JPH11237731A5 - - Google Patents
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- JPH11237731A5 JPH11237731A5 JP1998335061A JP33506198A JPH11237731A5 JP H11237731 A5 JPH11237731 A5 JP H11237731A5 JP 1998335061 A JP1998335061 A JP 1998335061A JP 33506198 A JP33506198 A JP 33506198A JP H11237731 A5 JPH11237731 A5 JP H11237731A5
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- Japan
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- compound
- polymer
- carbon atoms
- vinyl ether
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
(A)重合体1kgあたりカルボキシル基を0.5〜10当量含有し且つ場合により、さらにヒドロキシフエニル基を1当量以上含有していてもよい重合体、
(B)1分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、
(C)可視光線照射により酸を発生する一般式
【化1】
式中、Rは
【化2】
基(ここで、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子もしくはフッ素原子を表
わす)、
【化3】
を表わす、
で示される化合物、及び
(D)増感色素
を含む組成物を塩基性化合物で中和し、水性媒体中に溶解又は分散してなることを特徴とするポジ型電着フォトレジスト組成物。
【請求項2】
(A′)重合体1kgあたりカルボキシル基を0.5〜10当量含有する重合体、
(A″)重合体1kgあたりヒドロキシフェニル基を1当量以上含有する重合体、
(B)1分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、
(C)可視光線照射により酸を発生する一般式
【化4】
式中、Rは
【化5】
基(ここでR1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子もしくはフッ素原子を表わ
す)、
【化6】
を表わす、
で示される化合物、及び
(D)増感色素
を含む組成物を塩基性化合物で中和し、水性媒体中に溶解又は分散してなることを特徴とするポジ型電着フォトレジスト組成物。
【請求項3】
ビニルエーテル基含有化合物(B)が、1分子中に、−R′−O−CH=CH2[ここで、R′は炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を表わす]で示されるビニルエーテル基を2〜4個含有する低分子量または高分子量の化合物である請求項1または2の組成物。
【請求項4】
ビニルエーテル基含有化合物(B)が、ポリフェノール化合物とハロゲン化アルキルビニルエーテルとの縮合物または芳香環をもつポリイソシアネート化合物とヒドロキシアルキルビニルエーテルとの反応物である請求項1または2の組成物。
【請求項5】
光酸発生化合物(C)が
【化7】
よりなる群から選ばれる請求項1または2の組成物。
【請求項6】
増感色素(D)が一般式
【化8】
式中、R4、R5、R6およびR7はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル
基またはイソプロピル基を表わし、そしてR8およびR9はそれぞれ独立に水素原子
、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数2〜5のアルコ
キシカルボニル基、各アルキル部分の炭素数が1〜4のジアルキルアミノ基、Cl、
Br、CN、NO2またはSO2CH3を表わす、
【化9】
式中、R10、R11およびR12はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル
基またはイソプロピル基を表わし、そしてR13およびR14はそれぞれ独立に水素
原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数2〜5のア
ルキルカルボニル基、各アルキル部分の炭素数が1〜4のジアルキルアミノ基、Cl
、Br、CN、NO2またはSO2CH3を表わす、
で示される化合物、シアニン系色素、メロシアニン系色素及びクマリン系色素よりなる群から選ばれる請求項1または2の組成物。
【請求項7】
ビニルエーテル基含有化合物(B)を重合体(A)100重量部に対して5〜150重量部含有する請求項1の組成物。
【請求項8】
重合体(A′)対重合体(A″)の重量比が90/10〜10/90である請求項2の組成物。
【請求項9】
ビニルエーテル基含有化合物(B)を重合体(A′)と重合体(A″)の合計量100重量部に対して5〜150重量部含有する請求項2の組成物。
【請求項10】
親水性樹脂をさらに含有する請求項1または2の組成物。
【請求項11】
請求項1又は2記載のポジ型電着フォトレジスト組成物を導電性表面を有する基板に電着法により塗布する工程;該基板を加熱する工程;可視光線を画像選択的に照射する工程;照射後に基板を加熱する工程;および塩基性現像液で現像する工程を順次行うことを特徴とするパターンの製造方法。
【請求項12】
可視光線を画像選択的に照射する工程の後に、基板を水と接触させる工程をさらに含む請求項11のパターンの製造方法。
【請求項13】
請求項11または12記載の方法で形成されたパターン。
【請求項1】
(A)重合体1kgあたりカルボキシル基を0.5〜10当量含有し且つ場合により、さらにヒドロキシフエニル基を1当量以上含有していてもよい重合体、
(B)1分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、
(C)可視光線照射により酸を発生する一般式
【化1】
式中、Rは
【化2】
基(ここで、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子もしくはフッ素原子を表
わす)、
【化3】
を表わす、
で示される化合物、及び
(D)増感色素
を含む組成物を塩基性化合物で中和し、水性媒体中に溶解又は分散してなることを特徴とするポジ型電着フォトレジスト組成物。
【請求項2】
(A′)重合体1kgあたりカルボキシル基を0.5〜10当量含有する重合体、
(A″)重合体1kgあたりヒドロキシフェニル基を1当量以上含有する重合体、
(B)1分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、
(C)可視光線照射により酸を発生する一般式
【化4】
式中、Rは
【化5】
基(ここでR1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子もしくはフッ素原子を表わ
す)、
【化6】
を表わす、
で示される化合物、及び
(D)増感色素
を含む組成物を塩基性化合物で中和し、水性媒体中に溶解又は分散してなることを特徴とするポジ型電着フォトレジスト組成物。
【請求項3】
ビニルエーテル基含有化合物(B)が、1分子中に、−R′−O−CH=CH2[ここで、R′は炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を表わす]で示されるビニルエーテル基を2〜4個含有する低分子量または高分子量の化合物である請求項1または2の組成物。
【請求項4】
ビニルエーテル基含有化合物(B)が、ポリフェノール化合物とハロゲン化アルキルビニルエーテルとの縮合物または芳香環をもつポリイソシアネート化合物とヒドロキシアルキルビニルエーテルとの反応物である請求項1または2の組成物。
【請求項5】
光酸発生化合物(C)が
【化7】
よりなる群から選ばれる請求項1または2の組成物。
【請求項6】
増感色素(D)が一般式
【化8】
式中、R4、R5、R6およびR7はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル
基またはイソプロピル基を表わし、そしてR8およびR9はそれぞれ独立に水素原子
、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数2〜5のアルコ
キシカルボニル基、各アルキル部分の炭素数が1〜4のジアルキルアミノ基、Cl、
Br、CN、NO2またはSO2CH3を表わす、
【化9】
式中、R10、R11およびR12はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル
基またはイソプロピル基を表わし、そしてR13およびR14はそれぞれ独立に水素
原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数2〜5のア
ルキルカルボニル基、各アルキル部分の炭素数が1〜4のジアルキルアミノ基、Cl
、Br、CN、NO2またはSO2CH3を表わす、
で示される化合物、シアニン系色素、メロシアニン系色素及びクマリン系色素よりなる群から選ばれる請求項1または2の組成物。
【請求項7】
ビニルエーテル基含有化合物(B)を重合体(A)100重量部に対して5〜150重量部含有する請求項1の組成物。
【請求項8】
重合体(A′)対重合体(A″)の重量比が90/10〜10/90である請求項2の組成物。
【請求項9】
ビニルエーテル基含有化合物(B)を重合体(A′)と重合体(A″)の合計量100重量部に対して5〜150重量部含有する請求項2の組成物。
【請求項10】
親水性樹脂をさらに含有する請求項1または2の組成物。
【請求項11】
請求項1又は2記載のポジ型電着フォトレジスト組成物を導電性表面を有する基板に電着法により塗布する工程;該基板を加熱する工程;可視光線を画像選択的に照射する工程;照射後に基板を加熱する工程;および塩基性現像液で現像する工程を順次行うことを特徴とするパターンの製造方法。
【請求項12】
可視光線を画像選択的に照射する工程の後に、基板を水と接触させる工程をさらに含む請求項11のパターンの製造方法。
【請求項13】
請求項11または12記載の方法で形成されたパターン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33506198A JPH11237731A (ja) | 1997-10-07 | 1998-10-01 | ポジ型電着フオトレジスト組成物及びパターンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28921897 | 1997-10-07 | ||
| JP9-289218 | 1997-10-07 | ||
| JP33506198A JPH11237731A (ja) | 1997-10-07 | 1998-10-01 | ポジ型電着フオトレジスト組成物及びパターンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11237731A JPH11237731A (ja) | 1999-08-31 |
| JPH11237731A5 true JPH11237731A5 (ja) | 2005-11-10 |
Family
ID=26557515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33506198A Pending JPH11237731A (ja) | 1997-10-07 | 1998-10-01 | ポジ型電着フオトレジスト組成物及びパターンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11237731A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW554239B (en) | 1999-05-20 | 2003-09-21 | Kansai Paint Co Ltd | Positive type actinic ray-curable dry film and pattern-forming method by use of the same |
| JP5028767B2 (ja) * | 2005-08-24 | 2012-09-19 | 荒川化学工業株式会社 | 粘着付与樹脂エマルジョン、その製造方法および水性粘接着剤組成物 |
-
1998
- 1998-10-01 JP JP33506198A patent/JPH11237731A/ja active Pending
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