JPH11246457A - ビスフェノール類の製造方法 - Google Patents

ビスフェノール類の製造方法

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JPH11246457A
JPH11246457A JP10052280A JP5228098A JPH11246457A JP H11246457 A JPH11246457 A JP H11246457A JP 10052280 A JP10052280 A JP 10052280A JP 5228098 A JP5228098 A JP 5228098A JP H11246457 A JPH11246457 A JP H11246457A
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JP
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bisphenols
phenols
hydroxyalkyl
reaction
bis
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Application number
JP10052280A
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English (en)
Inventor
Masahiro Shioya
昌弘 塩冶
Sunao Nagai
永井  直
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Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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Publication of JPH11246457A publication Critical patent/JPH11246457A/ja
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱可塑性重合体、界面活性剤、安定剤等の原
料として有用であるビスフェノール類を効率よく合成、
精製する方法を提供する。 【解決手段】 フェノール類(a)と、ジアルケニルベ
ンゼン類、ビス(ヒドロキシアルキル)ベンゼン類及び
(ヒドロキシアルキル)−アルケニルベンゼン類からな
る群から選ばれる少なくとも1種の化合物(b)又はモ
ノアルケニルフェノール類及びモノ(ヒドロキシアルキ
ル)フェノール類からなる群から選ばれる少なくとも1
種の化合物(c)とをヘテロポリ酸触媒存在下に反応さ
せることを特徴とするビスフェノール類の製造方法;並
びに反応終了後、ビスフェノール類を含有する反応混合
物を水洗し、次いで該反応混合物中のフェノール類を留
去させて濃縮し、この混合物から晶析によりビスフェノ
ール類を単離することを特徴とするビスフェノール類の
製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビスフェノール類
の製造方法に関する。該化合物は熱可塑性重合体、界面
活性剤、安定剤等の原料として有用である。
【0002】
【従来の技術】ビスフェノール類の製造方法に関して、
西独国特許明細書第2534558号及び特開昭58−
13528号公報にはα, α’−ジヒドロキシジイソプ
ロピルベンゼン類又はジイソプロペニルベンゼン類とフ
ェノール類とをイオン交換樹脂等の酸性触媒の存在下に
反応させてビスフェノール類を得る方法が記載されてい
る。
【0003】また、これらの方法では反応後以下のよう
にしてビスフェノール類を得ている。まず、ビスフェノ
ール類を含む反応混合液にリン酸水素二ナトリウム等の
塩基を加え中和を行う。これは反応の際にイオン交換樹
脂から遊離した酸がその後フェノール類の加熱、留去の
際にビスフェノール類の高沸点物化を引き起こすためで
ある。次に、フェノール類留去後のビスフェノール類を
含む混合液を水洗し、2度の晶析、その後のリスラリ
ー、乾燥を経てビスフェノール類を得ている。
【0004】しかし、これらの方法ではフェノール類の
使用量が多く、反応において80〜100℃という高温
な条件で行う必要がある。また、反応においてビスフェ
ノール類の位置異性体、及びビスフェノール類の高次付
加物がそれぞれ約10%副生するという問題点がある。
一方で、反応混合物から目的とするビスフェノール類を
分離、精製する際には、中和のための塩基が必要、ま
た、フェノール類を留去するための所要時間が長い、更
に精製後の単離収率が40〜60%と低いという問題点
がある。更に、反応において副生する前記の化合物を除
去するために複数回の晶析を行う必要がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ビスフェノ
ール類を効率よく合成及び精製する方法を提供すること
を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため従来とは異なる酸触媒を用いることによ
り反応が温和な条件で進行し、かつ、フェノール類の使
用量の削減が可能となると考えた。また、副生する不純
物の組成が従来と異なれば、晶析の回数を低減できると
考えた。
【0007】そこでまず、酸触媒の探索及び反応条件の
検討を行った。その結果、反応において適度な酸強度の
触媒を用いることにより反応速度が増加し、反応が円滑
に進行し、これまでよりも温和な条件で反応が進行する
ことを見出した。また、これまで約10%副生していた
ビスフェノール類の位置異性体の副生は2%未満まで抑
えられた。一方、溶媒を用いることによりフェノール類
の使用量が削減でき、更に反応終了後の残存する酸の除
去、及びフェノール類の留去が容易になると考えた。そ
の結果、反応溶媒としてトルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素系のものを用いることによりフェノール類
の使用量の削減が可能となり、かつ、酸及びフェノール
類の除去が容易になることがわかった。
【0008】また、反応終了後において、ビスフェノー
ル類の収量を増加させるには、不純物の溶解度を維持
し、かつ、ビスフェノール類の溶解度の小さい溶媒を晶
析等に用いることによりビスフェノール類の単離収率が
増加すると考えた。これにより、従来用いていた溶媒を
トルエンからキシレンに代えることによりビスフェノー
ル類の単離収率が増加した。
【0009】即ち、本発明は、以下の発明を包含する。 (1)フェノール類(a)と、ジアルケニルベンゼン
類、ビス(ヒドロキシアルキル)ベンゼン類及び(ヒド
ロキシアルキル)−アルケニルベンゼン類からなる群か
ら選ばれる少なくとも1種の化合物(b)又はモノアル
ケニルフェノール類及びモノ(ヒドロキシアルキル)フ
ェノール類からなる群から選ばれる少なくとも1種の化
合物(c)とをヘテロポリ酸触媒存在下に反応させるこ
とを特徴とするビスフェノール類の製造方法。 (2)ヘテロポリ酸がリンタングステン酸、ケイタング
ステン酸、リンモリブデン酸、ケイモリブデン酸、リン
タングステン酸セシウム、ケイタングステン酸セシウ
ム、リンモリブデン酸セシウム又はケイモリブデン酸セ
シウムである前記(1)に記載の方法。 (3)反応において、芳香族炭化水素を溶媒として用い
る前記(1)に記載の方法。 (4)反応終了後、ビスフェノール類を含有する反応混
合物を水洗し、次いで該反応混合物中のフェノール類を
留去させて濃縮し、この混合物から晶析によりビスフェ
ノール類を単離する前記(1)に記載の方法。 (5)晶析においてキシレンを溶媒として用いる前記
(4)に記載の方法。 (6)晶析を1回だけ行う前記(4)又は(5)に記載
の方法。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明のビスフェノール類
の製造方法について具体的に説明する。本発明の製造方
法では、反応の原料としてフェノール類(a)と、ジア
ルケニルベンゼン類、ビス(ヒドロキシアルキル)ベン
ゼン類及び(ヒドロキシアルキル)−アルケニルベンゼ
ン類からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物
(b)又はモノアルケニルフェノール類及びモノ(ヒド
ロキシアルキル)フェノール類からなる群から選ばれる
少なくとも1種の化合物(c)が選ばれる。
【0011】この場合、フェノール類としては、好まし
くはフェノール性水酸基を1個有する芳香族炭化水素、
例えばフェノール、o−又はp−クレゾール、o−又は
p−エチルフェノール、m−イソプロピルフェノール、
2,6−キシレノール、3,5−キシレノール、1−ナ
フトール、2−ナフトールが挙げられる。前記ジアルケ
ニルベンゼン類、(ヒドロキシアルキル)−アルケニル
ベンゼン類及びモノアルケニルフェノール類における
「アルケニル」基としては、好ましくは炭素数2〜6の
1−アルケニル基、例えばビニル基、イソプロペニル
基、1−エチルビニル基、1−プロピルビニル基が挙げ
られる。
【0012】前記ビス(ヒドロキシアルキル)ベンゼン
類、(ヒドロキシアルキル)−アルケニルベンゼン類及
びモノ(ヒドロキシアルキル)フェノール類における
「ヒドロキシアルキル」基としては、好ましくは炭素数
1〜6の1−ヒドロキシアルキル基、例えばヒドロキシ
メチル基、1−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシ−
1−メチルエチル基、1−ヒドロキシ−1−メチルプロ
ピル基、1−ヒドロキシ−1−エチルプロピル基が挙げ
られる。
【0013】前記ジアルケニルベンゼン類、ビス(ヒド
ロキシアルキル)ベンゼン類、(ヒドロキシアルキル)
−アルケニルベンゼン類、モノアルケニルフェノール類
及びモノ(ヒドロキシアルキル)フェノール類における
置換様式は、オルト、メタ、パラのいずれでもよい。本
発明でフェノール類(a)と反応させられる前記化合物
(b)において、ジアルケニルベンゼン類としては、具
体的にはジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベンゼ
ン、イソプロペニルビニルベンゼン、ビス(1−エチル
ビニル)ベンゼン等を例示できる。ビス(ヒドロキシア
ルキル)ベンゼン類としては、ビス(ヒドロキシメチ
ル)ベンゼン、ビス(1−ヒドロキシエチル)ベンゼ
ン、ビス(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)ベンゼ
ン、ビス(1−ヒドロキシ−1−メチルプロピル)ベン
ゼンを例示できる。(ヒドロキシアルキル)−アルケニ
ルベンゼン類としては、(1−ヒドロキシエチル)−ビ
ニルベンゼン、(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)
−ビニルベンゼン、(1−ヒドロキシエチル)−イソプ
ロペニルベンゼン、(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)−イソプロペニルベンゼン、(1−ヒドロキシ−1
−メチルプロピル)−(1−エチルビニル)ベンゼンが
挙げられる。
【0014】本発明でフェノール類(a)と反応させら
れる前記化合物(c)において、モノアルケニルフェノ
ール類としては、具体的にはビニルフェノール、イソプ
ロペニルフェノール、(1−エチルビニル)フェノール
等を例示できる。また、モノ(ヒドロキシアルキル)フ
ェノール類としては、具体的にはヒドロキシメチルフェ
ノール、1−ヒドロキシエチルフェノール、1−ヒドロ
キシ−1−メチルエチルフェノール、(1−ヒドロキシ
−1−メチルプロピル)フェノールを例示できる。
【0015】本発明では、フェノール類(a)と反応さ
せられる前記化合物(b)及び化合物(c)においては
同一の群から選ばれるいずれか一種を単独で使用しても
よいし、あるいは二種以上を混合物の形で用いてもよ
い。混合物の使用例として、例えばジイソプロペニルベ
ンゼン、ビス(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)ベ
ンゼン及び(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−イ
ソプロペニルベンゼンの混合物からなる化合物(b)と
フェノール類(a)を反応させる方法を示すことができ
る。
【0016】本発明においては、前記フェノール類
(a)と、前記化合物(b)又は前記化合物(c)とを
ヘテロポリ酸触媒存在下に反応させることによりビスフ
ェノール類を含有する反応混合物が得られる。該ビスフ
ェノール類としては、具体的には以下のものを例示でき
る。即ち、反応の原料に前記フェノール類(a)と前記
化合物(b)を用いた場合には、α, α’−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)−1,3−ジイソプロピルベンゼ
ン(ビスフェノールM)、α, α’−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン(ビ
スフェノールP)、α, α’−ビス(4−ヒドロキシ−
3−メチルフェニル)−1,3−ジイソプロピルベンゼ
ン、α, α’−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェ
ニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン、α, α’−
ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−
1,3−ジイソプロピルベンゼン、α, α’−ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−1,4−
ジイソプロピルベンゼン等のビスフェノール類を例示で
きる。
【0017】また、反応の原料に前記フェノール類
(a)と前記化合物(c)を用いた場合には、2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4
−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
プロパン、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(3
−ヒドロキシフェニル)プロパン等を例示できる。
【0018】ヘテロポリ酸としては、例えばリンタング
ステン酸、ケイタングステン酸、リンタングステン酸セ
シウム、ケイタングステン酸セシウム、リンモリブデン
酸、ケイモリブデン酸、リンモリブデン酸セシウム、ケ
イモリブデン酸セシウムが挙げられ、好ましくはリンタ
ングステン酸、ケイタングステン酸、リンタングステン
酸セシウムが用いられる。また、これらの触媒は連続し
て用いても活性の低下は見られない。
【0019】フェノール類(a)と、ジアルケニルベン
ゼン類、ビス(ヒドロキシアルキル)ベンゼン類及び
(ヒドロキシアルキル)−アルケニルベンゼン類からな
る群から選ばれる少なくとも1種の化合物(b)又はモ
ノアルケニルフェノール類及びモノ(ヒドロキシアルキ
ル)フェノール類からなる群から選ばれる少なくとも1
種の化合物(c)との反応は、通常窒素雰囲気下、前記
化合物(b)又は(c)に対し、フェノール類1〜10
0当量存在下、好ましくは2〜10当量存在下、ヘテロ
ポリ酸触媒0.001〜100当量、好ましくは0.0
1〜10当量存在下で行う。
【0020】溶媒は用いなくてもよいが、ベンゼン、ト
ルエン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、キシ
レン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素を用いた場合、反応が円
滑に進行する。中でも、トルエン、キシレンが好まし
い。また、これらの溶媒を混合して用いてもよい。な
お、溶媒量は重量比で前記化合物(b)あるいは(c)
に対して0.1〜100倍、好ましくは1〜10倍であ
る。
【0021】反応に際し、前記の基質、触媒、溶媒を一
括で仕込み反応させてもよいが、フェノール類、触媒、
溶媒の混合液に前記化合物(b)又は(c)を徐々にフ
ィードするのが望ましい。また、更に化合物(b)又は
(c)を先に挙げた溶媒で希釈したものをフィードする
のが好ましい。フィード時間、フィード温度に関して
は、通常、フィード時間は0.01〜100時間、好ま
しくは0.1〜10時間、フィード温度は−50〜20
0℃、好ましくは0〜100℃である。
【0022】フィード終了後、通常後反応を行う。後反
応は−50〜200℃、好ましくは0〜100℃で0.
01〜100時間、好ましくは0.1〜10時間であ
る。後反応終了後に触媒をろ別する。次に、反応中に遊
離した酸を除去する目的で、ろ別したろ液の洗浄を行
う。これは水洗のみでも除去は可能であるが、塩基を用
いて除去してもよい。用いる塩基としては水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸三
ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸水素二ナトリウ
ム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素ナトリウム、
リン酸二水素カリウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム
等の無機塩基、又はトリエチルアミン、ピリジン等の有
機塩基を挙げることができる。通常無機塩基の場合、濃
度が0.1〜30%の範囲にある水溶液にして用いる。
【0023】洗浄後の有機層から溶媒及び未反応のフェ
ノール類を蒸留により除去し、次に晶析を行う。晶析は
得られたビスフェノール類に対して重量比で0.1〜1
0倍の溶媒を用いて行う。用いる溶媒はトルエン、キシ
レン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素が好ましく、
中でもキシレンが好ましい。また、これらの溶媒を二種
以上混合して用いてもよい。一方、これらの溶媒に対し
て1〜10%の水を添加してもよい。これは、ビスフェ
ノール類の溶媒への溶解度を下げて晶析による回収率を
向上させるためである。
【0024】晶析は、通常30〜150℃、好ましくは
50〜100℃でビスフェノール類を前記溶媒に溶解
し、−50℃〜50℃、好ましくは0℃〜50℃まで徐
々に降温する。降温の所要時間は通常0.1〜10時
間、好ましくは0.5〜5時間である。晶析後、ろ過を
行い、得られたビスフェノール類をリスラリーさせる。
リスラリーに用いる溶媒は晶析の時に用いたものと同一
であることが好ましい。リスラリーの条件は、通常、ビ
スフェノール類に対して重量比で0.1〜10倍の溶
媒、温度0〜50℃、0.1〜5時間である。
【0025】リスラリー後、ビスフェノール類をろ過
し、得られた結晶を減圧下で乾燥させて目的とするビス
フェノール類を得ることができる。
【0026】
【実施例】以下に実施例を示すが、本発明はこれらの実
施例に何ら限定されるものではない。 (実施例1) (反応)200mlの3ツ口反応器にリンタングステン
酸7.5g(2.6mmol)、フェノール53.55
g(190mmol)及びキシレン30mlを入れ、窒
素雰囲気下、室温で撹拌しながらm−ジイソプロペニル
ベンゼン15.0g(31.5mmol)−キシレン3
0ml混合液を3時間かけて室温でフィードした。フィ
ード中に反応温度が35℃まで上昇した。フィード終了
後、室温で5分撹拌した後、リンタングステン酸をろ別
した。ろ液を液体クロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、目的物ビスフェノールM(α, α’−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−1,3−ジイソプロピルベンゼ
ン)が26.2g(収率80%)、位置異性体である
o,p−体(α−(4−ヒドロキシフェニル)−α’−
(2−ヒドロキシフェニル)−1,3−ジイソプロピル
ベンゼン)が0.56g得られたことを示した。 (精製)得られた反応液を100mlの水で2回洗浄し
た後、油層を減圧下、加熱してキシレン、フェノールを
留去した。留去後の濃縮液に3%含水キシレンを80g
加え、70℃に昇温し、溶解させた。溶解後、70℃で
1時間撹拌した後、30℃まで1時間半かけて降温し
た。この時、45℃付近からビスフェノールMの析出が
見られた。降温後、ビスフェノールMをろ別し、キシレ
ン20gで洗浄した。次にキシレン60gで室温、1時
間リスラリーさせて、ビスフェノールMを再度ろ別し
た。キシレン20gで洗浄した後、80℃、2.7kP
a(20mmHg)で7時間乾燥させてビスフェノール
Mを21.4g単離した。(収率65%、純度99.5
%、融点137.3〜138.0℃) (実施例2)実施例1において反応、精製をキシレンに
代えてトルエンで行ったところ、ビスフェノールMが反
応で26.4g(収率80%)、単離で17.3g得ら
れた(収率53%、純度99.5%)。また、反応で
o,p−体が0.53g副生した(収率1.6%)。
【0027】(実施例3)200mlの3ツ口反応器に
リンタングステン酸7.5g(2.6mmol)、フェ
ノール53.55g(190mmol)及びトルエン9
0mlを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながらm−
ジイソプロペニルベンゼン15.0g(31.5mmo
l)を1時間かけて室温でフィードした。フィード終了
後、室温で5分撹拌した後、リンタングステン酸をろ別
した。ろ液を液体クロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、目的物ビスフェノールM(α, α’−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−1,3−ジイソプロピルベンゼ
ン)が10.96g得られたことを示した(収率80
%)。
【0028】(比較例1〜6)実施例3において酸触媒
を代えた時の結果を表1に示す。
【0029】
【表1】
【0030】(実施例4〜5)実施例3においてリンタ
ングステン酸の代わりに他のヘテロポリ酸を用いた時の
結果を表2に示す。
【0031】
【表2】
【0032】(実施例6〜12)実施例3においてフェ
ノールの添加量、溶媒量、フィード温度、フィード時間
を変えて行った結果を表3に示す。
【0033】
【表3】
【0034】(実施例13)200mlの3ツ口反応器
にリンタングステン酸7.5g(2.6mmol)、フ
ェノール35.7g(126.7mmol)及びトルエ
ン30mlを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながら
p−ジイソプロペニルベンゼン15.0g(31.5m
mol)、フェノール17.85g(63.3mmo
l)及びトルエン30mlの混合液を3時間かけて室温
でフィードした。フィード終了後、室温で5分撹拌した
後、リンタングステン酸をろ別した。ろ液を液体クロマ
トグラフィーで分析したところ、目的物ビスフェノール
P(α, α’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,
4−ジイソプロピルベンゼン)が18.1g得られたこ
とを示した(収率56%)。
【0035】(実施例14)200mlの3ツ口反応器
にリンタングステン酸7.5g(2.6mmol)、フ
ェノール35.7g(126.7mmol)及びトルエ
ン30mlを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながら
1,3−ビス(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)ベ
ンゼン18.4g(31.5mmol)、フェノール1
7.85g(63.3mmol)及びトルエン30ml
の混合液を3時間かけて室温でフィードした。フィード
終了後、室温で5分撹拌した後、リンタングステン酸を
ろ別した。ろ液を液体クロマトグラフィーで分析したと
ころ、目的物ビスフェノールM(α, α’−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)−1,3−ジイソプロピルベンゼ
ン)が19.6g得られたことを示した(収率60
%)。
【0036】
【発明の効果】本発明によれば、ビスフェノール類を効
率よく製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 37/72 C07C 37/72 37/84 37/84 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フェノール類(a)と、ジアルケニルベ
    ンゼン類、ビス(ヒドロキシアルキル)ベンゼン類及び
    (ヒドロキシアルキル)−アルケニルベンゼン類からな
    る群から選ばれる少なくとも1種の化合物(b)又はモ
    ノアルケニルフェノール類及びモノ(ヒドロキシアルキ
    ル)フェノール類からなる群から選ばれる少なくとも1
    種の化合物(c)とをヘテロポリ酸触媒存在下に反応さ
    せることを特徴とするビスフェノール類の製造方法。
  2. 【請求項2】 ヘテロポリ酸がリンタングステン酸、ケ
    イタングステン酸、リンモリブデン酸、ケイモリブデン
    酸、リンタングステン酸セシウム、ケイタングステン酸
    セシウム、リンモリブデン酸セシウム又はケイモリブデ
    ン酸セシウムである請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 反応において、芳香族炭化水素を溶媒と
    して用いる請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】 反応終了後、ビスフェノール類を含有す
    る反応混合物を水洗し、次いで該反応混合物中のフェノ
    ール類を留去させて濃縮し、この混合物から晶析により
    ビスフェノール類を単離する請求項1記載の方法。
  5. 【請求項5】 晶析においてキシレンを溶媒として用い
    る請求項4記載の方法。
  6. 【請求項6】 晶析を1回だけ行う請求項4又は5記載
    の方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014065764A (ja) * 2012-09-24 2014-04-17 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルム、それを用いた偏光板および液晶表示装置
US9217814B2 (en) 2012-09-24 2015-12-22 Fujifilm Corporation Cellulose acylate film, a polarizing plate using the same and a liquid crystal display using the same

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