JPH11242103A - マイクロレンズの製造方法 - Google Patents
マイクロレンズの製造方法Info
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- JPH11242103A JPH11242103A JP10043642A JP4364298A JPH11242103A JP H11242103 A JPH11242103 A JP H11242103A JP 10043642 A JP10043642 A JP 10043642A JP 4364298 A JP4364298 A JP 4364298A JP H11242103 A JPH11242103 A JP H11242103A
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- Japan
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- light
- microlens
- photosensitive resin
- pattern
- manufacturing
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Abstract
(57)【要約】
【課題】マイクロレンズ５の透過率を向上させること、
及び、表面の断面形状をより円弧状２４に形成すること
を、再現よく、安定して容易に量産することを可能とす
ること。 【解決手段】感光性樹脂のパターン４に、波長約３００
ｎｍ以下のＵＶ光を取り除いたＵＶ光２０を照射した後
に、パターンを加熱してマイクロレンズ５を形成するこ
と。
及び、表面の断面形状をより円弧状２４に形成すること
を、再現よく、安定して容易に量産することを可能とす
ること。 【解決手段】感光性樹脂のパターン４に、波長約３００
ｎｍ以下のＵＶ光を取り除いたＵＶ光２０を照射した後
に、パターンを加熱してマイクロレンズ５を形成するこ
と。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶プロジェクシ
ョン装置などに用いる透明基板上に複数のマイクロレン
ズを形成したマイクロレンズの製造方法に関するもので
あり、特にレンズ形状及び透過率の良好なマイクロレン
ズの製造方法に関する。
ョン装置などに用いる透明基板上に複数のマイクロレン
ズを形成したマイクロレンズの製造方法に関するもので
あり、特にレンズ形状及び透過率の良好なマイクロレン
ズの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶プロジェクション装置などに用いる
マイクロレンズの形成に用いる感光性樹脂としては、ポ
ジ型感光性樹脂が用いられるが、例えば、ノボラック樹
脂を用いたポジ型感光性樹脂は、ＵＶ光照射によりＵＶ
光照射された部分がアルカリ可溶性となるために、その
部分が希アルカリ水溶液による現像により溶解除去され
パターン形成されるものである。そして、このノボラッ
ク樹脂を用いたポジ型感光性樹脂は、ＵＶ光照射に伴い
その部分の透過率が向上する性質を有するものである。
マイクロレンズの形成に用いる感光性樹脂としては、ポ
ジ型感光性樹脂が用いられるが、例えば、ノボラック樹
脂を用いたポジ型感光性樹脂は、ＵＶ光照射によりＵＶ
光照射された部分がアルカリ可溶性となるために、その
部分が希アルカリ水溶液による現像により溶解除去され
パターン形成されるものである。そして、このノボラッ
ク樹脂を用いたポジ型感光性樹脂は、ＵＶ光照射に伴い
その部分の透過率が向上する性質を有するものである。
【０００３】すなわち、このような感光性樹脂を使用し
パターン形成して、この形成されたパターンにＵＶ光照
射し、感光性樹脂の透過率を向上させ、その後に、加熱
することによってマイクロレンズを形成すれば、透過率
の向上したマイクロレンズが得られることになる。
パターン形成して、この形成されたパターンにＵＶ光照
射し、感光性樹脂の透過率を向上させ、その後に、加熱
することによってマイクロレンズを形成すれば、透過率
の向上したマイクロレンズが得られることになる。
【０００４】図３は、このような性質を示したものであ
り、図３において、（ｂ）はＵＶ光照射が行われない際
のマイクロレンズの透過率であり、また、（ａ）は適切
なＵＶ光照射が行われた際のマイクロレンズの透過率で
ある。
り、図３において、（ｂ）はＵＶ光照射が行われない際
のマイクロレンズの透過率であり、また、（ａ）は適切
なＵＶ光照射が行われた際のマイクロレンズの透過率で
ある。
【０００５】このように、ノボラック樹脂を用いたポジ
型感光性樹脂には、ＵＶ光照射によりその透過率を向上
させる性質があるので、ＵＶ光照射により感光性樹脂の
パターンの透過率が向上するものであるが、このＵＶ光
照射の照射量が少ないと透過率の向上が不十分なものと
なり、また、照射量が多いと透過率が更に僅かに向上す
る傾向にある。
型感光性樹脂には、ＵＶ光照射によりその透過率を向上
させる性質があるので、ＵＶ光照射により感光性樹脂の
パターンの透過率が向上するものであるが、このＵＶ光
照射の照射量が少ないと透過率の向上が不十分なものと
なり、また、照射量が多いと透過率が更に僅かに向上す
る傾向にある。
【０００６】しかし、このＵＶ光照射の照射量が多い
と、感光性樹脂のパターンの表面が硬化する傾向がみら
れ、このＵＶ光照射の後の加熱により形成するマイクロ
レンズの表面の断面形状が損なわれる傾向にある。すな
わち、元のパターンの断面形状である台形状の傾向を残
し留めるものとなる。
と、感光性樹脂のパターンの表面が硬化する傾向がみら
れ、このＵＶ光照射の後の加熱により形成するマイクロ
レンズの表面の断面形状が損なわれる傾向にある。すな
わち、元のパターンの断面形状である台形状の傾向を残
し留めるものとなる。
【０００７】図２（ハ）は、マイクロレンズの表面の断
面形状を示すものであるが、図２（ハ）に示すように、
円弧状（２４）のものである。しかし、透明基板上に感
光性樹脂を用いてパターンを形成し、このパターンにＵ
Ｖ光照射を行い、その後にパターンを加熱してマイクロ
レンズを形成するマイクロレンズの製造方法において
は、ＵＶ光照射の照射量が多いと、感光性樹脂のパター
ンの表面が硬化する傾向がみられ、このＵＶ光照射の後
の加熱により形成するマイクロレンズの表面の断面形状
が損なわれる傾向にある。図２（ロ）に示すように、マ
イクロレンズの表面の断面形状は必ずしも円弧状ではな
く、元のパターンの断面形状である台形状の傾向を残し
留めることがある。
面形状を示すものであるが、図２（ハ）に示すように、
円弧状（２４）のものである。しかし、透明基板上に感
光性樹脂を用いてパターンを形成し、このパターンにＵ
Ｖ光照射を行い、その後にパターンを加熱してマイクロ
レンズを形成するマイクロレンズの製造方法において
は、ＵＶ光照射の照射量が多いと、感光性樹脂のパター
ンの表面が硬化する傾向がみられ、このＵＶ光照射の後
の加熱により形成するマイクロレンズの表面の断面形状
が損なわれる傾向にある。図２（ロ）に示すように、マ
イクロレンズの表面の断面形状は必ずしも円弧状ではな
く、元のパターンの断面形状である台形状の傾向を残し
留めることがある。
【０００８】図２（イ）は、元のパターン（２２）の断
面形状を示すものであり、また、図２（ロ）は、元のパ
ターンの台形状の傾向を残し留めたマイクロレンズ（２
３）の表面の断面形状を示すものである。このようなマ
イクロレンズを用いて光を集光すると、その集光は乱れ
たものとなり、集光された光の光束の幅は大きくなりレ
ンズとしては集光効率を損なうものとなる。
面形状を示すものであり、また、図２（ロ）は、元のパ
ターンの台形状の傾向を残し留めたマイクロレンズ（２
３）の表面の断面形状を示すものである。このようなマ
イクロレンズを用いて光を集光すると、その集光は乱れ
たものとなり、集光された光の光束の幅は大きくなりレ
ンズとしては集光効率を損なうものとなる。
【０００９】上記のような、マイクロレンズの透過率を
向上させ、且つパターンの表面を硬化させない適切なＵ
Ｖ光照射の照射量としては、感光性樹脂の膜厚１μｍあ
たり１４〜２０ｍｊ／ｃｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）程度の
ものである。
向上させ、且つパターンの表面を硬化させない適切なＵ
Ｖ光照射の照射量としては、感光性樹脂の膜厚１μｍあ
たり１４〜２０ｍｊ／ｃｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）程度の
ものである。
【００１０】しかし、このＵＶ光照射の照射量として
の、感光性樹脂の膜厚１μｍあたり約１４〜約２０ｍｊ
／ｃｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）の範囲は、実際の製造にお
いては、狭いものであり、上記の透過率及び断面形状を
再現よく、安定して量産を行うことは困難なものであ
る。
の、感光性樹脂の膜厚１μｍあたり約１４〜約２０ｍｊ
／ｃｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）の範囲は、実際の製造にお
いては、狭いものであり、上記の透過率及び断面形状を
再現よく、安定して量産を行うことは困難なものであ
る。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、透明基板上
に感光性樹脂を用いてパターンを形成し、このパターン
にＵＶ光照射を行い、その後にパターンを加熱してマイ
クロレンズを形成するマイクロレンズの製造方法におい
て、ＵＶ光照射によるマイクロレンズの透過率の向上
を、再現よく、安定して容易に量産することを可能と
し、また、加熱により形成するマイクロレンズの表面の
断面形状を、より円弧状に形成することを、再現よく、
安定して容易に量産することを可能とするマイクロレン
ズの製造方法を提供するものである。
に感光性樹脂を用いてパターンを形成し、このパターン
にＵＶ光照射を行い、その後にパターンを加熱してマイ
クロレンズを形成するマイクロレンズの製造方法におい
て、ＵＶ光照射によるマイクロレンズの透過率の向上
を、再現よく、安定して容易に量産することを可能と
し、また、加熱により形成するマイクロレンズの表面の
断面形状を、より円弧状に形成することを、再現よく、
安定して容易に量産することを可能とするマイクロレン
ズの製造方法を提供するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明基板上に
感光性樹脂を用いてパターンを形成し、該パターンを加
熱することによりマイクロレンズを形成するマイクロレ
ンズの製造方法において、該パターンを形成した感光性
樹脂に、波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除いたＵ
Ｖ光を照射した後に、パターンを加熱してマイクロレン
ズを形成することを特徴とするマイクロレンズの製造方
法である。また、本発明は、上記発明のマイクロレンズ
の製造方法において、前記感光性樹脂がノボラック樹脂
を用いたポジ型感光性樹脂であることを特徴とするマイ
クロレンズの製造方法である。また、本発明は、上記発
明のマイクロレンズの製造方法において、前記ＵＶ光の
照射量が前記感光性樹脂の膜厚１μｍあたり約１４〜約
１４０ｍｊ／ｃｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）であることを特
徴とするマイクロレンズの製造方法である。
感光性樹脂を用いてパターンを形成し、該パターンを加
熱することによりマイクロレンズを形成するマイクロレ
ンズの製造方法において、該パターンを形成した感光性
樹脂に、波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除いたＵ
Ｖ光を照射した後に、パターンを加熱してマイクロレン
ズを形成することを特徴とするマイクロレンズの製造方
法である。また、本発明は、上記発明のマイクロレンズ
の製造方法において、前記感光性樹脂がノボラック樹脂
を用いたポジ型感光性樹脂であることを特徴とするマイ
クロレンズの製造方法である。また、本発明は、上記発
明のマイクロレンズの製造方法において、前記ＵＶ光の
照射量が前記感光性樹脂の膜厚１μｍあたり約１４〜約
１４０ｍｊ／ｃｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）であることを特
徴とするマイクロレンズの製造方法である。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明によるマイクロレン
ズの製造方法を、その実施形態に基づいて説明する。図
１（イ）〜（ヘ）は、本発明におけるマイクロレンズの
製造方法の一実施例を示す断面図である。図１（イ）に
おける基板（１）としては、透明ガラス基板（コーニン
グ（株）製、低膨張ガラス、品番１７３７）を用いた。
ズの製造方法を、その実施形態に基づいて説明する。図
１（イ）〜（ヘ）は、本発明におけるマイクロレンズの
製造方法の一実施例を示す断面図である。図１（イ）に
おける基板（１）としては、透明ガラス基板（コーニン
グ（株）製、低膨張ガラス、品番１７３７）を用いた。
【００１４】先ず、図１（ロ）に示すように、基板
（１）上に感光性樹脂（２）を塗布する。使用する感光
性樹脂としては、基板上に塗布した感光性樹脂へのパタ
ーン露光、及び現像処理によりパターン形成され、ま
た、パターン形成後の加熱によってマイクロレンズを形
成するものであり、基板との密着性、耐光性、耐湿性、
耐熱性などを有し、且つ十分な透過率を有するものが好
ましい。
（１）上に感光性樹脂（２）を塗布する。使用する感光
性樹脂としては、基板上に塗布した感光性樹脂へのパタ
ーン露光、及び現像処理によりパターン形成され、ま
た、パターン形成後の加熱によってマイクロレンズを形
成するものであり、基板との密着性、耐光性、耐湿性、
耐熱性などを有し、且つ十分な透過率を有するものが好
ましい。
【００１５】このような感光性樹脂として、ノボラック
樹脂を用いたポジ型感光性樹脂がより好適なものであ
る。具体的には、感光性樹脂（２）は、ノボラック樹脂
を用いたポジ型感光性樹脂（東京応化工業（株）製、品
番ＴＭＲ−Ｐ３）を使用し、基板（１）上にスピンコー
ト法により乾燥後の膜厚が約３μｍになるように塗布し
た。塗布後に９０°Ｃ、９０秒のベーキングをおこなっ
た。
樹脂を用いたポジ型感光性樹脂がより好適なものであ
る。具体的には、感光性樹脂（２）は、ノボラック樹脂
を用いたポジ型感光性樹脂（東京応化工業（株）製、品
番ＴＭＲ−Ｐ３）を使用し、基板（１）上にスピンコー
ト法により乾燥後の膜厚が約３μｍになるように塗布し
た。塗布後に９０°Ｃ、９０秒のベーキングをおこなっ
た。
【００１６】次に、図１（ハ）に示すように、フォトマ
スク（３）を用いてＵＶ光照射（１０）により露光をお
こなう。光源には超高圧水銀灯を用いた。照射量として
は、感光性樹脂の膜厚１μｍあたり３３〜４０ｍｊ／ｃ
ｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）が適切なものである。露光後に
浸漬現像をおこない図１（ニ）に示すような感光性樹脂
のパターン（４）を形成した。現像液は指定現像液（東
京応化工業（株）製、品番ＮＭＤ−Ｗ（濃度２．５重量
％））を用いた。現像時間は３０〜５０秒が適切なもの
である。
スク（３）を用いてＵＶ光照射（１０）により露光をお
こなう。光源には超高圧水銀灯を用いた。照射量として
は、感光性樹脂の膜厚１μｍあたり３３〜４０ｍｊ／ｃ
ｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）が適切なものである。露光後に
浸漬現像をおこない図１（ニ）に示すような感光性樹脂
のパターン（４）を形成した。現像液は指定現像液（東
京応化工業（株）製、品番ＮＭＤ−Ｗ（濃度２．５重量
％））を用いた。現像時間は３０〜５０秒が適切なもの
である。
【００１７】次に、図１（ホ）に示すように、感光性樹
脂のパターン（４）の全面に、波長約３００ｎｍ以下の
ＵＶ光を取り除いたＵＶ光照射（２０）をおこなった。
光源には超高圧水銀灯を用い、波長約３００ｎｍ以下の
ＵＶ光を取り除くフィルタ（３０）を用いた。照射量と
しては、感光性樹脂の膜厚１μｍあたり約１４〜約１４
０ｍｊ／ｃｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）が適切なものであ
る。波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除くフィルタ
としては、石英が適切なものである。
脂のパターン（４）の全面に、波長約３００ｎｍ以下の
ＵＶ光を取り除いたＵＶ光照射（２０）をおこなった。
光源には超高圧水銀灯を用い、波長約３００ｎｍ以下の
ＵＶ光を取り除くフィルタ（３０）を用いた。照射量と
しては、感光性樹脂の膜厚１μｍあたり約１４〜約１４
０ｍｊ／ｃｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）が適切なものであ
る。波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除くフィルタ
としては、石英が適切なものである。
【００１８】前記のように、ノボラック樹脂を用いたポ
ジ型感光性樹脂には、ＵＶ光照射の照射量が多いと、感
光性樹脂のパターンの表面が硬化する傾向がみられ、こ
のＵＶ光照射の後の加熱により形成するマイクロレンズ
の表面の断面形状が損なわれる傾向にあるが、照射する
ＵＶ光の波長において、波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光
がパターンの表面を硬化させるのに大きく影響している
ものであり、照射するＵＶ光から、この波長約３００ｎ
ｍ以下のＵＶ光を取り除くことにより、パターンの表面
の硬化を防ぐことができ、またＵＶ照射量の適切な範囲
が拡大されてくるものとなる。
ジ型感光性樹脂には、ＵＶ光照射の照射量が多いと、感
光性樹脂のパターンの表面が硬化する傾向がみられ、こ
のＵＶ光照射の後の加熱により形成するマイクロレンズ
の表面の断面形状が損なわれる傾向にあるが、照射する
ＵＶ光の波長において、波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光
がパターンの表面を硬化させるのに大きく影響している
ものであり、照射するＵＶ光から、この波長約３００ｎ
ｍ以下のＵＶ光を取り除くことにより、パターンの表面
の硬化を防ぐことができ、またＵＶ照射量の適切な範囲
が拡大されてくるものとなる。
【００１９】この際、波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を
取り除いたＵＶ光は、マイクロレンズの透過率の向上に
影響するものではない。すなわち、波長約３００ｎｍ以
下のＵＶ光を取り除いたＵＶ光を、感光性樹脂の膜厚１
μｍあたり約１４〜約１４０ｍｊ／ｃｍ2 （ａｔ３６５
ｎｍ）の範囲の適切な照射量を与えることにより、ＵＶ
光照射によるマイクロレンズの透過率の向上を、再現よ
く、安定して容易に量産することを可能とし、また、加
熱により形成するマイクロレンズの表面の断面形状を、
より円弧状に形成することを、再現よく、安定して容易
に量産することを可能とするものである。
取り除いたＵＶ光は、マイクロレンズの透過率の向上に
影響するものではない。すなわち、波長約３００ｎｍ以
下のＵＶ光を取り除いたＵＶ光を、感光性樹脂の膜厚１
μｍあたり約１４〜約１４０ｍｊ／ｃｍ2 （ａｔ３６５
ｎｍ）の範囲の適切な照射量を与えることにより、ＵＶ
光照射によるマイクロレンズの透過率の向上を、再現よ
く、安定して容易に量産することを可能とし、また、加
熱により形成するマイクロレンズの表面の断面形状を、
より円弧状に形成することを、再現よく、安定して容易
に量産することを可能とするものである。
【００２０】次に、ホットプレートを用い加熱処理をお
こない図１（ヘ）に示すように、マイクロレンズ（５）
を形成した。加熱処理の条件としては、約１５０〜１７
０°Ｃ、約２〜５分が適切なものである。
こない図１（ヘ）に示すように、マイクロレンズ（５）
を形成した。加熱処理の条件としては、約１５０〜１７
０°Ｃ、約２〜５分が適切なものである。
【００２１】得られたマイクロレンズの表面の断面形状
は、波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除いたＵＶ光
照射が適切な照射量であったことによって、良好な円弧
状に形成されている。また、得られたマイクロレンズの
透過率は、波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除いた
ＵＶ光照射が適切な照射量であったことによって、透過
率が向上したものとなっている。
は、波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除いたＵＶ光
照射が適切な照射量であったことによって、良好な円弧
状に形成されている。また、得られたマイクロレンズの
透過率は、波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除いた
ＵＶ光照射が適切な照射量であったことによって、透過
率が向上したものとなっている。
【課題を解決するための手段】本発明は、透明基板上に
感光性樹脂を用いてパターンを形成し、パターンを加熱
することによりマイクロレンズを形成する際に、パター
ンを形成した感光性樹脂に、波長約３００ｎｍ以下のＵ
Ｖ光を取り除いたＵＶ光を照射した後に、パターンを加
熱してマイクロレンズを形成するので、ＵＶ光の照射量
が感光性樹脂の膜厚１μｍあたり約１４〜約１４０ｍｊ
／ｃｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）と広い範囲になり、ＵＶ光
照射によるマイクロレンズの透過率の向上を、再現よ
く、安定して容易に量産することが可能となり、また、
加熱により形成するマイクロレンズの表面の断面形状
を、より円弧状に形成することを、再現よく、安定して
容易に量産することが可能となる。
感光性樹脂を用いてパターンを形成し、パターンを加熱
することによりマイクロレンズを形成する際に、パター
ンを形成した感光性樹脂に、波長約３００ｎｍ以下のＵ
Ｖ光を取り除いたＵＶ光を照射した後に、パターンを加
熱してマイクロレンズを形成するので、ＵＶ光の照射量
が感光性樹脂の膜厚１μｍあたり約１４〜約１４０ｍｊ
／ｃｍ2 （ａｔ３６５ｎｍ）と広い範囲になり、ＵＶ光
照射によるマイクロレンズの透過率の向上を、再現よ
く、安定して容易に量産することが可能となり、また、
加熱により形成するマイクロレンズの表面の断面形状
を、より円弧状に形成することを、再現よく、安定して
容易に量産することが可能となる。
【図１】（イ）〜（ヘ）は、本発明によるマイクロレン
ズの製造方法の一実施例を示す断面図である。
ズの製造方法の一実施例を示す断面図である。
【図２】（イ）は、元のパターンの断面形状である。
（ロ）は、元のパターンの台形状の傾向を残し留めたマ
イクロレンズの表面の断面形状である。（ハ）は、マイ
クロレンズの円弧状表面の断面形状である。
（ロ）は、元のパターンの台形状の傾向を残し留めたマ
イクロレンズの表面の断面形状である。（ハ）は、マイ
クロレンズの円弧状表面の断面形状である。
【図３】マイクロレンズの透過率を比較して説明する図
である。
である。
１…基板 ２…感光性樹脂 ３…フォトマスク ４…感光性樹脂のパターン ５…マイクロレンズ １０…ＵＶ光照射 ２０…波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除いたＵＶ
光照射 ２２…元のパターン ２３…台形状の傾向を残し留めたマイクロレンズ ２４…表面が円弧状のマイクロレンズ ３０…波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除くフィル
タ
光照射 ２２…元のパターン ２３…台形状の傾向を残し留めたマイクロレンズ ２４…表面が円弧状のマイクロレンズ ３０…波長約３００ｎｍ以下のＵＶ光を取り除くフィル
タ
Claims (3)
- 【請求項１】透明基板上に感光性樹脂を用いてパターン
を形成し、該パターンを加熱することによりマイクロレ
ンズを形成するマイクロレンズの製造方法において、該
パターンを形成した感光性樹脂に、波長約３００ｎｍ以
下のＵＶ光を取り除いたＵＶ光を照射した後に、パター
ンを加熱してマイクロレンズを形成することを特徴とす
るマイクロレンズの製造方法。 - 【請求項２】前記感光性樹脂がノボラック樹脂を用いた
ポジ型感光性樹脂であることを特徴とする請求項１記載
のマイクロレンズの製造方法。 - 【請求項３】前記ＵＶ光の照射量が前記感光性樹脂の膜
厚１μｍあたり約１４〜約１４０ｍｊ／ｃｍ2 （ａｔ３
６５ｎｍ）であることを特徴とする請求項１、又は請求
項２記載のマイクロレンズの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10043642A JPH11242103A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | マイクロレンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10043642A JPH11242103A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | マイクロレンズの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11242103A true JPH11242103A (ja) | 1999-09-07 |
Family
ID=12669534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10043642A Pending JPH11242103A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | マイクロレンズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11242103A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6531266B1 (en) * | 2001-03-16 | 2003-03-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Rework procedure for the microlens element of a CMOS image sensor |
| CN100454070C (zh) * | 2005-09-02 | 2009-01-21 | 亚洲光学股份有限公司 | 微型镜头及其制造方法 |
| JP2010267683A (ja) * | 2009-05-12 | 2010-11-25 | Sharp Corp | レンズの形成方法、半導体装置の製造方法および電子情報機器 |
| JP2012525996A (ja) * | 2009-05-05 | 2012-10-25 | セッコ ゲーエムベーハー | 構造化表面が形成された物体の作製方法 |
-
1998
- 1998-02-25 JP JP10043642A patent/JPH11242103A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6531266B1 (en) * | 2001-03-16 | 2003-03-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Rework procedure for the microlens element of a CMOS image sensor |
| CN100454070C (zh) * | 2005-09-02 | 2009-01-21 | 亚洲光学股份有限公司 | 微型镜头及其制造方法 |
| JP2012525996A (ja) * | 2009-05-05 | 2012-10-25 | セッコ ゲーエムベーハー | 構造化表面が形成された物体の作製方法 |
| JP2010267683A (ja) * | 2009-05-12 | 2010-11-25 | Sharp Corp | レンズの形成方法、半導体装置の製造方法および電子情報機器 |
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