JPH11249171A5

JPH11249171A5 -

Info

Publication number: JPH11249171A5
Application number: JP1998062281A
Authority: JP
Filing date: 1998-02-26
Publication date: 2005-06-30
Anticipated expiration: 2018-02-26

Claims

絶縁表面を有する基板上にマトリクス状に配置された画素電極及びブラックマスクを有し、
前記画素電極には薄膜トランジスタが接続され、
前記薄膜トランジスタには容量が接続され、
前記容量は、前記ブラックマスクと、該ブラックマスクと接する無機絶縁膜と、前記無機絶縁膜と接する前記画素電極とで構成されていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
絶縁表面を有する基板上にマトリクス状に配置された画素電極及びブラックマスクを有し、
前記画素電極には薄膜トランジスタが接続され、
前記薄膜トランジスタには、第１の容量と第２の容量が接続され、
前記第１の容量は、前記ブラックマスクと、該ブラックマスク上の第１の無機絶縁膜と、前記第１の無機絶縁膜上の画素電極とで構成され、
前記第２の容量は、前記ブラックマスクと、該ブラックマスク下の第２の無機絶縁膜と、前記第２の無機絶縁膜下のドレイン電極とで構成されていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
絶縁表面を有する基板上に半導体層と、ゲート絶縁膜と、ゲート配線と、第１の層間絶縁膜と、を有し、
前記第１の層間絶縁膜上の、前記半導体層に形成されたソース領域と電気的に接続されたソース配線と、
前記第１の層間絶縁膜上の、前記半導体層に形成されたドレイン領域と電気的に接続されたドレイン配線と、
前記ソース配線及び前記ドレイン配線上の、第１の無機絶縁膜と第１の有機性樹脂膜からなる第２の層間絶縁膜と、を有し、
前記ソース配線は前記第１の無機絶縁膜及び第１の有機性樹脂膜によって覆われており、
前記ドレイン配線は前記第１の無機絶縁膜によって覆われており、
前記第１の有機性樹脂膜には前記ドレイン配線上において開口が設けられ、
前記ソース配線上には前記第１の無機絶縁膜及び前記第１の有機性樹脂膜を介してブラックマスクが設けられ、
前記ドレイン配線上には前記第１の無機絶縁膜を介してブラックマスクが設けられ、
前記ブラックマスク上には第２の無機絶縁膜が設けられ、
前記第２の無機絶縁膜上には第３の層間絶縁膜が設けられ、
前記第３の層間絶縁膜には前記ブラックマスク上において開口が設けられ、
前記第２の無機絶縁膜及び前記第３の層間絶縁膜上には画素電極が設けられ、
前記画素電極、前記第２の無機絶縁膜及び前記ブラックマスクによって第１の補助容量が形成され、
前記ブラックマスク、前記第１の無機絶縁膜及び前記ドレイン配線によって第２の補助容量が形成されていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
請求項１乃至３のいずれか一において、前記ブラックマスクは、バルブメタルで構成されていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
請求項１乃至４のいずれか一において、容量を構成する前記無機絶縁膜は、窒化珪素膜、酸化珪素膜、窒化酸化珪素膜、ＤＬＣ膜、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタンから選ばれた膜、またはこれらの積層膜で構成されていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
請求項１乃至５のいずれか一において、前記ブラックマスクのエッジは、テーパー形状を有していることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
請求項１乃至６のいずれか一において、前記ブラックマスクは、有機性樹脂膜上に形成されていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
請求項１乃至７のいずれか一に記載のアクティブマトリクス型表示装置を有するビデオカメラ、スチルカメラ、プロジェクター、ＴＶ、ヘッドマウントディスプレイ、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末。
絶縁表面を有する基板上に薄膜トランジスタを形成する第１の工程と、
前記薄膜トランジスタを覆って第１の層間絶縁膜を形成する第２の工程と、
前記第１の層間絶縁膜を覆って第２の層間絶縁膜を形成する第３の工程と、
前記第２の層間絶縁膜を覆ってブラックマスクを形成する第４の工程と、
前記ブラックマスクを覆って無機絶縁膜を形成する第５の工程と、
前記ブラックマスク及び無機絶縁膜とを選択的に除去する第６の工程と、
前記ブラックマスク及び無機絶縁膜を覆って第３の層間絶縁膜を形成する第７の工程と、
前記第３の層間絶縁膜を選択的に除去し、無機絶縁膜を露出する第８の工程と、
前記第３の層間絶縁膜を覆って透明性導電膜を形成する第９の工程とを有し、
前記無機絶縁膜を誘電体として、ブラックマスクと画素電極と無機絶縁膜とによって補助容量を形成することを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置の作製方法。
請求項９における第５の工程において、前記無機絶縁膜は、窒化珪素膜、酸化珪素膜、窒化酸化珪素膜、ＤＬＣ膜、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタンから選ばれた膜、またはこれらの積層膜で構成されていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置の作製方法。
請求項９における第５の工程において、前記無機絶縁膜は、バルブメタルで構成されたブラックマスクを陽極酸化して形成することを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置の作製方法。
絶縁表面を有する基板上に薄膜トランジスタを形成する第１の工程と、
前記薄膜トランジスタを覆って第１の層間絶縁膜を形成する第２の工程と、
前記第１の層間絶縁膜を覆って第２の層間絶縁膜を形成する第３の工程と、
前記第２の層間絶縁膜を覆ってバルブメタルで構成されたブラックマスクを形成する第４の工程と、
前記ブラックマスクを選択的に除去する第５の工程と、
前記ブラックマスクを陽極酸化して無機絶縁膜を形成する第６の工程と、
前記無機絶縁膜を覆って透明性導電膜を形成する第７の工程とを有し、
前記無機絶縁膜を誘電体として、ブラックマスクと画素電極と無機絶縁膜とによって補助容量を形成することを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置の作製方法。
請求項１２における第５の工程において、前記ブラックマスクのエッジは、テーパー形状に形成されることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置の作製方法。
請求項９乃至１３のいずれか一において、前記ブラックマスクは有機性樹脂で構成される第２の層間絶縁膜上に形成されることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置の作製方法。