JPH11263737A - ベンゼン誘導体の製造方法 - Google Patents
ベンゼン誘導体の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2/00—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms
- C07C2/02—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by addition between unsaturated hydrocarbons
- C07C2/42—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by addition between unsaturated hydrocarbons homo- or co-oligomerisation with ring formation, not being a Diels-Alder conversion
- C07C2/48—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by addition between unsaturated hydrocarbons homo- or co-oligomerisation with ring formation, not being a Diels-Alder conversion of only hydrocarbons containing a carbon-to-carbon triple bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2531/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- C07C2531/16—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
- C07C2531/24—Phosphines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ベンゼン誘導体の製造方法の提供
【解決手段】 下記一般式(1)、(2) およ
び(3) 【化1】 (一般式(1)〜(3)中、R1〜R6、およびRは、
それぞれ、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
芳香族基、シリル基、アルコキシ基、エステル基、アミ
ノ基、を表す。但しこれらの基は、炭素数が1〜20で
ありかつ置換基を有していてもよい。またR1〜R4の
うち2つ以上が結合して環を形成していてもよい。Xは
ハロゲン化物イオン、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、芳香族基、シリル基、アルコキシ基、エステ
ル基、アミノ基、を表し、2つ以上金属に結合している
ときは異なっていてもかまわないし、それら2つ以上が
架橋していてもよい。そして、一般式(1)および
(2)中、Mは遷移金属、M’は遷移金属あるいは典型
金属、Lは配位子、n、mおよびyは0〜8の整数を表
す。)で表されるそれぞれメタラシクロペンタジエンと
金属化合物およびアセチレン類とを反応させる。
び(3) 【化1】 (一般式(1)〜(3)中、R1〜R6、およびRは、
それぞれ、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
芳香族基、シリル基、アルコキシ基、エステル基、アミ
ノ基、を表す。但しこれらの基は、炭素数が1〜20で
ありかつ置換基を有していてもよい。またR1〜R4の
うち2つ以上が結合して環を形成していてもよい。Xは
ハロゲン化物イオン、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、芳香族基、シリル基、アルコキシ基、エステ
ル基、アミノ基、を表し、2つ以上金属に結合している
ときは異なっていてもかまわないし、それら2つ以上が
架橋していてもよい。そして、一般式(1)および
(2)中、Mは遷移金属、M’は遷移金属あるいは典型
金属、Lは配位子、n、mおよびyは0〜8の整数を表
す。)で表されるそれぞれメタラシクロペンタジエンと
金属化合物およびアセチレン類とを反応させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ベンゼン誘導体の
製造方法に関するものである。ベンゼン誘導体は医薬品
や農薬の合成中間体および高分子のモノマーとして有用
な物質である。
製造方法に関するものである。ベンゼン誘導体は医薬品
や農薬の合成中間体および高分子のモノマーとして有用
な物質である。
【0002】
【従来の技術】従来、アセチレンの3量化によりベンゼ
ン誘導体が生成する反応は種々の遷移金属を用いて行わ
れていたが、3分子の異なるアセチレン類をワン・ポッ
トでカップリングさせ、高選択的に高収率でベンゼン誘
導体を合成する方法はTakahashi等のJ.Ch
em.Commun.1985,361.とJ.Am.
Chem.Soc.1998,120,1672.に報
告されているジルコニウム化合物と銅塩を組み合わせた
方法のみであった。しかしながらこの方法は3番目に加
えるアセチレンに必ず電子吸引性基を少なくともひとつ
持っていなければならず、種々のベンゼン誘導体を合成
する際に大きな問題となっていた。従ってこれまで3番
目のアセチレンとして電子供与性基をもつアセチレンを
利用し、3つの異なるアセチレン類から高選択的で高収
率でしかもワン・ポットで合成できるベンゼン誘導体の
製造方法は知られていなかった。
ン誘導体が生成する反応は種々の遷移金属を用いて行わ
れていたが、3分子の異なるアセチレン類をワン・ポッ
トでカップリングさせ、高選択的に高収率でベンゼン誘
導体を合成する方法はTakahashi等のJ.Ch
em.Commun.1985,361.とJ.Am.
Chem.Soc.1998,120,1672.に報
告されているジルコニウム化合物と銅塩を組み合わせた
方法のみであった。しかしながらこの方法は3番目に加
えるアセチレンに必ず電子吸引性基を少なくともひとつ
持っていなければならず、種々のベンゼン誘導体を合成
する際に大きな問題となっていた。従ってこれまで3番
目のアセチレンとして電子供与性基をもつアセチレンを
利用し、3つの異なるアセチレン類から高選択的で高収
率でしかもワン・ポットで合成できるベンゼン誘導体の
製造方法は知られていなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情を
鑑み鋭意努力して達成されたもので、その目的はアセチ
レン3分子からベンゼン誘導体を高選択的に高収率でし
かもワン・ポットでベンゼン誘導体を合成するもので、
しかも3番目のアセチレン類として電子供与性基をもつ
アセチレン類を利用できる新規な製造方法を提供するこ
とにある。特に3つの異なるアセチレン類を用いても高
選択的にベンゼン誘導体を製造できる新規な製造方法を
提供することにある。
鑑み鋭意努力して達成されたもので、その目的はアセチ
レン3分子からベンゼン誘導体を高選択的に高収率でし
かもワン・ポットでベンゼン誘導体を合成するもので、
しかも3番目のアセチレン類として電子供与性基をもつ
アセチレン類を利用できる新規な製造方法を提供するこ
とにある。特に3つの異なるアセチレン類を用いても高
選択的にベンゼン誘導体を製造できる新規な製造方法を
提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、まず、
下記一般式(1)で表されるメタラシクロペンタジエン
と下記一般式(2)で表される金属化合物と下記一般式
(3)で表されるアセチレン類との反応を特徴とする下
記一般式(4)で表されるベンゼン誘導体の製造方法に
存する。
下記一般式(1)で表されるメタラシクロペンタジエン
と下記一般式(2)で表される金属化合物と下記一般式
(3)で表されるアセチレン類との反応を特徴とする下
記一般式(4)で表されるベンゼン誘導体の製造方法に
存する。
【0005】
【化2】
【0006】(一般式(1)〜(3)中、R1〜R6、
およびRは、それぞれ、アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、芳香族基、シリル基、アルコキシ基、エス
テル基、アミノ基、を表す。但しこれらの基は、炭素数
が1〜20でありかつ置換基を有していてもよい。また
R1〜R4のうち2つ以上が結合して環を形成していて
もよい。Xはハロゲン化物イオン、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、芳香族基、シリル基、アルコキ
シ基、エステル基、アミノ基、を表し、2つ以上金属に
結合しているときは異なっていてもかまわないし、それ
ら2つ以上が架橋していてもよい。そして、一般式
(1)および(2)中、Mは遷移金属、M’は遷移金属
あるいは典型金属、Lは配位子、n、mおよびyは0〜
8の整数を表す。)
およびRは、それぞれ、アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、芳香族基、シリル基、アルコキシ基、エス
テル基、アミノ基、を表す。但しこれらの基は、炭素数
が1〜20でありかつ置換基を有していてもよい。また
R1〜R4のうち2つ以上が結合して環を形成していて
もよい。Xはハロゲン化物イオン、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、芳香族基、シリル基、アルコキ
シ基、エステル基、アミノ基、を表し、2つ以上金属に
結合しているときは異なっていてもかまわないし、それ
ら2つ以上が架橋していてもよい。そして、一般式
(1)および(2)中、Mは遷移金属、M’は遷移金属
あるいは典型金属、Lは配位子、n、mおよびyは0〜
8の整数を表す。)
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
まず、下記一般式(1)で表されるメタラシクロペンタ
ジエンについて説明する。
まず、下記一般式(1)で表されるメタラシクロペンタ
ジエンについて説明する。
【0008】
【化3】
【0009】一般式(1)中、Mは遷移金属を表す。遷
移金属は周期律表上の3〜10族の金属を意味する。遷
移金属としては、特に制限されないが、好ましくは3〜
6族の遷移金属、更に好ましくは、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム等の4族の遷移金属およびバナジウム、
ニオブ、タンタル等の5族の遷移金属である。
移金属は周期律表上の3〜10族の金属を意味する。遷
移金属としては、特に制限されないが、好ましくは3〜
6族の遷移金属、更に好ましくは、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム等の4族の遷移金属およびバナジウム、
ニオブ、タンタル等の5族の遷移金属である。
【0010】一般式(1)中、Lは配位子を表し、その
具体例としては、シクロペンタジエニル基、インデニル
基、フルオレニル基、アズレニル基、炭化水素オキシ
基、アミド基アセチルアセトナート基、カルボキシ基、
ホスフィン配位子、アミン配位子、エーテル配位子、及
びこれらが適当な架橋基により、連結した配位子、を有
する化合物が挙げられる。なお、上記の各基は、いずれ
も、置換基を有していてもよい。また、一般式(1)
中、nは0〜8、好ましくは1〜4の整数を表す。そし
て、nが2以上の場合における各配位子は、同一であっ
ても異なっていてもよい。
具体例としては、シクロペンタジエニル基、インデニル
基、フルオレニル基、アズレニル基、炭化水素オキシ
基、アミド基アセチルアセトナート基、カルボキシ基、
ホスフィン配位子、アミン配位子、エーテル配位子、及
びこれらが適当な架橋基により、連結した配位子、を有
する化合物が挙げられる。なお、上記の各基は、いずれ
も、置換基を有していてもよい。また、一般式(1)
中、nは0〜8、好ましくは1〜4の整数を表す。そし
て、nが2以上の場合における各配位子は、同一であっ
ても異なっていてもよい。
【0011】一般式(1)中、R1〜R4はそれぞれ、
アルキル基、アルケニル基、芳香族基、シリル基、アル
コキシ基、エステル基を表す。但し、これらの基は、炭
素数が1〜20でありかつ置換基を有していてもよい。
アルキル基、アルケニル基、芳香族基、シリル基、アル
コキシ基、エステル基を表す。但し、これらの基は、炭
素数が1〜20でありかつ置換基を有していてもよい。
【0012】上記のR1〜R4の具体例としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、、ブチル、イソ
ブチル、t−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシ
ル、オクチル、ノニル、デシル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロオクチル等のアルキル基、ビニル、
アリル、1−プロペニル、1、2又は3−ブテニル、1
〜5−ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニ
ル、シクロオクテニル等のアルケニル基、フェニル、ナ
フチル、トリル、キシリル等の芳香族基、トリメチルシ
リル、トリエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエ
トキシシリル、ジフェニルメチルシリル、ジメチルフェ
ニルシリル、トリフェニルシリル等のシリル基、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、t−ブトキシなどのアルコキシ基、
フェノキシ、ナフトキシ等のアリロキシ基、メチルカル
ボキシレート、エチルカルボキシレート、プロピルカル
ボキシレート、イソプロピルカルボキシレート、ブチル
カルボキシレート、イソブチルカルボキシレート、t−
ブチルカルボキシレートフェニルカルボキシレート等の
エステル基が挙げられる。
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、、ブチル、イソ
ブチル、t−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシ
ル、オクチル、ノニル、デシル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロオクチル等のアルキル基、ビニル、
アリル、1−プロペニル、1、2又は3−ブテニル、1
〜5−ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニ
ル、シクロオクテニル等のアルケニル基、フェニル、ナ
フチル、トリル、キシリル等の芳香族基、トリメチルシ
リル、トリエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエ
トキシシリル、ジフェニルメチルシリル、ジメチルフェ
ニルシリル、トリフェニルシリル等のシリル基、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、t−ブトキシなどのアルコキシ基、
フェノキシ、ナフトキシ等のアリロキシ基、メチルカル
ボキシレート、エチルカルボキシレート、プロピルカル
ボキシレート、イソプロピルカルボキシレート、ブチル
カルボキシレート、イソブチルカルボキシレート、t−
ブチルカルボキシレートフェニルカルボキシレート等の
エステル基が挙げられる。
【0013】上記中では、メチル、エチル、n−ブチ
ル、t−ブチル、ヘキシル、フェニル、トリメチルシリ
ル、メチルカルボキシレート、エチルカルボキシレー
ト、t−ブチルカルボキシレート、フェニルカルボキシ
レートが好ましく、エチル、n−ブチル、t−ブチル、
ヘキシル、トリメチルシリル、メチルカルボキシレート
が更に好ましい。
ル、t−ブチル、ヘキシル、フェニル、トリメチルシリ
ル、メチルカルボキシレート、エチルカルボキシレー
ト、t−ブチルカルボキシレート、フェニルカルボキシ
レートが好ましく、エチル、n−ブチル、t−ブチル、
ヘキシル、トリメチルシリル、メチルカルボキシレート
が更に好ましい。
【0014】一般式(1)で表されるメタラシクロペン
タジエンは、対応する遷移金属化合物と2分子のアセチ
レン化合物または1分子のジインとの反応で得ることが
できる。
タジエンは、対応する遷移金属化合物と2分子のアセチ
レン化合物または1分子のジインとの反応で得ることが
できる。
【0015】用いる金属化合物(2)の金属は通常遷移
金属でも典型金属でもよいし、2つ以上の金属を含んだ
複合金属化合物でもよい。好ましくは少なくとも1つの
金属は遷移金属を含むのがよい。
金属でも典型金属でもよいし、2つ以上の金属を含んだ
複合金属化合物でもよい。好ましくは少なくとも1つの
金属は遷移金属を含むのがよい。
【0016】用いる金属化合物としては鉄、コバルト、
ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミ
ウム、イリジウム、白金、レニウム、マンガン、クロ
ム、モリブデン、タングステンであり、好ましくはニッ
ケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、コバルト、
鉄である等の周期表8族の遷移金属である。さらに好ま
しくはニッケル、パラジウムである。
ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミ
ウム、イリジウム、白金、レニウム、マンガン、クロ
ム、モリブデン、タングステンであり、好ましくはニッ
ケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、コバルト、
鉄である等の周期表8族の遷移金属である。さらに好ま
しくはニッケル、パラジウムである。
【0017】これらの一般式(2)で表される金属化合
物の量は通常0.001〜10当量、好ましくは0.1
〜3当量用いるのがよい。
物の量は通常0.001〜10当量、好ましくは0.1
〜3当量用いるのがよい。
【0018】各工程は非プロトン性溶媒の存在下、窒素
やアルゴン等の不活性ガス下で行うのが好ましい。非プ
ロトンの溶媒としては、例えば、トルエンのような炭化
水素溶媒、クロロベンゼン、メチレンクロリドのような
ハロゲン化炭化水素溶媒、エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシメタンのようなエーテル系溶媒が
挙げられる。これらの中で好ましくはテトラヒドロフラ
ンが好ましい。
やアルゴン等の不活性ガス下で行うのが好ましい。非プ
ロトンの溶媒としては、例えば、トルエンのような炭化
水素溶媒、クロロベンゼン、メチレンクロリドのような
ハロゲン化炭化水素溶媒、エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシメタンのようなエーテル系溶媒が
挙げられる。これらの中で好ましくはテトラヒドロフラ
ンが好ましい。
【0019】
【実施例】次に実施例により、本発明の内容を具体的に
説明するが、本発明はこれらのみに限定されるべきもの
ではない。
説明するが、本発明はこれらのみに限定されるべきもの
ではない。
【0020】実施例1 1,2,3,4−テトラエチル−5,6−ジプロピルベ
ンゼン
ンゼン
【0021】
【化4】
【0022】窒素下にしたシュレンク反応管に5mlの
テトラヒドロフランを加え、ジルコノセンジクロリドを
0.292g(1mmol)溶解させる。−78℃に冷
却した後、n−ブチルリチウムを2mmol加え、1時
間撹拌する。この溶液に3−ヘキシン0.164g(2
mmol)加え、1時間室温で撹拌して生成するジルコ
ナシクロペンタジエンを再び−78℃に冷却する。この
溶液に4−オクチンを1.0mmolとビス(トリフェ
ニルホスフィン)ニッケルジクロリドを1.0mmol
加えて室温で1時間撹拌すると収率49%で1,2,
3,4−テトラエチル−5,6−ジプロピルベンゼンが
得られた。生成物は1H−NMRと13C−NMR及び
元素分析で確認した。
テトラヒドロフランを加え、ジルコノセンジクロリドを
0.292g(1mmol)溶解させる。−78℃に冷
却した後、n−ブチルリチウムを2mmol加え、1時
間撹拌する。この溶液に3−ヘキシン0.164g(2
mmol)加え、1時間室温で撹拌して生成するジルコ
ナシクロペンタジエンを再び−78℃に冷却する。この
溶液に4−オクチンを1.0mmolとビス(トリフェ
ニルホスフィン)ニッケルジクロリドを1.0mmol
加えて室温で1時間撹拌すると収率49%で1,2,
3,4−テトラエチル−5,6−ジプロピルベンゼンが
得られた。生成物は1H−NMRと13C−NMR及び
元素分析で確認した。
【0023】1H NMR(CDCl3,Me4Si)
δ 1.05(t,J=7.2Hz,6H), 1.1
8(t,J=7.3 Hz,12H), 1.52−
1.58(m,4H), 2.49−2.65(m,4
H), 2.61(q,J=7.1Hz,4H),
2.63(q,J=7.0Hz,4H). 13C N
MR(CDCl3, Me4Si) δ 15.19
(2C), 15.75 (4C), 22.17
(2C), 22.31 (2C), 24.88
(2C), 32.08 (2C), 136.79
(2C), 137.74(2C), 137.90
(2C); Anal. Calcd forC20
H34: C, 87.52; H, 12.48.
Found: C, 87.38; H, 12.5
5.
δ 1.05(t,J=7.2Hz,6H), 1.1
8(t,J=7.3 Hz,12H), 1.52−
1.58(m,4H), 2.49−2.65(m,4
H), 2.61(q,J=7.1Hz,4H),
2.63(q,J=7.0Hz,4H). 13C N
MR(CDCl3, Me4Si) δ 15.19
(2C), 15.75 (4C), 22.17
(2C), 22.31 (2C), 24.88
(2C), 32.08 (2C), 136.79
(2C), 137.74(2C), 137.90
(2C); Anal. Calcd forC20
H34: C, 87.52; H, 12.48.
Found: C, 87.38; H, 12.5
5.
【0024】実施例2 実施例1においてビス(トリフェニルホスフィン)ニッ
ケルジクロリドの代わりにビス(トリフェニルホスフィ
ン)ニッケルジブロミドを用いたところ1,2,3,4
−テトラエチル−5,6−ジプロピルベンゼンを同様に
得た。
ケルジクロリドの代わりにビス(トリフェニルホスフィ
ン)ニッケルジブロミドを用いたところ1,2,3,4
−テトラエチル−5,6−ジプロピルベンゼンを同様に
得た。
【0025】実施例3 1,2,3,4−テトラエチル−5−プロピルベンゼン
【0026】
【化5】
【0027】実施例1においての4−オクチンの代わり
に1−ペンチンを用いたところ1,2,3,4−テトラ
エチル−5−プロピルベンゼンが収率60%で得られ
た。生成物は1H−NMRと13C−NMRで確認し
た。
に1−ペンチンを用いたところ1,2,3,4−テトラ
エチル−5−プロピルベンゼンが収率60%で得られ
た。生成物は1H−NMRと13C−NMRで確認し
た。
【0028】1H NMR(CDCl3,Me4Si)
δ 1.01(t,J=7.3Hz,3H), 1.1
5(t,J=7.5Hz,6H), 1.17(t,
J=7.5Hz,3H), 1.22(t,J =7.
5Hz,3H), 1.60−1.66(m,2H),
2.53−2.59(m,2H), 2.59−2.
70(m,8H), 6.86(s,1H). 13C
NMR (CDCl3,Me4Si)δ 14.5
3, 15.59, 15.67, 15.93,2
1.74, 21.81, 22.06, 24.7
9, 25.65, 35.26, 127.35,
137.36, 137.47, 138.10, 1
39.24, 139.76.
δ 1.01(t,J=7.3Hz,3H), 1.1
5(t,J=7.5Hz,6H), 1.17(t,
J=7.5Hz,3H), 1.22(t,J =7.
5Hz,3H), 1.60−1.66(m,2H),
2.53−2.59(m,2H), 2.59−2.
70(m,8H), 6.86(s,1H). 13C
NMR (CDCl3,Me4Si)δ 14.5
3, 15.59, 15.67, 15.93,2
1.74, 21.81, 22.06, 24.7
9, 25.65, 35.26, 127.35,
137.36, 137.47, 138.10, 1
39.24, 139.76.
【0029】実施例4 4,5,6,7−テトラエチルインダンの合成
【0030】
【化6】
【0031】実施例1において3−ヘキシン2mmol
の代わりに3,8−ウンデカジイン1mmolを用いた
ところ4,5,6,7−テトラエチルインダンを収率6
3%で得た。生成物は1H−NMRと13C−NMRで
確認した。
の代わりに3,8−ウンデカジイン1mmolを用いた
ところ4,5,6,7−テトラエチルインダンを収率6
3%で得た。生成物は1H−NMRと13C−NMRで
確認した。
【0032】1H NMR(CDCl3,Me4Si)
δ 1.15(t,J=7.5Hz,6H), 1.1
8(t,J=7.5Hz,6H), 2.0−2.1
(m,2H), 2.61(q,J=7.5Hz,4
H),2.66(q,J=7.5Hz,4H), 2.
89(t,J=7.5Hz,4H); 13C NMR
(CDCl3,Me4Si)δ 14.67, 16.
17, 21.78, 23.58, 24.41,
31.73, 135.68, 137.79, 14
0.41.
δ 1.15(t,J=7.5Hz,6H), 1.1
8(t,J=7.5Hz,6H), 2.0−2.1
(m,2H), 2.61(q,J=7.5Hz,4
H),2.66(q,J=7.5Hz,4H), 2.
89(t,J=7.5Hz,4H); 13C NMR
(CDCl3,Me4Si)δ 14.67, 16.
17, 21.78, 23.58, 24.41,
31.73, 135.68, 137.79, 14
0.41.
【0033】実施例5 5−フェニル−4,7−ジエチルインダンの合成
【0034】
【化7】
【0035】実施例4において4−オクチンの代わりに
フェニルアセチレンを用いたところ5−フェニル−4,
7−ジエチルインダンを収率64%で得た。生成物は1
H−NMRと13C−NMRで確認した。
フェニルアセチレンを用いたところ5−フェニル−4,
7−ジエチルインダンを収率64%で得た。生成物は1
H−NMRと13C−NMRで確認した。
【0036】1H NMR(CDCl3,Me4Si)
δ 1.00(t.J=7.5Hz,3H), 1.2
1(t,J=7.6Hz,3H), 2.08−2.1
5(m,2H), 2.53(q,J=7.5Hz,2
H), 2.59(q,J=7.6Hz,2H),
2.91(t,J=7.4Hz,2H), 2.95
(t,J=7.4Hz,2H), 6.88(s,1
H), 7.28−7.37(m,5H). 13C
NMR(CDCl3,Me4Si)δ 14.23,1
4.62, 23.62, 24.85, 26.1
9, 31.19, 31.69, 126.37,
127.62, 127.80, 129.39, 1
34.85, 136.73, 140.23, 14
1.58, 142.69, 142.84.
δ 1.00(t.J=7.5Hz,3H), 1.2
1(t,J=7.6Hz,3H), 2.08−2.1
5(m,2H), 2.53(q,J=7.5Hz,2
H), 2.59(q,J=7.6Hz,2H),
2.91(t,J=7.4Hz,2H), 2.95
(t,J=7.4Hz,2H), 6.88(s,1
H), 7.28−7.37(m,5H). 13C
NMR(CDCl3,Me4Si)δ 14.23,1
4.62, 23.62, 24.85, 26.1
9, 31.19, 31.69, 126.37,
127.62, 127.80, 129.39, 1
34.85, 136.73, 140.23, 14
1.58, 142.69, 142.84.
【0037】実施例6 4,7−ジエチル−5,6−ジプロピルテトラヒドロナ
フタレン
フタレン
【0038】
【化8】
【0039】実施例1において3−ヘキシン2mmol
の代わりに3、8−ドデカジイン1mmolを用いたと
ころ収率46%で4、7−ジエチル−5、6−ジプロピ
ルテトラヒドロナフタレンを得た。生成物は1H−NM
Rと13C−NMRで確認した。
の代わりに3、8−ドデカジイン1mmolを用いたと
ころ収率46%で4、7−ジエチル−5、6−ジプロピ
ルテトラヒドロナフタレンを得た。生成物は1H−NM
Rと13C−NMRで確認した。
【0040】1H NMR(CDCl3,Me4Si)
δ 1.26(t,J=7.3Hz,6H), 1.3
4(t,J=7.5Hz,6H), 1.70−1.8
0(m,4H), 1.95−2.10(m,4H),
2.72−2.78(m,4H), 2.81(q,
J=7.5Hz,4H), 2.90−2.97(m,
4H); 13C NMR(CDCl3,Me4Si)
δ 14.49, 15.12, 21.86, 2
3.26, 25.05, 27.08, 31.9
0, 132.95, 136.16, 138.0
5.
δ 1.26(t,J=7.3Hz,6H), 1.3
4(t,J=7.5Hz,6H), 1.70−1.8
0(m,4H), 1.95−2.10(m,4H),
2.72−2.78(m,4H), 2.81(q,
J=7.5Hz,4H), 2.90−2.97(m,
4H); 13C NMR(CDCl3,Me4Si)
δ 14.49, 15.12, 21.86, 2
3.26, 25.05, 27.08, 31.9
0, 132.95, 136.16, 138.0
5.
【0041】実施例5 ペンタエチルアセトフェノンの合成
【0042】
【化9】
【0043】実施例1において4−オクチンの代わりに
1−ブチニルメチルケトンを用いるとペンタエチルアセ
トフェノンを収率55%で得られた。生成物は1H−N
MRと13C−NMRで確認した。
1−ブチニルメチルケトンを用いるとペンタエチルアセ
トフェノンを収率55%で得られた。生成物は1H−N
MRと13C−NMRで確認した。
【0044】1H NMR(CDCl3,Me4Si)
δ 1.14(t,J=7.5Hz,6H), 1.1
7(t,J=7.5Hz,9H), 2.40−2.5
0(m,4H), 2.51(s,3H), 2.61
−2.70(m,6H); 13C NMR(CDCl
3,Me4Si)δ 15.67, 15.72, 1
6.24, 21.48, 21.95, 23.5
4, 33.25, 133.68, 138.24,
140.77, 141.50, 209.24.
δ 1.14(t,J=7.5Hz,6H), 1.1
7(t,J=7.5Hz,9H), 2.40−2.5
0(m,4H), 2.51(s,3H), 2.61
−2.70(m,6H); 13C NMR(CDCl
3,Me4Si)δ 15.67, 15.72, 1
6.24, 21.48, 21.95, 23.5
4, 33.25, 133.68, 138.24,
140.77, 141.50, 209.24.
【0045】実施例6 1−エトキシ−2,3,4,5−テトラエチルベンゼン
の合成
の合成
【0046】
【化10】
【0047】実施例1において4−オクチンの代わりに
エチニルエチルエーテルを用いると1−エトキシ−2,
3,4,5−テトラエチルベンゼンを収率32%で得
た。生成物は1H−NMRと13C−NMR及び元素分
析で確認した。
エチニルエチルエーテルを用いると1−エトキシ−2,
3,4,5−テトラエチルベンゼンを収率32%で得
た。生成物は1H−NMRと13C−NMR及び元素分
析で確認した。
【0048】1H NMR(CDCl3,Me4Si)
δ 1.13(t,J=7.5Hz,6H), 1.1
6(t,J=7.5Hz,3H), 1.22(t,J
=7.4Hz,3H), 1.39(t,J=7.0H
z,3H), 2.58−2.69(m,8H),
4.00(q,J=7.0Hz,2H), 6.56
(s,1H). 13C NMR(CDCl3,Me4
Si)δ 14.74, 15.10, 15.68,
15.83, 15.85, 19.52, 21.
40, 22.10, 26.09, 63.31,
109.60, 128.55, 131.58, 1
40.02, 140.90, 155.05. An
al. Calcd for C16H26O: C,
81.99;H, 11.18. Found:
C, 81.85; H,11.09.
δ 1.13(t,J=7.5Hz,6H), 1.1
6(t,J=7.5Hz,3H), 1.22(t,J
=7.4Hz,3H), 1.39(t,J=7.0H
z,3H), 2.58−2.69(m,8H),
4.00(q,J=7.0Hz,2H), 6.56
(s,1H). 13C NMR(CDCl3,Me4
Si)δ 14.74, 15.10, 15.68,
15.83, 15.85, 19.52, 21.
40, 22.10, 26.09, 63.31,
109.60, 128.55, 131.58, 1
40.02, 140.90, 155.05. An
al. Calcd for C16H26O: C,
81.99;H, 11.18. Found:
C, 81.85; H,11.09.
【0049】実施例3 1,2−ジメチル−3,4−ジエチル−5,6−ジフェ
ニルベンゼン
ニルベンゼン
【0050】
【化6】
【0051】窒素下にしたシュレンク反応管に5mlの
テトラヒドロフランを加え、ジルコノセンジクロリドを
0.292g(1mmol)溶解させる。−78℃に冷
却した後、エチルマグネシウムブロミドを2mmol加
え、1時間撹拌する。この溶液にジフェニルアセチレン
を1mmol加え、1時間室温で撹拌するとジルコナシ
クロペンテンが生成する。この溶液に2−ブチンを1m
mol加えて室温で撹拌するとジフェニルアセチレンと
2−ブチンがカップリングしたジルコナシクロペンタジ
エンが生成する。この溶液に4−オクチンを1.0mm
olとビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロ
リドを1.0mmol加えて室温で1時間撹拌すると収
率58%で1,2−ジメチル−3,4−ジエチル−5,
6−ジフェニルベンゼンが得られた。生成物は1H−N
MRと13C−NMR及び元素分析で確認した。
テトラヒドロフランを加え、ジルコノセンジクロリドを
0.292g(1mmol)溶解させる。−78℃に冷
却した後、エチルマグネシウムブロミドを2mmol加
え、1時間撹拌する。この溶液にジフェニルアセチレン
を1mmol加え、1時間室温で撹拌するとジルコナシ
クロペンテンが生成する。この溶液に2−ブチンを1m
mol加えて室温で撹拌するとジフェニルアセチレンと
2−ブチンがカップリングしたジルコナシクロペンタジ
エンが生成する。この溶液に4−オクチンを1.0mm
olとビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロ
リドを1.0mmol加えて室温で1時間撹拌すると収
率58%で1,2−ジメチル−3,4−ジエチル−5,
6−ジフェニルベンゼンが得られた。生成物は1H−N
MRと13C−NMR及び元素分析で確認した。
【0052】1H NMR(CDCl3,Me4Si)
δ 0.96(t,J=7.4Hz,3H), 1.2
5(t,J=7.4Hz,3H), 1.99(s,3
H),2.34(s, 3H), 2.46(q,J=
7.4Hz,2H),2.82(q,J=7.4Hz,
2H), 6.90−6.92(m,2H), 6.9
6−6.99(m,4H), 7.03−7.05
(m,4H). 13CNMR(CDCl3,Me4
Si)δ 14.84, 15.82, 16.13,
18.34, 22.99, 23.61, 12
5.48, 125.56, 126.96, 12
7.16, 130.26, 130.50,132.
31, 134.15, 137.18, 139.3
2, 139.37, 139.71, 141.6
5, 141.98. Anal. Calcd fo
r C24H26: C, 91.67; H,8.3
3. Found:C,91.45;H,8.42.
δ 0.96(t,J=7.4Hz,3H), 1.2
5(t,J=7.4Hz,3H), 1.99(s,3
H),2.34(s, 3H), 2.46(q,J=
7.4Hz,2H),2.82(q,J=7.4Hz,
2H), 6.90−6.92(m,2H), 6.9
6−6.99(m,4H), 7.03−7.05
(m,4H). 13CNMR(CDCl3,Me4
Si)δ 14.84, 15.82, 16.13,
18.34, 22.99, 23.61, 12
5.48, 125.56, 126.96, 12
7.16, 130.26, 130.50,132.
31, 134.15, 137.18, 139.3
2, 139.37, 139.71, 141.6
5, 141.98. Anal. Calcd fo
r C24H26: C, 91.67; H,8.3
3. Found:C,91.45;H,8.42.
【0053】
【発明の効果】本発明の製造法はアセチレン類2分子又
はジイン1分子と一酸化炭素からメタラシクロペンタジ
エンを経由してワンポットシクロペンテノン誘導体を製
造できる方法であり、簡便で効率の良い製造方法を提供
することができる。
はジイン1分子と一酸化炭素からメタラシクロペンタジ
エンを経由してワンポットシクロペンテノン誘導体を製
造できる方法であり、簡便で効率の良い製造方法を提供
することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 43/20 C07C 43/20 45/68 45/68 49/76 49/76 E 69/76 69/76 Z A 69/92 69/92 211/43 211/43 217/78 217/78 219/34 219/34 C07F 7/08 C07F 7/08 C G J
Claims (6)
- 【請求項1】下記一般式(1)で表されるメタラシクロ
ペンタジエンと下記一般式(2〕で表される金属化合物
と下記一般式(3)で表されるアセチレン類とを反応さ
せることを特徴とする下記一般式(4)で表されるベン
ゼン誘導体の製造方法 【化1】 (一般式(1)〜(3)中、R1〜R6、およびRは、
それぞれ、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
芳香族基、シリル基、アルコキシ基、エステル基、アミ
ノ基、を表す。但しこれらの基は、炭素数が1〜20で
ありかつ置換基を有していてもよい。またR1〜R4の
うち2つ以上が結合して環を形成していてもよい。Xは
ハロゲン化物イオン、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、芳香族基、シリル基、アルコキシ基、エステ
ル基、アミノ基、を表し、2つ以上金属に結合している
ときは異なっていてもかまわないし、それら2つ以上が
架橋していてもよい。そして、一般式(1)および
(2)中、Mは遷移金属、M’は遷移金属あるいは典型
金属、Lは配位子、n、mおよびyは0〜8の整数を表
す。) - 【請求項2】一般式(1)中のMで表される遷移金属が
前周期遷移金属である請求項1に記載のベンゼン誘導体
の製造方法。 - 【請求項3】一般式(1)中のMで表される前周期遷移
金属がジルコニウム又はハフニウムである請求項2に記
載のベンゼン誘導体の製造方法。 - 【請求項4】一般式(1)中のLがシクロペンタジエニ
ルである請求項3に記載のベンゼン誘導体の製造方法。 - 【請求項5】一般式(2)中のM’で表される金属が後
周期遷移金属である請求項1ないし2のいずれかに記載
のベンゼン誘導体の製造方法。 - 【請求項6】一般式(2)中のM’で表される金属がニ
ッケル又はパラジウムである請求項2ないし3のいずれ
かに記載のベンゼン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10106864A JPH11263737A (ja) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | ベンゼン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10106864A JPH11263737A (ja) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | ベンゼン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11263737A true JPH11263737A (ja) | 1999-09-28 |
Family
ID=14444431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10106864A Pending JPH11263737A (ja) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | ベンゼン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11263737A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107312044A (zh) * | 2017-07-21 | 2017-11-03 | 北京华福工程有限公司 | 化合物和利用乙炔三聚制苯的方法 |
| CN107353310A (zh) * | 2017-07-24 | 2017-11-17 | 北京华福工程有限公司 | 化合物及其制备方法和应用 |
-
1998
- 1998-03-13 JP JP10106864A patent/JPH11263737A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107312044A (zh) * | 2017-07-21 | 2017-11-03 | 北京华福工程有限公司 | 化合物和利用乙炔三聚制苯的方法 |
| CN107353310A (zh) * | 2017-07-24 | 2017-11-17 | 北京华福工程有限公司 | 化合物及其制备方法和应用 |
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