカ
ルボニル）チオクロマンおよびそれらの誘導体は、低い
適用度において効果的な除草剤であり、そして重要な経
済作物、例えばトウモロコシおよびコメの存在下で、有
害な雑草の選択的防除を発揮する。
クロマン（ｔｈｉｏｃｈｒｏｍａｎ））および４−オキ
ソ−ジヒドロベンゾチオピラン化合物（チオクロマノン
（ｔｈｉｏｃｈｒｏｍａｎｏｎｅ））、ならびにそれら
の４−オキシムおよび４−アルコキシム誘導体は、６−
（アリールカルボニル）チオクロマン除草剤の製造にお
ける有用な中間体である。該除草剤およびそれらの製造
方法は、米国特許第4,919,705号；同第5,468,722号およ
びＷＯ 95/13275に開示されている。６−（アリールカ
ルボニル）チオクロマンおよびそれらの誘導体は、低い
適用度において効果的な除草剤であり、そして重要な経
済作物、例えばトウモロコシおよびコメの存在下で、有
害な雑草の選択的防除を発揮する。
【０００２】これまで、上記チオクロマンおよびチオク
ロマノン中間体を製造する方法は、市販のものを入手で
きず、製造が困難である適当に置換されたチオフェノー
ル出発材料を必要とした。特に、除草性６−アリールカ
ルボニルチオクロマン剤の製造に欠かせない中間体とし
て、チオクロマンおよびチオクロマノン誘導体は重要性
であるため、それらを製造するための別のそして有効な
方法に関するニーズが生じている。
ロマノン中間体を製造する方法は、市販のものを入手で
きず、製造が困難である適当に置換されたチオフェノー
ル出発材料を必要とした。特に、除草性６−アリールカ
ルボニルチオクロマン剤の製造に欠かせない中間体とし
て、チオクロマンおよびチオクロマノン誘導体は重要性
であるため、それらを製造するための別のそして有効な
方法に関するニーズが生じている。
【０００３】
【発明の構成】本発明は、式Ｉ
【０００４】
【化２９】
【０００５】［式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立して、
Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；Ｗ1は、−ＳＣＲ4Ｒ5ＣＲ6Ｒ
7ＣＯＯＨであり；Ｗ2は、Ｈであるか、またはＷ1とＷ2
は、それらが結合されている炭素と一緒になって、Ｗ1
とＷ2が、
Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；Ｗ1は、−ＳＣＲ4Ｒ5ＣＲ6Ｒ
7ＣＯＯＨであり；Ｗ2は、Ｈであるか、またはＷ1とＷ2
は、それらが結合されている炭素と一緒になって、Ｗ1
とＷ2が、
【０００６】
【化３０】
【０００７】を表す環を形成してもよく；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ
5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ
4アルキルであり；Ｚは、ＯもしくはＮＯＲ8であり；そ
してＲ8は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハ
ロアルキルである］の化合物、またはＺがＮＯＲ8であ
る場合は、その立体異性体を提供する。
5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ
4アルキルであり；Ｚは、ＯもしくはＮＯＲ8であり；そ
してＲ8は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハ
ロアルキルである］の化合物、またはＺがＮＯＲ8であ
る場合は、その立体異性体を提供する。
【０００８】また、Ｈａｇｅｍａｎｎエステルとβ−メ
ルカプトプロピオン酸の縮合を経るチオエノール式Ｉａ
の化合物の製造方法、ならびに式Ｉａのチオエノールの
脱水環化によるテトラヒドロベンゾチオピラン式Ｉｂの
化合物の製造方法が提供される。
ルカプトプロピオン酸の縮合を経るチオエノール式Ｉａ
の化合物の製造方法、ならびに式Ｉａのチオエノールの
脱水環化によるテトラヒドロベンゾチオピラン式Ｉｂの
化合物の製造方法が提供される。
【０００９】
【化３１】
【００１０】さらにまた、除草性６−（ピラゾル−４−
イル）カルボニル−ジヒドロベンゾチオピラン、４−オ
キシムおよび４−アルコキシム化合物の製造ならびにそ
のためのジヒドロベンゾチオピラン中間体の製造におけ
る、中間体としての本発明の式Ｉ化合物の使用が提供さ
れる。
イル）カルボニル−ジヒドロベンゾチオピラン、４−オ
キシムおよび４−アルコキシム化合物の製造ならびにそ
のためのジヒドロベンゾチオピラン中間体の製造におけ
る、中間体としての本発明の式Ｉ化合物の使用が提供さ
れる。
【００１１】なおまた、ＺがＯである式Ｉｂの化合物の
精製および単離方法も提供される。
精製および単離方法も提供される。
【００１２】
【課題を解決するための手段】式Ｉの好適な化合物は、
Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7がＨである場合の化合物
である。また、Ｒ1がメチルもしくはエチルである式Ｉ
の化合物も好適である。さらにまた、ＺがＮＯＲ8であ
り、そしてＲ8がＨもしくはメチルである式Ｉｂの化合
物も好適である。
Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7がＨである場合の化合物
である。また、Ｒ1がメチルもしくはエチルである式Ｉ
の化合物も好適である。さらにまた、ＺがＮＯＲ8であ
り、そしてＲ8がＨもしくはメチルである式Ｉｂの化合
物も好適である。
【００１３】本明細書および特許請求の範囲に使用され
ている用語ハロアルキルは、アルキル基ＣmＨ2m+1を表
していて、同じか異なるハロゲン原子１〜２ｍ＋１個に
よって置換されていてもよい。用語ハロゲンは、Ｃｌ，
Ｂｒ，ＩおよびＦを表す。
ている用語ハロアルキルは、アルキル基ＣmＨ2m+1を表
していて、同じか異なるハロゲン原子１〜２ｍ＋１個に
よって置換されていてもよい。用語ハロゲンは、Ｃｌ，
Ｂｒ，ＩおよびＦを表す。
【００１４】ＺがＮＯＲ8である式Ｉｂの本発明の化合
物（Ｉｂ２）は、以下に示すＥおよびＺ立体異性体を包
含する。
物（Ｉｂ２）は、以下に示すＥおよびＺ立体異性体を包
含する。
【００１５】
【化３２】
【００１６】式Ｉａの代表的本発明の化合物は、４−β
−カルボキシエチルチオ−２−メチル−１，３−シクロ
ヘキサジエン−１−カルボン酸エチル；４−β−カルボ
キシエチルチオ−２−メチル−１，３−シクロヘキサジ
エン−１−カルボン酸メチル；４−β−カルボキシエチ
ルチオ−２−エチル−１，３−シクロヘキサジエン−１
−カルボン酸エチル；４−β−カルボキシエチルチオ−
２−エチル−１，３−シクロヘキサジエン−１−カルボ
ン酸メチル；およびそれに類するものを包含する。
−カルボキシエチルチオ−２−メチル−１，３−シクロ
ヘキサジエン−１−カルボン酸エチル；４−β−カルボ
キシエチルチオ−２−メチル−１，３−シクロヘキサジ
エン−１−カルボン酸メチル；４−β−カルボキシエチ
ルチオ−２−エチル−１，３−シクロヘキサジエン−１
−カルボン酸エチル；４−β−カルボキシエチルチオ−
２−エチル−１，３−シクロヘキサジエン−１−カルボ
ン酸メチル；およびそれに類するものを包含する。
【００１７】式Ｉｂの代表的本発明の化合物は、５−メ
チル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒドロ−４
Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチル；５
−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒドロ
−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ル，４−オキシム；５−メチル−４−オキソ−２，３，
７，８−テトラヒドロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−
６−カルボン酸エチル，４−（Ｏ−メチルオキシム）；
５−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸メチ
ル；５−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラ
ヒドロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸
メチル，４−オキシム；５−メチル−４−オキソ−２，
３，７，８−テトラヒドロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラ
ン−６−カルボン酸メチル，４−Ｏ−メチルオキシム；
およびそれに類するものを包含する。
チル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒドロ−４
Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチル；５
−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒドロ
−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ル，４−オキシム；５−メチル−４−オキソ−２，３，
７，８−テトラヒドロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−
６−カルボン酸エチル，４−（Ｏ−メチルオキシム）；
５−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸メチ
ル；５−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラ
ヒドロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸
メチル，４−オキシム；５−メチル−４−オキソ−２，
３，７，８−テトラヒドロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラ
ン−６−カルボン酸メチル，４−Ｏ−メチルオキシム；
およびそれに類するものを包含する。
【００１８】従来、チオクロマン（テトラヒドロベンゾ
チオピラン）およびチオクロマノン（４−オキソ−テト
ラヒドロベンゾチオピラン）誘導体は、適当なチオフェ
ノール基質と、α，β−不飽和カルボン酸、または３−
ハロプロピオン酸塩との反応、そして続いての脱水環化
によって製造されてきた。しかしながら、必要とされる
チオフェノール出発材料は、市販のものを入手できず、
そして製造するためには４段までの合成段階を必要とす
る。
チオピラン）およびチオクロマノン（４−オキソ−テト
ラヒドロベンゾチオピラン）誘導体は、適当なチオフェ
ノール基質と、α，β−不飽和カルボン酸、または３−
ハロプロピオン酸塩との反応、そして続いての脱水環化
によって製造されてきた。しかしながら、必要とされる
チオフェノール出発材料は、市販のものを入手できず、
そして製造するためには４段までの合成段階を必要とす
る。
【００１９】チオクロマノン誘導体が、容易に入手でき
る式ＩＶのＨａｇｅｍａｎｎエステルから製造できるこ
とが、今回、見い出された。式ＩＶエステルは、購入す
ることもできるし、さもなくば、アセト酢酸アルキルお
よびホルムアルデヒドという容易に入手できる簡単な出
発材料から製造することもできる。
る式ＩＶのＨａｇｅｍａｎｎエステルから製造できるこ
とが、今回、見い出された。式ＩＶエステルは、購入す
ることもできるし、さもなくば、アセト酢酸アルキルお
よびホルムアルデヒドという容易に入手できる簡単な出
発材料から製造することもできる。
【００２０】驚くべきことに、式ＩＶエステルは、式Ｖ
のβ−メルカプトプロピオン酸と縮合されて、本発明の
チオエノール式Ｉａ化合物を生成する。その反応は、流
れ図Ｉに示されるが、この場合、Ｒ1およびＲ2は、各々
独立してＣ1−Ｃ4アルキルであり、そしてＲ3，Ｒ4，Ｒ
5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ
4アルキルである。
のβ−メルカプトプロピオン酸と縮合されて、本発明の
チオエノール式Ｉａ化合物を生成する。その反応は、流
れ図Ｉに示されるが、この場合、Ｒ1およびＲ2は、各々
独立してＣ1−Ｃ4アルキルであり、そしてＲ3，Ｒ4，Ｒ
5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ
4アルキルである。
【００２１】
【化３３】
【００２２】縮合は、溶媒、酸触媒の存在下および水の
共沸除去の下で実施される。適切な溶媒は、水と共沸混
合物を形成できるすべての不活性溶媒、例えばトルエ
ン、ベンゼン、ハロベンゼン、キシレンもしくはそれに
類するもの、好ましくはトルエンである。適切な酸触媒
は、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム、三フッ化ホ
ウ素、メタンスルホン酸ピリジニウムおよびそれに類す
るもの、好ましくはメタンスルホン酸ピリジニウムもし
くはｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウムを包含する。
いかなる適当な水分離器、例えばＤｅａｎ Ｓｔａｒｋ
トラップも、共沸水を除去するために使用できる。高い
反応温度は、反応速度を高め、そして反応の完結を促進
する。しかしながら、極端に高い温度は、有害であり、
必要ではない。好ましい反応温度は、室温から溶媒の還
流温度までの範囲、約２５〜２００℃、好ましくは約７
５〜１５０℃である。
共沸除去の下で実施される。適切な溶媒は、水と共沸混
合物を形成できるすべての不活性溶媒、例えばトルエ
ン、ベンゼン、ハロベンゼン、キシレンもしくはそれに
類するもの、好ましくはトルエンである。適切な酸触媒
は、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム、三フッ化ホ
ウ素、メタンスルホン酸ピリジニウムおよびそれに類す
るもの、好ましくはメタンスルホン酸ピリジニウムもし
くはｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウムを包含する。
いかなる適当な水分離器、例えばＤｅａｎ Ｓｔａｒｋ
トラップも、共沸水を除去するために使用できる。高い
反応温度は、反応速度を高め、そして反応の完結を促進
する。しかしながら、極端に高い温度は、有害であり、
必要ではない。好ましい反応温度は、室温から溶媒の還
流温度までの範囲、約２５〜２００℃、好ましくは約７
５〜１５０℃である。
【００２３】あるいはまた、流れ図Ｉにおいて具体的に
説明される縮合は、溶媒、酸触媒および脱水剤の存在下
で実施される。適切な脱水剤は、無水酢酸、オルトギ酸
トリエチル、ホウ酸トリメチルおよびそれに類するも
の、ならびにそれらの混合物である。使用に適切な溶媒
は、トルエン、ベンゼン、ハロベンゼン、キシレンおよ
びそれに類するもの、好ましくはトルエンを包含する。
縮合において有用な酸触媒は、硫酸、メタンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸
ピリジニウム、三フッ化ホウ素、メタンスルホン酸ピリ
ジニウムおよびそれに類するもの、好ましくはメタンス
ルホン酸ピリジニウムもしくはｐ−トルエンスルホン酸
ピリジニウムを包含する。
説明される縮合は、溶媒、酸触媒および脱水剤の存在下
で実施される。適切な脱水剤は、無水酢酸、オルトギ酸
トリエチル、ホウ酸トリメチルおよびそれに類するも
の、ならびにそれらの混合物である。使用に適切な溶媒
は、トルエン、ベンゼン、ハロベンゼン、キシレンおよ
びそれに類するもの、好ましくはトルエンを包含する。
縮合において有用な酸触媒は、硫酸、メタンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸
ピリジニウム、三フッ化ホウ素、メタンスルホン酸ピリ
ジニウムおよびそれに類するもの、好ましくはメタンス
ルホン酸ピリジニウムもしくはｐ−トルエンスルホン酸
ピリジニウムを包含する。
【００２４】本発明の式Ｉａチオエノール化合物は、流
れ図ＩＩに示されるような単純な１段の脱水環化段階を
経て式Ｉｂ１の４−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピ
ラン化合物に、容易に転化することができるが、この場
合、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7は、先に
記したとおりである。
れ図ＩＩに示されるような単純な１段の脱水環化段階を
経て式Ｉｂ１の４−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピ
ラン化合物に、容易に転化することができるが、この場
合、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7は、先に
記したとおりである。
【００２５】
【化３４】
【００２６】脱水環化は、溶媒および脱水剤の存在下、
そして場合によっては酸触媒の存在下で実施される。脱
水環化反応における使用に期待される溶媒は、水または
すべての利用される試薬に対して比較的非反応性である
すべての不活性溶媒である。適切な溶媒は、トルエン、
ベンゼン、ハロベンゼン、キシレンおよびそれに類する
もの、好ましくはトルエンである。流れ図ＩＩに示され
る脱水環化反応に特に適切な脱水剤は、無水酢酸、無水
トリフルオロ酢酸、塩化フタロイル、塩化トリフルオロ
アセチルおよびそれに類するものである。場合によって
は存在してもよい酸触媒は、硫酸、メタンスルホン酸、
ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリ
ジニウム、三フッ化ホウ素、メタンスルホン酸ピリジニ
ウムおよびそれに類するもの、好ましくはメタンスルホ
ン酸を包含する。反応速度は、温度上昇によって増大さ
れる。しかしながら、極端に高い温度は、有害であり、
避けねばならない。適切な反応温度は、０℃から溶媒の
沸点までの範囲である。
そして場合によっては酸触媒の存在下で実施される。脱
水環化反応における使用に期待される溶媒は、水または
すべての利用される試薬に対して比較的非反応性である
すべての不活性溶媒である。適切な溶媒は、トルエン、
ベンゼン、ハロベンゼン、キシレンおよびそれに類する
もの、好ましくはトルエンである。流れ図ＩＩに示され
る脱水環化反応に特に適切な脱水剤は、無水酢酸、無水
トリフルオロ酢酸、塩化フタロイル、塩化トリフルオロ
アセチルおよびそれに類するものである。場合によって
は存在してもよい酸触媒は、硫酸、メタンスルホン酸、
ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリ
ジニウム、三フッ化ホウ素、メタンスルホン酸ピリジニ
ウムおよびそれに類するもの、好ましくはメタンスルホ
ン酸を包含する。反応速度は、温度上昇によって増大さ
れる。しかしながら、極端に高い温度は、有害であり、
避けねばならない。適切な反応温度は、０℃から溶媒の
沸点までの範囲である。
【００２７】有利には、式Ｉａのチオエノール化合物を
脱水環化して式Ｉｂ１の４−オキソテトラヒドロベンゾ
チオピラン化合物を生成することは、通常の溶媒系と酸
触媒を利用して、単一反応容器中で式ＩＶＨａｇｅｍａ
ｎｎエステルから該式Ｉｂ１化合物を生成させることに
よって、イン・サイチューで実施できる。
脱水環化して式Ｉｂ１の４−オキソテトラヒドロベンゾ
チオピラン化合物を生成することは、通常の溶媒系と酸
触媒を利用して、単一反応容器中で式ＩＶＨａｇｅｍａ
ｎｎエステルから該式Ｉｂ１化合物を生成させることに
よって、イン・サイチューで実施できる。
【００２８】かくして得られた式Ｉｂ１の化合物は、し
ばしば、粘着なガム状固体であって、単離、精製が非常
に困難である。驚くべきことに、式Ｉｂ１の化合物が、
イソプロパノールとヘプタンの混合溶媒を用いて該化合
物を処理することによって、結晶化することができ、そ
の結果、単純な濾過による単離と最適な純度を容易に達
成できることが、今回、見い出された。好適な溶媒混合
液は、約１：１ｖ／ｖのイソプロパノール：ヘプタンの
混合液である。有利には、濾過工程から得られる母液
は、リサイクルし、式Ｉｂ１化合物をさらに単離、精製
するために、連続して使用することができる。
ばしば、粘着なガム状固体であって、単離、精製が非常
に困難である。驚くべきことに、式Ｉｂ１の化合物が、
イソプロパノールとヘプタンの混合溶媒を用いて該化合
物を処理することによって、結晶化することができ、そ
の結果、単純な濾過による単離と最適な純度を容易に達
成できることが、今回、見い出された。好適な溶媒混合
液は、約１：１ｖ／ｖのイソプロパノール：ヘプタンの
混合液である。有利には、濾過工程から得られる母液
は、リサイクルし、式Ｉｂ１化合物をさらに単離、精製
するために、連続して使用することができる。
【００２９】ＺがＮＯＲ8である式Ｉｂの本発明の化合
物（Ｉｂ２）は、極性溶媒と酸受容体の存在下、式Ｉｂ
１ケトンとオキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩
とを反応させるような慣用のオキシム化もしくはアルコ
キシム化によって製造することができる。その反応は、
流れ図ＩＩＩに示されるが、この場合、Ｒ8は、Ｈ、Ｃ1
−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハロアルキルであり、
そしてＲ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7は、先
に記されている。
物（Ｉｂ２）は、極性溶媒と酸受容体の存在下、式Ｉｂ
１ケトンとオキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩
とを反応させるような慣用のオキシム化もしくはアルコ
キシム化によって製造することができる。その反応は、
流れ図ＩＩＩに示されるが、この場合、Ｒ8は、Ｈ、Ｃ1
−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハロアルキルであり、
そしてＲ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7は、先
に記されている。
【００３０】
【化３５】
【００３１】オキシム化反応は、酸受容体、例えばピリ
ジン、酢酸ナトリウムもしくはそれに類するものの存在
下、極性溶媒、例えば脂肪族アルコール、酢酸もしくは
それに類するもの、またはそれらの組み合わせ物中で遂
行できる。反応温度は、反応速度に直接比例する。した
がって、高い反応温度は、反応速度を高める。しかしな
がら、極端に高い反応温度は、分解を生じさせ、望まし
くない副反応を起こす。適切な反応温度は、室温から溶
媒の還流温度まで、すなわち約２５℃ないし溶媒の沸点
までの範囲である。
ジン、酢酸ナトリウムもしくはそれに類するものの存在
下、極性溶媒、例えば脂肪族アルコール、酢酸もしくは
それに類するもの、またはそれらの組み合わせ物中で遂
行できる。反応温度は、反応速度に直接比例する。した
がって、高い反応温度は、反応速度を高める。しかしな
がら、極端に高い反応温度は、分解を生じさせ、望まし
くない副反応を起こす。適切な反応温度は、室温から溶
媒の還流温度まで、すなわち約２５℃ないし溶媒の沸点
までの範囲である。
【００３２】さらに、本発明は、６−（アリールカルボ
ニル）チオクロマノン除草剤の製造に際して、式ＩＩＩ
の重要なジヒドロベンゾチオピラン中間体を製造する工
程における式Ｉの化合物の使用を提供する。有利には、
本発明の方法は、容易に入手でき、そして簡単に得るこ
とができる式ＩＶのＨａｇｅｍａｎｎエステル化合物か
ら出発する、重要な式ＩＩＩジヒドロベンゾチオピラン
中間体への経路を提供する。
ニル）チオクロマノン除草剤の製造に際して、式ＩＩＩ
の重要なジヒドロベンゾチオピラン中間体を製造する工
程における式Ｉの化合物の使用を提供する。有利には、
本発明の方法は、容易に入手でき、そして簡単に得るこ
とができる式ＩＶのＨａｇｅｍａｎｎエステル化合物か
ら出発する、重要な式ＩＩＩジヒドロベンゾチオピラン
中間体への経路を提供する。
【００３３】本発明によれば、式ＩＩＩのジヒドロベン
ゾチオピラン中間体化合物は、式ＩＶエステルと式Ｖの
適当なβ−メルカプトプロピオン酸とを縮合させること
によって、式Ｉａのチオエノール化合物を生成し；該チ
オエノールを脱水環化して式Ｉｂ１の４−オキソ−テト
ラヒドロベンゾチオピラン化合物を生成し；該式Ｉｂ１
化合物とオキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩と
を反応させて式Ｉｂ２の４−オキシイミノ−テトラヒド
ロベンゾチオピラン化合物を生成し；そして該式Ｉｂ２
化合物を芳香族化して所望の式ＩＩＩジヒドロベンゾチ
オピランを生成することによって、効果的に製造でき
る。
ゾチオピラン中間体化合物は、式ＩＶエステルと式Ｖの
適当なβ−メルカプトプロピオン酸とを縮合させること
によって、式Ｉａのチオエノール化合物を生成し；該チ
オエノールを脱水環化して式Ｉｂ１の４−オキソ−テト
ラヒドロベンゾチオピラン化合物を生成し；該式Ｉｂ１
化合物とオキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩と
を反応させて式Ｉｂ２の４−オキシイミノ−テトラヒド
ロベンゾチオピラン化合物を生成し；そして該式Ｉｂ２
化合物を芳香族化して所望の式ＩＩＩジヒドロベンゾチ
オピランを生成することによって、効果的に製造でき
る。
【００３４】場合によっては、式Ｉｂ１化合物は、式Ｖ
Ｉの４−オキソ−ジヒドロベンゾチオピラン化合物を得
るために芳香族化されてもよく；そして該式ＶＩ化合物
が、オキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩と反応
されて所望の式ＩＩＩジヒドロベンゾチオピラン化合物
を生成してもよい。本発明の方法は、流れ図ＩＶに示さ
れるが、この場合、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ
7およびＲ8は、先に記されている。
Ｉの４−オキソ−ジヒドロベンゾチオピラン化合物を得
るために芳香族化されてもよく；そして該式ＶＩ化合物
が、オキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩と反応
されて所望の式ＩＩＩジヒドロベンゾチオピラン化合物
を生成してもよい。本発明の方法は、流れ図ＩＶに示さ
れるが、この場合、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ
7およびＲ8は、先に記されている。
【００３５】
【化３６】
【００３６】式Ｉｂ１の式ＶＩへの芳香族化、または式
Ｉｂ２の式ＩＩＩへの芳香族化は、溶媒、例えば塩化メ
チレン、クロロホルム、トルエン、酢酸もしくはそれに
類するもの、またはそれらの混合物の存在下、種々の酸
化剤、例えば臭素、ジクロロ−ジシアノ−パラベンゾキ
ノン（ＤＤＱ）、硫黄もしくはそれに類するものによっ
て遂行されてもよい。あるいはまた、芳香族化は、触
媒、例えば炭素に担持されたパラジウム（Ｐｄ／Ｃ）お
よび溶媒の存在下、場合によっては水素受容体の存在下
で加熱するような慣用の脱水素技術を用いて遂行するこ
とができる。水素受容体は、慣用の水素受容体、例えば
還元されうるすべてのオレフィン、例えばマレイン酸、
シクロヘキサン、シクロヘキサジオンおよびそれに類す
るものを包含する。
Ｉｂ２の式ＩＩＩへの芳香族化は、溶媒、例えば塩化メ
チレン、クロロホルム、トルエン、酢酸もしくはそれに
類するもの、またはそれらの混合物の存在下、種々の酸
化剤、例えば臭素、ジクロロ−ジシアノ−パラベンゾキ
ノン（ＤＤＱ）、硫黄もしくはそれに類するものによっ
て遂行されてもよい。あるいはまた、芳香族化は、触
媒、例えば炭素に担持されたパラジウム（Ｐｄ／Ｃ）お
よび溶媒の存在下、場合によっては水素受容体の存在下
で加熱するような慣用の脱水素技術を用いて遂行するこ
とができる。水素受容体は、慣用の水素受容体、例えば
還元されうるすべてのオレフィン、例えばマレイン酸、
シクロヘキサン、シクロヘキサジオンおよびそれに類す
るものを包含する。
【００３７】式ＩＩＩの化合物は、式ＶＩＩ
【００３８】
【化３７】
【００３９】［式中、Ｒ2およびＲ9は、各々独立して、
Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7お
よびＲ10は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキ
ルであり；Ｒ8は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−
Ｃ4ハロアルキルであり；Ｑは、ＨもしくはＳＯ2Ｒ11で
あり；そしてＲ11は、Ｃ1−Ｃ6アルキルか、または場合
によっては、ハロゲン、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ4アルコキシも
しくはＣ1−Ｃ4アルキル基１〜３個によって置換される
フェニルである］の６−［（ピラゾル−４−イル）−カ
ルボニル］ジヒドロベンゾチオピラン除草剤、またはそ
れらの互変異性体もしくは立体異性体の製造に際して、
重要な中間体として有用である。
Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7お
よびＲ10は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキ
ルであり；Ｒ8は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−
Ｃ4ハロアルキルであり；Ｑは、ＨもしくはＳＯ2Ｒ11で
あり；そしてＲ11は、Ｃ1−Ｃ6アルキルか、または場合
によっては、ハロゲン、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ4アルコキシも
しくはＣ1−Ｃ4アルキル基１〜３個によって置換される
フェニルである］の６−［（ピラゾル−４−イル）−カ
ルボニル］ジヒドロベンゾチオピラン除草剤、またはそ
れらの互変異性体もしくは立体異性体の製造に際して、
重要な中間体として有用である。
【００４０】式ＶＩＩの除草剤は、容易に入手でき、そ
して簡単に得ることができる出発材料から、コスト上効
果的かつ効率的製造方法において製造できることが、今
回、見い出された。本発明の方法によれば、式ＶＩＩ化
合物は、式ＩＶのエステルと式Ｖのβ−メルカプトプロ
ピオン酸とを縮合させて、式Ｉａのチオエノール化合物
を生成し；式Ｉａチオエノールを脱水環化して式Ｉｂ１
のテトラヒドロベンゾチオピラン化合物を生成し；式Ｉ
ｂ１化合物とオキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその
塩とを反応させて式Ｉｂ２の対応するオキシム誘導体を
生成し；該式Ｉｂ２化合物を芳香族化して式ＩＩＩのジ
ヒドロベンゾチオピラン中間体を生成し；式ＩＩＩ中間
体を酸化して式ＶＩＩＩの１，１−ジオキシド化合物を
生成し；該式ＶＩＩＩ化合物を加水分解して式ＩＸの対
応する６−カルボン酸を生成し；そして塩基および脱水
剤の存在下、該式ＩＸカルボン酸と式Ｘの５−ヒドロキ
シピラゾールとを反応させて、Ｑが水素である式ＶＩＩ
ａの６−（ピラゾリルカルボニル）ジヒドロベンゾチオ
ピラン生成化合物を得るか、あるいはＱがＳＯ2Ｒ11で
ある式ＶＩＩｂの化合物では、式ＶＩＩａの化合物と塩
化スルホニル、Ｒ11ＳＯ2Ｃｌとを反応させて所望のＶ
ＩＩｂ化合物を得ることによって製造される。
して簡単に得ることができる出発材料から、コスト上効
果的かつ効率的製造方法において製造できることが、今
回、見い出された。本発明の方法によれば、式ＶＩＩ化
合物は、式ＩＶのエステルと式Ｖのβ−メルカプトプロ
ピオン酸とを縮合させて、式Ｉａのチオエノール化合物
を生成し；式Ｉａチオエノールを脱水環化して式Ｉｂ１
のテトラヒドロベンゾチオピラン化合物を生成し；式Ｉ
ｂ１化合物とオキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその
塩とを反応させて式Ｉｂ２の対応するオキシム誘導体を
生成し；該式Ｉｂ２化合物を芳香族化して式ＩＩＩのジ
ヒドロベンゾチオピラン中間体を生成し；式ＩＩＩ中間
体を酸化して式ＶＩＩＩの１，１−ジオキシド化合物を
生成し；該式ＶＩＩＩ化合物を加水分解して式ＩＸの対
応する６−カルボン酸を生成し；そして塩基および脱水
剤の存在下、該式ＩＸカルボン酸と式Ｘの５−ヒドロキ
シピラゾールとを反応させて、Ｑが水素である式ＶＩＩ
ａの６−（ピラゾリルカルボニル）ジヒドロベンゾチオ
ピラン生成化合物を得るか、あるいはＱがＳＯ2Ｒ11で
ある式ＶＩＩｂの化合物では、式ＶＩＩａの化合物と塩
化スルホニル、Ｒ11ＳＯ2Ｃｌとを反応させて所望のＶ
ＩＩｂ化合物を得ることによって製造される。
【００４１】場合によっては、式ＩＩＩ中間体は、オキ
シム化および芳香族化段階の順序を逆にすることによっ
て製造されてもよい。完全な反応順序は、流れ図Ｖに示
されるが、この場合、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，
Ｒ7，Ｒ8，Ｒ9，Ｒ10およびＲ11は、先に記されてい
る。
シム化および芳香族化段階の順序を逆にすることによっ
て製造されてもよい。完全な反応順序は、流れ図Ｖに示
されるが、この場合、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，
Ｒ7，Ｒ8，Ｒ9，Ｒ10およびＲ11は、先に記されてい
る。
【００４２】
【化３８】
【００４３】
【化３９】
【００４４】式ＶＩＩａおよび式ＶＩＩｂの除草剤、な
らびに式ＩＩＩの中間体からのそれらの製造は、ＷＯ 9
5/13275に記述されている。先に記された酸化および加
水分解段階は、過酸化水素酸化および単純な塩基加水分
解技術のような慣用の方法を用いて達成される。式Ｘの
ヒドロキシピラゾールのカップリング、続いての所望の
化合物式ＶＩＩａへの転位は、ＷＯ 95/13275に記述さ
れているような慣用の方法を用いて、すなわち塩基と脱
水剤の存在下で遂行される。同様に、所望の式ＶＩＩｂ
化合物を生成するための塩化スルホニル、Ｒ11ＳＯ2Ｃ
ｌによる式ＶＩＩａのスルホン化も、慣用の方法にした
がって遂行される。
らびに式ＩＩＩの中間体からのそれらの製造は、ＷＯ 9
5/13275に記述されている。先に記された酸化および加
水分解段階は、過酸化水素酸化および単純な塩基加水分
解技術のような慣用の方法を用いて達成される。式Ｘの
ヒドロキシピラゾールのカップリング、続いての所望の
化合物式ＶＩＩａへの転位は、ＷＯ 95/13275に記述さ
れているような慣用の方法を用いて、すなわち塩基と脱
水剤の存在下で遂行される。同様に、所望の式ＶＩＩｂ
化合物を生成するための塩化スルホニル、Ｒ11ＳＯ2Ｃ
ｌによる式ＶＩＩａのスルホン化も、慣用の方法にした
がって遂行される。
【００４５】本発明を一層明瞭に理解するために、次の
実施例が、以下に説明される。これらの実施例は、単に
具体的に説明するだけであって、いかなる点においても
本発明の範囲または根本的原則を限定するものとは考え
られない。事実、本明細書に示され、記述されたことに
加えて、当業者にとっては、本発明の種々の改変が、次
の実施例およびこれまでの記述から明白になるであろ
う。また、そのような改変も、付記される特許請求の範
囲内にはいることを意図する。
実施例が、以下に説明される。これらの実施例は、単に
具体的に説明するだけであって、いかなる点においても
本発明の範囲または根本的原則を限定するものとは考え
られない。事実、本明細書に示され、記述されたことに
加えて、当業者にとっては、本発明の種々の改変が、次
の実施例およびこれまでの記述から明白になるであろ
う。また、そのような改変も、付記される特許請求の範
囲内にはいることを意図する。
【００４６】用語1ＮＭＲは、プロトン核磁気共鳴を表
す。
す。
【００４７】
【実施例】（例１）４−β−カルボキシエチルチオ−２−メチル−１，３−
シクロヘキサジエン−１−カルボン酸エチルの製造
シクロヘキサジエン−１−カルボン酸エチルの製造
【００４８】
【化４０】
【００４９】方法Ａ トルエン中２−メチル−４−オキソ−２−シクロヘキセ
ン−カルボン酸エチル（２００ｇ，１．１ｍｏｌｅ）、
β−メルカプトプロピオン酸（１０４．６ｇ，０．９９
ｍｏｌｅ）およびｐ−トルエンスルホン酸水和物（１．
５ｇ，０．００７９ｍｏｌｅ）の溶液を、Ｎ2下、Ｄｅ
ａｎ Ｓｔａｒｋトラップを用いて、還流温度において
１８時間加熱し、冷却し、そして真空濃縮して残渣を得
る。その残渣を２：１ヘキサン：エーテル中で結晶化し
て、黄色固体としての表題の生成物、１３５ｇ（収率４
５％）を得る。少量のサンプルを酢酸エチル／ヘキサン
から再結晶化して、1ＨＮＭＲと質量分光分析によって
同定される淡黄色固体、ｍｐ９６〜９７℃を得た。
ン−カルボン酸エチル（２００ｇ，１．１ｍｏｌｅ）、
β−メルカプトプロピオン酸（１０４．６ｇ，０．９９
ｍｏｌｅ）およびｐ−トルエンスルホン酸水和物（１．
５ｇ，０．００７９ｍｏｌｅ）の溶液を、Ｎ2下、Ｄｅ
ａｎ Ｓｔａｒｋトラップを用いて、還流温度において
１８時間加熱し、冷却し、そして真空濃縮して残渣を得
る。その残渣を２：１ヘキサン：エーテル中で結晶化し
て、黄色固体としての表題の生成物、１３５ｇ（収率４
５％）を得る。少量のサンプルを酢酸エチル／ヘキサン
から再結晶化して、1ＨＮＭＲと質量分光分析によって
同定される淡黄色固体、ｍｐ９６〜９７℃を得た。
【００５０】方法Ｂ トルエン中２−メチル−４−オキソ−２−シクロヘキセ
ン−カルボン酸エチル（４２．７ｇ，０．２３ｍｏｌ
ｅ）、ホウ酸トリメチル（１０．４ｇ，０．１０ｍｏｌ
ｅ）、無水酢酸（３０．７ｇ，０．３０ｍｏｌｅ）およ
びβ−メルカプトプロピオン酸（２４．２ｇ，０．２３
ｍｏｌｅ）の溶液を、１５℃で撹拌し、メタンスルホン
酸２０滴で処理し、そして外界温度で１８時間撹拌す
る。得られる反応混合液をトルエンと希アンモニア水間
で分配する。相を分離し、その有機相を真空濃縮して油
状残渣、６５．５ｇを得るが、その残渣の1ＨＮＭＲ分
析は、主成分として表題の生成物、その他にトルエンと
出発シクロヘキサンカルボン酸エステルの存在を示す。
ン−カルボン酸エチル（４２．７ｇ，０．２３ｍｏｌ
ｅ）、ホウ酸トリメチル（１０．４ｇ，０．１０ｍｏｌ
ｅ）、無水酢酸（３０．７ｇ，０．３０ｍｏｌｅ）およ
びβ−メルカプトプロピオン酸（２４．２ｇ，０．２３
ｍｏｌｅ）の溶液を、１５℃で撹拌し、メタンスルホン
酸２０滴で処理し、そして外界温度で１８時間撹拌す
る。得られる反応混合液をトルエンと希アンモニア水間
で分配する。相を分離し、その有機相を真空濃縮して油
状残渣、６５．５ｇを得るが、その残渣の1ＨＮＭＲ分
析は、主成分として表題の生成物、その他にトルエンと
出発シクロヘキサンカルボン酸エステルの存在を示す。
【００５１】（例２）５−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ルの製造
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ルの製造
【００５２】
【化４１】
【００５３】トルエン中４−β−カルボキシエチルチオ
−２−メチル−１，３−シクロヘキサジエン−１−カル
ボン酸エチル（１２１．３ｇ，０．４４９ｍｏｌｅ）の
混合液を、２０℃で撹拌し、続いてメタンスルホン酸
５．０ｍｌで処理し、そして無水トリフルオロ酢酸（９
４．３ｇ，０．４４９ｍｏｌｅ）を５分間かけて少量づ
つ滴下し、そして外界温度で１８時間撹拌する。得られ
る反応混合液を酢酸エチルと水１：１混合液で反応停止
し、そして１５分間撹拌する。相を分離する。その有機
相を水で洗浄し、真空濃縮して残渣を得る。イソプロパ
ノール／ヘプタンから残渣を結晶化すると、1ＨＮＭＲ
と質量分光分析によって同定される黄色固体としての表
題の生成物、９０．１ｇ（収率７９．５％）、ｍｐ９９
〜１００℃を得る。
−２−メチル−１，３−シクロヘキサジエン−１−カル
ボン酸エチル（１２１．３ｇ，０．４４９ｍｏｌｅ）の
混合液を、２０℃で撹拌し、続いてメタンスルホン酸
５．０ｍｌで処理し、そして無水トリフルオロ酢酸（９
４．３ｇ，０．４４９ｍｏｌｅ）を５分間かけて少量づ
つ滴下し、そして外界温度で１８時間撹拌する。得られ
る反応混合液を酢酸エチルと水１：１混合液で反応停止
し、そして１５分間撹拌する。相を分離する。その有機
相を水で洗浄し、真空濃縮して残渣を得る。イソプロパ
ノール／ヘプタンから残渣を結晶化すると、1ＨＮＭＲ
と質量分光分析によって同定される黄色固体としての表
題の生成物、９０．１ｇ（収率７９．５％）、ｍｐ９９
〜１００℃を得る。
【００５４】（例３）５−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ルの製造
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ルの製造
【００５５】
【化４２】
【００５６】トルエン中２−メチル−４−オキソ−２−
シクロヘキセンカルボン酸エチル（２．０ｋｇ，９１．
２％，１０．９８ｍｏｌｅ）、β−メルカプトプロピオ
ン酸（１．１６５ｋｇ，１０．９８ｍｏｌｅ）、ｐ−ト
ルエンスルホン酸（ｐｔｓａ）一水和物（０．７１０ｋ
ｇ，３．７３ｍｏｌｅ）およびピリジン（０．３０４ｋ
ｇ，３．８４ｍｏｌｅ）の混合液を、還流温度まで加熱
し、水の除去のためにＤｅａｎ Ｓｔａｒｋトラップを
用いて、還流温度において７時間加熱し、１７時間かけ
て室温まで放冷し、５℃に冷却し、５〜１２℃において
無水トリフルオロ酢酸（ＴＦＡＡ）（２．３０６ｋｇ，
１０．９８ｍｏｌｅ）で処理し、メタンスルホン酸
（０．０５３ｋｇ，０．５５ｍｏｌｅ）で処理し、室温
まで放置して温め、ＨＰＬＣ分析によって反応が終了す
るまで室温に維持し、そして水で反応を止める。相を分
離する。その有機相を水で洗浄し、そしてトルエンを除
去するために蒸留する。残留するポット残渣を、イソプ
ロピルアルコール（１．８９ｋｇ）で処理し、４５℃に
冷却し、ヘプタン（１．６５ｋｇ）で処理し、そして室
温まで冷却する。得られる混合液を濾過し、濾過ケーキ
を、１：１イソプロパノール／ヘプタン混合液（０．７
３５ｋｇ）とヘプタン（１．３７ｋｇ）により連続して
洗浄する。洗浄濾過ケーキを真空乾燥して、ＨＰＬＣ分
析によって同定される白色結晶性固体としての表題の生
成物、０．９３１ｋｇ（収率３６％）、純度９８．４％
を得る。
シクロヘキセンカルボン酸エチル（２．０ｋｇ，９１．
２％，１０．９８ｍｏｌｅ）、β−メルカプトプロピオ
ン酸（１．１６５ｋｇ，１０．９８ｍｏｌｅ）、ｐ−ト
ルエンスルホン酸（ｐｔｓａ）一水和物（０．７１０ｋ
ｇ，３．７３ｍｏｌｅ）およびピリジン（０．３０４ｋ
ｇ，３．８４ｍｏｌｅ）の混合液を、還流温度まで加熱
し、水の除去のためにＤｅａｎ Ｓｔａｒｋトラップを
用いて、還流温度において７時間加熱し、１７時間かけ
て室温まで放冷し、５℃に冷却し、５〜１２℃において
無水トリフルオロ酢酸（ＴＦＡＡ）（２．３０６ｋｇ，
１０．９８ｍｏｌｅ）で処理し、メタンスルホン酸
（０．０５３ｋｇ，０．５５ｍｏｌｅ）で処理し、室温
まで放置して温め、ＨＰＬＣ分析によって反応が終了す
るまで室温に維持し、そして水で反応を止める。相を分
離する。その有機相を水で洗浄し、そしてトルエンを除
去するために蒸留する。残留するポット残渣を、イソプ
ロピルアルコール（１．８９ｋｇ）で処理し、４５℃に
冷却し、ヘプタン（１．６５ｋｇ）で処理し、そして室
温まで冷却する。得られる混合液を濾過し、濾過ケーキ
を、１：１イソプロパノール／ヘプタン混合液（０．７
３５ｋｇ）とヘプタン（１．３７ｋｇ）により連続して
洗浄する。洗浄濾過ケーキを真空乾燥して、ＨＰＬＣ分
析によって同定される白色結晶性固体としての表題の生
成物、０．９３１ｋｇ（収率３６％）、純度９８．４％
を得る。
【００５７】（例４）置換４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒドロ−４Ｈ
−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エステルの製
造
−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エステルの製
造
【００５８】
【化４３】
【００５９】トルエン中置換４−オキソ−２−シクロヘ
キセン−１−カルボン酸エステル（１．１ｍｏｌｅ）、
β−メルカプトプロピオン酸（１．０ｍｏｌｅ）、ｐ−
トルエンスルホン酸水和物（ｐｔｓａ）（０．２０ｍｏ
ｌｅ）およびピリジン（０．２ｍｏｌｅ）の混合液を、
Ｄｅａｎ Ｓｔａｒｋ（ＤＳ）トラップを用いて、還流
温度において３時間加熱する。得られる溶液をトルエン
で希釈し、１０℃に冷却し、５分間以上、メタンスルホ
ン酸（０．０６２５ｍｏｌｅ）と無水トリフルオロ酢酸
（ＴＦＡＡ）（１．０ｍｏｌｅ）で連続して処理し、１
８時間撹拌し（反応温度は２１℃まで上昇する）、水で
反応を止め、そして５分間撹拌する。相を分離する。そ
の有機相を水で洗浄し、そして真空濃縮して残渣を得
る。残渣の結晶化により、表題の生成物を得る。
キセン−１−カルボン酸エステル（１．１ｍｏｌｅ）、
β−メルカプトプロピオン酸（１．０ｍｏｌｅ）、ｐ−
トルエンスルホン酸水和物（ｐｔｓａ）（０．２０ｍｏ
ｌｅ）およびピリジン（０．２ｍｏｌｅ）の混合液を、
Ｄｅａｎ Ｓｔａｒｋ（ＤＳ）トラップを用いて、還流
温度において３時間加熱する。得られる溶液をトルエン
で希釈し、１０℃に冷却し、５分間以上、メタンスルホ
ン酸（０．０６２５ｍｏｌｅ）と無水トリフルオロ酢酸
（ＴＦＡＡ）（１．０ｍｏｌｅ）で連続して処理し、１
８時間撹拌し（反応温度は２１℃まで上昇する）、水で
反応を止め、そして５分間撹拌する。相を分離する。そ
の有機相を水で洗浄し、そして真空濃縮して残渣を得
る。残渣の結晶化により、表題の生成物を得る。
【００６０】本質的に上記と同じ操作を用いて、以下に
示す化合物が得られ、1ＨＮＭＲと質量分光分析によっ
て同定された。
示す化合物が得られ、1ＨＮＭＲと質量分光分析によっ
て同定された。
【００６１】
【表１】
【００６２】（例５）５−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ル、４−（Ｏ−メチルオキシム）の製造
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ル、４−（Ｏ−メチルオキシム）の製造
【００６３】
【化４４】
【００６４】５−メチル−４−オキソ−２，３，７，８
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カ
ルボン酸エチル（１０６ｇ，０．４２ｍｏｌｅ）、塩酸
メトキシルアミン２５〜３０％水溶液１５１ｇ、ピリジ
ン５０ｍｌ、トルエン５００ｍｌおよびエタノール５０
０ｍｌの混合液を、還流温度で２時間撹拌し、冷却し、
そして真空濃縮して残渣を得る。残渣を酢酸エチルと希
塩酸水溶液の間で分配する。その有機相を分離し、水で
洗浄し、そして真空濃縮して第２の残渣を得る。この残
渣をヘキサンから結晶化すると、1ＨＮＭＲと質量分光
分析によって同定される白色固体としての表題の生成
物、３７．６ｇ（収率３２％）、ｍｐ６５〜６７℃を得
る。
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カ
ルボン酸エチル（１０６ｇ，０．４２ｍｏｌｅ）、塩酸
メトキシルアミン２５〜３０％水溶液１５１ｇ、ピリジ
ン５０ｍｌ、トルエン５００ｍｌおよびエタノール５０
０ｍｌの混合液を、還流温度で２時間撹拌し、冷却し、
そして真空濃縮して残渣を得る。残渣を酢酸エチルと希
塩酸水溶液の間で分配する。その有機相を分離し、水で
洗浄し、そして真空濃縮して第２の残渣を得る。この残
渣をヘキサンから結晶化すると、1ＨＮＭＲと質量分光
分析によって同定される白色固体としての表題の生成
物、３７．６ｇ（収率３２％）、ｍｐ６５〜６７℃を得
る。
【００６５】（例６）５−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ル、４−オキシムの製造
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ル、４−オキシムの製造
【００６６】
【化４５】
【００６７】無水エタノール１．０Ｌ中、５−メチル−
４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒドロ−４Ｈ−１
−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチル（１５６
ｇ，０．６１９ｍｏｌｅ）、塩酸ヒドロキシルアミン
（４３ｇ，０．６１９ｍｏｌｅ）、ピリジン１００ｍｌ
の混合液を、還流温度で１８時間撹拌し、冷却し、そし
て真空濃縮して残渣を得る。残渣を希ＮａＣｌ水溶液と
酢酸エチル／メタノール混合液との間で分配する。得ら
れる相混合液を、濃塩酸でｐＨ１に酸性化する。混合
後、相を分離し、その有機相を真空濃縮して第２の残渣
を得る。この残渣をジエチルエーテル中でスラリー化
し、濾過すると、1ＨＮＭＲと質量分光分析によって同
定されるオフホワイト固体としての表題の生成物、１１
０ｇ（収率６６．５％）、ｍｐ１３９〜１４２℃を得
る。
４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒドロ−４Ｈ−１
−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチル（１５６
ｇ，０．６１９ｍｏｌｅ）、塩酸ヒドロキシルアミン
（４３ｇ，０．６１９ｍｏｌｅ）、ピリジン１００ｍｌ
の混合液を、還流温度で１８時間撹拌し、冷却し、そし
て真空濃縮して残渣を得る。残渣を希ＮａＣｌ水溶液と
酢酸エチル／メタノール混合液との間で分配する。得ら
れる相混合液を、濃塩酸でｐＨ１に酸性化する。混合
後、相を分離し、その有機相を真空濃縮して第２の残渣
を得る。この残渣をジエチルエーテル中でスラリー化
し、濾過すると、1ＨＮＭＲと質量分光分析によって同
定されるオフホワイト固体としての表題の生成物、１１
０ｇ（収率６６．５％）、ｍｐ１３９〜１４２℃を得
る。
【００６８】（例７）２，３−ジヒドロ−５−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１
−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチル、４−（Ｏ
−メチルオキシム）の製造
−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチル、４−（Ｏ
−メチルオキシム）の製造
【００６９】
【化４６】
【００７０】方法Ａ 塩化メチレンとクロロホルム１：１混合液中、５−メチ
ル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒドロ−４Ｈ
−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチル，４−
（Ｏ−メチルオキシム）（１００ｇ，０．３５６ｍｏｌ
ｅ）溶液を、５℃で撹拌し、塩化メチレン中臭素（５
６．５ｇ，０．３５３ｍｏｌｅ）溶液を、３０分間かけ
て滴下して処理し、室温で１６時間撹拌し、そして還流
温度で５時間加熱する。（遊離する臭化水素ガスを全工
程の間排除する。） 反応混合液を冷却し、そして真空
濃縮して残渣を得る。残渣を酢酸エチルと希アンモニア
水溶液の間で分配する。相を分離し、有機相を希ＮａＨ
ＳＯ3水溶液で洗浄し、そして真空濃縮して油状残渣を
得る。残渣の1ＨＮＭＲ分析では、主成分として表題の
生成物を示す。
ル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒドロ−４Ｈ
−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチル，４−
（Ｏ−メチルオキシム）（１００ｇ，０．３５６ｍｏｌ
ｅ）溶液を、５℃で撹拌し、塩化メチレン中臭素（５
６．５ｇ，０．３５３ｍｏｌｅ）溶液を、３０分間かけ
て滴下して処理し、室温で１６時間撹拌し、そして還流
温度で５時間加熱する。（遊離する臭化水素ガスを全工
程の間排除する。） 反応混合液を冷却し、そして真空
濃縮して残渣を得る。残渣を酢酸エチルと希アンモニア
水溶液の間で分配する。相を分離し、有機相を希ＮａＨ
ＳＯ3水溶液で洗浄し、そして真空濃縮して油状残渣を
得る。残渣の1ＨＮＭＲ分析では、主成分として表題の
生成物を示す。
【００７１】方法Ｂ ５−メチル−４−オキソ−２，３，７，８−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ル，４−（Ｏ−メチルオキシム）（２．８ｇ，０．０１
ｍｏｌｅ）、酢酸７ｍｌおよび５０％過酸化水素水溶液
の混合液を、室温で一夜撹拌し、冷却しながら塩化アセ
チル０．８２ｇで処理し、外界温度で１時間撹拌する。
薄層クロマトグラフィー分析では、主成分として表題の
生成物を示す。
ロ−４Ｈ−１−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチ
ル，４−（Ｏ−メチルオキシム）（２．８ｇ，０．０１
ｍｏｌｅ）、酢酸７ｍｌおよび５０％過酸化水素水溶液
の混合液を、室温で一夜撹拌し、冷却しながら塩化アセ
チル０．８２ｇで処理し、外界温度で１時間撹拌する。
薄層クロマトグラフィー分析では、主成分として表題の
生成物を示す。
【００７２】（例８）２，３−ジヒドロ−５−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１
−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチルの製造
−ベンゾチオピラン−６−カルボン酸エチルの製造
【００７３】
【化４７】
【００７４】シメン１００ｍｌ中、５−メチル−４−オ
キソ−２，３，７，８−テトラヒドロ−４Ｈ−１−ベン
ゾチオピラン−６−カルボン酸エチル（２５ｇ，０．０
９９ｍｏｌｅ）および５％Ｐｄ／Ｃ触媒７ｇの混合液
を、還流温度（約１７５℃）で２４時間加熱し、８０℃
に冷却し、そして濾過する。触媒ケーキをトルエンで洗
浄する。濾液を合体し、そして真空濃縮して表題の生成
物、２５．９ｇ，1ＨＮＭＲ分析による純度９０％（収
率９４％）を得る。
キソ−２，３，７，８−テトラヒドロ−４Ｈ−１−ベン
ゾチオピラン−６−カルボン酸エチル（２５ｇ，０．０
９９ｍｏｌｅ）および５％Ｐｄ／Ｃ触媒７ｇの混合液
を、還流温度（約１７５℃）で２４時間加熱し、８０℃
に冷却し、そして濾過する。触媒ケーキをトルエンで洗
浄する。濾液を合体し、そして真空濃縮して表題の生成
物、２５．９ｇ，1ＨＮＭＲ分析による純度９０％（収
率９４％）を得る。
【００７５】本発明の特徴および態様は以下のとおりで
ある。
ある。
【００７６】１． 式Ｉ
【００７７】
【化４８】
【００７８】式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立して、Ｃ
1−Ｃ4アルキルであり；Ｗ1は、−ＳＣＲ4Ｒ5ＣＲ6Ｒ7
ＣＯＯＨであり；Ｗ2は、Ｈであるか、またはＷ1とＷ2
は、それらが結合している炭素と一緒になって、Ｗ1と
Ｗ2が、
1−Ｃ4アルキルであり；Ｗ1は、−ＳＣＲ4Ｒ5ＣＲ6Ｒ7
ＣＯＯＨであり；Ｗ2は、Ｈであるか、またはＷ1とＷ2
は、それらが結合している炭素と一緒になって、Ｗ1と
Ｗ2が、
【００７９】
【化４９】
【００８０】を表す環を形成してもよく；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ
5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ
4アルキルである、の化合物。
5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ
4アルキルである、の化合物。
【００８１】２． Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7がＨ
であり、Ｒ1がメチルもしくはエチルであリ、そしてＺ
がＮＯＲ8である、上記１記載の化合物。
であり、Ｒ1がメチルもしくはエチルであリ、そしてＺ
がＮＯＲ8である、上記１記載の化合物。
【００８２】３． 式Ｉ
【００８３】
【化５０】
【００８４】［式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立して、
Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；Ｗ1は、−ＳＣＲ4Ｒ5ＣＲ6Ｒ
7ＣＯＯＨであり；Ｗ2は、Ｈであるか、またはＷ1とＷ2
は、それらが結合している炭素と一緒になって、Ｗ1と
Ｗ2が、
Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；Ｗ1は、−ＳＣＲ4Ｒ5ＣＲ6Ｒ
7ＣＯＯＨであり；Ｗ2は、Ｈであるか、またはＷ1とＷ2
は、それらが結合している炭素と一緒になって、Ｗ1と
Ｗ2が、
【００８５】
【化５１】
【００８６】を表す環を形成してもよく；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ
5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ
4アルキルであり；Ｚは、ＯもしくはＮＯＲ8であり；そ
してＲ8は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハ
ロアルキルである］の化合物、またはＺがＮＯＲ8であ
る場合は、それらの立体異性体の製造方法であって、式
ＩＶ
5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ
4アルキルであり；Ｚは、ＯもしくはＮＯＲ8であり；そ
してＲ8は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハ
ロアルキルである］の化合物、またはＺがＮＯＲ8であ
る場合は、それらの立体異性体の製造方法であって、式
ＩＶ
【００８７】
【化５２】
【００８８】の化合物と式Ｖ
【００８９】
【化５３】
【００９０】のβ−メルカプトプロピオン酸とを縮合さ
せて、式Ｉａ
せて、式Ｉａ
【００９１】
【化５４】
【００９２】のチオエノール化合物を生成し、そしてＷ
1とＷ2が、環を形成する場合には、さらに、式Ｉａの該
チオエノール化合物を脱水環化して、ＺがＯである式Ｉ
ｂ１のテトラヒドロベンゾチオピラン化合物を生成し、
そしてＺがＮＯＲ8である場合には、さらに、該テトラ
ヒドロベンゾチオピラン化合物とオキシルアミン Ｈ2
ＮＯＲ8もしくはその塩とを反応させて、ＺがＮＯＲ8で
ある式Ｉｂ２の化合物を生成することを含む、方法。
1とＷ2が、環を形成する場合には、さらに、式Ｉａの該
チオエノール化合物を脱水環化して、ＺがＯである式Ｉ
ｂ１のテトラヒドロベンゾチオピラン化合物を生成し、
そしてＺがＮＯＲ8である場合には、さらに、該テトラ
ヒドロベンゾチオピラン化合物とオキシルアミン Ｈ2
ＮＯＲ8もしくはその塩とを反応させて、ＺがＮＯＲ8で
ある式Ｉｂ２の化合物を生成することを含む、方法。
【００９３】４． 式ＩＩＩ
【００９４】
【化５５】
【００９５】［式中、Ｒ1およびＲ2は、Ｃ1−Ｃ4アルキ
ルであり；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立
して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキルであり；そしてＲ8
は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハロアルキ
ルである］の化合物、またはその立体異性体の製造方法
であって、次の段階： ａ）式ＩＶ
ルであり；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立
して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキルであり；そしてＲ8
は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハロアルキ
ルである］の化合物、またはその立体異性体の製造方法
であって、次の段階： ａ）式ＩＶ
【００９６】
【化５６】
【００９７】のエステルと式Ｖ
【００９８】
【化５７】
【００９９】のβ−メルカプトプロピオン酸とを縮合さ
せて、式Ｉａ
せて、式Ｉａ
【０１００】
【化５８】
【０１０１】のチオエノール中間体化合物を生成し、 ｂ）該チオエノール中間体を脱水環化して、式Ｉｂ１
【０１０２】
【化５９】
【０１０３】の４−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピ
ラン中間体化合物を生成し、 ｃ）段階（ｂ）の該４−オキソ−テトラヒドロベンゾチ
オピラン中間体を芳香族化して、式ＶＩ
ラン中間体化合物を生成し、 ｃ）段階（ｂ）の該４−オキソ−テトラヒドロベンゾチ
オピラン中間体を芳香族化して、式ＶＩ
【０１０４】
【化６０】
【０１０５】の４−オキソ−ジヒドロベンゾチオピラン
中間体を生成し、そして該４−オキソ−ジヒドロベンゾ
チオピラン中間体とオキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしく
はその塩とを反応させるか；あるいは段階（ｂ）の該４
−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピラン中間体とオキ
シルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩とを反応させ
て、式Ｉｂ２
中間体を生成し、そして該４−オキソ−ジヒドロベンゾ
チオピラン中間体とオキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしく
はその塩とを反応させるか；あるいは段階（ｂ）の該４
−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピラン中間体とオキ
シルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩とを反応させ
て、式Ｉｂ２
【０１０６】
【化６１】
【０１０７】の４−オキシイミノ−テトラヒドロベンゾ
チオピラン中間体を生成し、そして該４−オキシイミノ
−テトラヒドロベンゾチオピラン中間体を芳香族化して
式ＩＩＩ
チオピラン中間体を生成し、そして該４−オキシイミノ
−テトラヒドロベンゾチオピラン中間体を芳香族化して
式ＩＩＩ
【０１０８】
【化６２】
【０１０９】［式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，
Ｒ7およびＲ8は、先に定義されている］の生成化合物を
得ることを含む、方法。
Ｒ7およびＲ8は、先に定義されている］の生成化合物を
得ることを含む、方法。
【０１１０】５． 縮合が、縮合溶媒および酸触媒の存
在下で実施される、上記３または４記載の方法。
在下で実施される、上記３または４記載の方法。
【０１１１】６． 縮合が、脱水剤の存在下か、または
水の共沸除去の下で実施される、上記５記載の方法。
水の共沸除去の下で実施される、上記５記載の方法。
【０１１２】７． 縮合溶媒が、トルエン、ベンゼン、
ハロベンゼンおよびキシレンからなる群から選ばれ、そ
して酸触媒が、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム、メ
タンスルホン酸ピリジニウムおよび三フッ化ホウ素から
なる群から選ばれる、上記５記載の方法。
ハロベンゼンおよびキシレンからなる群から選ばれ、そ
して酸触媒が、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム、メ
タンスルホン酸ピリジニウムおよび三フッ化ホウ素から
なる群から選ばれる、上記５記載の方法。
【０１１３】８． 式ＶＩＩ
【０１１４】
【化６３】
【０１１５】［式中、Ｒ2およびＲ9は、各々独立して、
Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6、Ｒ7お
よびＲ10は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキ
ルであり；Ｒ8は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−
Ｃ4ハロアルキルであり；Ｑは、ＨもしくはＳＯ2Ｒ11で
あり；そしてＲ11は、Ｃ1−Ｃ6アルキルか、または場合
によっては、ハロゲン、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ4アルキルもし
くはＣ1−Ｃ4アルコキシ基１〜３個によって置換される
フェニルである］の除草性化合物、またはそれらの立体
異性体もしくは互変異性体の製造方法であって、次の段
階： ａ）式ＩＶ
Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6、Ｒ7お
よびＲ10は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキ
ルであり；Ｒ8は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−
Ｃ4ハロアルキルであり；Ｑは、ＨもしくはＳＯ2Ｒ11で
あり；そしてＲ11は、Ｃ1−Ｃ6アルキルか、または場合
によっては、ハロゲン、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ4アルキルもし
くはＣ1−Ｃ4アルコキシ基１〜３個によって置換される
フェニルである］の除草性化合物、またはそれらの立体
異性体もしくは互変異性体の製造方法であって、次の段
階： ａ）式ＩＶ
【０１１６】
【化６４】
【０１１７】のエステルと式Ｖ
【０１１８】
【化６５】
【０１１９】のβ−メルカプトプロピオン酸とを縮合さ
せて、式Ｉａ
せて、式Ｉａ
【０１２０】
【化６６】
【０１２１】のチオエノール中間体化合物を生成し、 ｂ）該チオエノール中間体を脱水環化して、式Ｉｂ１
【０１２２】
【化６７】
【０１２３】の４−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピ
ラン中間体化合物を生成し、 ｃ）該４−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピランとオ
キシルアミン Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩とを反応させ
て、式Ｉｂ２
ラン中間体化合物を生成し、 ｃ）該４−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピランとオ
キシルアミン Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩とを反応させ
て、式Ｉｂ２
【０１２４】
【化６８】
【０１２５】の４−オキシイミノ−テトラヒドロベンゾ
チオピラン中間体化合物を生成し、 ｄ）該４−オキシイミノ−テトラヒドロベンゾチオピラ
ン中間体を芳香族化して式ＩＩＩ
チオピラン中間体化合物を生成し、 ｄ）該４−オキシイミノ−テトラヒドロベンゾチオピラ
ン中間体を芳香族化して式ＩＩＩ
【０１２６】
【化６９】
【０１２７】の４−オキシイミノ−ジヒドロベンゾチオ
ピラン中間体化合物を生成し； ｅ）該ジヒドロベンゾチオピラン中間体を酸化して式Ｖ
ＩＩＩ
ピラン中間体化合物を生成し； ｅ）該ジヒドロベンゾチオピラン中間体を酸化して式Ｖ
ＩＩＩ
【０１２８】
【化７０】
【０１２９】の１，１−ジオキソ−ジヒドロベンゾチオ
ピラン中間体化合物を生成し； ｆ）該式ＶＩＩＩの中間体を加水分解して式ＩＸ
ピラン中間体化合物を生成し； ｆ）該式ＶＩＩＩの中間体を加水分解して式ＩＸ
【０１３０】
【化７１】
【０１３１】の対応する１，１−ジオキソ−４−オキシ
イミノ−ジヒドロベンゾチオピラン−６−カルボン酸を
生成し； ｇ）脱水剤および塩基の存在下に、該ジヒドロベンゾチ
オピラン−６−カルボン酸中間体と式Ｘ
イミノ−ジヒドロベンゾチオピラン−６−カルボン酸を
生成し； ｇ）脱水剤および塩基の存在下に、該ジヒドロベンゾチ
オピラン−６−カルボン酸中間体と式Ｘ
【０１３２】
【化７２】
【０１３３】の５−ヒドロキシピラゾールとを反応させ
て、ＱがＨである式ＶＩＩ（式ＶＩＩａ）
て、ＱがＨである式ＶＩＩ（式ＶＩＩａ）
【０１３４】
【化７３】
【０１３５】の所望のジヒドロ−６−［（５−ヒドロキ
シピラゾル−４−イル）カルボニル］ベンゾチオピラン
除草性化合物を生成し；そして場合によっては、 ｈ）該ジヒドロ−６−［（５−ヒドロキシピラゾル−４
−イル）カルボニル］ベンゾチオピラン化合物と塩化ス
ルホニル、Ｒ11ＳＯ2Ｃｌとを反応させて、ＱがＳＯ2Ｒ
11である式ＶＩＩ（ＶＩＩｂ）
シピラゾル−４−イル）カルボニル］ベンゾチオピラン
除草性化合物を生成し；そして場合によっては、 ｈ）該ジヒドロ−６−［（５−ヒドロキシピラゾル−４
−イル）カルボニル］ベンゾチオピラン化合物と塩化ス
ルホニル、Ｒ11ＳＯ2Ｃｌとを反応させて、ＱがＳＯ2Ｒ
11である式ＶＩＩ（ＶＩＩｂ）
【０１３６】
【化７４】
【０１３７】［式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，
Ｒ8，Ｒ9，Ｒ10およびＲ11は、先に定義されている］の
生成物除草性化合物を得ることを含む、方法。
Ｒ8，Ｒ9，Ｒ10およびＲ11は、先に定義されている］の
生成物除草性化合物を得ることを含む、方法。
【０１３８】９． 式Ｉｂ１
【０１３９】
【化７５】
【０１４０】［式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立して、
Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；そしてＲ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6お
よびＲ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキ
ルである］の化合物の精製および単離方法であって、該
化合物を、イソプロパノールとヘプタンの溶媒混合物に
より処理して、結晶性固体を含有する混合液を収得し、
そして該混合液を濾過することを含む、方法。
Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；そしてＲ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6お
よびＲ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキ
ルである］の化合物の精製および単離方法であって、該
化合物を、イソプロパノールとヘプタンの溶媒混合物に
より処理して、結晶性固体を含有する混合液を収得し、
そして該混合液を濾過することを含む、方法。
【０１４１】１０．溶媒混合物が、約１：１ｖ／ｖ イ
ソプロパノール：ヘプタンである、上記９記載の方法。
ソプロパノール：ヘプタンである、上記９記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロバート・フランシス・ドーナー・ジユニ ア アメリカ合衆国ニユージヤージイ州08520 イーストウインザー・バークシヤードライ ブ１ (72)発明者 トーマス・ウオルター・ドラブ アメリカ合衆国ニユージヤージイ州08610 トレントン・サウスクリントンアベニユー 1804 (72)発明者 ロバート・ポール・ブリガンス アメリカ合衆国ペンシルベニア州19054レ ビツトタウン・レイクサイドドライブ28
Claims (5)
- 【請求項１】 式Ｉ 【化１】 式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立して、Ｃ1−Ｃ4アルキ
ルであり；Ｗ1は、−ＳＣＲ4Ｒ5ＣＲ6Ｒ7ＣＯＯＨであ
り；Ｗ2は、Ｈであるか、またはＷ1とＷ2は、それらが
結合している炭素と一緒になって、Ｗ1とＷ2が、 【化２】 を表す環を形成してもよく；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6および
Ｒ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキルで
ある、の化合物。 - 【請求項２】 式Ｉ 【化３】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立して、Ｃ1−Ｃ4アル
キルであり；Ｗ1は、−ＳＣＲ4Ｒ5ＣＲ6Ｒ7ＣＯＯＨで
あり；Ｗ2は、Ｈであるか、またはＷ1とＷ2は、それら
が結合している炭素と一緒になって、Ｗ1とＷ2が、 【化４】 を表す環を形成してもよく；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6および
Ｒ7は、各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキルで
あり；Ｚは、ＯもしくはＮＯＲ8であり；そしてＲ8は、
Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハロアルキルで
ある］の化合物、またはＺがＮＯＲ8である場合は、そ
れらの立体異性体の製造方法であって、 式ＩＶ 【化５】 の化合物と式Ｖ 【化６】 のβ−メルカプトプロピオン酸とを縮合させて、式Ｉａ 【化７】 のチオエノール化合物を生成し、そしてＷ1とＷ2が、環
を形成する場合には、さらに、式Ｉａの該チオエノール
化合物を脱水環化して、ＺがＯである式Ｉｂ１のテトラ
ヒドロベンゾチオピラン化合物を生成し、そしてＺがＮ
ＯＲ8である場合には、さらに、該テトラヒドロベンゾ
チオピラン化合物とオキシルアミン Ｈ2ＮＯＲ8もしく
はその塩とを反応させて、ＺがＮＯＲ8である式Ｉｂ２
の化合物を生成することを含む、方法。 - 【請求項３】 式ＩＩＩ 【化８】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、Ｃ1−Ｃ4アルキルであり；Ｒ
3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7は、各々独立して、Ｈもし
くはＣ1−Ｃ4アルキルであり；そしてＲ8は、Ｈ，Ｃ1−
Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハロアルキルである］の
化合物、またはその立体異性体の製造方法であって、次
の段階： ａ）式ＩＶ 【化９】 のエステルと式Ｖ 【化１０】 のβ−メルカプトプロピオン酸とを縮合させて、式Ｉａ 【化１１】 のチオエノール中間体化合物を生成し、 ｂ）該チオエノール中間体を脱水環化して、式Ｉｂ１ 【化１２】 の４−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピラン中間体化
合物を生成し、 ｃ）段階（ｂ）の該４−オキソ−テトラヒドロベンゾチ
オピラン中間体を芳香族化して、式ＶＩ 【化１３】 の４−オキソ−ジヒドロベンゾチオピラン中間体を生成
し、そして該４−オキソ−ジヒドロベンゾチオピラン中
間体とオキシルアミン、Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩とを
反応させるか；あるいは段階（ｂ）の該４−オキソ−テ
トラヒドロベンゾチオピラン中間体とオキシルアミン、
Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩とを反応させて、式Ｉｂ２ 【化１４】 の４−オキシイミノ−テトラヒドロベンゾチオピラン中
間体を生成し、 そして該４−オキシイミノ−テトラヒドロベンゾチオピ
ラン中間体を芳香族化して式ＩＩＩ 【化１５】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7およびＲ8
は、先に定義されている］の生成化合物を得ることを含
む、方法。 - 【請求項４】式ＶＩＩ 【化１６】 ［式中、Ｒ2およびＲ9は、各々独立して、Ｃ1−Ｃ4アル
キルであり；Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6、Ｒ7およびＲ10は、
各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキルであり；Ｒ
8は、Ｈ，Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−Ｃ4ハロアル
キルであり；Ｑは、ＨもしくはＳＯ2Ｒ11であり；そし
てＲ11は、Ｃ1−Ｃ6アルキルか、または場合によって
は、ハロゲン、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ4アルキルもしくはＣ1−
Ｃ4アルコキシ基１〜３個によって置換されるフェニル
である］の除草性化合物、またはそれらの立体異性体も
しくは互変異性体の製造方法であって、次の段階： ａ）式ＩＶ 【化１７】 のエステルと式Ｖ 【化１８】 のβ−メルカプトプロピオン酸とを縮合させて、式Ｉａ 【化１９】 のチオエノール中間体化合物を生成し、 ｂ）該チオエノール中間体を脱水環化して、式Ｉｂ１ 【化２０】 の４−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピラン中間体化
合物を生成し、 ｃ）該４−オキソ−テトラヒドロベンゾチオピランとオ
キシルアミン Ｈ2ＮＯＲ8もしくはその塩とを反応させ
て、式Ｉｂ２ 【化２１】 の４−オキシイミノ−テトラヒドロベンゾチオピラン中
間体化合物を生成し、 ｄ）該４−オキシイミノ−テトラヒドロベンゾチオピラ
ン中間体を芳香族化して式ＩＩＩ 【化２２】 の４−オキシイミノ−ジヒドロベンゾチオピラン中間体
化合物を生成し； ｅ）該ジヒドロベンゾチオピラン中間体を酸化して式Ｖ
ＩＩＩ 【化２３】 の１，１−ジオキソ−ジヒドロベンゾチオピラン中間体
化合物を生成し； ｆ）該式ＶＩＩＩの中間体を加水分解して式ＩＸ 【化２４】 の対応する１，１−ジオキソ−４−オキシイミノ−ジヒ
ドロベンゾチオピラン−６−カルボン酸を生成し； ｇ）脱水剤および塩基の存在下に、該ジヒドロベンゾチ
オピラン−６−カルボン酸中間体と式Ｘ 【化２５】 の５−ヒドロキシピラゾールとを反応させて、ＱがＨで
ある式ＶＩＩ（式ＶＩＩａ） 【化２６】 の所望のジヒドロ−６−［（５−ヒドロキシピラゾル−
４−イル）カルボニル］ベンゾチオピラン除草性化合物
を生成し；そして場合によっては、 ｈ）該ジヒドロ−６−［（５−ヒドロキシピラゾル−４
−イル）カルボニル］ベンゾチオピラン化合物と塩化ス
ルホニル、Ｒ11ＳＯ2Ｃｌとを反応させて、ＱがＳＯ2Ｒ
11である式ＶＩＩ（ＶＩＩｂ） 【化２７】 ［式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｒ8，Ｒ9，Ｒ
10およびＲ11は、先に定義されている］の生成物除草性
化合物を得ることを含む、方法。 - 【請求項５】 式Ｉｂ１ 【化２８】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立して、Ｃ1−Ｃ4アル
キルであり；そしてＲ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6およびＲ7は、
各々独立して、ＨもしくはＣ1−Ｃ4アルキルである］の
化合物の精製および単離方法であって、 該化合物を、イソプロパノールとヘプタンの溶媒混合物
により処理して、結晶性固体を含有する混合液を収得
し、そして該混合液を濾過することを含む、方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US6147797P | 1997-10-08 | 1997-10-08 | |
| US9882998P | 1998-09-02 | 1998-09-02 | |
| US60/098829 | 1998-09-02 | ||
| US60/061477 | 1998-09-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11236370A true JPH11236370A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=26741114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10297584A Pending JPH11236370A (ja) | 1997-10-08 | 1998-10-06 | ６−（アリールカルボニル）−４−オキシモ−ジヒドロベンゾチオピラン除草剤およびそれらに有用な中間体の製造方法 |
Country Status (20)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6008402A (ja) |
| EP (1) | EP0915092B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11236370A (ja) |
| KR (1) | KR19990036764A (ja) |
| CN (1) | CN1216761A (ja) |
| AR (1) | AR014918A1 (ja) |
| AT (1) | ATE202097T1 (ja) |
| AU (1) | AU8835498A (ja) |
| BR (1) | BR9803829A (ja) |
| CA (1) | CA2249523A1 (ja) |
| CZ (1) | CZ321798A3 (ja) |
| DE (1) | DE69800917T2 (ja) |
| DK (1) | DK0915092T3 (ja) |
| ES (1) | ES2162694T3 (ja) |
| HU (1) | HUP9802263A3 (ja) |
| IL (1) | IL126438A0 (ja) |
| MX (1) | MXPA98008237A (ja) |
| NZ (1) | NZ332226A (ja) |
| SK (1) | SK139998A3 (ja) |
| TW (1) | TW467910B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107652247B (zh) * | 2017-11-15 | 2020-11-03 | 黄河三角洲京博化工研究院有限公司 | 一种2-甲基-3-[4,5-二氢异噁唑]-4-甲磺酰基苯甲酸乙酯的制备方法 |
| FR3132613B1 (fr) * | 2022-02-17 | 2025-02-28 | Ecole Polytech | Utilisation de dérivés chromène ou chromane en tant qu’agents herbicides |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FI79535C (fi) * | 1982-05-06 | 1990-01-10 | Erba Farmitalia | Foerfarande foer framstaellning av dihydrobensopyrans och dihydrobensotiopyrans substituerade iminoderivat. |
| US4919705A (en) * | 1987-02-10 | 1990-04-24 | Idemitsu Kosan Company Limited | Trifluoromethanesulfonamide derivative, a method for the preparation thereof and a herbicide containing the same |
| AU1343488A (en) * | 1987-02-25 | 1988-09-26 | Scientific Generics Limited | Clinical gas monitoring |
| US4925970A (en) * | 1988-12-22 | 1990-05-15 | Brown Richard W | Process for producing cyclohexadiene thioether |
| CA2131191A1 (en) * | 1992-03-03 | 1993-09-04 | Mitsuru Shibata | Pyrazole derivatives |
| US5506194A (en) * | 1992-07-13 | 1996-04-09 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Pyrazole derivatives and herbicidal compositions |
| US5607898A (en) | 1993-08-02 | 1997-03-04 | Idemitsu Kosan Company, Ltd. | Pyrazole derivatives |
| CA2175675A1 (en) * | 1993-11-09 | 1995-05-18 | Mitsuru Shibata | Pyrazole derivatives and herbicide containing the same |
| CA2182932A1 (en) * | 1995-08-10 | 1997-02-11 | Koju Watanabe | Chromone derivative, process for preparing same and pharmaceutical composition |
-
1998
- 1998-10-01 IL IL12643898A patent/IL126438A0/xx unknown
- 1998-10-01 KR KR1019980041352A patent/KR19990036764A/ko not_active Ceased
- 1998-10-06 MX MXPA98008237A patent/MXPA98008237A/es not_active Application Discontinuation
- 1998-10-06 JP JP10297584A patent/JPH11236370A/ja active Pending
- 1998-10-06 AR ARP980104987A patent/AR014918A1/es unknown
- 1998-10-06 CA CA002249523A patent/CA2249523A1/en not_active Abandoned
- 1998-10-06 CZ CZ983217A patent/CZ321798A3/cs unknown
- 1998-10-07 DE DE69800917T patent/DE69800917T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-07 US US09/168,124 patent/US6008402A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-07 BR BR9803829-0A patent/BR9803829A/pt not_active Application Discontinuation
- 1998-10-07 DK DK98308167T patent/DK0915092T3/da active
- 1998-10-07 ES ES98308167T patent/ES2162694T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-07 AU AU88354/98A patent/AU8835498A/en not_active Abandoned
- 1998-10-07 HU HU9802263A patent/HUP9802263A3/hu unknown
- 1998-10-07 NZ NZ332226A patent/NZ332226A/xx unknown
- 1998-10-07 AT AT98308167T patent/ATE202097T1/de not_active IP Right Cessation
- 1998-10-07 EP EP98308167A patent/EP0915092B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-08 CN CN98120934A patent/CN1216761A/zh active Pending
- 1998-10-08 SK SK1399-98A patent/SK139998A3/sk unknown
- 1998-11-17 TW TW087116670A patent/TW467910B/zh active
-
1999
- 1999-12-15 US US09/461,621 patent/US6294676B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010014745A1 (en) | 2001-08-16 |
| TW467910B (en) | 2001-12-11 |
| US6008402A (en) | 1999-12-28 |
| IL126438A0 (en) | 1999-08-17 |
| ATE202097T1 (de) | 2001-06-15 |
| SK139998A3 (en) | 1999-06-11 |
| NZ332226A (en) | 2000-01-28 |
| HU9802263D0 (en) | 1998-12-28 |
| AR014918A1 (es) | 2001-04-11 |
| DE69800917T2 (de) | 2002-01-17 |
| DE69800917D1 (de) | 2001-07-19 |
| EP0915092B1 (en) | 2001-06-13 |
| CN1216761A (zh) | 1999-05-19 |
| ES2162694T3 (es) | 2002-01-01 |
| EP0915092A1 (en) | 1999-05-12 |
| KR19990036764A (ko) | 1999-05-25 |
| MXPA98008237A (es) | 2002-05-21 |
| HUP9802263A3 (en) | 1999-10-28 |
| DK0915092T3 (da) | 2001-09-03 |
| CZ321798A3 (cs) | 1999-05-12 |
| US6294676B2 (en) | 2001-09-25 |
| BR9803829A (pt) | 2002-07-09 |
| AU8835498A (en) | 1999-04-29 |
| CA2249523A1 (en) | 1999-04-08 |
| HUP9802263A2 (hu) | 1999-07-28 |
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