JPH11255503A - 低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 製造過程での次亜塩素酸ソーダの過塩素化分
解反応を可及的に抑制し、かつ、容易に連続的な製造プ
ロセスを構成することができる低食塩次亜塩素酸ソーダ
水溶液の製造方法の提供。 【解決手段】 原料苛性ソーダ水溶液を塩素化する第一
塩素化工程と、この工程で得られた第一反応液を更に塩
素化する第二塩素化工程とを有し、第一塩素化工程で
は、濃度４０〜４８重量％の原料苛性ソーダ水溶液をこ
の第一塩素化工程で得られた第一反応液に導入し、得ら
れた第一混合液と濃度４０〜６５体積％の高濃度塩素ガ
スとを同じ流れ方向でかつ流量比（Ｌ／Ｇ）１００以上
の条件で気液接触させて塩素化反応を行い、第二塩素化
工程では、第一塩素化工程から抜き出された第一混合液
を濃度１０〜２０体積％の低濃度塩素ガスとを同じ流れ
方向でかつ流量比（Ｌ／Ｇ）２００以上の条件で気液接
触させて塩素化反応を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、食塩含有濃度の
低い低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液を効率的に製造する
方法に係り、特に低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液を連続
的に製造するのに適した低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】次亜塩素酸ソーダ水溶液は、一般工業の
工業薬品として、また、プール、上水道、下水道、及び
家庭用等の殺菌用途に、更には製紙工業、繊維工業等に
おける漂白用途や排水処理用薬品として広く用いられて
いる。そして、製品の次亜塩素酸ソーダ水溶液として
は、一般に、有効塩素濃度１２重量％を基準とし、反応
副生物である食塩を約１０重量％程度含有している汎用
の次亜塩素酸ソーダ水溶液と、食塩濃度が４重量％以下
の低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液とが市販されている。

【０００３】ここで、低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液を
製造する方法としては、４８重量％以上の高濃度苛性ソ
ーダ水溶液に塩素を反応させて有効塩素濃度３８重量％
以上で食塩濃度３重量％以下の高濃度次亜塩素酸ソーダ
水溶液を製造し、次いでこの高濃度次亜塩素酸ソーダ水
溶液を水で希釈して低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液を調
製する第一の方法（特開平６−３４５４１１号公報）
や、第１工程で比較的低濃度の苛性ソーダ水溶液に塩素
を反応させ、次いで、第２工程では第１工程で得られた
反応液に比較的高濃度の苛性ソーダ水溶液と塩素とを導
入して反応させ、これによって有効塩素濃度が比較的高
い、あるいは食塩濃度が比較的低い次亜塩素酸ソーダ水
溶液を製造する第二の方法（特開昭５９−５４６０５号
及び特開昭６０−８１００４号の各公報や特開平５−１
３９７０１号公報）等が提案されている。

【０００４】しかしながら、上記第一の方法において
は、４８重量％以上の高濃度苛性ソーダ水溶液を調製す
るための面倒な操作が必要になるほか、製造方式として
回分式を採用せざるを得なくて連続式で製造することが
できず、また、粘度が高いために過塩素化分解が進み易
くて収率が低下し、更に、回分式であるために副生食塩
の結晶が大きくならず、結果として固液分離が難しくな
り、付着損失も多くなるという問題がある。

【０００５】また、上記第二の方法においては、連続式
で所望の低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液を製造すること
ができるものの、原料として２種類の濃度の苛性ソーダ
水溶液を調製しなければならず、このために苛性ソーダ
水溶液の調製設備や保管設備が必要になり、また、気液
の流れが向流であるために気液接触界面での過塩素化反
応が避けられず、副生する食塩のうち析出する食塩の結
晶を粗大化させる（滞留）時間の設定が難しいという問
題もある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、製造過程での次亜塩素酸ソーダの過塩素化分解反応
を可及的に抑制することができ、しかも、効率的に低食
塩次亜塩素酸ソーダ水溶液を製造することができる方法
について鋭意検討した結果、塩素化反応を２段階で行
い、第１段階では、原料苛性ソーダ水溶液をこの第１段
階の塩素化反応の反応液と混合し、得られた混合液と高
濃度塩素ガスとを同じ流れ方向でかつ所定の流量比（Ｌ
／Ｇ）で気液接触せしめ、また、第２段階では第１段階
で得られた混合液と低濃度塩素ガスとを同じ流れ方向で
かつ所定の流量比（Ｌ／Ｇ）で気液接触せしめることに
より、所望の低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液を効率的に
製造できること、また、このような方法が連続的な製造
プロセスを構成するのに適していることを見出し、本発
明を完成した。

【０００７】従って、本発明の目的は、製造過程での次
亜塩素酸ソーダの過塩素化分解反応を可及的に抑制する
ことができ、これによって効率的に低食塩次亜塩素酸ソ
ーダ水溶液を製造することができるほか、容易に連続的
な製造プロセスを構成することができる低食塩次亜塩素
酸ソーダ水溶液の製造方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、原
料苛性ソーダ水溶液を塩素化する第一塩素化工程と、こ
の第一塩素化工程で得られた第一反応液を更に塩素化す
る第二塩素化工程とを有する次亜塩素酸ソーダ水溶液の
製造方法であり、上記第一塩素化工程では、濃度４０〜
４８重量％の原料苛性ソーダ水溶液をこの第一塩素化工
程で得られた第一反応液に導入し、得られた第一混合液
と濃度４０〜６５体積％の高濃度塩素ガスとを同じ流れ
方向でかつ流量比（Ｌ／Ｇ）１００以上の条件で気液接
触させて塩素化反応を行い、上記第二塩素化工程では、
上記第一塩素化工程から抜き出された第一混合液を濃度
１０〜２０体積％の低濃度塩素ガスとを同じ流れ方向で
かつ流量比（Ｌ／Ｇ）２００以上の条件で気液接触させ
て塩素化反応を行う、低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液の
製造方法である。

【０００９】本発明方法において、上記第一塩素化工程
で用いる原料苛性ソーダ水溶液については、通常その濃
度が４０〜４８重量％、好ましくは４２〜４５重量％で
あり、４０重量％より低いと目標とする食塩含有率より
低い所望の低食塩濃度の次亜塩素酸ソーダ水溶液を製造
するのが困難になり、また、４８重量％より高いと過塩
素化分解が多くなるという問題が生じる。また、この第
一塩素化工程で用いる塩素ガスについては、その濃度が
空気、窒素ガス等の不活性ガス等で希釈されて４０〜６
５体積％、好ましくは５０〜６０体積％の高濃度塩素ガ
スが用いられ、４０体積％より低いと反応装置が大きく
なるほか大量の希釈ガスが必要になり、また、６５体積
％より高いと過塩素化分解が多くなるという問題が生じ
る。

【００１０】この第一塩素化工程においては、上記原料
苛性ソーダ水溶液と高濃度塩素ガスとを同じ流れ方向
（すなわち、並流）でかつ流量比（Ｌ／Ｇ）１００以
上、好ましくは２００以上の条件で気液接触させる必要
がある。これら原料苛性ソーダ水溶液と高濃度塩素ガス
とを並流で気液接触させることにより、液体と気体との
ぶつかり合いによるフラッディング（溢流）が発生せ
ず、液体の流量を大きくすることができ、その結果とし
て吸収塔で析出した食塩を洗い流すことができ、しか
も、流量比（Ｌ／Ｇ）を１００以上と大きくすることに
より結果として第一反応液と第一混合液との間における
ＮａＯＨ濃度の差が小さくなり、原料苛性ソーダ水溶液
は第一反応液で大幅に希釈されて高濃度塩素ガスと反応
することになって、粘度の大幅な低減により熱及び物質
の拡散がよくなり、反応温度の局部的な上昇とこれに基
づく過塩素化反応を可及的に抑制することができる。

【００１１】ここで、この第一塩素化工程については、
好ましくは、目皿、半月板等で仕切られた複数の棚段を
有する第一吸収塔とこの第一吸収塔の塔底から抜き出さ
れた第一反応液が導入される第一循環槽とを備えた設備
を用い、原料苛性ソーダ水溶液を上記第一循環槽に導入
して原料苛性ソーダ水溶液と第一反応液との第一混合液
を調製し、この第一混合液の一部を第一吸収塔の塔頂に
戻すと共に高濃度塩素ガスを上記第一吸収塔に導入し、
これら第一混合液と高濃度塩素ガスとを並流かつ所定の
流量比（Ｌ／Ｇ）で気液接触せしめ、上記第一混合液の
残部をこの第一塩素化工程から抜き出すように構成する
のがよい。

【００１２】この第一塩素化工程において、上記原料苛
性ソーダ水溶液と第一反応液との混合割合は、通常得ら
れた第一混合液の組成が有効塩素濃度２１〜２５重量
％、ＮａＯＨ濃度５〜１０重量％、及び食塩濃度１８〜
２２重量％、好ましくは有効塩素濃度２３〜２５重量
％、ＮａＯＨ濃度５〜８重量％、及び食塩濃度２０〜２
２重量％となるように調整される。この第一混合液の組
成が上記範囲を逸脱すると、第二塩素化工程における反
応終点のコントロールが難しくなる等の問題が生じる虞
がある。

【００１３】また、上記第二塩素化工程では、上記第一
塩素化工程から抜き出された第一混合液と、空気、窒素
ガス等の不活性ガス、あるいは上記第一塩素化工程から
の排気ガス等により希釈されて濃度が１０〜２０体積
％、好ましくは１０〜１５体積％の低濃度塩素ガスと
を、同じ流れ方向（すなわち、並流）でかつ流量比（Ｌ
／Ｇ）２００以上、好ましくは４００以上の条件で気液
接触させる。ここで用いられる低濃度塩素ガスの濃度が
１０体積％より低いと反応装置が大きくなり、また、反
応終点までの反応（滞留）時間が長くなるという問題が
あり、また、２０体積％より高いと反応終点のコントロ
ールが難しくなるという問題が生じる。また、第二反応
液と低濃度塩素ガスとを向流接触させるとフラッディン
グ（溢流）が発生する虞があるという問題が生じ、ま
た、流量比（Ｌ／Ｇ）が２００より低いと過塩素化分解
が増加するという問題が生じる。

【００１４】ここで、第二塩素化工程では、好ましく
は、第一塩素化工程からの第一混合液をこの第二塩素化
工程で得られた第二反応液に導入し、得られた第二混合
液と濃度１０〜２０体積％の低濃度塩素ガスとを気液接
触させて塩素化反応を行うのががよく、より好ましく
は、上記第一塩素化工程の場合と同様に、第二吸収塔及
び第二循環槽とを備えた設備を用い、第一塩素化工程か
らの第一混合液を上記第二循環槽に導入してこの第一混
合液と第二吸収塔の塔底から抜き出された第二反応液と
の第二混合液を調製し、この第二混合液の一部を第二吸
収塔の塔頂に戻すと共に低濃度塩素ガスを上記第二吸収
塔に導入し、これら第二混合液と低濃度塩素ガスとを並
流かつ所定の流量比（Ｌ／Ｇ）で気液接触せしめ、上記
第二混合液の残部をこの第二塩素化工程から抜き出して
次亜塩素酸ソーダ水溶液を得るように構成するのがよ
い。

【００１５】本発明方法においては、上記第二塩素化工
程から抜き出された反応混合物、好ましくは第二混合液
は、例えば遠心濾過機、加圧濾過機等の固液分離装置に
より固液分離され、次いで濃度調整槽で軟水により濃度
調整されて所望の有効塩素濃度を有する次亜塩素酸ソー
ダにされ、この濃度調整槽から製品として抜き出され
る。また、固液分離により回収された副生食塩は、副生
食塩溶解設備を経て脱塩素設備に送られ、脱塩素されて
食塩電解用の原料食塩となる。

【００１６】本発明の方法は、回分式でも実施できる
が、第二塩素化工程で得られる反応混合物（第二混合
液）中の食塩の粒子が通常１００〜２００μｍ程度であ
って固液分離が極めて容易であることから、第一塩素化
工程と第二塩素化工程の設備をそれぞれ吸収塔及び循環
槽で構成し、製造プロセスを連続式に構成するのがよ
い。このように製造プロセスを連続式とすることによ
り、副生（析出）食塩が粗大化して付着による製品損失
を低減できるという利点も生じる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の方法に係る好適な
実施の形態を、添付図面の図１に示す実施のプロセスフ
ローに従って説明する。

【００１８】図１に示すように、第一塩素化工程は、目
皿で仕切られた複数の棚段を有する第一吸収塔１と、こ
の第一吸収塔１の下方に配置され、第一吸収塔の塔底か
ら抜き出される第一反応液が導入される第一循環槽２と
を備えた設備で構成されている。そして、原料苛性ソー
ダ水溶液は、上記第一循環槽２に導入され、この第一循
環槽２内で第一吸収塔１からの第一反応液と混合され、
得られた第一混合液の一部が第一吸収塔１の塔頂に循環
されると共に、この第一吸収塔の塔頂から導入される高
濃度塩素ガスと並流かつ所定の流量比（Ｌ／Ｇ）で気液
接触し、また、上記第一混合液の残部は上記第一循環槽
２から抜き出される。

【００１９】また、第二塩素化工程は、上記第一塩素化
工程の第一吸収塔１及び第一循環槽２と同様の第二吸収
塔３及び第二循環槽４を備えた設備で構成されている。
そして、第一塩素化工程から抜き出された第一混合液
は、上記第二循環槽４に導入され、この第二循環槽４内
で第二吸収塔３からの第二反応液と混合され、得られた
第二混合液の一部が第二吸収塔３の塔頂に循環されると
共に、この第二吸収塔の塔頂から導入される低濃度塩素
ガスと並流かつ所定の流量比（Ｌ／Ｇ）で気液接触し、
また、上記第二混合液の残部は上記第二循環槽４から抜
き出される。

【００２０】この第二循環槽４から抜き出された第二混
合液は、遠心濾過機等の固液分離装置５により固液分離
され、次いで濃度調整槽６で軟水により濃度調整されて
所望の有効塩素濃度を有する次亜塩素酸ソーダにされ、
この濃度調整槽６から製品として抜き出される。また、
固液分離装置５からは濾滓として副生食塩が回収され、
この副生食塩は図示外の副生食塩溶解設備を経て脱塩素
設備に送られ、脱塩素されて食塩電解用の原料となる。

【００２１】本発明方法においては、比較的ＮａＯＨ濃
度の高い原料苛性ソーダ水溶液を、第一塩素化工程で得
られ、ＮａＯＨ濃度の低下した第一反応液に導入してこ
の第一反応液と原料苛性ソーダ水溶液との第一混合液を
調製し、この第一混合液と高濃度塩素ガスとを気液接触
させて塩素化反応せしめ、しかも、この際にこれら第一
混合液と高濃度塩素ガスとを同じ流れ方向（並流）でか
つ流量比（Ｌ／Ｇ）１００以上の条件で気液接触させる
ので、原料苛性ソーダ水溶液と塩素ガスとの反応が穏や
かな条件下で行われることになり、急激な反応が抑制さ
れて部分的に過度に発熱するようなこともなく、生成し
た次亜塩素酸ソーダが食塩と酸素とに分解するのを可及
的に抑制することができる。

【００２２】しかも、本発明方法においては、原料苛性
ソーダ水溶液と塩素ガスとの反応を２段階で進めるよう
になっているので、第一塩素化工程で副生した食塩の結
晶が第二塩素化工程で副生する食塩の核になり、この第
二塩素化工程で成長するため、最終的に副生してくる食
塩の結晶粒子が大きくなり、第二塩素化工程から得られ
る反応混合物から副生した食塩を濾過法で容易に、か
つ、効率良く分離することができ、食塩含有量の少ない
低食塩次亜塩素酸ソーダを容易に製造することができ
る。

【００２３】

【実施例】以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明
を具体的に説明する。

【００２４】実施例１ 図１のプロセスフローに示すように、第一塩素化工程を
第一吸収塔１と第一循環槽２とで構成し、原料苛性ソー
ダ水溶液としてＮａＯＨ濃度４５重量％のものを用い、
この原料苛性ソーダ水溶液を上記第一循環槽２に１１７
ｋｇ／ｈｒの速度で連続的に導入した。また、この第一
塩素化工程では、第一吸収塔１の塔底から抜き出された
スラリー状の第一反応液を上記第一循環槽２に導入し、
この第一循環槽２内で上記原料苛性ソーダ水溶液と混合
してスラリー状の第一混合液とし、必要により第一循環
槽２への原料苛性ソーダ水溶液の導入量を加減してこの
第一混合液のＮａＯＨ濃度を約５重量％に維持した。

【００２５】上記第一循環槽２からは第一混合液を８６
４０ｋｇ／ｈｒの速度で抜き出し、その一部８４８２ｋ
ｇ／ｈｒ（５９００リットル／ｈｒ）を第一吸収塔１の
塔頂に戻すと共に、この第一吸収塔１にはその塔頂から
空気で５２体積％の濃度に希釈した高濃度塩素ガスを３
８．７ｋｇ／ｈｒ（２５ｍ³ ／ｈｒ）の速度で供給し、
これら第一混合液と高濃度塩素ガスとが互いに同じ方向
（並流）でかつ流量比（Ｌ／Ｇ）２２０の条件で第一吸
収塔１内を流下せしめ、その間に第一反応液で希釈され
た原料苛性ソーダ水溶液と高濃度塩素ガスとが気液接触
して塩素化反応を行うようにした。この間、第一吸収塔
１における反応温度は２５℃に維持された。

【００２６】また、第二塩素化工程は第二吸収塔３と第
二循環槽４で構成し、上記第一循環槽２から抜き出され
た第一混合液の残部（１５７．９ｋｇ／ｈｒ）を第二循
環槽４に連続的に導入した。また、この第二塩素化工程
では、第二吸収塔３の塔底から抜き出されたスラリー状
の第二反応液を上記第二循環槽４に導入し、この第二循
環槽４内で上記第一混合液と混合してスラリー状の第二
混合液とした。

【００２７】上記第二循環槽４からは第二混合液を１１
５２０ｋｇ／ｈｒの速度で抜き出し、その一部１１３５
８ｋｇ／ｈｒ（７９００リットル／ｈｒ）を第二吸収塔
３の塔頂に戻すと共に、この第二吸収塔には、その塔頂
から、第一吸収塔１の塔底から抜き出された排気で１２
体積％の濃度に希釈された低濃度塩素ガスを１９．３ｋ
ｇ／ｈｒ（１３ｍ³ ／ｈｒ）の速度で供給し、これら第
二混合液と低濃度塩素ガスとが互いに同じ方向（並流）
でかつ流量比（Ｌ／Ｇ）５９０の条件で第二吸収塔３内
を流下せしめ、その間に第二反応液で希釈された第一混
合液と低濃度塩素ガスとが気液接触して塩素化反応を行
うようにした。この間、第二吸収塔３における反応温度
は２５℃に維持された。

【００２８】上記第二循環槽４から抜き出された第二混
合液はそのＮａＯＨ濃度が約１．３重量％であって、こ
の第二循環槽４から第二塩素化工程の系外に抜き出され
た第二混合液（１６２．３ｋｇ／ｈｒ）の組成は、析出
食塩３２．５ｋｇ／ｈｒを除き、ＮａＣｌＯ：３３．６
重量％、溶解ＮａＣｌ：３．７重量％、及びＮａＯＨ：
１．６重量％であった。

【００２９】次に、このようにして得られた第二混合液
を固液分離装置５の遠心分離機に装入し、有効塩素濃度
約３４重量％の高濃度次亜塩素酸ソーダ１２８．１ｋｇ
／ｈｒを得ると共に、付着液５重量％の濾滓３４．２ｋ
ｇ／ｈｒを回収した。更に、得られた高濃度次亜塩素酸
ソーダを濃度調整槽６に導入し、この濃度調整槽６に導
入される軟水１９０ｋｇ／ｈｒで希釈して有効塩素濃度
を約１３．０重量％に調整し、濃度調整槽６から製品と
して低食塩次亜塩素酸ソーダ３１６ｋｇ／ｈｒを抜き出
した。

【００３０】得られた製品の低食塩次亜塩素酸ソーダ
は、そのＮａＯＨ濃度が０．６重量％であって、溶解Ｎ
ａＣｌ濃度は１．５重量％であった。また、第一塩素化
工程及び第二塩素化工程に供給した塩素量を基準とする
次亜塩素酸ソーダの収率は９３．７重量％であり、これ
ら第一塩素化工程及び第二塩素化工程で供給した塩素が
全て次亜塩素酸ソーダに変化したものとして計算される
過塩素化分解反応による次亜塩素酸ソーダの分解率は
５．３重量％であった。

【００３１】比較例１ 高濃度塩素ガスの第一吸収塔への導入位置及び低濃度塩
素ガスの第二吸収塔への導入位置をそれぞれ第一吸収塔
及び第二吸収塔の塔底部とした以外は、上記図１のプロ
セスフローと同様の設備を用いた。原料苛性ソーダ水溶
液としてＮａＯＨ濃度４５重量％のものを用い、この原
料苛性ソーダ水溶液を上記第一循環槽２に１１７ｋｇ／
ｈｒの速度で連続的に導入した。また、この第一塩素化
工程では、第一吸収塔１の塔底から抜き出されたスラリ
ー状の第一反応液を上記第一循環槽２に導入し、この第
一循環槽２内で上記原料苛性ソーダ水溶液と混合してス
ラリー状の第一混合液とし、必要により第一循環槽２へ
の原料苛性ソーダ水溶液の導入量を加減してこの第一混
合液のＮａＯＨ濃度を約５重量％に維持した。

【００３２】上記第一循環槽２からは第一混合液を３１
６８ｋｇ／ｈｒの速度で抜き出し、その一部３０１０ｋ
ｇ／ｈｒ（２１００リットル／ｈｒ）を第一吸収塔１の
塔頂に戻すと共に、この第一吸収塔１にはその塔底から
空気で５６体積％の濃度に希釈した高濃度塩素ガスを３
３．６ｋｇ／ｈｒ（２３ｍ³ ／ｈｒ）の速度で供給し、
これら第一混合液と高濃度塩素ガスとを互いに相対向す
る方向（向流）でかつ流量比（Ｌ／Ｇ）９０の条件で気
液接触せしめ、その間に第一反応液で希釈された原料苛
性ソーダ水溶液と高濃度塩素ガスとの塩素化反応を行う
ようにした。この間、第一吸収塔１における反応温度は
２５℃に維持された。

【００３３】また、上記第一循環槽２から抜き出された
第一混合液の残部（１５７．７ｋｇ／ｈｒ）を第二循環
槽４に連続的に導入した。また、この第二塩素化工程で
は、第二吸収塔３の塔底から抜き出されたスラリー状の
第二反応液を上記第二循環槽４に導入し、この第二循環
槽４内で上記第一混合液と混合してスラリー状の第二混
合液とした。

【００３４】上記第二循環槽４からは第二混合液を３１
６８ｋｇ／ｈｒの速度で抜き出し、その一部３００６ｋ
ｇ／ｈｒ（２０９０リットル／ｈｒ）を第二吸収塔３の
塔頂に戻すと共に、この第二吸収塔には、その塔底か
ら、第一吸収塔１の塔頂から抜き出された排気で１４体
積％の濃度に希釈された低濃度塩素ガスを１６．７ｋｇ
／ｈｒ（１１ｍ³ ／ｈｒ）の速度で供給し、これら第二
混合液と高濃度塩素ガスとを互いに相対向する方向（向
流）でかつ流量比（Ｌ／Ｇ）１８０の条件で気液接触せ
しめ、その間に第二反応液で希釈された第一混合液と低
濃度塩素ガスとの塩素化反応を行うようにした。この
間、第二吸収塔３における反応温度は２５℃に維持され
た。

【００３５】上記第二循環槽４から抜き出された第二混
合液はそのＮａＯＨ濃度が約１．４重量％であって、こ
の第二循環槽４から第二塩素化工程の系外に抜き出され
た第二混合液（１６２．０ｋｇ／ｈｒ）の組成は、析出
食塩３２．８ｋｇ／ｈｒを除き、ＮａＣｌＯ：３２．２
重量％、溶解ＮａＣｌ：４．１重量％、及びＮａＯＨ：
１．８重量％であった。

【００３６】次に、このようにして得られた第二混合液
を固液分離装置５の遠心分離機に装入し、有効塩素濃度
約３２重量％の高濃度次亜塩素酸ソーダ１２７．４ｋｇ
／ｈｒを得ると共に、付着液６重量％の濾滓３４．９ｋ
ｇ／ｈｒを回収した。更に、得られた高濃度次亜塩素酸
ソーダを濃度調整槽６に導入し、この濃度調整槽６に導
入される軟水１７３ｋｇ／ｈｒで希釈して有効塩素濃度
を約１３．０重量％に調整し、濃度調整槽６から製品と
して低食塩次亜塩素酸ソーダ３００ｋｇ／ｈｒを抜き出
した。

【００３７】得られた製品の低食塩次亜塩素酸ソーダ
は、そのＮａＯＨ濃度が０．８重量％であって、溶解Ｎ
ａＣｌ濃度は１．８重量％であった。また、第一塩素化
工程及び第二塩素化工程に供給した塩素量を基準とする
次亜塩素酸ソーダの収率は８９．５重量％であり、過塩
素化分解反応による次亜塩素酸ソーダの分解率は９．２
重量％あった。

【００３８】

【発明の効果】本発明方法によれば、製造過程での次亜
塩素酸ソーダの過塩素化分解反応を可及的に抑制するこ
とができ、これによって効率的に低食塩次亜塩素酸ソー
ダ水溶液を製造することができるほか、容易に連続的な
製造プロセスを構成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は、本発明の実施の一例に係る製造プロ
セスを示すフローチャートである。

【符号の説明】

１…第一吸収塔、２…第一循環槽、３…第二吸収塔、４
…第二循環槽、５…固液分離装置、６…濃度調整槽。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 原料苛性ソーダ水溶液を塩素化する第一
   塩素化工程と、この第一塩素化工程で得られた第一反応
   液を更に塩素化する第二塩素化工程とを有する次亜塩素
   酸ソーダ水溶液の製造方法であり、上記第一塩素化工程
   では、濃度４０〜４８重量％の原料苛性ソーダ水溶液を
   この第一塩素化工程で得られた第一反応液に導入し、得
   られた第一混合液と濃度４０〜６５体積％の高濃度塩素
   ガスとを同じ流れ方向でかつ流量比（Ｌ／Ｇ）１００以
   上の条件で気液接触させて塩素化反応を行い、上記第二
   塩素化工程では、上記第一塩素化工程から抜き出された
   第一混合液を濃度１０〜２０体積％の低濃度塩素ガスと
   を同じ流れ方向でかつ流量比（Ｌ／Ｇ）２００以上の条
   件で気液接触させて塩素化反応を行うことを特徴とする
   低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法。
2. 【請求項２】 第一塩素化工程は第一吸収塔及び第一循
   環槽を備えており、上記第一吸収塔からの第一反応液と
   原料苛性ソーダ水溶液とを上記第一循環槽に導入すると
   共に高濃度塩素ガスを上記第一吸収塔に導入し、第一循
   環槽から抜き出された第一反応液と原料苛性ソーダ水溶
   液との第一混合液の一部を第一吸収塔に循環させて上記
   高濃度塩素ガスと気液接触せしめ、上記第一混合液の残
   部をこの第一塩素化工程から抜き出す請求項１に記載の
   低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法。
3. 【請求項３】 第二塩素化工程では、第一塩素化工程か
   ら抜き出された第一混合液をこの第二塩素化工程で得ら
   れた第二反応液に導入し、得られた第二混合液と濃度１
   ０〜２０体積％の低濃度塩素ガスとを気液接触させる請
   求項１又は２に記載の低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液の
   製造方法。
4. 【請求項４】 第二塩素化工程は第二吸収塔及び第二循
   環槽を備えており、上記第二吸収塔からの第二反応液と
   第一塩素化工程からの第一混合液とを上記第二循環槽に
   導入すると共に低濃度塩素ガスを上記第二吸収塔に導入
   し、第二循環槽から抜き出された第二反応液と第一混合
   液との第二混合液の一部を第二吸収塔に循環させて上記
   低濃度塩素ガスと気液接触せしめ、第二混合液の残部を
   抜き出して次亜塩素酸ソーダ水溶液を得る請求項３に記
   載の低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法。
5. 【請求項５】 第一混合液は、そのＮａＯＨ濃度が５〜
   １０重量％に維持される請求項１〜４のいずれかに記載
   の低食塩次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法。