JPH11242227A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
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- JPH11242227A JPH11242227A JP4503898A JP4503898A JPH11242227A JP H11242227 A JPH11242227 A JP H11242227A JP 4503898 A JP4503898 A JP 4503898A JP 4503898 A JP4503898 A JP 4503898A JP H11242227 A JPH11242227 A JP H11242227A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 配向劣化および配向乱れがなく、表示均一性
に優れた高輝度、高コントラストの液晶表示装置および
その製造方法を提供する。 【解決手段】 ラビング処理した配向膜9の表面上に、
ポリビニルアルコールに感光基としてスチルバゾリウム
基を導入した溶剤としての水を含む感光性樹脂11と、
直径が約0.005mmのジビニルベンゼン系のスペー
サー10との混合物を、スピンナー法により感光性樹脂
11の最終膜厚が約0.001mmになるように塗布
し、乾燥する。そして、セグメント電極6上およびセグ
メント電極端子部に光が当たらないようにマスクをし
て、セグメント基板1の背面から露光する。次に、水の
現像液により現像して、未露光部分の感光性樹脂11お
よびその中に混合しているスペーサー10を除去する。
しかる後に加熱または光によってポストキュアして、ス
ペーサー10をセグメント電極端子部を除いてセグメン
ト基板1のセグメント電極6間および表示領域周辺に選
択固着する。
に優れた高輝度、高コントラストの液晶表示装置および
その製造方法を提供する。 【解決手段】 ラビング処理した配向膜9の表面上に、
ポリビニルアルコールに感光基としてスチルバゾリウム
基を導入した溶剤としての水を含む感光性樹脂11と、
直径が約0.005mmのジビニルベンゼン系のスペー
サー10との混合物を、スピンナー法により感光性樹脂
11の最終膜厚が約0.001mmになるように塗布
し、乾燥する。そして、セグメント電極6上およびセグ
メント電極端子部に光が当たらないようにマスクをし
て、セグメント基板1の背面から露光する。次に、水の
現像液により現像して、未露光部分の感光性樹脂11お
よびその中に混合しているスペーサー10を除去する。
しかる後に加熱または光によってポストキュアして、ス
ペーサー10をセグメント電極端子部を除いてセグメン
ト基板1のセグメント電極6間および表示領域周辺に選
択固着する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイ等との液晶複合型ディスプレイを含む液晶表示装置
およびその製造方法に関するものであり、特に一対の基
板間隔を制御するためのスペーサーを選択配置した液晶
表示装置およびその製造方法に関するものである。
レイ等との液晶複合型ディスプレイを含む液晶表示装置
およびその製造方法に関するものであり、特に一対の基
板間隔を制御するためのスペーサーを選択配置した液晶
表示装置およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、カラー表示およびモノクロ表示の
液晶表示装置では、スペーサーからの光漏れによるコン
トラストの低下を防止するため、画素間および表示領域
周辺部の遮光膜に対応する位置にドット状スペーサーを
固着する各種方法が提案されている。
液晶表示装置では、スペーサーからの光漏れによるコン
トラストの低下を防止するため、画素間および表示領域
周辺部の遮光膜に対応する位置にドット状スペーサーを
固着する各種方法が提案されている。
【0003】遮光膜に対応する位置にドット状スペーサ
ーを固着する層としては、配向膜に配向処理を施す前で
は、遮光膜の内部あるいは表面、配向膜の内部あるいは
表面、または配向膜上に設けた接着層の内部あるいは表
面等が提案されている。
ーを固着する層としては、配向膜に配向処理を施す前で
は、遮光膜の内部あるいは表面、配向膜の内部あるいは
表面、または配向膜上に設けた接着層の内部あるいは表
面等が提案されている。
【0004】これらの方法は、少なくとも一方の基板に
スペーサーを固着後、配向膜に配向処理を施すため、画
素間および表示領域周辺部に相当する箇所に固着したス
ペーサーがかなり大きな凸部となってラビング等の配向
処理時に邪魔となり、スペーサー近傍で配向処理が一様
にできなくなって表示コントラストを低下させる、また
は配向処理時にスペーサーが剥がれ落ちる等の問題点が
ある。さらに、配向処理が一様にできない箇所を大きめ
に形成した遮光膜によって被覆したとしても、開口率を
下げてしまうという問題点がある。
スペーサーを固着後、配向膜に配向処理を施すため、画
素間および表示領域周辺部に相当する箇所に固着したス
ペーサーがかなり大きな凸部となってラビング等の配向
処理時に邪魔となり、スペーサー近傍で配向処理が一様
にできなくなって表示コントラストを低下させる、また
は配向処理時にスペーサーが剥がれ落ちる等の問題点が
ある。さらに、配向処理が一様にできない箇所を大きめ
に形成した遮光膜によって被覆したとしても、開口率を
下げてしまうという問題点がある。
【0005】前述の問題点を解決する方法として、配向
膜に配向処理を施した後、フォトリソグラフィ技術によ
り、スペーサーを固定するための接着層とスペーサーと
を選択配置する方法が特開平6−301040号公報、
特開平7−270806号公報、または特開平8−28
6192号公報に開示されている。
膜に配向処理を施した後、フォトリソグラフィ技術によ
り、スペーサーを固定するための接着層とスペーサーと
を選択配置する方法が特開平6−301040号公報、
特開平7−270806号公報、または特開平8−28
6192号公報に開示されている。
【0006】特開平6−301040号公報に開示さ
れている方法では、図3に示すように、黒色色素を添加
したネガ型感光性樹脂51とスペーサー52との混合物
をスクリーン印刷法または凸版印刷法を用いて遮光膜5
3の開口部に配置し、基板54の背面より遮光膜53を
フォトマスクとして露光し、未露光部分を現像除去して
画素間等に感光性樹脂51とスペーサー52とを固定し
ている。尚、図3において、55は対向側の基板、56
は電極、57は配向膜、58は絶縁膜および59は液晶
層を示している。
れている方法では、図3に示すように、黒色色素を添加
したネガ型感光性樹脂51とスペーサー52との混合物
をスクリーン印刷法または凸版印刷法を用いて遮光膜5
3の開口部に配置し、基板54の背面より遮光膜53を
フォトマスクとして露光し、未露光部分を現像除去して
画素間等に感光性樹脂51とスペーサー52とを固定し
ている。尚、図3において、55は対向側の基板、56
は電極、57は配向膜、58は絶縁膜および59は液晶
層を示している。
【0007】特開平7−270806号公報に開示さ
れている方法では、図4に示すように、遮光膜用顔料と
熱溶融樹脂を含む感光性樹脂51を配向処理した配向膜
57上に塗布して乾燥し、選択露光する。そして、スペ
ーサー52を全面に散布し、熱処理する。次に、有機ア
ルカリ水溶液により、未露光部の感光性樹脂51とその
上のスペーサーを除去し、画素間等に感光性樹脂51と
スペーサー52とを固定している。感光性樹脂51は、
メタクリル樹脂と多官能アクリルモノマーを含むネガ型
である。尚、図4において、54は基板、55は対向側
の基板、56は電極、58は絶縁膜、59は液晶層、6
0はパッシベーション膜および61はカラーフィルター
層を示している。
れている方法では、図4に示すように、遮光膜用顔料と
熱溶融樹脂を含む感光性樹脂51を配向処理した配向膜
57上に塗布して乾燥し、選択露光する。そして、スペ
ーサー52を全面に散布し、熱処理する。次に、有機ア
ルカリ水溶液により、未露光部の感光性樹脂51とその
上のスペーサーを除去し、画素間等に感光性樹脂51と
スペーサー52とを固定している。感光性樹脂51は、
メタクリル樹脂と多官能アクリルモノマーを含むネガ型
である。尚、図4において、54は基板、55は対向側
の基板、56は電極、58は絶縁膜、59は液晶層、6
0はパッシベーション膜および61はカラーフィルター
層を示している。
【0008】特開平8−286192号公報に開示さ
れている方法では、図5に示すように、ネガ型フォトレ
ジストを配向処理した配向膜57上に塗布し、露光現像
後、全面に接着層63を形成し、未露光部分のネガ型フ
ォトレジストとその上の接着層を除去して画素間等の接
着層63を残し、スペーサー52を散布して、接着層6
3上以外のスペーサー52をエアーブロー等で除去し、
画素間等に接着層63とスペーサー52とを固定してい
る。尚、図5において、53は遮光膜、54は基板、5
5は対向側の基板、56は電極、58は絶縁膜、59は
液晶層、61はカラーフィルター層および62はオーバ
ーコート膜を示している。
れている方法では、図5に示すように、ネガ型フォトレ
ジストを配向処理した配向膜57上に塗布し、露光現像
後、全面に接着層63を形成し、未露光部分のネガ型フ
ォトレジストとその上の接着層を除去して画素間等の接
着層63を残し、スペーサー52を散布して、接着層6
3上以外のスペーサー52をエアーブロー等で除去し、
画素間等に接着層63とスペーサー52とを固定してい
る。尚、図5において、53は遮光膜、54は基板、5
5は対向側の基板、56は電極、58は絶縁膜、59は
液晶層、61はカラーフィルター層および62はオーバ
ーコート膜を示している。
【0009】前述の〜の方法は、感光性樹脂、感光
性樹脂の溶剤および現像液に関する詳細な説明は少な
い。しかし、感光性樹脂としては、アクリル酸エステル
系またはポリイミド系樹脂等の有機溶剤型が一般的であ
り、その溶剤としては、メチルエチルケトンの如きケト
ン類、メチルセロソルブアセテートの如き酢酸エステル
類、ブチルセロソルブの如きセロソルブ類、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルの如きエーテル類、N、
N−ジメチルホルムアミドまたはN−メチル−2−ピロ
リドンの如きアミド類、キシレンの如き芳香族類等が提
案され、その現像液としては、炭酸ナトリウムまたは水
酸化ナトリウム等の無機アルカリ水溶液、トリエタノー
ルアミン等の有機塩基または塩を含む有機アルカリ水溶
液が提案されている。
性樹脂の溶剤および現像液に関する詳細な説明は少な
い。しかし、感光性樹脂としては、アクリル酸エステル
系またはポリイミド系樹脂等の有機溶剤型が一般的であ
り、その溶剤としては、メチルエチルケトンの如きケト
ン類、メチルセロソルブアセテートの如き酢酸エステル
類、ブチルセロソルブの如きセロソルブ類、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルの如きエーテル類、N、
N−ジメチルホルムアミドまたはN−メチル−2−ピロ
リドンの如きアミド類、キシレンの如き芳香族類等が提
案され、その現像液としては、炭酸ナトリウムまたは水
酸化ナトリウム等の無機アルカリ水溶液、トリエタノー
ルアミン等の有機塩基または塩を含む有機アルカリ水溶
液が提案されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】前述の〜の方法
は、以下の問題点を有している。
は、以下の問題点を有している。
【0011】従来技術は、適切な現像液の選択によ
り、配向膜の洗浄効果があるとその公報に記載されてい
るが、配向処理された配向膜が配向乱れしないように感
光性樹脂および現像液の選択がなされていないため、コ
ントラストが充分に向上しない問題点がある。また、遮
光機能を満足するように黒色色素入りの感光性樹脂の膜
厚を厚くしなければならず、スペーサーを混合するにも
拘わらず面内のセル厚ばらつきを起こしやすい問題点が
ある。さらに、開口部を有する遮光膜を形成しているた
め、表示画素の開口率を高くすることができず、結果的
に輝度の向上およびコントラストの向上ができない問題
点もある。
り、配向膜の洗浄効果があるとその公報に記載されてい
るが、配向処理された配向膜が配向乱れしないように感
光性樹脂および現像液の選択がなされていないため、コ
ントラストが充分に向上しない問題点がある。また、遮
光機能を満足するように黒色色素入りの感光性樹脂の膜
厚を厚くしなければならず、スペーサーを混合するにも
拘わらず面内のセル厚ばらつきを起こしやすい問題点が
ある。さらに、開口部を有する遮光膜を形成しているた
め、表示画素の開口率を高くすることができず、結果的
に輝度の向上およびコントラストの向上ができない問題
点もある。
【0012】従来技術は、スペーサーを画素間および
表示領域周辺部に配置したにも拘わらず、コントラスト
が充分に向上しない問題点がある。このことは、感光性
樹脂に含まれる有機溶剤または感光性樹脂の現像に使用
するアルカリ水溶液によって、配向処理された有機配向
膜が膨潤等の影響を受けて配向劣化するものと考えられ
る。さらに、熱溶融性樹脂を熱処理する際の影響で配向
膜上に残査が残り、配向に影響を及ぼし、コントラスト
を低下する問題点がある。また、スペーサーの接触面積
が小さいために現像時にスペーサーが剥がれ落ち易く、
所望のセル厚が得にくいことから表示均一性に欠ける問
題点もある。このことは、熱溶融樹脂を含む感光性樹脂
の表面にスペーサーを散布して熱処理するだけでは、ア
ルカリ水溶液によって感光性樹脂とスペーサーとの接着
界面が影響を受けて、充分な接着力を形成できないもの
と考えられる。
表示領域周辺部に配置したにも拘わらず、コントラスト
が充分に向上しない問題点がある。このことは、感光性
樹脂に含まれる有機溶剤または感光性樹脂の現像に使用
するアルカリ水溶液によって、配向処理された有機配向
膜が膨潤等の影響を受けて配向劣化するものと考えられ
る。さらに、熱溶融性樹脂を熱処理する際の影響で配向
膜上に残査が残り、配向に影響を及ぼし、コントラスト
を低下する問題点がある。また、スペーサーの接触面積
が小さいために現像時にスペーサーが剥がれ落ち易く、
所望のセル厚が得にくいことから表示均一性に欠ける問
題点もある。このことは、熱溶融樹脂を含む感光性樹脂
の表面にスペーサーを散布して熱処理するだけでは、ア
ルカリ水溶液によって感光性樹脂とスペーサーとの接着
界面が影響を受けて、充分な接着力を形成できないもの
と考えられる。
【0013】従来技術は、フォトレジストに接着性が
ないまたは充分ではないため、別途接着層を配置してい
る。しかしながら、感光性樹脂の種類および現像液につ
いては何ら記載がないばかりか、一般的に未露光部の感
光性樹脂を現像する際に接着層へ影響を与えない現像液
を選択することが困難である。また、接着層を形成する
プロセスを増加させ、スペーサー以外の樹脂層がかなり
厚くなってセル厚制御が困難になり、表示均一性に欠け
る問題点を有する。
ないまたは充分ではないため、別途接着層を配置してい
る。しかしながら、感光性樹脂の種類および現像液につ
いては何ら記載がないばかりか、一般的に未露光部の感
光性樹脂を現像する際に接着層へ影響を与えない現像液
を選択することが困難である。また、接着層を形成する
プロセスを増加させ、スペーサー以外の樹脂層がかなり
厚くなってセル厚制御が困難になり、表示均一性に欠け
る問題点を有する。
【0014】本発明は、以上のような従来の問題点に鑑
みなされたものであって、配向劣化および配向乱れがな
く、表示均一性に優れた高輝度、高コントラストの液晶
表示装置およびその製造方法を提供することを目的とし
ている。
みなされたものであって、配向劣化および配向乱れがな
く、表示均一性に優れた高輝度、高コントラストの液晶
表示装置およびその製造方法を提供することを目的とし
ている。
【0015】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明の請求項1記載の液晶表示装置は、配向
膜が形成された一対の基板からなり、一方の基板には画
素間または表示領域周辺部に対応するように遮光膜が形
成され、何れか一方の基板には画素を除く領域にスペー
サーが配置され、前記一対の基板間に液晶層を有する液
晶表示装置において、前記スペーサーは、水溶性または
低級アルコール類に可溶かつ水または低級アルコール類
で現像可能な感光性樹脂によって、前記配向膜上に固着
されていることを特徴としている。
ために、本発明の請求項1記載の液晶表示装置は、配向
膜が形成された一対の基板からなり、一方の基板には画
素間または表示領域周辺部に対応するように遮光膜が形
成され、何れか一方の基板には画素を除く領域にスペー
サーが配置され、前記一対の基板間に液晶層を有する液
晶表示装置において、前記スペーサーは、水溶性または
低級アルコール類に可溶かつ水または低級アルコール類
で現像可能な感光性樹脂によって、前記配向膜上に固着
されていることを特徴としている。
【0016】請求項2記載の液晶表示装置は、請求項1
記載の液晶表示装置において、前記スペーサーは、前記
遮光膜が形成されていない基板の表示電極間または表示
領域周辺部に固着されていることを特徴としている。
記載の液晶表示装置において、前記スペーサーは、前記
遮光膜が形成されていない基板の表示電極間または表示
領域周辺部に固着されていることを特徴としている。
【0017】請求項3記載の液晶表示装置は、請求項1
記載の液晶表示装置において、前記スペーサーは、前記
遮光膜が形成されている基板の画素を除く領域または表
示領域周辺部に固着されていることを特徴としている。
記載の液晶表示装置において、前記スペーサーは、前記
遮光膜が形成されている基板の画素を除く領域または表
示領域周辺部に固着されていることを特徴としている。
【0018】請求項4記載の液晶表示装置は、請求項1
乃至請求項3記載の液晶表示装置において、前記スペー
サーは、端子部には配置されていないことを特徴として
いる。
乃至請求項3記載の液晶表示装置において、前記スペー
サーは、端子部には配置されていないことを特徴として
いる。
【0019】請求項5記載の液晶表示装置の製造方法
は、配向膜を一対の基板に形成し、一方の基板には画素
間または表示領域周辺部に対応するように遮光膜を形成
し、何れか一方の基板には画素を除く領域または表示領
域周辺部にスペーサーを配置し、前記一対の基板間に液
晶層を挟持する液晶表示装置の製造方法において、前記
配向膜に配向処理を施す工程と、配向処理を施した配向
膜上に、溶剤として水または低級アルコール類を含む感
光性樹脂とスペーサーとの混合物を配設する工程と、フ
ォトリソグラフィ技術によって前記混合物を露光する工
程と、前記混合物を水または低級アルコール類で現像す
る工程とを有することを特徴としている。
は、配向膜を一対の基板に形成し、一方の基板には画素
間または表示領域周辺部に対応するように遮光膜を形成
し、何れか一方の基板には画素を除く領域または表示領
域周辺部にスペーサーを配置し、前記一対の基板間に液
晶層を挟持する液晶表示装置の製造方法において、前記
配向膜に配向処理を施す工程と、配向処理を施した配向
膜上に、溶剤として水または低級アルコール類を含む感
光性樹脂とスペーサーとの混合物を配設する工程と、フ
ォトリソグラフィ技術によって前記混合物を露光する工
程と、前記混合物を水または低級アルコール類で現像す
る工程とを有することを特徴としている。
【0020】本発明の液晶表示装置によれば、スペーサ
ーが水溶性または低級アルコール類に可溶かつ水または
低級アルコール類で現像可能な感光性樹脂によって配向
膜上に固着されていることにより、ラビング等で配向処
理されたポリイミド系等の有機配向膜上に感光性樹脂を
塗布等により配設する際に、感光性樹脂に溶剤として含
まれる水または低級アルコール類は有機配向膜を侵しに
くく、有機配向膜の表面の配向状態を乱さないようにで
きる。また、配設した感光性樹脂をフォトリソグラフィ
技術によりパターン化して硬化させ、ウエット法により
現像する際に、有機配向膜が侵されにくい水または低級
アルコール類の現像液を用いることができ、有機配向膜
の表面の配向状態を乱さないようにできる。したがっ
て、配向処理した有機配向膜上に、配向劣化させずにパ
ターン化した感光性樹脂によってスペーサーを選択固着
させることができ、コントラストの高い液晶表示装置を
得ることができる。
ーが水溶性または低級アルコール類に可溶かつ水または
低級アルコール類で現像可能な感光性樹脂によって配向
膜上に固着されていることにより、ラビング等で配向処
理されたポリイミド系等の有機配向膜上に感光性樹脂を
塗布等により配設する際に、感光性樹脂に溶剤として含
まれる水または低級アルコール類は有機配向膜を侵しに
くく、有機配向膜の表面の配向状態を乱さないようにで
きる。また、配設した感光性樹脂をフォトリソグラフィ
技術によりパターン化して硬化させ、ウエット法により
現像する際に、有機配向膜が侵されにくい水または低級
アルコール類の現像液を用いることができ、有機配向膜
の表面の配向状態を乱さないようにできる。したがっ
て、配向処理した有機配向膜上に、配向劣化させずにパ
ターン化した感光性樹脂によってスペーサーを選択固着
させることができ、コントラストの高い液晶表示装置を
得ることができる。
【0021】また、スペーサーは遮光膜が形成されてい
ない基板の表示電極間または表示領域周辺部に固着され
ていることにより、遮光膜領域にスペーサーが隠れて配
置されるため、画素に最も近いスペーサー部で液晶層の
配向乱れがあったとしても、この配向乱れが画素部に達
することがなく、コントラストの高い液晶表示装置を得
ることができる。
ない基板の表示電極間または表示領域周辺部に固着され
ていることにより、遮光膜領域にスペーサーが隠れて配
置されるため、画素に最も近いスペーサー部で液晶層の
配向乱れがあったとしても、この配向乱れが画素部に達
することがなく、コントラストの高い液晶表示装置を得
ることができる。
【0022】また、スペーサーは遮光膜が形成されてい
る基板の画素を除く領域または表示領域周辺部に固着さ
れていることにより、一対の基板を貼り合わせる際の遮
光膜とスペーサーとの位置ずれがなく、コントラストの
高い液晶表示装置を得ることができる。
る基板の画素を除く領域または表示領域周辺部に固着さ
れていることにより、一対の基板を貼り合わせる際の遮
光膜とスペーサーとの位置ずれがなく、コントラストの
高い液晶表示装置を得ることができる。
【0023】さらに、スペーサーが端子部には配置され
ていないことにより、端子部とTCP、または端子部と
ICチップとの電極接続における信頼性を高くすること
ができる。
ていないことにより、端子部とTCP、または端子部と
ICチップとの電極接続における信頼性を高くすること
ができる。
【0024】本発明の液晶表示装置の製造方法によれ
ば、配向膜に配向処理を施す工程と、配向処理を施した
配向膜上に、溶剤として水または低級アルコール類を含
む感光性樹脂とスペーサーとの混合物を配設する工程
と、フォトリソグラフィ技術によって前記混合物を露光
する工程と、前記混合物を水または低級アルコール類で
現像する工程とを有することにより、ラビング等で配向
処理されたポリイミド系等の有機配向膜上に感光性樹脂
を塗布等により配設する際に、感光性樹脂に溶剤として
含まれる水または低級アルコール類は有機配向膜を侵し
にくく、有機配向膜の表面の配向状態を乱さないように
できる。また、配設した感光性樹脂をフォトリソグラフ
ィ技術によりパターン化して硬化させ、ウエット法によ
り現像する際に、有機配向膜が侵されにくい水または低
級アルコール類の現像液を用いることができ、有機配向
膜の表面の配向状態を乱さないようにできる。したがっ
て、配向処理した有機配向膜上に、配向劣化させずにパ
ターン化した感光性樹脂によってスペーサーを選択固着
させることができ、コントラストの高い液晶表示装置を
得ることができる。
ば、配向膜に配向処理を施す工程と、配向処理を施した
配向膜上に、溶剤として水または低級アルコール類を含
む感光性樹脂とスペーサーとの混合物を配設する工程
と、フォトリソグラフィ技術によって前記混合物を露光
する工程と、前記混合物を水または低級アルコール類で
現像する工程とを有することにより、ラビング等で配向
処理されたポリイミド系等の有機配向膜上に感光性樹脂
を塗布等により配設する際に、感光性樹脂に溶剤として
含まれる水または低級アルコール類は有機配向膜を侵し
にくく、有機配向膜の表面の配向状態を乱さないように
できる。また、配設した感光性樹脂をフォトリソグラフ
ィ技術によりパターン化して硬化させ、ウエット法によ
り現像する際に、有機配向膜が侵されにくい水または低
級アルコール類の現像液を用いることができ、有機配向
膜の表面の配向状態を乱さないようにできる。したがっ
て、配向処理した有機配向膜上に、配向劣化させずにパ
ターン化した感光性樹脂によってスペーサーを選択固着
させることができ、コントラストの高い液晶表示装置を
得ることができる。
【0025】
【発明の実施の形態】図1および図2を用いて、本発明
の実施の形態について説明する。
の実施の形態について説明する。
【0026】本発明に係る液晶表示装置は、配向処理さ
れた配向膜の表面に、水溶性または低級アルコール類に
可溶で、かつ水または低級アルコール類で現像可能な感
光性樹脂がパターン化配設されている。具体的にこの感
光性樹脂の材質としては、ポリビニルアルコール系、ポ
リアクリルアミド系、ポリビニルピロリドン系等を例示
できる。また、現像液としては、水、イソプロピルアル
コール、プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、
イソブチルアルコール、t−ブチルアルコール、エチル
アルコール、メチルアルコール、ペンチルアルコール、
ネオペンチルアルコール等の低級アルコール類、または
水と低級アルコール類との混合液を例示できる。この感
光性樹脂にはスペーサーを混合しておく。
れた配向膜の表面に、水溶性または低級アルコール類に
可溶で、かつ水または低級アルコール類で現像可能な感
光性樹脂がパターン化配設されている。具体的にこの感
光性樹脂の材質としては、ポリビニルアルコール系、ポ
リアクリルアミド系、ポリビニルピロリドン系等を例示
できる。また、現像液としては、水、イソプロピルアル
コール、プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、
イソブチルアルコール、t−ブチルアルコール、エチル
アルコール、メチルアルコール、ペンチルアルコール、
ネオペンチルアルコール等の低級アルコール類、または
水と低級アルコール類との混合液を例示できる。この感
光性樹脂にはスペーサーを混合しておく。
【0027】スペーサーと感光性樹脂との混合物の配向
膜表面への形成方法としては、スピンナー法、スプレー
法、フレキソ版コーター法等を用いることができる。
膜表面への形成方法としては、スピンナー法、スプレー
法、フレキソ版コーター法等を用いることができる。
【0028】液晶を挟む両基板は、一般的なSTN型ま
たはTFT方式等のように一対の基板とも電極を形成す
る場合と、IPS方式のTFT方式等のように片側の基
板のみに電極を形成する場合とがある。
たはTFT方式等のように一対の基板とも電極を形成す
る場合と、IPS方式のTFT方式等のように片側の基
板のみに電極を形成する場合とがある。
【0029】配向処理された配向膜としては、ラビング
法で形成されたもの、偏光照射の光配向で形成されたも
の、延伸法で形成されたもの、LB法で形成されたも
の、一対の配向処理された基板間で樹脂が配向硬化され
て形成されたもの等が含まれる。
法で形成されたもの、偏光照射の光配向で形成されたも
の、延伸法で形成されたもの、LB法で形成されたも
の、一対の配向処理された基板間で樹脂が配向硬化され
て形成されたもの等が含まれる。
【0030】(実施の形態1)図1は、本発明に係わる
カラー表示STN型液晶表示パネルの概略構成を示す断
面図である。図1において、1はセグメント基板、2は
コモン基板、3は遮光膜、4はカラーフィルター層、5
はオーバーコート膜、6はセグメント電極、7はコモン
電極、8は絶縁膜、9は配向膜、10はスペーサー、1
1は感光性樹脂、12は液晶層である。
カラー表示STN型液晶表示パネルの概略構成を示す断
面図である。図1において、1はセグメント基板、2は
コモン基板、3は遮光膜、4はカラーフィルター層、5
はオーバーコート膜、6はセグメント電極、7はコモン
電極、8は絶縁膜、9は配向膜、10はスペーサー、1
1は感光性樹脂、12は液晶層である。
【0031】図1に示すように、液晶表示パネルは、ガ
ラス等からなる一対の基板としてセグメント基板1とコ
モン基板2とからなる。
ラス等からなる一対の基板としてセグメント基板1とコ
モン基板2とからなる。
【0032】セグメント基板1には、その表面上にスト
ライプ状のセグメント電極6が形成され、セグメント電
極6の面を覆うように端子部等を除いて絶縁膜8が形成
され、さらに絶縁膜8上にポリイミドからなる配向膜9
が形成されている。配向膜9の表面はラビング処理され
ている。ラビング処理された配向膜9の表面に、端子部
を除いてストライプ状のセグメント電極6の間および表
示領域周辺に感光性樹脂11によってスペーサー10が
固定されている。
ライプ状のセグメント電極6が形成され、セグメント電
極6の面を覆うように端子部等を除いて絶縁膜8が形成
され、さらに絶縁膜8上にポリイミドからなる配向膜9
が形成されている。配向膜9の表面はラビング処理され
ている。ラビング処理された配向膜9の表面に、端子部
を除いてストライプ状のセグメント電極6の間および表
示領域周辺に感光性樹脂11によってスペーサー10が
固定されている。
【0033】コモン基板2には、その表面上にセグメン
ト電極6の位置に対応するようにカラーフィルター層
4、および樹脂またはメタルの遮光膜3が形成されてい
る。カラーフィルター層4および遮光膜3の上には、平
坦化機能を有するオーバーコート膜5が形成されてい
る。オーバーコート膜5の上にはストライプ状のコモン
電極7が形成されている。さらに、コモン電極7の面を
覆うようにポリイミドからなる配向膜9が形成されてい
る。配向膜9の表面はラビング処理されている。
ト電極6の位置に対応するようにカラーフィルター層
4、および樹脂またはメタルの遮光膜3が形成されてい
る。カラーフィルター層4および遮光膜3の上には、平
坦化機能を有するオーバーコート膜5が形成されてい
る。オーバーコート膜5の上にはストライプ状のコモン
電極7が形成されている。さらに、コモン電極7の面を
覆うようにポリイミドからなる配向膜9が形成されてい
る。配向膜9の表面はラビング処理されている。
【0034】このコモン基板2の表示領域周辺部には、
エポキシ樹脂をディスペンサー法またはスクリーン印刷
法で塗布乾燥してシール部を形成し、セグメント基板1
と重ねて貼り合わせた後、加熱加圧または低温加圧後加
熱してシール部を硬化させる。その後、シール部の切り
欠き部より液晶層12を充填し、過剰液晶を加圧押し出
後、光硬化性樹脂で液晶注入口を封止している。
エポキシ樹脂をディスペンサー法またはスクリーン印刷
法で塗布乾燥してシール部を形成し、セグメント基板1
と重ねて貼り合わせた後、加熱加圧または低温加圧後加
熱してシール部を硬化させる。その後、シール部の切り
欠き部より液晶層12を充填し、過剰液晶を加圧押し出
後、光硬化性樹脂で液晶注入口を封止している。
【0035】感光性樹脂11によるスペーサー10の固
定方法を詳しく説明する。絶縁膜8を形成したセグメン
ト基板1の表面に、ポリイミドからなる配向膜9をオフ
セット印刷法で塗布し、焼成する。次に、配向膜9の表
面を不織布等でラビングする。次に、ラビング処理した
配向膜9の表面上に、ポリビニルアルコールに感光基と
してスチルバゾリウム基を導入した溶剤としての水を含
む感光性樹脂11と、直径が約0.005mmのジビニ
ルベンゼン系のスペーサー10との混合物を、スピンナ
ー法により感光性樹脂11の最終膜厚が約0.001m
mになるように塗布し、乾燥する。
定方法を詳しく説明する。絶縁膜8を形成したセグメン
ト基板1の表面に、ポリイミドからなる配向膜9をオフ
セット印刷法で塗布し、焼成する。次に、配向膜9の表
面を不織布等でラビングする。次に、ラビング処理した
配向膜9の表面上に、ポリビニルアルコールに感光基と
してスチルバゾリウム基を導入した溶剤としての水を含
む感光性樹脂11と、直径が約0.005mmのジビニ
ルベンゼン系のスペーサー10との混合物を、スピンナ
ー法により感光性樹脂11の最終膜厚が約0.001m
mになるように塗布し、乾燥する。
【0036】そして、セグメント電極6上およびセグメ
ント電極端子部に光が当たらないようにマスクをして、
セグメント基板1の背面から露光する。次に、水の現像
液により現像して、未露光部分の感光性樹脂11および
その中に混合しているスペーサー10を除去する。しか
る後に加熱または光によってポストキュアして、スペー
サー10をセグメント電極端子部を除いてセグメント基
板1のセグメント電極6間および表示領域周辺に選択固
着する。スペーサー10の分布密度は、50〜300個
/mm2とする。
ント電極端子部に光が当たらないようにマスクをして、
セグメント基板1の背面から露光する。次に、水の現像
液により現像して、未露光部分の感光性樹脂11および
その中に混合しているスペーサー10を除去する。しか
る後に加熱または光によってポストキュアして、スペー
サー10をセグメント電極端子部を除いてセグメント基
板1のセグメント電極6間および表示領域周辺に選択固
着する。スペーサー10の分布密度は、50〜300個
/mm2とする。
【0037】このようにしてカラー表示STN型液晶表
示装置を作製し、配向状態と表示コントラストについて
評価を行い、その結果を表1に示す。
示装置を作製し、配向状態と表示コントラストについて
評価を行い、その結果を表1に示す。
【0038】(実施の形態2)溶剤として、水に代えて
イソプロピルアルコールを用いた他は実施の形態1と同
様にカラー表示STN型液晶表示装置を作製し、配向状
態と表示コントラストについて評価を行い、その結果を
表1に示す。
イソプロピルアルコールを用いた他は実施の形態1と同
様にカラー表示STN型液晶表示装置を作製し、配向状
態と表示コントラストについて評価を行い、その結果を
表1に示す。
【0039】(実施の形態3)溶剤として、水に代えて
重量比5:1の水とイソプロピルアルコールとの混合液
を用いた他は実施の形態1と同様にカラー表示STN型
液晶表示装置を作製し、配向状態と表示コントラストに
ついて評価を行い、その結果を表1に示す。
重量比5:1の水とイソプロピルアルコールとの混合液
を用いた他は実施の形態1と同様にカラー表示STN型
液晶表示装置を作製し、配向状態と表示コントラストに
ついて評価を行い、その結果を表1に示す。
【0040】(比較例1)ポリビニルアルコールに感光
基としてスチルバゾリウム基を導入した溶剤としての水
を含む感光性樹脂に代えて、アクリル酸エステル系樹脂
に溶剤としてのメチルエチルケトンを含むケトン類感光
性樹脂を用い、現像液としての水の代わりに炭酸ナトリ
ウム水溶液を用いる。そして、この感光性樹脂上にポリ
ビニルアルコールからなる酸素遮断膜を形成し、露光後
トリエタノールアミン水溶液で酸素除去する。その他は
実施の形態1と同様にカラー表示STN型液晶表示装置
を作製し、配向状態と表示コントラストについて評価を
行い、その結果を表1に示す。
基としてスチルバゾリウム基を導入した溶剤としての水
を含む感光性樹脂に代えて、アクリル酸エステル系樹脂
に溶剤としてのメチルエチルケトンを含むケトン類感光
性樹脂を用い、現像液としての水の代わりに炭酸ナトリ
ウム水溶液を用いる。そして、この感光性樹脂上にポリ
ビニルアルコールからなる酸素遮断膜を形成し、露光後
トリエタノールアミン水溶液で酸素除去する。その他は
実施の形態1と同様にカラー表示STN型液晶表示装置
を作製し、配向状態と表示コントラストについて評価を
行い、その結果を表1に示す。
【0041】(比較例2)ポリビニルアルコールに感光
基としてスチルバゾリウム基を導入した溶剤としての水
を含む感光性樹脂に代えて、ポリイミド系樹脂に溶剤と
してのN−メチル−2−ピロリドンを含むアミド類感光
性樹脂を用い、現像液としての水の代わりに重量比7:
2:1のN−メチル−2−ピロリドンとキシレンと水と
の混合液を用いた他は実施の形態1と同様にカラー表示
STN型液晶表示装置を作製し、配向状態と表示コント
ラストについて評価を行い、その結果を表1に示す。
基としてスチルバゾリウム基を導入した溶剤としての水
を含む感光性樹脂に代えて、ポリイミド系樹脂に溶剤と
してのN−メチル−2−ピロリドンを含むアミド類感光
性樹脂を用い、現像液としての水の代わりに重量比7:
2:1のN−メチル−2−ピロリドンとキシレンと水と
の混合液を用いた他は実施の形態1と同様にカラー表示
STN型液晶表示装置を作製し、配向状態と表示コント
ラストについて評価を行い、その結果を表1に示す。
【0042】(実施の形態4)図2は、本発明に係わる
他のカラー表示STN型液晶表示パネルの概略構成を示
す断面図である。
他のカラー表示STN型液晶表示パネルの概略構成を示
す断面図である。
【0043】図2に示すように、液晶表示パネルは、ガ
ラス等からなる一対の基板としてセグメント基板1とコ
モン基板2とからなる。
ラス等からなる一対の基板としてセグメント基板1とコ
モン基板2とからなる。
【0044】コモン基板2には、その表面上に画素の位
置に対応するようにカラーフィルター層4、および樹脂
またはメタルからなる格子状の遮光膜3が形成されてい
る。カラーフィルター層4および遮光膜3の上には、平
坦化機能を有するオーバーコート膜5が形成されてい
る。オーバーコート膜5の上にはストライプ状のコモン
電極7が形成されている。さらに、コモン電極2の面を
覆うようにポリイミドからなる配向膜9が形成されてい
る。配向膜9の表面はラビングされている。ラビング処
理された配向膜9の表面に、端子部を除いて遮光膜3の
幅と同等以下の幅で格子状に感光性樹脂11によってス
ペーサー10が固定されている。
置に対応するようにカラーフィルター層4、および樹脂
またはメタルからなる格子状の遮光膜3が形成されてい
る。カラーフィルター層4および遮光膜3の上には、平
坦化機能を有するオーバーコート膜5が形成されてい
る。オーバーコート膜5の上にはストライプ状のコモン
電極7が形成されている。さらに、コモン電極2の面を
覆うようにポリイミドからなる配向膜9が形成されてい
る。配向膜9の表面はラビングされている。ラビング処
理された配向膜9の表面に、端子部を除いて遮光膜3の
幅と同等以下の幅で格子状に感光性樹脂11によってス
ペーサー10が固定されている。
【0045】セグメント基板1には、その表面上にスト
ライプ状のセグメント電極6が形成され、セグメント電
極6の面を覆うように端子部等を除いて絶縁膜8が形成
され、さらに絶縁膜8上にポリイミドからなる配向膜9
が形成されている。配向膜9の表面はラビング処理され
ている。
ライプ状のセグメント電極6が形成され、セグメント電
極6の面を覆うように端子部等を除いて絶縁膜8が形成
され、さらに絶縁膜8上にポリイミドからなる配向膜9
が形成されている。配向膜9の表面はラビング処理され
ている。
【0046】このセグメント基板1の表示領域周辺部に
は、エポキシ樹脂をディスペンサー法またはスクリーン
印刷法で塗布乾燥してシール部を形成し、コモン基板2
と重ねて貼り合わせた後、加熱加圧または低温加圧後加
熱してシール部を硬化させる。その後、シール部の切り
欠き部より液晶層12を充填し、過剰液晶を加圧押し出
後、光硬化性樹脂で液晶注入口を封止している。
は、エポキシ樹脂をディスペンサー法またはスクリーン
印刷法で塗布乾燥してシール部を形成し、コモン基板2
と重ねて貼り合わせた後、加熱加圧または低温加圧後加
熱してシール部を硬化させる。その後、シール部の切り
欠き部より液晶層12を充填し、過剰液晶を加圧押し出
後、光硬化性樹脂で液晶注入口を封止している。
【0047】感光性樹脂11によるスペーサー10の固
定方法を詳しく説明する。カラーフィルター層4および
遮光膜3、オーバーコート膜5並びにコモン電極7を順
に形成したコモン基板2の表面に、ポリイミドからなる
配向膜9をオフセット印刷法で塗布し、焼成する。次
に、配向膜9の表面を不織布等でラビングする。次に、
ラビング処理した配向膜9の表面上に、ポリビニルアル
コールに感光基としてスチルバゾリウム基を導入した溶
剤としてのイソプロピルアルコールを含む感光性樹脂1
1と、直径が約0.005mmの接着性樹脂を被覆した
シリカ系のスペーサー10との混合物を、スピンナー法
により感光性樹脂11の最終膜厚が約0.001mmに
なるように塗布し、乾燥する。
定方法を詳しく説明する。カラーフィルター層4および
遮光膜3、オーバーコート膜5並びにコモン電極7を順
に形成したコモン基板2の表面に、ポリイミドからなる
配向膜9をオフセット印刷法で塗布し、焼成する。次
に、配向膜9の表面を不織布等でラビングする。次に、
ラビング処理した配向膜9の表面上に、ポリビニルアル
コールに感光基としてスチルバゾリウム基を導入した溶
剤としてのイソプロピルアルコールを含む感光性樹脂1
1と、直径が約0.005mmの接着性樹脂を被覆した
シリカ系のスペーサー10との混合物を、スピンナー法
により感光性樹脂11の最終膜厚が約0.001mmに
なるように塗布し、乾燥する。
【0048】そして、遮光膜3上の感光性樹脂11に、
遮光膜3の幅と同等以下の幅に光が照射されるようなマ
スクを用いて露光する。次に、重量比5:1の水とイソ
プロピルアルコールとの混合液からなる現像液により現
像して、未露光部分の感光性樹脂11およびその中に混
合しているスペーサー10を除去する。しかる後に加熱
または光によってポストキュアして、スペーサー10を
端子部を除いて画素を除く領域および表示領域周辺に選
択固着する。スペーサー10の分布密度は、50〜30
0個/mm2とする。
遮光膜3の幅と同等以下の幅に光が照射されるようなマ
スクを用いて露光する。次に、重量比5:1の水とイソ
プロピルアルコールとの混合液からなる現像液により現
像して、未露光部分の感光性樹脂11およびその中に混
合しているスペーサー10を除去する。しかる後に加熱
または光によってポストキュアして、スペーサー10を
端子部を除いて画素を除く領域および表示領域周辺に選
択固着する。スペーサー10の分布密度は、50〜30
0個/mm2とする。
【0049】このようにしてカラー表示STN型液晶表
示装置を作製し、配向状態と表示コントラストについて
評価を行い、その結果を表1に示す。
示装置を作製し、配向状態と表示コントラストについて
評価を行い、その結果を表1に示す。
【0050】
【表1】
【0051】表1に示すように、感光性樹脂の溶剤とし
て水または低級アルコール類を用い、感光性樹脂の現像
液として水または水と低級アルコール類との混合液を用
いた実施の形態1〜4では、配向状態およびコントラス
トとも良好な結果を示している。その他の比較例2では
やや良好な結果をしめしているが、比較例1では不良で
ある。
て水または低級アルコール類を用い、感光性樹脂の現像
液として水または水と低級アルコール類との混合液を用
いた実施の形態1〜4では、配向状態およびコントラス
トとも良好な結果を示している。その他の比較例2では
やや良好な結果をしめしているが、比較例1では不良で
ある。
【0052】
【発明の効果】以上の説明のように、本発明の液晶表示
装置によれば、スペーサーが水溶性または低級アルコー
ル類に可溶かつ水または低級アルコール類で現像可能な
感光性樹脂によって配向膜上に固着されていることによ
り、配向処理された配向膜上に感光性樹脂を塗布等によ
り配設する際に、配向膜の表面の配向状態を乱さないよ
うにできる。また、配設した感光性樹脂をフォトリソグ
ラフィ技術によりパターン化して硬化させ、ウエット法
により現像する際に、有機配向膜の表面の配向状態を乱
さないようにできる。したがって、配向処理した配向膜
上に、配向劣化させずにパターン化した感光性樹脂によ
ってスペーサーを選択固着させることができ、コントラ
ストの高い液晶表示装置を得ることができる。
装置によれば、スペーサーが水溶性または低級アルコー
ル類に可溶かつ水または低級アルコール類で現像可能な
感光性樹脂によって配向膜上に固着されていることによ
り、配向処理された配向膜上に感光性樹脂を塗布等によ
り配設する際に、配向膜の表面の配向状態を乱さないよ
うにできる。また、配設した感光性樹脂をフォトリソグ
ラフィ技術によりパターン化して硬化させ、ウエット法
により現像する際に、有機配向膜の表面の配向状態を乱
さないようにできる。したがって、配向処理した配向膜
上に、配向劣化させずにパターン化した感光性樹脂によ
ってスペーサーを選択固着させることができ、コントラ
ストの高い液晶表示装置を得ることができる。
【0053】また、スペーサーは遮光膜が形成されてい
ない基板の表示電極間または表示領域周辺部に固着され
ていることにより、遮光膜領域にスペーサーが隠れて配
置されるため、画素に最も近いスペーサー部で液晶層の
配向乱れがあったとしても、この配向乱れが画素部に達
することがなく、コントラストの高い液晶表示装置を得
ることができる。
ない基板の表示電極間または表示領域周辺部に固着され
ていることにより、遮光膜領域にスペーサーが隠れて配
置されるため、画素に最も近いスペーサー部で液晶層の
配向乱れがあったとしても、この配向乱れが画素部に達
することがなく、コントラストの高い液晶表示装置を得
ることができる。
【0054】また、スペーサーは遮光膜が形成されてい
る基板の画素を除く領域または表示領域周辺部に固着さ
れていることにより、一対の基板を貼り合わせる際の遮
光膜とスペーサーとの位置ずれがなく、コントラストの
高い液晶表示装置を得ることができる。
る基板の画素を除く領域または表示領域周辺部に固着さ
れていることにより、一対の基板を貼り合わせる際の遮
光膜とスペーサーとの位置ずれがなく、コントラストの
高い液晶表示装置を得ることができる。
【0055】さらに、スペーサーが端子部には配置され
ていないことにより、端子部とTCP、または端子部と
ICチップとの電極接続における信頼性を高くすること
ができる。
ていないことにより、端子部とTCP、または端子部と
ICチップとの電極接続における信頼性を高くすること
ができる。
【0056】本発明の液晶表示装置の製造方法によれ
ば、配向膜に配向処理を施す工程と、配向処理を施した
配向膜上に、溶剤として水または低級アルコール類を含
む感光性樹脂とスペーサーとの混合物を配設する工程
と、フォトリソグラフィ技術によって前記混合物を露光
する工程と、前記混合物を水または低級アルコール類で
現像する工程とを有することにより、配向処理された配
向膜上に感光性樹脂を塗布等により配設する際に、配向
膜の表面の配向状態を乱さないようにできる。また、配
設した感光性樹脂をフォトリソグラフィ技術によりパタ
ーン化して硬化させ、ウエット法により現像する際に、
配向膜の表面の配向状態を乱さないようにできる。した
がって、配向処理した配向膜上に、配向劣化させずにパ
ターン化した感光性樹脂によってスペーサーを選択固着
させることができ、コントラストの高い液晶表示装置を
得ることができる。
ば、配向膜に配向処理を施す工程と、配向処理を施した
配向膜上に、溶剤として水または低級アルコール類を含
む感光性樹脂とスペーサーとの混合物を配設する工程
と、フォトリソグラフィ技術によって前記混合物を露光
する工程と、前記混合物を水または低級アルコール類で
現像する工程とを有することにより、配向処理された配
向膜上に感光性樹脂を塗布等により配設する際に、配向
膜の表面の配向状態を乱さないようにできる。また、配
設した感光性樹脂をフォトリソグラフィ技術によりパタ
ーン化して硬化させ、ウエット法により現像する際に、
配向膜の表面の配向状態を乱さないようにできる。した
がって、配向処理した配向膜上に、配向劣化させずにパ
ターン化した感光性樹脂によってスペーサーを選択固着
させることができ、コントラストの高い液晶表示装置を
得ることができる。
【図1】本発明に係わるカラー表示STN型液晶表示パ
ネルの概略構成を示す断面図である。
ネルの概略構成を示す断面図である。
【図2】本発明に係わる他のカラー表示STN型液晶表
示パネルの概略構成を示す断面図である。
示パネルの概略構成を示す断面図である。
【図3】従来技術に係わる液晶表示装置の概略構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図4】従来技術に係わる液晶表示装置の概略構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図5】従来技術に係わる液晶表示装置の概略構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
1 セグメント基板 2 コモン基板 3 遮光膜 4 カラーフィルター層 5 オーバーコート膜 6 セグメント電極 7 コモン電極 8 絶縁膜 9 配向膜 10 スペーサー 11 感光性樹脂 12 液晶層 51 感光性樹脂 52 スペーサー 53 遮光膜 54 基板 55 対向側の基板 56 電極 57 配向膜 58 絶縁膜 59 液晶層 60 パッシベーション膜 61 カラーフィルター層 62 オーバーコート膜 63 接着層
Claims (5)
- 【請求項1】 配向膜が形成された一対の基板からな
り、一方の基板には画素間または表示領域周辺部に対応
するように遮光膜が形成され、何れか一方の基板には画
素を除く領域にスペーサーが配置され、前記一対の基板
間に液晶層を有する液晶表示装置において、 前記スペーサーは、水溶性または低級アルコール類に可
溶かつ水または低級アルコール類で現像可能な感光性樹
脂によって、前記配向膜上に固着されていることを特徴
とする液晶表示装置。 - 【請求項2】 前記スペーサーは、前記遮光膜が形成さ
れていない基板の表示電極間または表示領域周辺部に固
着されていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示
装置。 - 【請求項3】 前記スペーサーは、前記遮光膜が形成さ
れている基板の画素を除く領域または表示領域周辺部に
固着されていることを特徴とする請求項1記載の液晶表
示装置。 - 【請求項4】 前記スペーサーは、端子部には配置され
ていないことを特徴とする請求項1乃至請求項3記載の
液晶表示装置。 - 【請求項5】 配向膜を一対の基板に形成し、一方の基
板には画素間または表示領域周辺部に対応するように遮
光膜を形成し、何れか一方の基板には画素を除く領域ま
たは表示領域周辺部にスペーサーを配置し、前記一対の
基板間に液晶層を挟持する液晶表示装置の製造方法にお
いて、 前記配向膜に配向処理を施す工程と、 配向処理を施した配向膜上に、溶剤として水または低級
アルコール類を含む感光性樹脂とスペーサーとの混合物
を配設する工程と、 フォトリソグラフィ技術によって前記混合物を露光する
工程と、 前記混合物を水または低級アルコール類で現像する工程
とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4503898A JPH11242227A (ja) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4503898A JPH11242227A (ja) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11242227A true JPH11242227A (ja) | 1999-09-07 |
Family
ID=12708196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4503898A Pending JPH11242227A (ja) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11242227A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002323702A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Nippon Shokubai Co Ltd | 転写材料およびこれを用いた画像形成方法 |
| WO2007144998A1 (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置 |
| US20110228203A1 (en) * | 2010-03-19 | 2011-09-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display device provided with spacer particles and method of manufacturing the same |
-
1998
- 1998-02-26 JP JP4503898A patent/JPH11242227A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002323702A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Nippon Shokubai Co Ltd | 転写材料およびこれを用いた画像形成方法 |
| WO2007144998A1 (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置 |
| US20110228203A1 (en) * | 2010-03-19 | 2011-09-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display device provided with spacer particles and method of manufacturing the same |
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